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JPH11307816A - Package structure for chip semiconductor and its manufacture - Google Patents

Package structure for chip semiconductor and its manufacture

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Publication number
JPH11307816A
JPH11307816A JP12968498A JP12968498A JPH11307816A JP H11307816 A JPH11307816 A JP H11307816A JP 12968498 A JP12968498 A JP 12968498A JP 12968498 A JP12968498 A JP 12968498A JP H11307816 A JPH11307816 A JP H11307816A
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JP
Japan
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chip
heat
package
resin
semiconductor chip
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JP12968498A
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Japanese (ja)
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JP4140867B2 (en
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Makoto Nagayama
誠 長山
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Citizen Electronics Co Ltd
Original Assignee
Citizen Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a package structure in which no peeling nor disconnection occurs at the time of mounting the structure on a body and which does not cause a short circuit, has a superior light emitting ability, and can be manufactured with high productivity as a single package body. SOLUTION: The package 1 of a chip semiconductor 10 is formed by coating the exposed surface of the semiconductor chip 10 after electrodes 11 and 12 are respectively stuck to the P- and N-layer side end faces 10a and 10b of the chip 10. The package 1 is constituted in such a way that the package 1 has end faces 1a and 1b respectively faced to the P- and N-layer side end faces 10a and 10b of the semiconductor 10 and the electrodes 11 and 12 are formed by plating so that the electrodes 11 and 12 may be firmly stuck to the end faces 10a and 10b, and then, the external surfaces of the electrodes 11 and 12 are exposed on parts of the end faces 1a and 1b of the package 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、発光ダ
イオード(以下、LEDという)等のチップ型半導体を
回路基板上の配線と電気的に接続するのに適した、チッ
プ型半導体のパッケージ構造に係るものであり、特にプ
リント回路基板への実装に好適なチップ型半導体に係る
表面実装型のパッケージ構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip type semiconductor package structure suitable for electrically connecting a chip type semiconductor such as a light emitting diode (hereinafter, referred to as an LED) to wiring on a circuit board. More particularly, the present invention relates to a surface mount type package structure of a chip type semiconductor suitable for mounting on a printed circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、チップ型半導体に係る表面実装型
のパッケージ構造の例としては、例えば特開平9ー45
964号公報に記載されているものがある。図18はそ
の製造方法を示す斜視図であり、図18(a)に示すよ
うに、一方の電極板111の一方の面には例えばペース
ト状とした導電性接合材113が間隔を所定のピッチP
とする縦横列にドット状に印刷手段などにより塗布され
ていて、複数のLEDチップ114の各々が一方の極、
例えばN層側で接するように前記各接合材113上に載
置される。また、他方の電極板112の一方の面にも同
一のピッチpにより縦横列に塗布されていて、一方の電
極板111の接合材113上へのLEDチップ102の
載置が終了した時点で、他方の電極板112が接合材1
13の位置をLEDチップ102の他方の極、例えばP
層側に重ねるように載置され、これによりLEDチップ
114は電極板111と電極板112とで挟持される。
2. Description of the Related Art Conventionally, an example of a package structure of a surface mount type relating to a chip type semiconductor is disclosed in, for example, JP-A-9-45.
No. 964 is disclosed. FIG. 18 is a perspective view showing the manufacturing method. As shown in FIG. 18 (a), for example, a paste-like conductive bonding material 113 is provided on one surface of one electrode plate 111 at a predetermined pitch. P
Are applied in the form of dots in a row and column by a printing means or the like, and each of the plurality of LED chips 114 has one pole,
For example, it is placed on each of the bonding materials 113 so as to be in contact with the N layer side. Also, one surface of the other electrode plate 112 is also applied vertically and horizontally at the same pitch p, and when the mounting of the LED chip 102 on the bonding material 113 of the one electrode plate 111 is completed, The other electrode plate 112 is the bonding material 1
13 with the other pole of the LED chip 102, for example, P
The LED chip 114 is placed so as to overlap on the layer side, whereby the LED chip 114 is sandwiched between the electrode plates 111 and 112.

【0003】上記の状態を保ち、リフロー炉と称されて
いる加熱炉を通過させ、前記接合材113を溶融させ、
LEDチップ102のそれぞれの極側に接合し、図18
(b)に示すように、電極板111と電極板112とL
EDチップ102とを一体化する。
[0003] While maintaining the above-mentioned state, it is passed through a heating furnace called a reflow furnace to melt the bonding material 113,
Bonded to each pole side of the LED chip 102, FIG.
As shown in (b), the electrode plates 111, 112 and L
The ED chip 102 is integrated.

【0004】次に、図18(c)に示すように前記の電
極板111と電極板112との間にエポキシ樹脂などの
透明樹脂115を注入し、硬化させる。このとき前記L
EDチップ114の露出している4面のすべては前記透
明樹脂115により覆われる。続いて、薄刃のダイヤモ
ンドホイールカッターなどで前記LEDチップ102間
の間隔である所定のピッチPを二等分するように切断す
ることによりLEDチップのパッケージ110が得られ
る。図19はパッケージ110をプリント回路基板12
0に取り付けた状態を示す断面図であり、このプリント
回路基板120上に所定間隔で一対のパット121を設
け、ペースト状の半田よりなる接合材123を塗布して
おき、該パット121上に前記電極板111、112が
位置するように前記パッケージ117を載置し、リフロ
ー炉で加熱して半田123を溶融し、前記一対のパット
121と電極板111、112をそれぞれ溶着し、パッ
ケージ110のプリント回路基板120への表面実装が
なされる。
Next, as shown in FIG. 18C, a transparent resin 115 such as an epoxy resin is injected between the electrode plate 111 and the electrode plate 112 and is cured. At this time, the L
All of the four exposed surfaces of the ED chip 114 are covered with the transparent resin 115. Subsequently, a predetermined pitch P, which is the interval between the LED chips 102, is cut by a thin diamond wheel cutter or the like so as to bisect the LED chip 102, thereby obtaining the LED chip package 110. FIG. 19 shows the package 110 mounted on the printed circuit board 12.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state where the pad is attached to the printed circuit board 120. A pair of pads 121 are provided at predetermined intervals on the printed circuit board 120, and a bonding material 123 made of paste solder is applied. The package 117 is placed so that the electrode plates 111 and 112 are positioned, heated in a reflow furnace to melt the solder 123, and the pair of pads 121 and the electrode plates 111 and 112 are welded, respectively, to print the package 110. The surface mounting on the circuit board 120 is performed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このようなパッケージ
構造のものによれば、金ワイヤーを用いない構造となる
ため、ワイヤーの引き回しのスペースが省け、パッケー
ジの小型化ができる。又製造工程において多数個取りが
できるので、製造コスト全体としてコストの低減ができ
る。しかし、かかる改良されたパッケージ構造のものは
以下に述べる欠点を有する。
According to such a package structure, a structure in which no gold wire is used is used, so that a space for arranging the wires can be omitted and the size of the package can be reduced. In addition, since a large number of individual products can be formed in the manufacturing process, the cost can be reduced as a whole manufacturing cost. However, such an improved package structure has the following disadvantages.

