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JPH11296847A - Method for evaluating magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and apparatus for manufacturing magnetic recording medium - Google Patents

Method for evaluating magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and apparatus for manufacturing magnetic recording medium

Info

Publication number
JPH11296847A
JPH11296847A JP9166998A JP9166998A JPH11296847A JP H11296847 A JPH11296847 A JP H11296847A JP 9166998 A JP9166998 A JP 9166998A JP 9166998 A JP9166998 A JP 9166998A JP H11296847 A JPH11296847 A JP H11296847A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
recording medium
protective film
magnetic recording
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9166998A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Miyai
清一 宮井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP9166998A priority Critical patent/JPH11296847A/en
Publication of JPH11296847A publication Critical patent/JPH11296847A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保護膜の膜特性を磁気記録媒体上に形成され
た状態で、簡便に、精度良く評価できる方法、およびこ
の評価方法を用いて保護膜を形成する磁気記録媒体の製
造方法ならびに磁気記録媒体の製造装置の提供を課題と
する。 【解決手段】 非磁性支持体上に、磁性膜を形成する手
段と、磁性膜上に例えばダイアモンドライクカーボン膜
などの保護膜を形成する例えばRFプラズマCVD装置
5を有し、RFプラズマCVD装置5内に、保護膜の屈
折率または吸収係数のスペクトルを例えば波長域が19
0nm以上、900nm以下で測定するプローブ16な
どの手段を設ける。
PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and accurately evaluate a film characteristic of a protective film in a state formed on a magnetic recording medium, and a magnetic recording medium for forming a protective film by using this evaluation method. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic recording medium and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium. SOLUTION: An RF plasma CVD apparatus has a means for forming a magnetic film on a non-magnetic support, and an RF plasma CVD apparatus for forming a protective film such as a diamond-like carbon film on the magnetic film. The spectrum of the refractive index or absorption coefficient of the protective film is, for example, 19
Means such as a probe 16 for measuring at a wavelength of 0 nm or more and 900 nm or less are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の評価
方法および磁気記録媒体の製造方法ならびに磁気記録媒
体の製造装置に関し、さらに詳しくは、屈折率および吸
収係数を測定することにより保護膜の膜特性を評価する
磁気記録媒体の評価方法およびこれを用いた磁気記録媒
体の製造方法ならびに磁気記録媒体の製造装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for evaluating a magnetic recording medium, a method for manufacturing a magnetic recording medium, and a device for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly, to measuring a refractive index and an absorption coefficient to form a protective film. The present invention relates to a magnetic recording medium evaluation method for evaluating characteristics, a magnetic recording medium manufacturing method using the same, and a magnetic recording medium manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク装置やディジタルビデオテ
ープレコーダ用の磁気記録媒体は、金属磁性薄膜を用い
た磁気ディスクや蒸着テープなどの磁気記録媒体が多く
用いられている。これらの磁気記録媒体の構成を、磁気
記録媒体の概略構成断面図である図1を参照して説明す
る。
2. Description of the Related Art Magnetic recording media for magnetic disk devices and digital video tape recorders often use magnetic recording media such as magnetic disks or metallized tapes using metal magnetic thin films. The configuration of these magnetic recording media will be described with reference to FIG. 1 which is a schematic configuration sectional view of the magnetic recording medium.

【0003】図1に示すように、一般に、磁気記録媒体
1は、ポリエチレンテレフタレートなどの非磁性支持体
2と、非磁性支持体2上にFe−Co合金膜などの磁性
膜3が形成され、さらに磁性膜3上にカーボン膜などの
保護膜4が形成された構成になっている。この保護膜4
としては、近年、磁気ディスクではヘッドクラッシュに
よる磁性膜3の損傷防止のため、また磁気テープでは磁
気ヘッドとの摺動による耐摩耗特性に優れた、ダイアモ
ンドライクカーボン膜(Diamond Like Carbon、以下D
LC膜と略す。)の形成が行われている。
As shown in FIG. 1, a magnetic recording medium 1 generally has a non-magnetic support 2 such as polyethylene terephthalate and a magnetic film 3 such as an Fe—Co alloy film formed on the non-magnetic support 2. Further, a protective film 4 such as a carbon film is formed on the magnetic film 3. This protective film 4
In recent years, a diamond-like carbon film (hereinafter referred to as D) has been used for a magnetic disk in order to prevent the magnetic film 3 from being damaged by a head crash, and for a magnetic tape to have an excellent wear resistance due to sliding with a magnetic head.
Abbreviated as LC film. ) Has been formed.

【0004】このDLC膜などの保護膜4の硬度は、耐
摩耗特性と密接な関連があり、その硬度を評価すること
は膜特性を知る上で極めて重要である。実際には磁気デ
ィスクや蒸着テープの磁気記録媒体1上の保護膜4の硬
度を直接測定することは、保護膜4の厚さが数10nm
程度と薄いので測定精度が得にくく、また非磁性支持体
2の硬度が小さいので保護膜4に対する影響が大きく、
針状の試験片により荷重を加えつつ硬度を測定する方法
では測定技術上の限界があった。
[0004] The hardness of the protective film 4 such as the DLC film is closely related to the abrasion resistance characteristics, and it is extremely important to evaluate the hardness in order to know the film characteristics. In practice, directly measuring the hardness of the protective film 4 on the magnetic recording medium 1 such as a magnetic disk or a vapor-deposited tape requires that the thickness of the protective film 4 be several tens nm.
It is difficult to obtain measurement accuracy because the thickness is as thin as possible, and the hardness of the nonmagnetic support 2 is small, so that the influence on the protective film 4 is large.
The method of measuring hardness while applying a load using a needle-shaped test piece has limitations in measurement technology.

