JPH11279539A - Composition for polishing - Google Patents
Composition for polishingInfo
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- JPH11279539A JPH11279539A JP8370098A JP8370098A JPH11279539A JP H11279539 A JPH11279539 A JP H11279539A JP 8370098 A JP8370098 A JP 8370098A JP 8370098 A JP8370098 A JP 8370098A JP H11279539 A JPH11279539 A JP H11279539A
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は粉末状の研磨用組成
物に関する。[0001] The present invention relates to a powdery polishing composition.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁気ディスクや光ディスク、LCD、フ
ォトマスク等、種々の用途において、基板材料の研磨に
高い表面精度が要求されている。これらの研磨には一般
に、アルミナ、ジルコニア、セリア、シリカ等の粉末を
研磨材として水に分散させた水系スラリーの研磨用組成
物が使用される。しかしこれまでの研磨用スラリーは、
研磨量が少なくて研磨作業の効率が悪く、またスクラッ
チ、オレンジピール、ピット等と呼ばれる表面欠陥が生
じたり、研磨面の形状精度が低いなどの品質上の問題が
あった。これを改良し研磨効率並びに研磨品質を向上さ
せるため、酸あるいはアルカリ薬品といったケミカルエ
ッチング剤や、ポリカルボン酸溶液等の分散剤を配合し
た研磨用組成物が検討されているが必ずしも満足いくも
のではなく、また配合が複雑な為予めスラリー組成物と
して配合されてあるものを使用しなければならず使用方
法においても制約されるものであった。2. Description of the Related Art In various applications such as magnetic disks, optical disks, LCDs, and photomasks, high surface precision is required for polishing a substrate material. In general, a polishing composition of an aqueous slurry in which a powder of alumina, zirconia, ceria, silica, or the like is dispersed in water as an abrasive is used for the polishing. However, conventional polishing slurries
The polishing amount is small and the efficiency of the polishing operation is poor, and there are quality problems such as surface defects called scratches, orange peels, pits, etc., and low shape accuracy of the polished surface. In order to improve this and improve polishing efficiency and polishing quality, chemical etching agents such as acids or alkali chemicals, and polishing compositions containing a dispersant such as a polycarboxylic acid solution have been studied, but they are not always satisfactory. In addition, since the composition is complicated, a composition previously prepared as a slurry composition must be used, and the method of use is restricted.
【0003】また、従来の研磨用組成物は、スラリー中
における研磨材粒子の分散安定性が充分でなく、貯蔵時
に研磨材粒子の凝集が生じ沈澱が起こる為、使用時に再
分散する必要があったり、凝集すると2次粒子が生じ、
見かけの粒子径が大きくなって研磨表面に傷を付け、表
面欠陥が生じる問題があり、ケーキング防止剤の添加
や、より沈降安定性に優れた分散剤を使用するといった
処置が施されていた。しかしながら、これらは必ずしも
満足いくものではなかった。そこで、実際に研磨を実施
する現場等の必要に応じて、研磨用スラリーを容易に調
整する事が可能であり、研磨効率並びに研磨品質にも優
れた粉状研磨用組成物に対する要求があった。In addition, the conventional polishing composition has insufficient dispersion stability of the abrasive particles in the slurry, and causes agglomeration of the abrasive particles during storage to cause precipitation. Or agglomerate to form secondary particles,
There is a problem that the apparent particle diameter becomes large and the polished surface is scratched to cause surface defects. Therefore, measures such as adding an anti-caking agent and using a dispersant having more excellent sedimentation stability have been performed. However, these have not always been satisfactory. Therefore, there has been a demand for a powdery polishing composition that can easily adjust the polishing slurry as required at the actual polishing site or the like, and has excellent polishing efficiency and polishing quality. .