【0006】すなわち、図18(b)に示すように、電
極板111と電極板112とLEDチップ102とを一
体化する際に使用する導電性の接合材113としては、
従来は、200℃以下でキュアーできるAgペーストま
たはACF(異方導電フィルム)を用いることが取扱い
の点で便利であるため、用いられることがあった。しか
しながら、図19に示すように、パッケージ110のプ
リント回路基板120への表面実装おいては前記半田よ
りなる接合材123を溶融させるためにはリフロー炉な
どで220℃〜240℃に加熱される場合が多い。この
ような場合に加熱の熱によるAgペーストまたはACF
よりなる前記接合材113の接着力の低下及び線膨張係
数の差による応力によって、電極板111または電極板
112がLEDチップ102から剥離し、断線によりL
EDチップ102は点灯不能となる場合が少なくない。
That is, as shown in FIG. 18B, the conductive bonding material 113 used when integrating the electrode plate 111, the electrode plate 112, and the LED chip 102 is as follows.
Conventionally, Ag paste or ACF (anisotropic conductive film), which can be cured at 200 ° C. or lower, is sometimes used because it is convenient in terms of handling. However, as shown in FIG. 19, in the case where the package 110 is heated to 220 to 240 ° C. in a reflow furnace or the like in order to melt the bonding material 123 made of the solder in the surface mounting on the printed circuit board 120. There are many. In such a case, Ag paste or ACF by heat of heating
The electrode plate 111 or the electrode plate 112 peels off from the LED chip 102 due to a decrease in the adhesive force of the bonding material 113 and a stress caused by a difference in linear expansion coefficient.
In many cases, the ED chip 102 cannot be turned on.

【0007】また、すでに図18(a)、(b)を用い
て説明した接合工程において、LEDチップ102に対
し電極板111と電極板112とを接合する際に、接合
材113として用いるAgペーストのはみ出しにより、
一方の電極板111と他方の電極板がLEDチップ10
2の近傍においてショートする場合またはLEDチップ
102のジャンクシヨン部分で、はみ出したAgペース
トにより、P層とN層とがショートする場合が少なくな
い。これらにより、パッケージ110において電極板1
11と112とがショートするためパッケージ110内
のLEDチップ114は点灯不能または点灯不良とな
る。なお、Agペースト等のはみ出しにより、LEDチ
ップ114の近傍において前記のショートには至らない
までも、LEDチップ114の側面の一部または大部分
に接合材113が、付着又は近接した状態となることが
少なくない。この場合、パッケージ110をプリント基
板等に実装してLEDチップ114を発光させた際、前
記のはみだした接合材113により、その発光が遮ら
れ、パッケージ117の発光強度が低下してしまう。
Also, in the bonding process already described with reference to FIGS. 18A and 18B, an Ag paste used as a bonding material 113 when bonding the electrode plate 111 and the electrode plate 112 to the LED chip 102 By protruding,
One electrode plate 111 and the other electrode plate are the LED chip 10
In many cases, the P layer and the N layer are short-circuited due to the protruding Ag paste in the vicinity of the area 2 or in the junction of the LED chip 102. Thus, the electrode plate 1 in the package 110 is formed.
Because of the short circuit between 11 and 112, the LED chip 114 in the package 110 cannot be turned on or has a defective lighting. In addition, even if the short circuit does not occur in the vicinity of the LED chip 114 due to the protrusion of the Ag paste or the like, the bonding material 113 adheres to or is close to part or most of the side surface of the LED chip 114. Not a few. In this case, when the package 110 is mounted on a printed board or the like and the LED chip 114 emits light, the emitted bonding material 113 blocks the light emission, and the light emission intensity of the package 117 decreases.

【0008】このような欠点を改善するため、図18
(a)、(b)に示すように、LEDチップ102に対
し電極板111と電極板112とを接合する際に、接合
材113として融点が例えば280℃程度の高温半田を
使用することも従来行われてきた。この方法によれば、
前記の断線等の問題は解決できるものの、高温半田自体
のコストが高く、また、半田用にLEDチップ102等
半導体素子の電極を改善する必要があり、更にコストの
上昇を招く。更には、LEDチップ102等半導体素子
と電極板11、12を接合する際に280℃程度の熱が
かかるため、電極板11、12の反りが発生し、パケー
ジ110の品質および信頼性を低下させることもある。
In order to improve such disadvantages, FIG.
As shown in (a) and (b), when the electrode plate 111 and the electrode plate 112 are joined to the LED chip 102, it is conventionally possible to use a high-temperature solder having a melting point of about 280 ° C. as the joining material 113. Has been done. According to this method,
Although the above-described problems such as disconnection can be solved, the cost of the high-temperature solder itself is high, and it is necessary to improve the electrodes of the semiconductor element such as the LED chip 102 for soldering, which further increases the cost. Furthermore, when joining a semiconductor element such as the LED chip 102 to the electrode plates 11 and 12, heat of about 280 ° C. is applied, so that the electrode plates 11 and 12 are warped, and the quality and reliability of the package 110 are reduced. Sometimes.