【0005】従来は、例えばSi基板上に1μm程度の
DLC膜などの保護膜4を成膜して、マイクロビッカー
ス硬度計により針状の試験片の押し込み硬度を測定し、
同じ成膜条件で磁気記録媒体1上に成膜した数10nm
程度の厚さのカーボン膜の硬度を推定していた。これに
加えて、保護膜の耐摩耗特性試験、および磁気ディスク
であれば、CSS(コンタクト・スタートアンドストッ
プ)試験、蒸着テープであれば、スチル(静止画像)試
験などの耐久試験との相対的な比較により、磁気記録媒
体1の保護膜4としての最適な性能を引き出すことが可
能な成膜条件を決定していた。
Conventionally, for example, a protective film 4 such as a DLC film of about 1 μm is formed on a Si substrate, and the indentation hardness of a needle-shaped test piece is measured by a micro-Vickers hardness meter.
Several tens nm deposited on the magnetic recording medium 1 under the same deposition conditions
The hardness of a carbon film having a thickness of the order was estimated. In addition to this, the abrasion resistance test of the protective film, and the CSS (contact start and stop) test for a magnetic disk, and the durability test such as a still (still image) test for a vapor-deposited tape. By a simple comparison, the film forming conditions that can bring out the optimum performance as the protective film 4 of the magnetic recording medium 1 have been determined.

【0006】しかしながら、硬度試験における1μmの
膜厚の硬度と実際の磁気記録媒体1の保護膜4の膜厚の
数10nmの硬度とは必ずしも同等なものではなく、双
方の硬度の相関をとることが困難であり、実際の保護膜
4上の硬度を推定することが困難であった。
However, the hardness of 1 μm in the hardness test and the actual hardness of several tens nm of the thickness of the protective film 4 of the magnetic recording medium 1 in the hardness test are not necessarily equal to each other. And it was difficult to estimate the actual hardness on the protective film 4.

【0007】また、DLC膜などの保護膜4の膜特性の
評価方法として、保護膜4の組成比を決定する方法があ
り、例えば、カーボンに対する水素の含有率をラマン分
光法、蛍光X線分析法などの分析により測定することに
より、原子構造がダイアモンド構造に近似しているかど
うかなどの推定を行っていた。しかしながら、この分析
法も、Si基板などの平滑な試験用基板に成膜した上
で、試料を作製して分析する必要があり、分析も煩雑で
多くの工数を要するものであった。
As a method for evaluating the film characteristics of the protective film 4 such as a DLC film, there is a method of determining the composition ratio of the protective film 4. For example, the content ratio of hydrogen to carbon is determined by Raman spectroscopy and X-ray fluorescence analysis. It was estimated whether the atomic structure approximated the diamond structure by measuring by analysis such as the method. However, this analysis method also requires a sample to be prepared and analyzed after forming a film on a smooth test substrate such as a Si substrate, and the analysis is also complicated and requires many man-hours.

【0008】そこで、保護膜4の膜特性を磁気記録媒体
1上に形成された状態で、簡便に、精度良く評価できる
評価方法およびこの評価方法を用いた磁気記録媒体1の
製造方法および磁気記録媒体1の製造装置、ならびにこ
れらの製造方法および製造装置を用いて作製される信頼
性の高い磁気記録媒体1が求められていた。
Therefore, an evaluation method capable of easily and accurately evaluating the film characteristics of the protective film 4 while being formed on the magnetic recording medium 1, a method of manufacturing the magnetic recording medium 1 using this evaluation method, and a magnetic recording method There has been a demand for an apparatus for manufacturing the medium 1 and a highly reliable magnetic recording medium 1 manufactured using these manufacturing methods and apparatuses.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑み、保護膜の膜特性を磁気記録媒体上に形成され
た状態で、容易に、精度良く評価できる方法、およびこ
の評価方法を用いて保護膜を形成する磁気記録媒体の製
造方法ならびに磁気記録媒体の製造装置の提供を課題と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention provides a method for easily and accurately evaluating the film characteristics of a protective film in a state formed on a magnetic recording medium, and a method for evaluating the same. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a protective film is formed by using the method and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の磁気記
録媒体の評価方法は、少なくとも、非磁性支持体と、非
磁性支持体上に形成された磁性膜と、磁性膜上に形成さ
れた例えばダイアモンドライクカーボン膜などの保護膜
を有する磁気記録媒体の評価方法において、保護膜を形
成した磁気記録媒体上で、例えば保護膜を形成するため
の成膜用ロールと曲率が同等になるように磁気記録媒体
を支持して保護膜の屈折率および吸収係数の少なくとも
いずれか一方のスペクトルを例えば波長域が190nm
以上、900nm以下で測定することにより、保護膜の
組成比または硬度などの膜特性を評価することを特徴と
する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for evaluating a magnetic recording medium, comprising: a non-magnetic support; a magnetic film formed on the non-magnetic support; In a method for evaluating a magnetic recording medium having a protective film such as a diamond-like carbon film, the curvature may be equal to that of a film forming roll for forming the protective film on the magnetic recording medium on which the protective film is formed. And supporting at least one of the refractive index and the absorption coefficient of the protective film by supporting the magnetic recording medium, for example, in a wavelength region of 190 nm.
As described above, the film characteristics such as the composition ratio or hardness of the protective film are evaluated by measuring at 900 nm or less.