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの事情
からみてなされたもので、研磨速度が大で、研磨品質も
良く、研磨材粒子の分散安定性に優れ、しかも溶媒と混
合するだけで容易に研磨用スラリーを調整する事が可能
な粉状の研磨用組成物に関する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of these circumstances, and has a high polishing rate, good polishing quality, excellent dispersion stability of abrasive particles, and requires only mixing with a solvent. The present invention relates to a powdery polishing composition capable of easily adjusting a polishing slurry.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記目的
を達成するために鋭意検討したところ、研磨材、側鎖に
カルボキシル基とポリアルキレンオキサイド構造を有す
るポリカルボン酸系重合体を含有する粉状研磨用組成物
が、溶媒と混合するだけで容易に研磨用スラリーとな
り、研磨量が大きくて研磨作業の効率が良く、またスク
ラッチ、ピット等の表面欠陥が生じ難く、形状精度にも
優れ、且つ研磨材の分散安定性にも優れることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and have found that they contain an abrasive and a polycarboxylic acid polymer having a carboxyl group and a polyalkylene oxide structure in a side chain. The powdery polishing composition to be formed easily becomes a polishing slurry simply by being mixed with a solvent, the polishing amount is large, the polishing operation is efficient, and surface defects such as scratches and pits are hardly generated, and the shape precision is also reduced. The present invention was found to be excellent and the dispersion stability of the abrasive was also excellent, and the present invention was completed.
【0006】すなわち本発明の第一は研磨材及び側鎖に
カルボキシル基とポリアルキレンオキサイド構造を有す
るポリカルボン酸系重合体(以下「ポリカルボン酸系重
合体」という。)を含有する粉状研磨用組成物である。
第二の発明はポリカルボン酸系重合体が、一般式(1)
で示されるポリアルキレングリコールアルケニルエーテ
ルと無水マレイン酸からなる共重合体、あるいはその加
水分解物及び/又は加水分解物の塩(以下「MAポリカ
ルボン酸系重合体」という。)であることを特徴とする
第一の発明の粉状研磨用組成物である。That is, a first aspect of the present invention is powdery polishing containing an abrasive and a polycarboxylic acid polymer having a carboxyl group and a polyalkylene oxide structure in a side chain (hereinafter, referred to as “polycarboxylic acid polymer”). It is a composition for use.
In the second invention, the polycarboxylic acid-based polymer has a general formula (1)
Or a copolymer of a polyalkylene glycol alkenyl ether and maleic anhydride, or a hydrolyzate thereof and / or a salt of the hydrolyzate (hereinafter, referred to as “MA polycarboxylic acid polymer”). It is a powdery polishing composition of the first invention.
【0007】[0007]
【化2】 Embedded image
【0008】(R1はビニル基、アリル基、AOは炭素
数2〜4のオキシアルキル基、nは1〜200の整数、
R2は水素又は炭素数1〜20の有機残基)(R 1 is a vinyl group, an allyl group, AO is an oxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, n is an integer of 1 to 200,
R 2 is hydrogen or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms)
【0009】また、第三の発明はMAポリカルボン酸系
重合体が2価以上金属との塩である粉状のMAポリカル
ボン酸系重合体(以下「2価塩MAポリカルボン酸系重
合体」という。)であることを特徴とする第二の発明の
粉状研磨用組成物である。第四の発明は研磨材とポリカ
ルボン酸系重合体及び溶媒を混合しスラリーを調整後、
該スラリーを乾燥し粉にすることによる、第一、第二又
は第三の発明の粉状研磨用組成物の製造方法である。第
五の発明は研磨材と請求項3に記載の粉状MAポリカル
ボン酸系重合体を混合することによる、第三の発明の粉
状研磨用組成物の製造方法である。A third invention relates to a powdery MA polycarboxylic acid polymer in which the MA polycarboxylic acid polymer is a salt with a divalent or higher-valent metal (hereinafter referred to as a “divalent salt MA polycarboxylic acid polymer”). "). The powdery polishing composition according to the second aspect of the present invention. The fourth invention is to adjust the slurry by mixing the abrasive and the polycarboxylic acid polymer and the solvent,
This is a method for producing the powdery polishing composition of the first, second or third invention by drying the slurry to powder. A fifth invention is a method for producing the powdery polishing composition according to the third invention, by mixing the abrasive and the powdery MA polycarboxylic acid polymer according to the third aspect.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いられるポリカルボン酸系重合体としては、
例えば特開平6−256054号公報、特公平6−88
818号公報、特公平6−88817号公報等記載のビ
ニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、オレフィン−
無水マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共
重合体等の不飽和ビニル系モノマーと不飽和ジカルボン
酸の共重合体のアルキレングリコール系化合物によるエ
ステル化物がある。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
As the polycarboxylic acid polymer used in the present invention,
For example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 818, Japanese Patent Publication No. 6-88817, etc., vinyl ether-maleic anhydride copolymer, olefin
There is an esterified product of an unsaturated vinyl monomer and an unsaturated dicarboxylic acid copolymer such as a maleic anhydride copolymer and a styrene-maleic anhydride copolymer with an alkylene glycol compound.