【0009】本発明は、従来のチップ型半導体のパッケ
ージ構造における上記の欠点を除去、改善することを解
決すべき課題とするものである。そして本発明はかかる
課題を解決し、小型で、表面実装に適し、表面実装の際
の剥離、断線がなく、発光性能および信頼性に優れ、コ
ストを上昇させず、且つ製造時の歩溜まりも高いチップ
型半導体のパッケージ構造を提供すること、およびかか
る構造のパッケージを生産性よく製造する方法を提供す
ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate and improve the above-mentioned disadvantages in the conventional chip type semiconductor package structure. The present invention solves this problem, and is compact, suitable for surface mounting, has no peeling or disconnection at the time of surface mounting, has excellent light emitting performance and reliability, does not increase cost, and has a high production yield. It is an object of the present invention to provide a high chip type semiconductor package structure and a method of manufacturing a package having such a structure with high productivity.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めにその第1の手段として本発明は、半導体チップのP
層側とN層側の両端面にそれぞれ別個の電極が接合さ
れ、前記半導体チップの露出面が樹脂で覆われて構成さ
れるチップ型半導体のパッケージ構造において、該パッ
ケージは前記半導体チップのP層側とN層側の両端面に
それぞれ対向するパッケージ端面を有し、前記電極は半
導体チップの前記両端面に固着してメッキにより形成さ
れ、前記パッケージ端面の少なくとも一部において、前
記電極の外面が露出していることを特徴とする。
As a first means for solving the above-mentioned problems, the present invention relates to a semiconductor chip,
In a chip type semiconductor package structure in which separate electrodes are respectively joined to both end surfaces on the layer side and the N layer side, and the exposed surface of the semiconductor chip is covered with a resin, the package is composed of the P layer of the semiconductor chip. The package has end faces opposed to both end faces on the N-side and the N-layer side, and the electrodes are fixed to the end faces of the semiconductor chip and formed by plating, and at least a part of the package end face has an outer surface of the electrode. It is characterized by being exposed.

【0011】上記の課題を解決するためにその第2の手
段として本発明は、前記第1の手段において、前記半導
体チップはLEDチップであり、前記樹脂は透光樹脂で
あることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in order to solve the above problems, in the first aspect, the semiconductor chip is an LED chip, and the resin is a light-transmitting resin. .

【0012】上記の課題を解決するためにその第3の手
段として本発明は、少なくとも一部に切り欠き部を有す
る枠部材の下の端面に片面に接着剤の付いた耐熱シート
を前記接着剤の付いた面を上にして貼り付ける工程、前
記耐熱シートの前記接着剤の付いた上面に複数の半導体
チップをマトリクス状に配列しそのP層側およびN層側
の端面のいずれか一方の端面を接合する工程、前記接合
された半導体チップの上端面および前記枠部材の上端面
に片面に接着剤の付いた耐熱シートを前記接着剤の付い
た面を下にして貼り付け、充填空間を形成する工程、前
記枠部材の切り欠き部を注入口として前記充填空間に樹
脂を注入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封
止する工程、前記注入した樹脂をキュアーした後、前記
上下の端面に貼り付けた耐熱シートを剥離する工程、前
記耐熱シートを剥離した後、前記半導体チップおよび注
入樹脂が露出している一体化された封止の集合体の上面
および下面に金、銅等の導電材よりなる電極膜を鍍金に
より固着し、半導体チップと前記電極膜を導通させる工
程、前記鍍金の後、マトリクス状に配列した半導体チッ
プを囲み、マトリクスの縦横方向に沿った切断面に沿っ
て前記封止の集合体を切断し、個々のチップ型半導体の
パッケージを形成する工程とを有する製造方法によりチ
ップ型半導体のパッケージを製造することを特徴とす
る。
As a third means for solving the above-mentioned problems, the present invention provides a heat-resistant sheet having an adhesive on one side at one end on a lower end surface of a frame member having a notch in at least a part thereof. Attaching a plurality of semiconductor chips in a matrix on the upper surface of the heat-resistant sheet with the adhesive, and arranging the plurality of semiconductor chips in a P-layer side or an N-layer side. Bonding a heat-resistant sheet with an adhesive on one side to the upper end surface of the bonded semiconductor chip and the upper end surface of the frame member with the surface with the adhesive facing down to form a filling space. Performing a step of injecting a resin into the filling space using the cutout portion of the frame member as an injection port and curing and sealing a side surface of the semiconductor chip, and after curing the injected resin, Paste A step of peeling the heat-resistant sheet, and after peeling the heat-resistant sheet, the upper surface and the lower surface of the integrated sealing assembly in which the semiconductor chip and the injection resin are exposed are made of a conductive material such as gold or copper. Fixing the electrode film by plating and conducting the semiconductor chip and the electrode film, after the plating, surrounds the semiconductor chips arranged in a matrix, and seals the sealing along a cut surface along the vertical and horizontal directions of the matrix. Cutting the assembly and forming individual chip-type semiconductor packages. A chip-type semiconductor package is manufactured by a manufacturing method.