【0011】請求項3に記載の磁気記録媒体の評価方法
は、少なくとも、非磁性支持体上に、磁性膜が形成さ
れ、磁性膜上に例えばダイアモンドライクカーボン膜な
どの保護膜が形成された磁気記録媒体の評価方法におい
て、保護膜を形成する工程において、保護膜を形成しつ
つ、保護膜の屈折率および吸収係数の少なくともいずれ
か一方のスペクトルを例えば波長域が190nm以上、
900nm以下で測定することにより、保護膜の組成比
または硬度などの膜特性を評価することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for evaluating a magnetic recording medium comprising a magnetic film formed on at least a non-magnetic support, and a protective film such as a diamond-like carbon film formed on the magnetic film. In the method for evaluating a recording medium, in the step of forming a protective film, while forming the protective film, at least one of the spectrum of the refractive index and the absorption coefficient of the protective film, for example, the wavelength region is 190 nm or more,
By measuring at 900 nm or less, film characteristics such as the composition ratio or hardness of the protective film are evaluated.

【0012】請求項7に記載の磁気記録媒体の製造方法
は、少なくとも、非磁性支持体上に、磁性膜を形成し、
磁性膜上に例えばダイアモンドライクカーボン膜などの
保護膜を形成した磁気記録媒体の製造方法において、保
護膜を形成する工程が、保護膜の屈折率および吸収係数
の少なくともいずれか一方のスペクトルを例えば波長域
が190nm以上、900nm以下で測定することによ
り、保護膜の組成比または硬度などの膜特性を評価しつ
つ、保護膜を形成する工程を有することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: forming a magnetic film on at least a non-magnetic support;
In a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a protective film such as a diamond-like carbon film is formed on a magnetic film, the step of forming the protective film may include at least one of the spectrum of the refractive index and the absorption coefficient of the protective film. The method is characterized in that a step of forming a protective film is performed by measuring a region in a range from 190 nm to 900 nm to evaluate film properties such as a composition ratio or hardness of the protective film.

【0013】請求項11に記載の磁気記録媒体の製造装
置は、少なくとも、非磁性支持体上に、磁性膜を形成す
る手段と、磁性膜上に例えばダイアモンドライクカーボ
ン膜などの保護膜を形成する手段とを有する磁気記録媒
体の製造装置において、保護膜を形成する手段が、保護
膜の屈折率および吸収係数の少なくともいずれか一方の
スペクトルを例えば波長域が190nm以上、900n
m以下で測定する手段を有することを特徴とする。
[0013] In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, at least a means for forming a magnetic film on a non-magnetic support and a protective film such as a diamond-like carbon film are formed on the magnetic film. Means for forming a protective film, wherein the means for forming the protective film converts the spectrum of at least one of the refractive index and the absorption coefficient of the protective film into, for example, a wavelength region of 190 nm or more and 900 nm.
It is characterized by having means for measuring at m or less.

【0014】上述した手段による作用を以下に述べる。
本発明の磁気記録媒体の評価方法によれば、屈折率また
は吸収係数のスペクトルを磁気記録媒体上に形成された
状態で測定することにより、保護膜の水素含有率などの
組成比または硬度などの膜特性を、他の試験結果と容易
に対応させて推定することができる。
The operation of the above means will be described below.
According to the magnetic recording medium evaluation method of the present invention, by measuring the refractive index or absorption coefficient spectrum in a state formed on the magnetic recording medium, the composition ratio such as the hydrogen content of the protective film or the hardness. The film properties can be easily estimated in correspondence with other test results.

【0015】本発明の磁気記録媒体の評価方法によれ
ば、屈折率または吸収係数のスペクトルを保護膜を形成
する工程中で測定することにより、保護膜の水素含有率
などの組成比または硬度などの膜特性を、他の試験結果
と容易に対応させて推定することができる。
According to the method for evaluating a magnetic recording medium of the present invention, the spectrum of the refractive index or the absorption coefficient is measured in the step of forming the protective film, whereby the composition ratio such as the hydrogen content of the protective film or the hardness is measured. Can easily be estimated in correspondence with other test results.

【0016】本発明の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、保護膜を形成する工程において、屈折率または吸収
係数のスペクトルを測定することにより、保護膜の水素
含有率などの組成比または硬度などの膜特性を、他の試
験結果と容易に対応させて推定しつつ、最適条件の保護
膜を形成できる。
According to the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, in the step of forming the protective film, the composition ratio such as the hydrogen content of the protective film or the hardness is measured by measuring the refractive index or absorption spectrum. The protective film under the optimum conditions can be formed while estimating the film characteristics of the sample easily in correspondence with other test results.