【0011】また特開平8−12396号公報、特開昭
62−216950号公報、特開平1−226757号
公報、特開平6−206750号公報等記載の不飽和基
として(メタ)アクリル酸エステル基を有するポリアル
キレングリコール誘導体と、不飽和モノカルボン酸叉は
不飽和ジカルボン酸と、アリルスルホン酸、メタリルス
ルホン酸等のスルホン酸基を有する単量体の共重合体が
ある。As the unsaturated groups described in JP-A-8-12396, JP-A-62-216950, JP-A-1-226575, JP-A-6-206750, etc., a (meth) acrylate group is used as an unsaturated group. And a copolymer of an unsaturated monocarboxylic acid or unsaturated dicarboxylic acid and a monomer having a sulfonic acid group such as allylsulfonic acid and methallylsulfonic acid.
【0012】また特開平7−53249号公報、特開平
7−215746号公報、特開平8−165157号公
報、特開平7−232945号公報等記載のポリオキシ
アルキレン誘導体からなる単量体と、カルボキシル基を
含有する単量体を必須成分とする共重合体がある。A monomer comprising a polyoxyalkylene derivative described in JP-A-7-53249, JP-A-7-215746, JP-A-8-165157, JP-A-7-232945, etc. There is a copolymer containing a group-containing monomer as an essential component.
【0013】この中でも、一般式(1)で示されるポリ
アルキレングリコールアルケニルエーテルと無水マレイ
ン酸からなる共重合体、あるいはその加水分解物及び/
又は加水分解物の塩であるMAポリカルボン酸系重合体
は好適に使用される。特にR1がビニル基のものは最も
好適に使用される。Among them, a copolymer of polyalkylene glycol alkenyl ether represented by the general formula (1) and maleic anhydride, or a hydrolyzate thereof and / or
Alternatively, an MA polycarboxylic acid polymer which is a salt of a hydrolyzate is suitably used. Particularly, those in which R1 is a vinyl group are most preferably used.
【0014】[0014]
【化3】 Embedded image
【0015】(R1はビニル基、アリル基、AOは炭素
数2〜4のオキシアルキル基、nは1〜200の整数、
R2は水素又は炭素数1〜20の有機残基)(R 1 is a vinyl group, an allyl group, AO is an oxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, n is an integer of 1 to 200,
R 2 is hydrogen or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms)
【0016】またMAポリカルボン酸系重合体と2価以
上の金属との塩で粉状のものは好適に使用することがで
きる。2価以上の金属としては、カルシウム、マグネシ
ウム、アルミニウム等が使用できるが、製造の容易さ、
価格、低吸湿性の点からカルシウムの使用が好ましい。
このMAポリカルボン酸系重合体は研磨剤と単に混合す
るだけで研磨用組成物を得ることができる。A powdery salt of the MA polycarboxylic acid polymer with a divalent or higher valent metal can be suitably used. Calcium, magnesium, aluminum and the like can be used as the divalent or higher metal,
The use of calcium is preferred in terms of cost and low hygroscopicity.
The polishing composition can be obtained by simply mixing the MA polycarboxylic acid polymer with an abrasive.
【0017】この2価塩MAポリカルボン酸系重合体
は、MAポリカルボン酸系重合体溶融物、MAポリカル
ボン酸系重合体の水溶液あるいは有機溶媒溶液に2価以
上金属の塩又は水酸化物を必要に応じて少量の水共存下
で反応させて塩とした後、乾燥・粉砕する工程、あるい
は貧溶媒による析出・濾過・乾燥する工程により製造す
ることができる。乾燥方法としてはドラムドライヤー、
スプレードライヤー、濾過乾燥機等の乾燥装置が使用で
きる。The divalent salt MA polycarboxylic acid polymer is prepared by adding a salt or hydroxide of a divalent or higher metal to an MA polycarboxylic acid polymer melt, an aqueous solution of the MA polycarboxylic acid polymer or an organic solvent solution. Can be reacted in the presence of a small amount of water, if necessary, to form a salt, and then dried and pulverized, or precipitated with a poor solvent, filtered and dried. As a drying method, a drum dryer,
A drying device such as a spray dryer or a filtration dryer can be used.