【0013】上記の課題を解決するためにその第4の手
段として本発明は、片面に接着剤の付いた耐熱シートを
前記接着剤の付いた面を上にして前記接着剤の付いた面
に複数の半導体チップをマトリクス状に配列しそのP層
側およびN層側の端面のいずれか一方の端面を接合する
工程、前記接合された半導体チップの上端面に片面に接
着剤の付いた耐熱シートを前記接着剤の付いた面を下に
して貼り付ける工程、前記上下に貼りつけられた耐熱シ
ートの外側面部分を耐熱テープを貼着することにより、
樹脂注入口となる一部をのこして塞ぎ、充填空間を形成
する工程、前記樹脂注入口より前記充填空間に樹脂を注
入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止する
工程、樹脂をキュアーした後、前記耐熱シートおよび耐
熱テープを剥離する工程、前記耐熱シートおよび耐熱テ
ープを剥離した後、前記半導体チップおよび注入樹脂が
露出している一体化された封止の集合体の上面および下
面に金、銅等の導電材よりなる電極膜を鍍金により固着
し、半導体チップと前記電極膜を導通させる工程、前記
鍍金の後、マトリクス状に配列した半導体チップを囲
み、マトリクスの縦横方向に沿った切断面に沿って前記
封止の集合体を切断し、個々のチップ型半導体のパッケ
ージを形成する工程とを有する製造方法によりチップ型
半導体のパッケージを製造することを特徴とする。
As a fourth means for solving the above-mentioned problems, the present invention provides a heat-resistant sheet having an adhesive on one side, and a heat-resistant sheet having the above-mentioned adhesive facing up. A step of arranging a plurality of semiconductor chips in a matrix and joining one of the end faces on the P-layer side and the N-layer side, a heat-resistant sheet having an adhesive on one side on an upper end face of the joined semiconductor chips; A step of attaching the adhesive with the surface with the adhesive down, by attaching a heat-resistant tape to the outer surface portion of the heat-resistant sheet attached to the upper and lower sides,
A step of forming a filling space by partially filling and closing a resin injection port, a step of injecting a resin into the filling space from the resin injection port, and then curing and sealing the side surface of the semiconductor chip; and curing the resin. Thereafter, a step of peeling off the heat-resistant sheet and the heat-resistant tape, and after peeling off the heat-resistant sheet and the heat-resistant tape, the upper surface and the lower surface of the integrated sealing assembly in which the semiconductor chip and the injected resin are exposed. A step of fixing an electrode film made of a conductive material such as copper by plating, and conducting the semiconductor chip and the electrode film. After the plating, surrounding the semiconductor chips arranged in a matrix, cutting along the vertical and horizontal directions of the matrix. Forming a package of individual chip-type semiconductors by cutting the assembly of the sealings along a surface. Characterized in that it produced.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、図面に基づいて本発明の
実施の形態を一実施例について説明する。図1は本実施
例に係るチップ型半導体のパッケージ1の構造を示す図
であり(a)は斜視図、(b)は断面図である。図1に
おいて10はP層とN層が接合してなる半導体チップで
あり、例えばLEDチップである。15は前記前記半導
体チップ10を封止するための樹脂であり、例えば透光
性樹脂である。11、12は銅、金等の金属膜よりなる
電極膜であり、それぞれ前記半導体チップ10のP層側
およびN層側の端面のいずれか一方である端面10a、
10bおよび、これら端面と同一面にある前記の封止の
樹脂15の端面にメッキにより固着されている。ここ
で、用途或いは必要に応じてメッキは一層又は多層のメ
ッキを選択する。これにより、前記半導体チップ10は
前記端面10a、10bにおいてそれぞれ前記電極膜1
1、12にそれぞれ導通している。そして、前記電極膜
11、12の外面は、半導体10の前記端面10a、1
0bにそれぞれ対向するパッケージ1の端面1a、1b
となっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1A and 1B are views showing the structure of a chip-type semiconductor package 1 according to the present embodiment, wherein FIG. 1A is a perspective view and FIG. 1B is a sectional view. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a semiconductor chip formed by joining a P layer and an N layer, such as an LED chip. Reference numeral 15 denotes a resin for sealing the semiconductor chip 10, and is, for example, a translucent resin. Reference numerals 11 and 12 denote electrode films made of a metal film such as copper or gold, and each of the end surfaces 10a and 10b is one of the end surfaces on the P layer side and the N layer side of the semiconductor chip 10.
10b and the end surfaces of the sealing resin 15 on the same plane as these end surfaces are fixed by plating. Here, a single-layer or multi-layer plating is selected as the plating depending on the application or need. As a result, the semiconductor chip 10 has the electrode films 1 on the end faces 10a and 10b, respectively.
1 and 12, respectively. The outer surfaces of the electrode films 11 and 12 are connected to the end surfaces 10 a and 1
0b, the end surfaces 1a and 1b of the package 1 facing each other.
It has become.

【0015】図2は図1に示したチップ型半導体のパッ
ケージ1の変形例の構造を示す図であり、(a)は斜視
図、(b)は断面図である。図2に示すように、本例の
パッケージにおいては、半導体チップ10の前記の端面
10aおよび10bの1部にメッキによりは銅、金等の
金属膜よりなる電極膜11、12が固着され、前記の端
面10aおよび10bの残りの露出部分は封止の樹脂1
5により覆われている。ここで、用途或いは必要に応じ
てメッキは一層又は多層のメッキを選択する。本例にお
いては、半導体10の前記端面10a、10bにそれぞ
れ対向するパッケージ1の端面1a、1bについては、
端面1aは電極膜11の外面および樹脂15の外面によ
り、端面1bは電極膜12の外面および樹脂15の外面
により構成されている。
FIGS. 2A and 2B are views showing the structure of a modification of the chip-type semiconductor package 1 shown in FIG. 1, wherein FIG. 2A is a perspective view and FIG. 2B is a sectional view. As shown in FIG. 2, in the package of the present embodiment, electrode films 11 and 12 made of a metal film such as copper or gold are fixed to a part of the end surfaces 10a and 10b of the semiconductor chip 10 by plating. The remaining exposed portions of the end surfaces 10a and 10b are
5. Here, a single-layer or multi-layer plating is selected as the plating depending on the application or need. In this example, the end faces 1a and 1b of the package 1 facing the end faces 10a and 10b of the semiconductor 10, respectively,
The end surface 1a is constituted by the outer surface of the electrode film 11 and the outer surface of the resin 15, and the end surface 1b is constituted by the outer surface of the electrode film 12 and the outer surface of the resin 15.

【0016】図1または図2に示したチップ型半導体の
パッケージ1の構造によれば、電極端子となる電極膜1
1、12と半導体チップ10との結合が後に詳述するよ
うにメッキにより、接合材を用いることなく行われるの
で、図18に示したような従来例において、高温半田を
用いて電極を接合する場合のように高温加熱による反り
は発生しない。更には高温半田使用に伴うコストアップ
を避けることができる。又、従来例において、Agペー
ストを用いて電極を接合する場合のように、半導体チッ
プの上下の端面からはみだした前記Agペーストよりな
る導電性の接合材が互いに接続したり、ジャンクション
部分に付着したりすることによりショートするという現
象は生じない。
According to the structure of the chip type semiconductor package 1 shown in FIG. 1 or FIG.
Since the bonding between the semiconductor chips 1 and 12 and the semiconductor chip 10 is performed by plating without using a bonding material as described later in detail, the electrodes are bonded by using a high-temperature solder in the conventional example as shown in FIG. Warping by high-temperature heating does not occur as in the case. Further, an increase in cost due to the use of high-temperature solder can be avoided. Further, in the conventional example, as in the case where the electrodes are joined using an Ag paste, conductive joining materials made of the Ag paste protruding from the upper and lower end surfaces of the semiconductor chip are connected to each other or adhere to the junction. Does not cause a phenomenon of short-circuit.

【0017】更に、各半導体チップ10としてLEDチ
ップを用いた場合、従来のように上下の端面からはみだ
した前記Agペースト又はACFよりなる導電性の接合
材がショートには至らないまでもLEDチップの側面か
らの発光を遮り、パッケージ1の発光強度が低下するよ
うな現象も生じない。
Further, when an LED chip is used as each semiconductor chip 10, the conductive bonding material made of the Ag paste or ACF protruding from the upper and lower end surfaces as in the related art does not cause a short circuit even if the conductive material does not short-circuit. The phenomenon that the light emission from the side surface is blocked and the light emission intensity of the package 1 is reduced does not occur.