【0017】本発明の磁気記録媒体の製造装置によれ
ば、保護膜を形成する装置内に屈折率および吸収係数の
スペクトルを測定する手段を設けることにより、保護膜
の水素含有率などの組成比または硬度などの膜特性の評
価結果を、その場で成膜条件にフィードバックしつつ、
容易に最適条件で保護膜を形成することができる。
According to the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, by providing means for measuring the refractive index and the absorption coefficient spectrum in the apparatus for forming the protective film, the composition ratio of the protective film such as the hydrogen content can be improved. Or, while feeding back the evaluation results of film characteristics such as hardness to film formation conditions on the spot,
A protective film can be easily formed under optimum conditions.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体の評価方法
および磁気記録媒体の製造方法ならびに磁気記録媒体の
製造装置を蒸着テープに適用した実施の形態例につい
て、図2〜図8および従来例の図1を参照して以下に説
明する。ただし、従来例と同じ構成要素は、同じ符号を
付すものとする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments in which the method for evaluating a magnetic recording medium, the method for manufacturing a magnetic recording medium, and the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention are applied to a vapor-deposited tape will be described with reference to FIGS. This will be described below with reference to FIG. However, the same components as those in the conventional example are denoted by the same reference numerals.

【0019】蒸着テープである磁気記録媒体1の磁性膜
3上に、保護膜4として例えばDLC膜を成膜する。成
膜方法としては、スパッタ法、DCプラズマCVD(Che
mical Vapor Deposition) 法、RFプラズマCVD法、
ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマCVD
法などを用いることができる。原料としては、スパッタ
法では、固体のカーボンターゲット、プラズマCVD法
では、気体のメタン、エタンおよびアセチレンなどの炭
化水素系原料ガス、あるいは液体のベンゼン、シクロヘ
キサン、トルエン、キシレン、メタノールおよびエタノ
ールなどの炭化水素をガス化して用いる。原料ガスは単
独でも、アルゴンガスなどのキャリアガスを併用しても
よい。
A DLC film, for example, is formed as a protective film 4 on the magnetic film 3 of the magnetic recording medium 1 which is a vapor-deposited tape. As a film forming method, a sputtering method, DC plasma CVD (Che
mical Vapor Deposition) method, RF plasma CVD method,
ECR (Electron Cyclotron Resonance) Plasma CVD
Method can be used. The raw material is a solid carbon target in the sputtering method, a gaseous hydrocarbon material such as methane, ethane and acetylene in the plasma CVD method, or a carbonaceous material gas such as liquid benzene, cyclohexane, toluene, xylene, methanol and ethanol. Hydrogen is gasified and used. The source gas may be used alone or in combination with a carrier gas such as an argon gas.

【0020】成膜装置の一例として、図2のようなRF
プラズマCVD装置5を採り上げて説明する。RFプラ
ズマCVD装置5では、真空排気装置6により排気され
た真空室7内に配設された反応菅8にメタンまたはエチ
レンなどの原料ガス9が供給され、その原料ガス9がR
F電源(不図示)よりコイル10にRFパワーが供給さ
れて発生するRF電界によりプラズマ化して反応し、成
膜用ロール11に密着して支持されるポリエチレンテレ
フタレートなどのフィルム状の非磁性支持体2上にFe
−Co薄膜などの磁性膜3が形成された蒸着テープ17
上に、DLC膜などの保護膜4が形成される。巻き出し
ロール12に収納された蒸着テープ17は、巻き出しロ
ール12からガイドロール13、14および成膜用ロー
ル11を経由してキャン状の成膜用ロール11により回
転駆動されながら走行しつつ、巻き取りロール15に巻
き取られる。成膜用ロール11は、金属製のキャン状ロ
ールで、半径rが例えば25cmの径を有する。成膜用
ロール11の近傍には、成膜用ロール11に密着した蒸
着テープ17上に垂直に測定光が照射されるように屈折
率および吸収係数のスペクトル測定用のプローブ16を
取り付ける。
As an example of a film forming apparatus, an RF as shown in FIG.
The plasma CVD apparatus 5 will be described. In the RF plasma CVD apparatus 5, a raw material gas 9 such as methane or ethylene is supplied to a reaction tube 8 provided in a vacuum chamber 7 evacuated by a vacuum exhaust device 6, and the raw material gas 9
An RF power is supplied to the coil 10 from an F power supply (not shown) to generate a plasma by an RF electric field generated and react, and a film-shaped non-magnetic support such as polyethylene terephthalate supported in close contact with the film forming roll 11. Fe on 2
-Evaporation tape 17 on which magnetic film 3 such as Co thin film is formed
A protective film 4 such as a DLC film is formed thereon. The vapor deposition tape 17 housed in the unwinding roll 12 travels from the unwinding roll 12 via the guide rolls 13 and 14 and the film-forming roll 11 while being rotationally driven by the can-shaped film-forming roll 11. It is taken up by a take-up roll 15. The film forming roll 11 is a metal can roll having a radius r of, for example, 25 cm. A probe 16 for measuring the refractive index and the absorption coefficient of the spectrum is attached near the film forming roll 11 so that the measuring light is irradiated vertically onto the vapor deposition tape 17 which is in close contact with the film forming roll 11.

【0021】上記のRFプラズマCVD装置5を用い
て、DLC膜の保護膜4を磁性膜3が形成された蒸着テ
ープ17上またはSi基板上に作製する。蒸着テープ1
7は、成膜用ロール11に支持されて走行されながら成
膜されるが、Si基板は、成膜用ロール11上に固定さ
れ静止した状態で成膜される。上記の条件で作製された
試料を実施例1〜10、および比較例1〜4とする。以
下にこれらの試料について、DLC膜の成膜条件を説明
する。
Using the above-mentioned RF plasma CVD apparatus 5, the protective film 4 of the DLC film is formed on the evaporation tape 17 on which the magnetic film 3 is formed or on the Si substrate. Evaporation tape 1
The film 7 is formed while running while being supported by the film-forming roll 11, and the Si substrate is fixed on the film-forming roll 11 and formed in a stationary state. Samples prepared under the above conditions are referred to as Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4. The conditions for forming the DLC film for these samples will be described below.

