JPH11278856A - フロート板ガラス製造装置 - Google Patents
フロート板ガラス製造装置Info
- Publication number
- JPH11278856A JPH11278856A JP8704698A JP8704698A JPH11278856A JP H11278856 A JPH11278856 A JP H11278856A JP 8704698 A JP8704698 A JP 8704698A JP 8704698 A JP8704698 A JP 8704698A JP H11278856 A JPH11278856 A JP H11278856A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten tin
- molten
- oxygen
- side sealing
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
- C03B18/16—Construction of the float tank; Use of material for the float tank; Coating or protection of the tank wall
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】溶融スズ浴中の溶融スズへの酸素溶解を抑制で
きるフロート板ガラス製造装置を得る。 【解決手段】溶融スズ２面が溶融スズ面２上部の雰囲気
にさらされる部分とサイドシーリング壁５外面との最短
距離を４００ｍｍ以上とする。
きるフロート板ガラス製造装置を得る。 【解決手段】溶融スズ２面が溶融スズ面２上部の雰囲気
にさらされる部分とサイドシーリング壁５外面との最短
距離を４００ｍｍ以上とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フロート法によっ
て板ガラスを製造する製造装置に関する。
て板ガラスを製造する製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のフロート板ガラス製造装置は、溶
融金属（通常は溶融スズ又は溶融スズ合金。以下、溶融
スズの場合について述べる。）で満たされた浴槽（以
下、溶融スズ浴という。）、該溶融スズと接する雰囲気
を還元状態に保つ溶融スズ上部構造（以下、上部構造と
いう。）及び該溶融スズ浴と該上部構造の間に設置され
るサイドシーリング壁からなる。サイドシーリング壁は
通常１個以上のブロックから構成され、サイドシーリン
グ壁の少なくとも一部は取り外し可能となっている。
融金属（通常は溶融スズ又は溶融スズ合金。以下、溶融
スズの場合について述べる。）で満たされた浴槽（以
下、溶融スズ浴という。）、該溶融スズと接する雰囲気
を還元状態に保つ溶融スズ上部構造（以下、上部構造と
いう。）及び該溶融スズ浴と該上部構造の間に設置され
るサイドシーリング壁からなる。サイドシーリング壁は
通常１個以上のブロックから構成され、サイドシーリン
グ壁の少なくとも一部は取り外し可能となっている。
【０００３】フロート法による板ガラスの製造は、前記
フロート板ガラス製造装置に溶融ガラスを連続的に流し
入れ、サイドシーリング壁を取り外した部分から挿入し
たロール（以下、アシストロールという。）によって延
伸力を与えながら、溶融ガラスを所望の厚さ・幅のガラ
スリボンに成形する。溶融スズ上部の上部構造とサイド
シーリング壁によって囲われた溶融スズ浴の上部空間に
は、溶融スズの酸化を防止する目的で還元性ガス（通常
は窒素ガス及び水素ガスの混合ガス）が供給されてい
る。前記還元ガスを主体とし溶融スズ浴の上部空間に存
在するガスを、以下、雰囲気という。
フロート板ガラス製造装置に溶融ガラスを連続的に流し
入れ、サイドシーリング壁を取り外した部分から挿入し
たロール（以下、アシストロールという。）によって延
伸力を与えながら、溶融ガラスを所望の厚さ・幅のガラ
スリボンに成形する。溶融スズ上部の上部構造とサイド
シーリング壁によって囲われた溶融スズ浴の上部空間に