【0018】図3は図1に示したチップ型半導体のパッ
ケージ1がプリント回路基板に表面実装された状態を示
す断面図である。20はプリント回路基板であり、回路
基板21とこの回路基板21上に所定間隔で設けられた
銅、金等よりなる一対のパット22を有している。ぺー
スト状の半田よりなる接合材23を塗布しておき、該パ
ット22上に前記電極膜11、12が位置するように前
記パッケージ1を載置し、リフロー炉で例えば220゜
C〜240゜Cに加熱して前記半田よりなる接合材23
を溶融し、前記一対のパット22と電極膜11、12を
それぞれ溶着し、パッケージ1のプリント回路基板20
への表面実装がなされる。このとき、電極膜11、12
の熱膨張係数(電極膜が銅の場合1.62×10ー5
k)と封止の樹脂15の熱膨張係数(透明エポキシ樹脂
の場合4〜6×10ー5/゜C)の差により、また、電極
膜11、12と半導体チップ10との熱膨張係数の差に
より、電極膜11、12と樹脂15、半導体チップ10
の界面には互いに引き離そうとするせん断の熱応力が発
生する。
FIG. 3 is a sectional view showing a state in which the chip-type semiconductor package 1 shown in FIG. 1 is surface-mounted on a printed circuit board. Reference numeral 20 denotes a printed circuit board, which includes a circuit board 21 and a pair of pads 22 made of copper, gold, and the like provided on the circuit board 21 at predetermined intervals. A bonding material 23 made of paste-like solder is applied, and the package 1 is placed on the pad 22 so that the electrode films 11 and 12 are located. C to form a bonding material 23 made of the solder
And the pair of pads 22 and the electrode films 11 and 12 are welded to each other, and the printed circuit board 20 of the package 1 is melted.
Surface mounting is performed. At this time, the electrode films 11 and 12
Coefficient of thermal expansion (1.62 × 10 −5 / when the electrode film is copper)
k) and the coefficient of thermal expansion of the sealing resin 15 (4 to 6 × 10 −5 / ° C. in the case of a transparent epoxy resin), and the coefficient of thermal expansion between the electrode films 11 and 12 and the semiconductor chip 10. Due to the difference, the electrode films 11, 12 and the resin 15, the semiconductor chip 10
At the interface, shear thermal stress is generated to separate them from each other.

【0019】本例の電極膜11、12は接合材を介する
ことなくメッキによって半導体チップ10等に強固に固
着している。従って、図3に示すような表面実装におい
て、半田23を溶融するための前記加熱を行っても銅、
金等よりなる電極膜11、12は表面が若干溶けて、十
分な強度をもって固着している。従って、前記せん断に
対しては従来よりもかなり強くなっている。更には、こ
の熱応力は電極膜11、12の厚さに比例する、本例の
電極端子11、12はメッキによって形成された金属膜
であり、図18および図19に示した従来のパッケージ
構造における電極基板から切りだした電極端子に比しそ
の厚さは格段に小さく形成することができる。よって、
かかるせん断の熱応力は従来よりもかなり低下する。こ
れらの効果によって、従来のような剥離による電極端子
と半導体チップとの断線は効果的に阻止され、チップ型
半導体のパッケージ1が点灯不能となることが防止され
る。かくして、表面実装における耐性、信頼性の高いチ
ップ型半導体のパッケージ構造を実現することができ
る。
The electrode films 11 and 12 of this embodiment are firmly fixed to the semiconductor chip 10 and the like by plating without using a bonding material. Therefore, in the surface mounting as shown in FIG. 3, even if the above-mentioned heating for melting the solder 23 is performed, copper,
The surfaces of the electrode films 11 and 12 made of gold or the like are slightly melted and fixed with sufficient strength. Accordingly, the shear is considerably stronger than before. Further, this thermal stress is proportional to the thickness of the electrode films 11 and 12. The electrode terminals 11 and 12 of this example are metal films formed by plating, and the conventional package structure shown in FIGS. Can be formed to be much smaller in thickness than the electrode terminal cut out from the electrode substrate. Therefore,
The thermal stress of such shearing is considerably lower than before. By these effects, disconnection between the electrode terminal and the semiconductor chip due to peeling as in the related art is effectively prevented, and the chip-type semiconductor package 1 is prevented from being unable to light. Thus, a chip-type semiconductor package structure having high durability and high reliability in surface mounting can be realized.

【0020】以下に、図1に示した本実施例に係るチッ
プ型半導体のパッケージ1の一つの製造方法につき図面
を用いて説明する。図4に示すように、樹脂、ラバー等
の成型等により形成され、樹脂注入口18としての切り
欠け部を有する枠部材37の下方の端面に、すくなくと
も一方の面に粘着剤の付いたジートまたはフィルムより
なり、耐熱性を有する耐熱シート26を前記粘着剤の付
いた粘着面を上にして貼り付ける。
Hereinafter, one method of manufacturing the chip-type semiconductor package 1 according to this embodiment shown in FIG. 1 will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 4, at least one surface is provided with an adhesive on at least one lower surface of a frame member 37 formed by molding resin, rubber, or the like, and having a cutout as the resin injection port 18. A heat-resistant sheet 26 made of a film and having heat resistance is attached with the pressure-sensitive adhesive face up.

【0021】次に、図5に示すように枠部材37の下方
の端面に貼り付けられ耐熱シート26の前記粘着面上に
半導体チップ10のP層側及びN層側のいずれか一方の
端面を下にして、マトリクス状に配列、載置し、前記粘
着面に貼着、固定する。
Next, as shown in FIG. 5, one of the end faces of the P layer side and the N layer side of the semiconductor chip 10 is attached to the lower end face of the frame member 37 and on the adhesive face of the heat-resistant sheet 26. It is arranged and placed in a matrix in a downward direction, and is attached and fixed to the adhesive surface.