【0022】 [0022]

【0023】 [0023]

【0024】 [0024]

【0025】 [0025]

【0026】 [0026]

【0027】 [0027]

【0028】 [0028]

【0029】 [0029]

【0030】 [0030]

【0031】 [0031]

【0032】 [0032]

【0033】 [0033]

【0034】 [0034]

【0035】 [0035]

【0036】上記の実施例および比較例の試料につい
て、反射率、透過率、屈折率および吸収係数からなる光
学定数のスペクトル、硬度の測定およびスチル試験を行
う。
The samples of the above Examples and Comparative Examples are subjected to the measurement of the spectrum of optical constants consisting of reflectance, transmittance, refractive index and absorption coefficient, hardness and still test.

【0037】光学定数のスペクトル測定 実施例1〜10および比較例1〜4の試料の蒸着テープ
17を、保護膜4を形成するRFプラズマCVD装置5
の成膜用ロール11と同等の曲率rを有する図3に示す
ような固定支持台18に取り付ける。光学定数測定用の
プローブ16を固定支持台18に、曲面の中心方向にほ
ぼ垂直に設置して屈折率および吸収係数のスペクトルを
測定する。光学定数の測定は、例えばn&k Tech
nology,Incのn&kアナライザを用いる。S
i基板については、実施例と比較例ともに、基板に垂直
方向からプローブ16を設置して光学定数のスペクトル
を測定する。この場合、屈折率および吸収係数は、測定
光の波長域190nmから900nmの反射率または透
過率のスペクトルから決定される。屈折率および吸収係
数の波長域190nmから900nmのスペクトルは、
Forouhiらの理論により導入される。この理論の
詳細は以下の文献などに紹介されている。(Forouhi,Blo
omer,Phsy.Rev.B,34,7018,1986)
Measurement of spectrum of optical constants The RF tape CVD apparatus 5 for forming the protective film 4 was prepared by using the vapor-deposited tapes 17 of the samples of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4.
3 having the same curvature r as the film forming roll 11 as shown in FIG. A probe 16 for measuring an optical constant is placed on a fixed support 18 substantially perpendicular to the center of the curved surface, and the refractive index and absorption coefficient spectra are measured. The measurement of the optical constant is performed by, for example, n & k Tech.
A nology, Inc. n & k analyzer is used. S
Regarding the i-substrate, in both the example and the comparative example, the probe 16 is installed in a direction perpendicular to the substrate, and the spectrum of the optical constant is measured. In this case, the refractive index and the absorption coefficient are determined from the spectrum of the reflectance or transmittance in the wavelength range of 190 nm to 900 nm of the measurement light. The spectrum in the wavelength range of 190 nm to 900 nm of the refractive index and the absorption coefficient is
Introduced by the theory of Forouhi et al. Details of this theory are introduced in the following documents. (Forouhi, Blo
omer, Phsy. Rev. B, 34, 7018, 1986)

【0038】硬度の測定 実施例6〜10および比較例3,4のSi基板上にDL
C膜を作製した試料について、マイクロビッカース硬度
計により硬度を測定する。
Measurement of Hardness DL on the Si substrates of Examples 6 to 10 and Comparative Examples 3 and 4
The hardness of the sample on which the C film is formed is measured by a micro Vickers hardness tester.

【0039】スチル試験 実施例1〜5および比較例1,2の蒸着テープ17上に
DLC膜を作製した試料について、磁気ヘッドとの摺動
耐久性を測定する。1パスを1トラック分の記録信号の
再生として、1000万パス走行後の初期出力値に対す
る低下をdBで表し、3dB以下の低下を不合格とす
る。合格を○、不合格を×と表記する。
Still test The durability of the sample with a DLC film formed on the vapor-deposited tape 17 of each of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was measured for sliding durability with a magnetic head. Assuming that one pass is a reproduction of a recording signal for one track, a decrease with respect to an initial output value after running 10 million passes is represented by dB, and a decrease of 3 dB or less is rejected. Pass is indicated by ○ and reject is indicated by ×.

【0040】上記の実施例および比較例について、反射
率R、屈折率nおよび吸収係数kのスペクトル、硬度お
よびスチル試験の結果を図4〜図8および表1に示す。
The spectra of the reflectance R, the refractive index n and the absorption coefficient k, the hardness and the still test results of the above Examples and Comparative Examples are shown in FIGS. 4 to 8 and Table 1.

【0041】蒸着テープ17上にDLC膜を作製した、
実施例1の試料の反射率Rのスペクトルを図4に、屈折
率nおよび吸収係数kのスペクトルを図5に示す。ま
た、比較例1の試料の反射率Rのスペクトルを図6に、
屈折率nおよび吸収係数kのスペクトルを図7に示す。
Si基板上に上記と同条件でDLC膜を作製した実施例
6および比較例3の屈折率nおよび吸収係数kのスペク
トルも、それぞれ上記の実施例1および比較例1のスペ
クトルとはほぼ同等の特性値を示した。
A DLC film was formed on the evaporation tape 17.
FIG. 4 shows the spectrum of the reflectance R of the sample of Example 1, and FIG. 5 shows the spectrum of the refractive index n and the absorption coefficient k. FIG. 6 shows the reflectance R spectrum of the sample of Comparative Example 1.
FIG. 7 shows the spectra of the refractive index n and the absorption coefficient k.
The spectra of the refractive index n and the absorption coefficient k of Example 6 and Comparative Example 3 in which a DLC film was formed on a Si substrate under the same conditions as above were almost the same as the spectra of Example 1 and Comparative Example 1, respectively. The characteristic values are shown.