【0018】本発明における研磨材の材質は、一般に研
磨材として使用されるところの材料であれば特に限定さ
れないが、例えば、溶融褐色アルミナ、溶融白色アルミ
ナ、板状アルミナ、低ソーダアルミナ、高純度アルミ
ナ、微粒子アルミナ、活性アルミナ等の酸化アルミニウ
ム、高純度ジルコニア、低純度ジルコニア、共沈安定化
ジルコニア、電融安定化ジルコニア等の酸化ジルコニ
ア、珪酸ジルコニウム、酸化セリウム、炭化珪素、炭化
ホウ素、立方窒化ホウ素、炭化チタン、炭化タングステ
ン、窒化チタン、サイアロン、窒化珪素等の各種セラミ
ック、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ等の酸化珪
素、人工ダイヤモンド、天然ダイヤモンド等のダイヤモ
ンド、コランダム、ベーマイト、ガーネット、エメリ
ー、ケイ砂、トリポリ、軽石、けいそう土、ドロマイト
等の天然研磨材等、並びにこれらの混合物である。The material of the abrasive in the present invention is not particularly limited as long as it is a material generally used as an abrasive. Examples thereof include fused brown alumina, fused white alumina, plate alumina, low soda alumina, and high purity. Aluminum oxide such as alumina, fine-particle alumina, activated alumina, high-purity zirconia, low-purity zirconia, coprecipitation stabilized zirconia, zirconia oxide such as electrofusion stabilized zirconia, zirconium silicate, cerium oxide, silicon carbide, boron carbide, cubic nitriding Various ceramics such as boron, titanium carbide, tungsten carbide, titanium nitride, sialon and silicon nitride; silicon oxide such as colloidal silica and fumed silica; diamonds such as artificial diamonds and natural diamonds; corundum, boehmite, garnet, emery, silica sand , Tripoli, Stone, diatomaceous earth, natural abrasives dolomite etc., and mixtures thereof.
【0019】研磨材の粒子径は、基板の種類や、粗研磨
か仕上研磨かといった研磨目的によるので一概には言え
ないが、それ単独では粉末状であり、平均粒径で0.0
05〜50μの範囲にあり、好ましくは0.01〜10
μである。The particle size of the abrasive cannot be specified unconditionally because it depends on the type of substrate and the purpose of polishing, such as rough polishing or finish polishing. However, the particle size of the abrasive alone is 0.00 in terms of average particle size.
In the range of 0.5 to 50 μm, preferably 0.01 to 10 μm.
μ.
【0020】ポリカルボン酸系重合体の添加量は研磨材
に対して、0.1〜50重量%の範囲で使用することが
できる。好適には0.1〜10重量%であり、特に好適
には0.5〜6重量%である。The amount of the polycarboxylic acid polymer added can be in the range of 0.1 to 50% by weight based on the abrasive. It is preferably from 0.1 to 10% by weight, particularly preferably from 0.5 to 6% by weight.
【0021】本発明の粉状研磨用組成物は、ポリカルボ
ン酸系重合体溶融物、ポリカルボン酸系重合体の水溶液
あるいは有機溶媒に、研磨材あるいは研磨材粉体用原料
を添加しスラリーとした後、必要に応じて分級、乾燥、
粉砕とった工程によって製造することが出来る。乾燥方
法としてはドラムドライヤー、スプレードライヤー等の
乾燥装置が使用できるが、最終的にポリカルボン酸系重
合体と無機粉体の混合物が粉状であればよく、製造方法
らは特に制限されない。The powdery polishing composition of the present invention is obtained by adding an abrasive or a raw material for an abrasive powder to a polycarboxylic acid-based polymer melt, an aqueous solution of a polycarboxylic acid-based polymer or an organic solvent. After that, if necessary, classification, drying,
It can be manufactured by a pulverized process. As a drying method, a drying device such as a drum drier or a spray drier can be used, but it is sufficient that the mixture of the polycarboxylic acid polymer and the inorganic powder is finally powdery, and the production method is not particularly limited.