【0022】次に、図6に示すように前記と同様の耐熱
シート26の粘着面を下にして、前記の配列した半導体
チップ10の上面および枠部材37の上端面に貼り付け
る。これにより、枠部材37および上下の耐熱シート2
6に囲まれた充填空間が形成される。
Next, as shown in FIG. 6, the heat-resistant sheet 26 similar to the above is attached to the upper surface of the arranged semiconductor chips 10 and the upper end surface of the frame member 37 with the adhesive surface thereof facing down. Thereby, the frame member 37 and the upper and lower heat-resistant sheets 2
A filling space surrounded by 6 is formed.

【0023】次に、図7(a)に示すように枠部材37
に設けられた前記樹脂注入口18より、樹脂15を注入
し前記充填空間を充填した後、キュアーする。ここで樹
脂注入口18は図7(b)に示すように枠部材37の2
箇所に設けられている場合、図7(c)に示すように枠
部材37の一辺がすべて樹脂注入口18となっている場
合もある。枠部材37には必要に応じて、図示しない充
填の際の空気抜き用の孔を設けることもできる。
Next, as shown in FIG.
After the resin 15 is injected from the resin injection port 18 provided in the above and the filling space is filled, curing is performed. Here, as shown in FIG. 7 (b), the resin
In the case where it is provided at a location, the entire side of the frame member 37 may be the resin injection port 18 as shown in FIG. If necessary, the frame member 37 may be provided with a hole (not shown) for venting air at the time of filling.

【0024】次に、図8に示すように上下の面の耐熱シ
ート26を剥がし、半導体チップ10および充填した樹
脂15の上下の端面を露出させる。
Next, as shown in FIG. 8, the upper and lower heat-resistant sheets 26 are peeled off to expose the upper and lower end surfaces of the semiconductor chip 10 and the filled resin 15.

【0025】次に、図9に示すように半導体チップ10
および樹脂15の前記の上下の端面に(枠部材37の上
下の端面も含め)銅、金等のメッキによりそれぞれ電極
膜11、12を固着して形成する。
Next, as shown in FIG.
The electrode films 11 and 12 are fixed to the upper and lower end surfaces of the resin 15 (including the upper and lower end surfaces of the frame member 37) by plating with copper, gold, or the like.

【0026】次に、図10に示すようにダイヤモンドホ
イイール、マルチワイヤーソー等を用いて、前記の上下
の端面にそれぞれ電極膜11、12が形成された封止の
集合体30を各半導体チップ10を囲む、縦横の所定の
位置のダイシングラインLに沿って切断する。これによ
り、図1に示したパケージ1が個々に分離されて切り出
され、本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の
構造が完成する。
Next, as shown in FIG. 10, using a diamond wheel, a multi-wire saw, or the like, a sealed assembly 30 in which the electrode films 11 and 12 are formed on the upper and lower end surfaces, respectively, is connected to each semiconductor chip. 10 are cut along predetermined dicing lines L at predetermined positions in the vertical and horizontal directions. Thereby, the package 1 shown in FIG. 1 is separated and cut out individually, and the structure of the chip-type semiconductor package 1 according to the present embodiment is completed.

【0027】以下に、図1に示した本実施例に係るチッ
プ型半導体のパッケージ1の他の一つの製造方法につき
図面を用いて説明する。図11に示すように、すでに図
4に示し説明したのと同様の耐熱シート26を前記粘着
剤剤の付いた粘着面を上にして前記粘着面上に半導体チ
ップ10のP層側及びN層側のいずれか一方の端面を下
にして、マトリクス状に配列、載置し、貼着、固定す
る。
Hereinafter, another manufacturing method of the chip-type semiconductor package 1 according to the present embodiment shown in FIG. 1 will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 11, a heat-resistant sheet 26 similar to that already shown and described in FIG. 4 is placed on the P layer side and the N layer of the semiconductor chip 10 on the adhesive surface with the adhesive surface with the adhesive agent facing upward. One of the sides is arranged, placed, attached, and fixed in a matrix with one end face down.

【0028】次に、図12に示すように前記と同様の耐
熱シート26の粘着面を下にして、前記の配列した半導
体チップ10の上面に貼り付ける。
Next, as shown in FIG. 12, the heat-resistant sheet 26 similar to the above is attached to the upper surface of the arranged semiconductor chips 10 with the adhesive surface thereof facing down.

【0029】次に、図13に示すように前記上下の耐熱
シート26の外端に耐熱テープ17を貼着し、樹脂封入
口18を残してその間を塞ぎ、充填空間を形成する。こ
の際、複数の樹脂封入口18または必要に応じて、図示
はしないが、樹脂封入の際の空気抜き孔を残すようにし
て、耐熱テープ17を貼着することもできる。
Next, as shown in FIG. 13, a heat-resistant tape 17 is adhered to the outer ends of the upper and lower heat-resistant sheets 26, and the space between the resin-sealed ports 18 is closed to form a filling space. At this time, the heat-resistant tape 17 can be adhered so as to leave a plurality of resin sealing ports 18 or, if necessary, although not shown, air vent holes for resin sealing.

【0030】次に、図14に示すように前記樹脂注入口
18より、樹脂15を注入し前記充填空間を充填した
後、キュアーする。
Next, as shown in FIG. 14, the resin 15 is injected from the resin injection port 18 to fill the filling space and then cured.

【0031】次に、図15に示すように、充填した樹脂
15をキュアーした後、貼着されている上下の耐熱シー
ト26とこれらの外側面に貼着されている耐熱テープ1
7を剥離する。これにより封止の集合体30が得られ
る。ここで封止の集合体の30の上下の面には、樹脂1
5および半導体チップ10の上下の端面が露出してい
る。
Next, as shown in FIG. 15, after the filled resin 15 is cured, the upper and lower heat-resistant sheets 26 adhered to each other and the heat-resistant tape 1 adhered to their outer surfaces are adhered.
7 is peeled off. As a result, a sealed assembly 30 is obtained. Here, the resin 1 is placed on the upper and lower surfaces of the sealing assembly 30.
5 and the upper and lower end faces of the semiconductor chip 10 are exposed.

【0032】次に、図16に示すように封止の集合体3
0の上下の面(封止の集合体の側面を含めても良い。)
に銅、金等のメッキによりそれぞれ電極膜11、12を
固着して形成する。
Next, as shown in FIG.
0 upper and lower surfaces (the side surfaces of the sealing assembly may be included)
The electrode films 11 and 12 are fixed by plating with copper, gold or the like, respectively.