【0042】上記の実施例および比較例の試料につい
て、例えば測定波長が635nmにおける屈折率n0
硬度およびスチル試験の測定結果を表1に示す。
For the samples of the above Examples and Comparative Examples, for example, the refractive index n 0 at a measurement wavelength of 635 nm,
Table 1 shows the measurement results of the hardness and still tests.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】表1から、DLC膜の同じ成膜条件の試料
についての、屈折率n0 とSi基板上の硬度との関係を
示すと図8に示す通りである。したがって、表1の結果
から、例えば635nmの波長における屈折率n0 と硬
度およびスチル耐久特性について相関関係があることが
わかる。すなわち、屈折率n0 が大きくなると、硬度も
大となり、スチル耐久特性も向上する。屈折率n0
1.7以上の実施例では、ビッカース硬度が1000G
Pa以上あり、スチル試験にも合格した。一方、屈折率
0 が、1.6以下の比較例ではビッカース硬度が小さ
く、スチル試験にも不合格であった。この結果から、硬
度やスチル試験のかわりに、例えば635nmにおける
屈折率n0 を測定し、1.7以上あれば、DLC膜とし
ての膜特性を満足することがわかる。
FIG. 8 shows the relationship between the refractive index n 0 and the hardness on the Si substrate for the sample of the DLC film under the same film forming conditions from Table 1. Therefore, the results in Table 1 show that there is a correlation between the refractive index n 0 at a wavelength of, for example, 635 nm and the hardness and the still durability. That is, when the refractive index n 0 becomes larger, the hardness also large, and the well is improved still durability characteristics. In the example in which the refractive index n 0 is 1.7 or more, the Vickers hardness is 1000 G
Pa or more, and passed the still test. On the other hand, in the comparative example having a refractive index n 0 of 1.6 or less, the Vickers hardness was small, and it failed the still test. From these results, it is found that the refractive index n 0 at 635 nm is measured instead of the hardness or still test, and that the film characteristic as a DLC film is satisfied if the refractive index is 1.7 or more.

【0045】また、この屈折率または吸収係数のスペク
トルについて、DLC膜の水素含有率に対応して、その
スペクトルのパターンが決定されることが理論的に導か
れ、実験的にも一致することから、カーボンに対する水
素原子の含有率などの組成比がわかりダイアモンド構造
などの形成状態を推定することができる。例えば、63
5nmにおける屈折率n0 が2.1以上では水素含有率
が小で、組成比がダイアモンドに近似した構造になって
いることがわかっており、硬度やスチル試験の結果と対
応がつく。これらの結果は、別のラマン分光分析法、あ
るいは蛍光X線分光分析法などの組成分析からも推定で
きるが、これらの方法は試料の作製、測定などが非常に
煩雑で多くの工数を要する。
It is theoretically suggested that the spectrum pattern of the refractive index or the absorption coefficient is determined in accordance with the hydrogen content of the DLC film. Thus, the composition ratio such as the content ratio of hydrogen atoms to carbon can be known, and the formation state of a diamond structure or the like can be estimated. For example, 63
Refractive index n 0 is a small hydrogen content in 2.1 or more at 5 nm, it has been found to have a structure in which the composition ratio is close to diamond, get the corresponding results of the hardness and still test. These results can be estimated from composition analysis such as another Raman spectroscopy or X-ray fluorescence spectroscopy. However, in these methods, preparation and measurement of a sample are very complicated and require many man-hours.

【0046】次に、例えば蒸着テープ17上にDLC膜
を連続的に成膜するRFプラズマCVD装置5におい
て、光学定数のスペクトルを測定した場合の実施の形態
例について述べる。
Next, an embodiment in which the spectrum of the optical constant is measured in, for example, an RF plasma CVD apparatus 5 for continuously forming a DLC film on the evaporation tape 17 will be described.

【0047】n&kアナライザの測定用プローブ16
を、蒸着テープ17が走行する成膜用ロール11に垂直
に測定光が入射するように設置する。このとき、蒸着テ
ープ17表面と測定プローブ16との距離はほぼ1cm
以内であればよく、5mm以内であればさらに望まし
い。この装置を用いて、上記実施例および比較例と同じ
条件で、蒸着テープ17上にDLC膜を作製したとき
の、製造工程中におけるDLC膜の光学定数のスペクト
ルは、蒸着テープ17を静止状態で固定支持台18に取
り付けて測定した光学定数のスペクトルおよびSi基板
上にDLC膜を作製した試料の光学定数のスペクトルと
測定値の対応がよくつくことが確認された。
Measuring probe 16 of n & k analyzer
Is installed such that the measuring light is incident perpendicularly on the film forming roll 11 on which the evaporation tape 17 runs. At this time, the distance between the surface of the evaporation tape 17 and the measurement probe 16 is approximately 1 cm.
It is more preferable if it is within 5 mm. Using this apparatus, under the same conditions as in the above Examples and Comparative Examples, when a DLC film was produced on the vapor deposition tape 17, the spectrum of the optical constants of the DLC film during the manufacturing process was measured with the vapor deposition tape 17 in a stationary state. It was confirmed that the spectrum of the optical constant measured by attaching to the fixed support 18 and the spectrum of the optical constant of the sample in which the DLC film was formed on the Si substrate corresponded well to the measured value.