【0022】本発明の粉状研磨用組成物は、研磨材用原
料を湿式粉砕する工程や湿式分級する工程等の研磨材粒
子を製造する工程に、最終的な粉状研磨用組成物に必要
なポリカルボン酸系重合体を予め添加して研磨材粒子を
製造しておき粉状研磨用組成物を得る方法や、ポリカル
ボン酸系重合体含有率が高い粉状研磨材粒子を予め製造
しておき最終的な粉状研磨用組成物に必要な研磨材と最
終工程で混合する方法や、2価塩MAポリカルボン酸系
重合体を製造した後に研磨材と混合する方法によっても
製造できる。The powdery polishing composition of the present invention is required for the final powdery polishing composition in a step of producing abrasive particles such as a step of wet grinding a raw material for an abrasive and a step of wet classification. A method of obtaining a powdery polishing composition by adding abrasive particles in advance by adding a polycarboxylic acid-based polymer in advance, or a method of previously manufacturing powdery abrasive particles having a high polycarboxylic acid-based polymer content. In addition, it can also be manufactured by a method of mixing in the final step with an abrasive required for the final powdery polishing composition, or a method of manufacturing a divalent salt MA polycarboxylic acid-based polymer and then mixing with the abrasive.
【0023】粉状研磨用組成物には、前記各成分の他
に、研磨促進剤、ゲル化防止剤、界面活性剤、分散剤、
防腐剤、安定化剤、消泡剤、ケーキング防止剤及びpH
調整のための酸またはアルカリ剤を含有しても良い。The powdery polishing composition further comprises a polishing accelerator, an anti-gelling agent, a surfactant, a dispersant,
Preservatives, stabilizers, defoamers, anti-caking agents and pH
An acid or alkali agent for adjustment may be contained.
【0024】粉状研磨用組成物は、必要量の溶媒と混合
することにより研磨用スラリーとして使用することがで
きる。The powdery polishing composition can be used as a polishing slurry by mixing with a required amount of a solvent.
【0025】本願発明の研磨用組成物は種々の研磨に使
用することができる。例えば、アルミサブストレート及
びアルミサブストレート上にニッケルリンを無電解メッ
キ等したニッケルサブストレート、アルミサブストレー
トを陽極酸化したアルマイトサブストレート等が使用さ
れるコンピュータ等の記憶装置であるアルミニウム磁気
ディスク基板、アクティブマトリックス型LCD、液晶
カラーフィルター、時計・電卓・カメラ用LCDあるい
は太陽電池等のディスプレイ用ガラス基板、LSIフォ
トマスク用ガラス基板、光ディスクや磁気ディスク用の
ガラス基板あるいは光学用レンズなどの各種ガラス材料
や、半導体用ウェハーやコンピュータ等の記憶装置であ
るディスク基板用の黒鉛及びガラス状カーボン等のカー
ボン基板、光学用プラスチックレンズ、カメラ用プラス
チックレンズ、眼鏡用プラスチックレンズ等のプラスチ
ック製品や、炭化珪素、窒化珪素、窒化チタン、炭化チ
タン、炭化ホウ素、窒化ホウ素、アルミナ、窒化アルミ
ニウム、酸化珪素、酸化ベリリウム、酸化チタン、酸化
ジルコニウム、ムライト、スピネル、コージライト、メ
ノー石、サイアロン等のセラミック成形体または焼結体
及び鉄、鋼、ステンレス、銅、銅合金、亜鉛、超硬合金
等の金属製品に好適に使用されるが特にこれらに限定さ
れるものではない。The polishing composition of the present invention can be used for various types of polishing. For example, an aluminum magnetic disk substrate which is a storage device of a computer or the like in which an aluminum substrate and a nickel substrate obtained by electroless plating nickel phosphorus on an aluminum substrate, an alumite substrate obtained by anodizing an aluminum substrate, and the like are used. Active matrix type LCD, liquid crystal color filters, LCDs for watches, calculators, cameras, LCDs for solar cells, etc., glass substrates for LSI photomasks, glass substrates for optical disks and magnetic disks, and various glass materials such as optical lenses And carbon substrates such as graphite and glassy carbon for disk substrates that are storage devices for semiconductor wafers and computers, etc., plastic lenses for optics, plastic lenses for cameras, plastic lenses for glasses Plastic products such as silicon carbide, silicon nitride, titanium nitride, titanium carbide, boron carbide, boron nitride, alumina, aluminum nitride, silicon oxide, beryllium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, mullite, spinel, cordierite, and amenite , Sialon and the like, and metal products such as iron, steel, stainless steel, copper, copper alloy, zinc, and cemented carbide, but are not particularly limited thereto.