【0033】次に、図17に示すように上下の面に電極
膜11、12が固着された封止の集合体30を図10に
示して説明したのと同様の方法により、縦横の所定の位
置のダイシングラインLに沿って切断する。これによ
り、図1に示したパケージ1が個々に分離されて切り出
され、本実施例に係るチップ型半導体のパッケージ1の
構造が完成する。
Next, as shown in FIG. 17, a sealed assembly 30 in which the electrode films 11 and 12 are fixed on the upper and lower surfaces is formed in a predetermined vertical and horizontal direction by the same method as described with reference to FIG. Cut along the dicing line L at the position. Thereby, the package 1 shown in FIG. 1 is separated and cut out individually, and the structure of the chip-type semiconductor package 1 according to the present embodiment is completed.

【0034】このようにして、上記の製造方法によれ
ば、多数個取りにより生産能率をあげつつ、すでに説明
したような優れたチップ型半導体のパッケージを製造す
ることができる。
As described above, according to the above-described manufacturing method, it is possible to manufacture the above-described excellent chip-type semiconductor package while improving the production efficiency by multi-cavity production.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上に述べたように本発明によれば、小
型で、表面実装に適し、表面実装の際の剥離、断線がな
く、発光性能および信頼性に優れ、且つ製造時の歩溜ま
りも高い構造のチップ型半導体のパッケージを提供する
こと、および、かかる構造のパッケージを生産性よく製
造する方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is small in size, suitable for surface mounting, has no peeling or disconnection during surface mounting, is excellent in light emitting performance and reliability, and has a high production yield. It is possible to provide a chip-type semiconductor package having a very high structure and a method of manufacturing a package having such a structure with high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の一つであるチップ型半導
体のパッケージの構造を示す図であり、(a)は斜視
図、(b)は断面図である。
FIGS. 1A and 1B are diagrams illustrating a structure of a chip-type semiconductor package according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a perspective view and FIG. 1B is a cross-sectional view.

【図2】図1に示すチップ型半導体のパッケージの構造
の変形例を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a modification of the structure of the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図3】図1に示すチップ型半導体のパッケージの表面
実装の方法を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a method of surface mounting the chip-type semiconductor package shown in FIG.

【図4】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造
方法において、成型治具部材の組付けの工程を示す斜視
図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a step of assembling a molding jig member in the method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図5】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造
方法において、半導体チップの成型治具部材への、配
列、固定の工程を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a process of arranging and fixing semiconductor chips to a molding jig member in the method of manufacturing a chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図6】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造
方法おいて、半導体チップおよび成型治具部材より充填
空間を形成をする工程を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a step of forming a filling space from a semiconductor chip and a molding jig member in the method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG.

【図7】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造
方法において、充填空間に樹脂を充填する工程を示す斜
視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a step of filling a filling space with a resin in the method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図8】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造
方法において、成型治具部材を剥離して、充填樹脂等の
上下面を露出する工程を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a step of exposing a molding jig member to expose upper and lower surfaces of a filling resin or the like in the method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG.

【図9】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製造
方法において、露出した充填樹脂等の上下面に電極膜を
メッキにより固着する工程を示す斜視図である。
9 is a perspective view showing a step of fixing an electrode film to the exposed upper and lower surfaces of a filling resin or the like by plating in the method of manufacturing a chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図10】図1に示すチップ型半導体のパッケージの製
造方法において、上下面に電極膜を固着された前記充填
樹脂等を所定の縦横のダイシングラインで切断し、個々
のパッケージの完成品を切り出す工程を示す斜視図であ
る。
10 shows a method for manufacturing a chip-type semiconductor package shown in FIG. 1, in which the filling resin or the like having the electrode films fixed on the upper and lower surfaces is cut along predetermined vertical and horizontal dicing lines to cut out individual packages. It is a perspective view showing a process.

【図11】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、半導体チップの成型治具部材へ
の、配列、固定の工程を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing a step of arranging and fixing semiconductor chips to a molding jig member in another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図12】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、前記配列された半導体チップに対
し成型治具部材を貼着する工程を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing a step of attaching a molding jig member to the arranged semiconductor chips in another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG.

【図13】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、半導体チップおよび耐熱テープ等
を含む成型治具部材より充填空間を形成をする工程を示
す斜視図である。
13 is a perspective view showing a step of forming a filling space from a molding jig member including a semiconductor chip and a heat-resistant tape in another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG.

【図14】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、充填空間に樹脂を充填する工程を
示す斜視図である。
14 is a perspective view showing a step of filling a filling space with a resin in another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1. FIG.

【図15】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、成型治具部材を剥離して、充填樹
脂等の上下面等を露出する工程を示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing a step of exfoliating a molding jig member and exposing upper and lower surfaces of a filling resin or the like in another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG.

【図16】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、露出した充填樹脂等の上下面に電
極膜をメッキにより固着する工程を示す斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view showing a step of fixing an electrode film to the exposed upper and lower surfaces of a filling resin or the like by plating in another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;

【図17】図1に示すチップ型半導体のパッケージの他
の製造方法において、上下面に電極膜を固着された前記
充填樹脂等を所定の縦横のダイシングラインで切断し、
個々のパッケージの完成品を切り出す工程を示す斜視図
である。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing another method of manufacturing the chip-type semiconductor package shown in FIG. 1;
It is a perspective view which shows the process of cutting out the completed product of each package.

【図18】従来のチップ型半導体のパッケージの製造方
法を示す斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view showing a conventional method for manufacturing a chip-type semiconductor package.