【0048】これは、蒸着テープ17に均一なテンショ
ンが加えられるとともに、表面が平滑になり、測定光の
散乱条件が同等となるためと推定される。したがって、
成膜用ロール11と同等の曲率rを有する固定支持台1
8を用いれば、RFプラズマCVD装置5上で光学定数
のスペクトルを測定する場合とほぼ同等の条件が得ら
れ、簡便な方法で、成膜後に、蒸着テープ17の状態
で、容易に光学定数のスペクトルを測定でき、Si基板
上に作製した試料とも対応がつき、DLC膜の膜特性の
確認も可能となることがわかる。
This is presumed to be because uniform tension is applied to the vapor deposition tape 17, the surface becomes smooth, and the scattering conditions of the measurement light become equal. Therefore,
Fixed support 1 having the same curvature r as film forming roll 11
By using No. 8, almost the same conditions as in the case of measuring the spectrum of the optical constants on the RF plasma CVD device 5 can be obtained. It can be seen that the spectrum can be measured, the sample can be made on a Si substrate, and the film characteristics of the DLC film can be confirmed.

【0049】さらに、RFプラズマCVD装置5などの
成膜装置内で、成膜工程中にDLC膜などの保護膜4の
光学定数を測定することにより、保護膜4の膜特性を評
価することが可能となり、その評価結果を成膜条件にフ
ィードバックしつつ成膜すれば、容易に最適化された保
護膜4を作製することができる。尚、本発明は、上記の
実施の形態例に何ら限定されない。
Further, the film characteristics of the protective film 4 can be evaluated by measuring the optical constants of the protective film 4 such as a DLC film during the film forming process in a film forming apparatus such as the RF plasma CVD apparatus 5. If the evaluation result is fed back to the film forming conditions and the film is formed, the optimized protective film 4 can be easily manufactured. It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の評価方法によれ
ば、保護膜を磁気記録媒体上に形成された状態で、保護
膜の膜特性を容易に、精度良く評価できる。本発明の磁
気記録媒体の製造方法および製造装置によれば、磁気記
録媒体上に形成する工程中で、保護膜の膜特性を容易
に、精度良く評価しつつ、保護膜を形成することができ
る。
According to the method for evaluating a magnetic recording medium of the present invention, the film characteristics of the protective film can be easily and accurately evaluated with the protective film formed on the magnetic recording medium. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the manufacturing method and manufacturing apparatus of the magnetic recording medium of this invention, in the process of forming on a magnetic recording medium, a protective film can be formed easily and accurately evaluating the film characteristic of a protective film. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来の磁気記録媒体の概略構成断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view of the configuration of a conventional magnetic recording medium.

【図2】 本発明のRFプラズマCVD装置を示す概略
構成断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing the configuration of an RF plasma CVD apparatus according to the present invention.

【図3】 本発明の光学定数測定用の固定支持台を示す
概略構成断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a fixed support base for measuring an optical constant according to the present invention.

【図4】 実施例1の反射率のスペクトルを示す説明図
である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a reflectance spectrum of the first embodiment.

【図5】 実施例1の屈折率および吸収係数のスペクト
ルを示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a spectrum of a refractive index and an absorption coefficient of Example 1.

【図6】 比較例1の反射率のスペクトルを示す説明図
である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a reflectance spectrum of Comparative Example 1.

【図7】 比較例1の屈折率および吸収係数のスペクト
ルを示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a spectrum of a refractive index and an absorption coefficient of Comparative Example 1.

【図8】 屈折率と硬度との関係を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a relationship between a refractive index and hardness.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…磁気記録媒体、2…非磁性支持体、3…磁性膜、4
…保護膜、5…RFプラズマCVD装置、6…真空排気
装置、7…真空室、8…反応管、9…原料ガス、10…
コイル、11…成膜用ロール、12…巻き出しロール、
13,14…ガイドロール、15…巻き取りロール、1
6…プローブ、17…蒸着テープ、18…固定支持台
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Magnetic recording medium, 2 ... Non-magnetic support, 3 ... Magnetic film, 4
... Protective film, 5 ... RF plasma CVD device, 6 ... Vacuum exhaust device, 7 ... Vacuum chamber, 8 ... Reaction tube, 9 ... Source gas, 10 ...
Coil, 11: film forming roll, 12: unwinding roll,
13, 14: guide roll, 15: take-up roll, 1
6 ... probe, 17 ... vapor deposition tape, 18 ... fixed support