【0026】次に実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
【0027】[0027]
【実施例】(1)粉状研磨用組成物(a)〜(d)の製
造例 研磨材として酸化アルミニウム(α−Al2O3、平均粒
径1.2μm)100部、ポリカルボン酸系重合体とし
てメトキシポリエチレングリコールアクリル酸エステル
−アクリル酸共重合体ナトリウム塩1部、純水50部を
混合しスラリーを調整後、該スラリーをスプレードライ
ヤーにより、熱風入口温度125℃、熱風出口温度75
℃、円盤型アトマイザー回転数12500rpmの条件
で噴霧乾燥し、粉状研磨用組成物(a)を得た。また、
表1記載のように使用するポリカルボン酸系重合体の種
類と使用量を変量した以外は同様の方法により粉状研磨
用組成物(b)〜(d)を製造した。EXAMPLES (1) Production Examples of Powdery Polishing Compositions (a) to (d) 100 parts of aluminum oxide (α-Al 2 O 3 , average particle size 1.2 μm) as a polishing material, polycarboxylic acid type After mixing 1 part of methoxypolyethylene glycol acrylate-acrylic acid copolymer sodium salt and 50 parts of pure water as a polymer to prepare a slurry, the slurry was spray-dried with a hot air inlet temperature of 125 ° C and a hot air outlet temperature of 75 ° C.
The composition was spray-dried at 1250 ° C. and a disk-type atomizer rotation speed of 12,500 rpm to obtain a powdery polishing composition (a). Also,
Powdered polishing compositions (b) to (d) were produced in the same manner except that the type and amount of the polycarboxylic acid polymer used were changed as shown in Table 1.
【0028】(2)粉状研磨用組成物(e)、(f)の
製造例 ポリカルボン酸系重合体としてMAポリカルボン酸系重
合体であるメトキシポリエチレングリコールビニルエー
テル−無水マレイン酸共重合体100部と、純水50部
からなる水溶液を温度60℃に加熱しながら、水溶液p
Hが7〜8になるように水酸化カルシウムを添加し、2
価塩MAポリカルボン酸系重合体であるメトキシポリエ
チレングリコールビニルエーテル−無水マレイン酸共重
合体のカルシウム塩水溶液を得た。次に、該水溶液を鉄
球を入れた通気回転型乾燥機により、80℃の条件で乾
燥及び粗粉砕した。粗粉砕物はACMパルペライザーに
より微粉砕・分級し粉状2価塩MAポリカルボン酸系重
合体とした。そして、酸化アルミニウム(α−Al
2O3、平均粒径1.2μm)100部に対して該重合体
1部を添加・混合し、粉状研磨用組成物(e)を製造し
た。また、表1記載のように使用する2価塩MAポリカ
ルボン酸系重合体の使用量を変量した以外は同様の方法
により粉状研磨用組成物(f)を製造した。(2) Preparation Examples of Powdery Polishing Compositions (e) and (f) As the polycarboxylic acid polymer, an MA polycarboxylic acid polymer, methoxypolyethylene glycol vinyl ether-maleic anhydride copolymer 100 And an aqueous solution consisting of 50 parts of pure water while heating the solution to a temperature of 60 ° C.
Calcium hydroxide is added so that H becomes 7 to 8;
An aqueous calcium salt solution of a methoxypolyethylene glycol vinyl ether-maleic anhydride copolymer, which is a multivalent salt MA polycarboxylic acid polymer, was obtained. Next, the aqueous solution was dried and roughly pulverized at 80 ° C. by a ventilation rotary drier containing iron balls. The coarsely pulverized product was finely pulverized and classified by an ACM pulperizer to obtain a powdery divalent salt MA polycarboxylic acid polymer. And aluminum oxide (α-Al
1 part of the polymer was added to and mixed with 100 parts of 2 O 3 (average particle size: 1.2 μm) to prepare a powdery polishing composition (e). Further, a powdery polishing composition (f) was produced in the same manner except that the amount of the divalent salt MA polycarboxylic acid polymer used was changed as shown in Table 1.
【0029】[0029]
【表1】 [Table 1]
【0030】(実施例1〜6)製造例で得られた表1記
載の粉状研磨用組成物100部に対して純水400部を
加えて現場にて調整したスラリーについて、アルミニウ
ムの130mm外径の円盤状基板の両面に厚さ30μm
のニッケル・リンメッキを施した被研磨体を研磨した際
の研磨速度、被研磨体の表面欠陥を評価した、表2に結
果を示した。(Examples 1 to 6) A slurry prepared on site by adding 400 parts of pure water to 100 parts of the powdery polishing composition shown in Table 1 obtained in the production example, and having a thickness of 130 mm outside aluminum 30μm thick on both sides of disk-shaped substrate
Table 2 shows the results of evaluating the polishing rate and the surface defect of the polished body when the polished body having been subjected to the nickel-phosphorus plating was polished.