【図19】図18に示す製造方法により製造された従来
のチップ型半導体のパッケージの表面実装の方法を示す
断面図である。
19 is a cross-sectional view showing a method of surface mounting a conventional chip-type semiconductor package manufactured by the manufacturing method shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 パッケージ 1a、1b、10a、10b 端面 10 半導体チップ 11、12 電極膜 15 樹脂 17 耐熱テープ 26 耐熱シート 37 枠部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Package 1a, 1b, 10a, 10b End surface 10 Semiconductor chip 11, 12 Electrode film 15 Resin 17 Heat resistant tape 26 Heat resistant sheet 37 Frame member

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップのP層側とN層側の両端面
にそれぞれ別個の電極が接合され、前記半導体チップの
露出面が樹脂で覆われて構成されるチップ型半導体のパ
ッケージ構造において、該パッケージは前記半導体チッ
プのP層側とN層側の両端面にそれぞれ対向するパッケ
ージ端面を有し、前記電極は半導体チップの前記両端面
に固着してメッキにより形成され、前記パッケージ端面
の少なくとも一部において、前記電極の外面が露出して
いることを特徴とするチップ型半導体のパッケージ構
造。
1. A chip type semiconductor package structure in which separate electrodes are respectively joined to both end surfaces on a P layer side and an N layer side of a semiconductor chip, and an exposed surface of the semiconductor chip is covered with a resin. The package has a package end face opposed to both end faces on the P layer side and the N layer side of the semiconductor chip, and the electrodes are fixed to the both end faces of the semiconductor chip and formed by plating, and at least the package end face is formed. A chip semiconductor package structure, wherein an outer surface of the electrode is partially exposed.
【請求項2】 前記半導体チップはLEDチップであ
り、前記樹脂は透光樹脂であることを特徴とする請求項
1に記載のチップ型半導体のパッケージ構造。
2. The package structure according to claim 1, wherein the semiconductor chip is an LED chip, and the resin is a translucent resin.
【請求項3】 少なくとも一部に切り欠き部を有する枠
部材の下の端面に片面に接着剤の付いた耐熱シートを前
記接着剤の付いた面を上にして貼り付ける工程、前記耐
熱シートの前記接着剤の付いた上面に複数の半導体チッ
プをマトリクス状に配列しそのP層側およびN層側の端
面のいずれか一方の端面を接合する工程、前記接合され
た半導体チップの上端面および前記枠部材の上端面に片
面に接着剤の付いた耐熱シートを前記接着剤の付いた面
を下にして貼り付け、充填空間を形成する工程、前記枠
部材の切り欠き部を注入口として前記充填空間に樹脂を
注入した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止す
る工程、前記注入した樹脂をキュアーした後、前記上下
の端面に貼り付けた耐熱シートを剥離する工程、前記耐
熱シートを剥離した後、前記半導体チップおよび注入樹
脂が露出している一体化された封止の集合体の上面およ
び下面に金、銅等の導電材よりなる電極膜を鍍金により
固着し、半導体チップと前記電極膜を導通させる工程、
前記鍍金の後、マトリクス状に配列した半導体チップを
囲み、マトリクスの縦横方向に沿った切断面に沿って前
記封止の集合体を切断し、個々のチップ型半導体のパッ
ケージを形成する工程とを有することを特徴とするチッ
プ型半導体のパッケージの製造方法。
3. A step of attaching a heat-resistant sheet having an adhesive on one side to a lower end surface of a frame member having a cutout at least in a part thereof, with the surface having the adhesive facing up. A step of arranging a plurality of semiconductor chips in a matrix on the top surface with the adhesive and joining one of the end surfaces on the P layer side and the N layer side, the upper end surface of the joined semiconductor chip and Attaching a heat-resistant sheet with an adhesive on one side to the upper end surface of the frame member with the surface with the adhesive facing down to form a filling space, and filling the cutout portion of the frame member with the cutout portion as an inlet. A step of curing after injecting a resin into a space and sealing a side surface of the semiconductor chip, a step of peeling off the heat-resistant sheets attached to the upper and lower end faces after curing the injected resin, and a step of peeling the heat-resistant sheet Thereafter, an electrode film made of a conductive material such as gold or copper is fixed on the upper and lower surfaces of the integrated sealing assembly in which the semiconductor chip and the injected resin are exposed, by plating. Conducting a,
Enclosing the semiconductor chips arranged in a matrix after the plating, cutting the assembly of the encapsulation along cutting planes along the vertical and horizontal directions of the matrix, and forming individual chip-type semiconductor packages. A method for manufacturing a chip-type semiconductor package, comprising:
【請求項4】 片面に接着剤の付いた耐熱シートを前記
接着剤の付いた面を上にして前記接着剤の付いた面に複
数の半導体チップをマトリクス状に配列しそのP層側お
よびN層側の端面のいずれか一方の端面を接合する工
程、前記接合された半導体チップの上端面に片面に接着
剤の付いた耐熱シートを前記接着剤の付いた面を下にし
て貼り付ける工程、前記上下に貼りつけられた耐熱シー
トの外側面部分を耐熱テープを貼着することにより、樹
脂注入口となる一部をのこして塞ぎ、充填空間を形成す
る工程、前記樹脂注入口より前記充填空間に樹脂を注入
した後キュアーし前記半導体チップの側面を封止する工
程、樹脂をキュアーした後、前記耐熱シートおよび耐熱
テープを剥離する工程、前記耐熱シートおよび耐熱テー
プを剥離した後、前記半導体チップおよび注入樹脂が露
出している一体化された封止の集合体の上面および下面
に金、銅等の導電材よりなる電極膜を鍍金により固着
し、半導体チップと前記電極膜を導通させる工程、前記
鍍金の後、マトリクス状に配列した半導体チップを囲
み、マトリクスの縦横方向に沿った切断面に沿って前記
封止の集合体を切断し、個々のチップ型半導体のパッケ
ージを形成する工程とを有することを特徴とするチップ
型半導体のパッケージの製造方法。
4. A heat-resistant sheet having an adhesive on one side, a plurality of semiconductor chips arranged in a matrix on the surface with the adhesive, with the surface with the adhesive facing upward, and a P layer side and an N-layer. Bonding one of the end faces on the layer side, affixing a heat-resistant sheet with an adhesive on one side to the upper end face of the bonded semiconductor chip with the surface with the adhesive facing down, A step of forming a filling space by pasting and closing a portion serving as a resin injection port by attaching a heat-resistant tape to an outer surface portion of the heat-resistant sheet stuck on the upper and lower sides, the filling space from the resin injection port. After injecting a resin, curing and sealing the side surface of the semiconductor chip, curing the resin, removing the heat-resistant sheet and heat-resistant tape, peeling off the heat-resistant sheet and heat-resistant tape, An electrode film made of a conductive material such as gold or copper is fixed on the upper and lower surfaces of the integrated sealing assembly in which the semiconductor chip and the injected resin are exposed by plating, and the semiconductor chip and the electrode film are conducted. Forming a package of individual chip-type semiconductors after surrounding the semiconductor chips arranged in a matrix after the plating, and cutting the assembly of the encapsulation along a cut surface along the vertical and horizontal directions of the matrix. And a method of manufacturing a chip-type semiconductor package.
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