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、非磁性支持体と、前記非磁
性支持体上に形成された磁性膜と、前記磁性膜上に形成
された保護膜を有する磁気記録媒体の評価方法におい
て、 前記保護膜を形成した前記磁気記録媒体上で、前記保護
膜の屈折率および吸収係数の少なくともいずれか一方の
スペクトルを測定することにより、前記保護膜の膜特性
を評価することを特徴とする磁気記録媒体の評価方法。
1. A method for evaluating a magnetic recording medium comprising at least a non-magnetic support, a magnetic film formed on the non-magnetic support, and a protective film formed on the magnetic film, Measuring the spectrum of at least one of the refractive index and the absorption coefficient of the protective film on the magnetic recording medium on which is formed, evaluating the film characteristics of the protective film. Evaluation methods.
【請求項2】 前記スペクトルを測定する方法が、前記
保護膜を形成するための成膜用ロールと曲率が同等にな
るように前記磁気記録媒体を支持して測定することを特
徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の評価方法。
2. The method for measuring the spectrum, wherein the measurement is carried out by supporting the magnetic recording medium so that the curvature is equal to that of a film-forming roll for forming the protective film. 2. The method for evaluating a magnetic recording medium according to item 1.
【請求項3】 少なくとも、非磁性支持体と、前記非磁
性支持体上に形成された磁性膜と、前記磁性膜上に形成
された保護膜を有する磁気記録媒体の評価方法におい
て、 前記保護膜を形成する工程が、前記保護膜を形成しつ
つ、前記保護膜の屈折率および吸収係数の少なくともい
ずれか一方のスペクトルを測定することにより、前記保
護膜の膜特性を評価することを特徴とする磁気記録媒体
の評価方法。
3. A method for evaluating a magnetic recording medium comprising at least a nonmagnetic support, a magnetic film formed on the nonmagnetic support, and a protective film formed on the magnetic film, Forming the protective film while measuring the spectrum of at least one of the refractive index and the absorption coefficient of the protective film to evaluate the film characteristics of the protective film. Evaluation method for magnetic recording media.
【請求項4】 前記スペクトルの波長域が、190nm
以上、900nm以下であることを特徴とする請求項1
または請求項3に記載の磁気記録媒体の評価方法。
4. The wavelength range of the spectrum is 190 nm.
The thickness is not more than 900 nm.
Alternatively, the method for evaluating a magnetic recording medium according to claim 3.
【請求項5】 前記保護膜の膜特性が、前記保護膜の組
成比および硬度のいずれか一方であることを特徴とする
請求項1または請求項3に記載の磁気記録媒体の評価方
法。
5. The method for evaluating a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the film characteristic of the protective film is one of a composition ratio and a hardness of the protective film.
【請求項6】 前記保護膜がダイアモンドライクカーボ
ン膜であることを特徴とする請求項1または請求項3に
記載の磁気記録媒体の評価方法。
6. The method for evaluating a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the protective film is a diamond-like carbon film.
【請求項7】 少なくとも、非磁性支持体上に、磁性膜
を形成し、前記磁性膜上に保護膜を形成する磁気記録媒
体の製造方法において、 前記保護膜を形成する工程が、前記保護膜の屈折率およ
び吸収係数の少なくともいずれか一方のスペクトルを測
定することにより、前記保護膜の膜特性を評価しつつ、
前記保護膜を形成する工程を有することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
7. A method for manufacturing a magnetic recording medium comprising: forming a magnetic film on a non-magnetic support; and forming a protective film on the magnetic film, wherein the step of forming the protective film comprises: By measuring the spectrum of at least one of the refractive index and absorption coefficient of, while evaluating the film properties of the protective film,
A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising a step of forming the protective film.
【請求項8】 前記スペクトルの波長域が、190nm
以上、900nm以下であることを特徴とする請求項7
に記載の磁気記録媒体の製造方法。
8. The wavelength range of the spectrum is 190 nm.
The thickness is not more than 900 nm.
3. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1.
【請求項9】 前記保護膜の膜特性が、前記保護膜の組
成比および硬度のいずれか一方であることを特徴とする
請求項7に記載の磁気記録媒体の製造方法。
9. The method according to claim 7, wherein the film property of the protective film is one of a composition ratio and a hardness of the protective film.
【請求項10】 前記保護膜がダイアモンドライクカー
ボン膜であることを特徴とする請求項7に記載の磁気記
録媒体の製造方法。
10. The method according to claim 7, wherein the protective film is a diamond-like carbon film.
【請求項11】 少なくとも、非磁性支持体上に、磁性
膜を形成する手段と、前記磁性膜上に保護膜を形成する
手段とを有する磁気記録媒体の製造装置において、 前記保護膜を形成する手段が、前記保護膜の屈折率およ
び吸収係数の少なくともいずれか一方のスペクトルを測
定する手段を有することを特徴とする磁気記録媒体の製
造装置。
11. A magnetic recording medium manufacturing apparatus having at least means for forming a magnetic film on a nonmagnetic support and means for forming a protective film on the magnetic film, wherein the protective film is formed. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, wherein the means comprises means for measuring at least one of a refractive index and an absorption coefficient of the protective film.
【請求項12】 前記スペクトルの波長域が、190n
m以上、900nm以下であることを特徴とする請求項
11に記載の磁気記録媒体の製造装置。
12. The wavelength range of the spectrum is 190n.
The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 11, wherein the length is not less than m and not more than 900 nm.
【請求項13】 前記保護膜がダイアモンドライクカー
ボン膜であることを特徴とする請求項11に記載の磁気
記録媒体の製造装置。
13. The apparatus according to claim 11, wherein the protective film is a diamond-like carbon film.
JP9166998A 1998-04-03 1998-04-03 Method for evaluating magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and apparatus for manufacturing magnetic recording medium Pending JPH11296847A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002039969A (en) * 2000-07-25 2002-02-06 Fujitsu Ltd Method for measuring density of thin film and magnetic disk drive

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