【0031】(比較例1)実施例1の粉状研磨用組成物
を、同粉状研磨用組成物中の研磨材と同量の研磨材に変
えた以外は実施例1と同様に行った。(Comparative Example 1) The same procedure as in Example 1 was carried out except that the powdery polishing composition of Example 1 was changed to the same amount of abrasive as the abrasive in the powdery polishing composition. .
【0032】(評価方法)研磨機は両面ポリッシングマ
シン、研磨パットとしてスエードクロスを使用した。研
磨は、被研磨体を研磨機に取付け、研磨パットを当接
し、被研磨体と研磨パットを相対的に摺動して10分間
行った。条件は、研磨圧力50g/cm2、被研磨体と
研磨パットの間への研磨用スラリー供給速度200ml
/minにて実施した。研磨前後の被研磨体の厚さから
研磨速度を算出し、研磨後の被研表面を検査して表面欠
陥を測定した。(Evaluation method) A polishing machine used was a double-side polishing machine, and a suede cloth was used as a polishing pad. Polishing was performed for 10 minutes by attaching the object to be polished to the polishing machine, abutting the polishing pad, and relatively sliding the object to be polished and the polishing pad. The conditions are a polishing pressure of 50 g / cm 2, a polishing slurry supply rate of 200 ml between the object to be polished and the polishing pad.
/ Min. The polishing rate was calculated from the thickness of the object before and after polishing, and the surface after polishing was inspected to measure the surface defects.
【0033】[0033]
【表2】 [Table 2]
【0034】(実施例7〜12)研磨材として酸化セリ
ウム(平均粒径0.6μm)を使用した以外は、実施例
1で使用した粉状研磨用組成物(a)〜(d)と同様の
方法により粉状研磨用組成物(g)〜(j)を製造し、
粉状研磨用組成物(e),(f)と同様の方法により
(k),(l)を製造し、被研磨体として円盤状ガラス
基板を使用した時の研磨性比較試験を実施例1と同じ方
法で実施した。使用した粉状研磨用組成物(g)〜
(l)を表3に、試験結果を表4に示した。(Examples 7 to 12) The same as the powdery polishing compositions (a) to (d) used in Example 1 except that cerium oxide (average particle size: 0.6 μm) was used as the abrasive. Powdery polishing compositions (g) to (j) are produced by the method of
(K) and (l) were produced in the same manner as the powdery polishing compositions (e) and (f), and a comparative polishing test was performed using a disc-shaped glass substrate as the object to be polished. Was performed in the same manner as described above. Powdery polishing composition used (g)-
(L) is shown in Table 3, and the test results are shown in Table 4.
【0035】(比較例2)実施例7の粉状研磨用組成物
を、同粉状研磨用組成物中の研磨材と同量の研磨材に変
えた以外は実施例7と同様に行った。(Comparative Example 2) The same procedure as in Example 7 was carried out except that the powdery polishing composition of Example 7 was changed to the same amount of abrasive as the abrasive in the powdery polishing composition. .
【0036】[0036]
【表3】 [Table 3]
【0037】[0037]
【表4】 [Table 4]
【0038】[0038]
【表5】 [Table 5]
【0039】(実施例13〜18)実施例1〜6と同様
に粉状研磨用組成物(a)〜(f)を使用し、被研磨体
として円盤状ガラス状カーボン基板を使用した時の研磨
性比較試験を、研磨条件を研磨圧力100Kgf/cm2、研
磨時間30分、研磨用スラリー供給速度50cc/分とし
た以外は実施例1〜6と同様に行った。研磨速度はポリ
カルボン酸系重合体を添加しなかった時の研磨量を1と
したときの研磨速度比を研磨前後での被研磨体の厚さか
ら算出し、触針式表面粗さを測定した。試験結果を表5
に示す。(Examples 13 to 18) In the same manner as in Examples 1 to 6, powdery polishing compositions (a) to (f) were used, and a disc-shaped glassy carbon substrate was used as the object to be polished. A polishing property comparison test was performed in the same manner as in Examples 1 to 6, except that the polishing conditions were a polishing pressure of 100 kgf / cm2, a polishing time of 30 minutes, and a polishing slurry supply rate of 50 cc / min. The polishing rate is calculated by calculating the ratio of the polishing rate when the amount of polishing when the polycarboxylic acid polymer is not added to 1 is calculated from the thickness of the object to be polished before and after polishing, and measuring the stylus type surface roughness. did. Table 5 shows the test results.
Shown in
【0040】(比較例3)実施例13の粉状研磨用組成
物を、同粉状研磨用組成物中の研磨材と同量の研磨材に
変えた以外は実施例13と同様に行った。Comparative Example 3 The same procedure as in Example 13 was carried out except that the powdery polishing composition of Example 13 was changed to the same amount of abrasive as the abrasive in the powdery polishing composition. .
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明の粉状研磨用組成物は、側鎖にカ
ルボキシル基とポリアルキレンオキサイド構造を有する
ポリカルボン酸系重合体と研磨材及び溶媒からなるスラ
リーを使用した時と同様に、研磨量が大きく研磨作業の
効率がよく、研磨表面の欠陥が生じ難く、形状精度にも
優れており、各種の精密研磨に適している。The powdery polishing composition of the present invention can be prepared in the same manner as when a slurry comprising a polycarboxylic acid polymer having a carboxyl group and a polyalkylene oxide structure in a side chain, an abrasive and a solvent is used. The polishing amount is large, the polishing operation is efficient, the defects on the polished surface hardly occur, and the shape accuracy is excellent, so that it is suitable for various precision polishing.
Claims (5)
アルキレンオキサイド構造を有するポリカルボン酸系重
合体を含有する粉状研磨用組成物。1. A powdery polishing composition containing an abrasive and a polycarboxylic acid polymer having a carboxyl group and a polyalkylene oxide structure in a side chain.
(1)で示されるポリアルキレングリコールアルケニル
エーテルと無水マレイン酸からなる共重合体、あるいは
その加水分解物及び/又は加水分解物の塩であることを
特徴とする請求項1記載の粉状研磨用組成物。 【化1】 (R1はビニル基、アリル基、AOは炭素数2〜4のオ
キシアルキル基、nは1〜200の整数、R2は水素又
は炭素数1〜20の有機残基)2. The polycarboxylic acid-based polymer is a copolymer of polyalkylene glycol alkenyl ether represented by the general formula (1) and maleic anhydride, or a hydrolyzate and / or a salt of the hydrolyzate thereof. The powdery polishing composition according to claim 1, wherein Embedded image (R 1 is a vinyl group, an allyl group, AO is an oxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, n is an integer of 1 to 200, and R 2 is hydrogen or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms)
状の2価以上の金属との塩であることを特徴とする請求
項2記載の粉状研磨用組成物。3. The powdery polishing composition according to claim 2, wherein the polycarboxylic acid polymer is a powdery salt with a divalent or higher valent metal.
媒を混合しスラリーを調整後、該スラリーを乾燥し粉に
することによる、請求項1、2又は3に記載の粉状研磨
用組成物の製造方法。4. The powdery polishing composition according to claim 1, wherein the slurry is prepared by mixing an abrasive, a polycarboxylic acid polymer, and a solvent to prepare a slurry, and then drying the slurry to form a powder. Method of manufacturing a product.
との塩である粉状のポリカルボン酸系重合体を混合する
ことによる、請求項3に記載の粉状研磨用組成物の製造
方法。5. The powdery polishing composition according to claim 3, wherein a powdery polycarboxylic acid-based polymer which is a salt of the abrasive and the divalent or higher valent metal according to claim 3 is mixed. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8370098A JPH11279539A (en) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | Composition for polishing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8370098A JPH11279539A (en) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | Composition for polishing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11279539A true JPH11279539A (en) | 1999-10-12 |
Family
ID=13809781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8370098A Pending JPH11279539A (en) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | Composition for polishing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11279539A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002180034A (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Showa Denko Kk | Abrasive slurry and abrasive fine powder |
| CN106433482A (en) * | 2016-06-29 | 2017-02-22 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | Aluminum oxide polishing powder and preparation method thereof |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP8370098A patent/JPH11279539A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002180034A (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Showa Denko Kk | Abrasive slurry and abrasive fine powder |
| CN106433482A (en) * | 2016-06-29 | 2017-02-22 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | Aluminum oxide polishing powder and preparation method thereof |
| CN106433482B (en) * | 2016-06-29 | 2020-09-18 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | Alumina polishing powder and preparation method thereof |
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