は、溶融スズの酸化を防止する目的で還元性ガス（通常
は窒素ガス及び水素ガスの混合ガス）が供給されてい
る。前記還元ガスを主体とし溶融スズ浴の上部空間に存
在するガスを、以下、雰囲気という。
【０００４】しかし、サイドシーリング壁又はその周囲
の隙間から酸素が侵入し、前記還元性ガスによる還元作
用が不十分であると、前記酸素は溶融スズ中に溶解し、
溶融スズを汚染する。溶融スズ中の酸素濃度が高くなる
と、スズ酸化物が生成しやすくなり、その結果ガラスの
スズ酸化物欠点が増加する。
の隙間から酸素が侵入し、前記還元性ガスによる還元作
用が不十分であると、前記酸素は溶融スズ中に溶解し、
溶融スズを汚染する。溶融スズ中の酸素濃度が高くなる
と、スズ酸化物が生成しやすくなり、その結果ガラスの
スズ酸化物欠点が増加する。
【０００５】溶融スズの酸化を防止するために、従来よ
り、溶融スズ上部の雰囲気への酸素侵入の抑制を図るた
めに、サイドシーリング壁周囲の隙間をなくす、等の対
策がとられているが、酸素侵入の抑制はいまだ不十分で
ある。また、所望のガラスの厚さ・幅を得るために挿入
されるアシストロールは、種々の品種の生産に適宜対応
できるようにアシストロール軸付近が可動となってお
り、アシストロール軸付近の隙間を完全になくすことも
事実上不可能である。
り、溶融スズ上部の雰囲気への酸素侵入の抑制を図るた
めに、サイドシーリング壁周囲の隙間をなくす、等の対
策がとられているが、酸素侵入の抑制はいまだ不十分で
ある。また、所望のガラスの厚さ・幅を得るために挿入
されるアシストロールは、種々の品種の生産に適宜対応
できるようにアシストロール軸付近が可動となってお
り、アシストロール軸付近の隙間を完全になくすことも
事実上不可能である。
【０００６】一方、サイドシーリング壁又はその周囲の
隙間からの侵入酸素によるスズ汚染を防止するために、
雰囲気は還元性に保たれている。しかし、雰囲気にわず
か数ｐｐｍの酸素が存在しても容易に溶融スズは汚染さ
れるため、酸素による溶融スズ汚染を完全に排除するこ
とは著しく困難であった。
隙間からの侵入酸素によるスズ汚染を防止するために、
雰囲気は還元性に保たれている。しかし、雰囲気にわず
か数ｐｐｍの酸素が存在しても容易に溶融スズは汚染さ
れるため、酸素による溶融スズ汚染を完全に排除するこ
とは著しく困難であった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術ではなしえなかった、溶融スズ浴中の溶融スズへの酸
素溶解を抑制できるフロート板ガラス製造装置の提供を
目的とする。
術ではなしえなかった、溶融スズ浴中の溶融スズへの酸
素溶解を抑制できるフロート板ガラス製造装置の提供を
目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶融スズ上に
溶融ガラスを連続的に供給し、該溶融ガラスを引っ張る
ことによって目標厚さのガラスリボンに成形するフロー
ト板ガラス製造装置において、該製造装置は溶融スズを
保持する溶融スズ浴と、上部構造と、該溶融スズ浴と該
上部構造の間に設置されるサイドシーリング壁を備え、
少なくとも溶融スズ温度が８００〜１０００℃である領
域において、溶融スズ面が該溶融スズ面上部の雰囲気に
さらされる部分とサイドシーリング壁外面との最短距離
が４００ｍｍ以上であるフロート板ガラス製造装置、を
提供する。
溶融ガラスを連続的に供給し、該溶融ガラスを引っ張る
ことによって目標厚さのガラスリボンに成形するフロー
ト板ガラス製造装置において、該製造装置は溶融スズを
保持する溶融スズ浴と、上部構造と、該溶融スズ浴と該
上部構造の間に設置されるサイドシーリング壁を備え、
少なくとも溶融スズ温度が８００〜１０００℃である領
域において、溶融スズ面が該溶融スズ面上部の雰囲気に
さらされる部分とサイドシーリング壁外面との最短距離
が４００ｍｍ以上であるフロート板ガラス製造装置、を
提供する。
【０００９】本発明者らは鋭意研究の結果、以下に列記
することを見出し本発明にいたった。 （１）雰囲気の酸素は８００℃から１０００℃付近まで
の温度範囲においてもっとも顕著に溶融スズ中に溶解す
る。 （２）サイドシーリング壁周囲の隙間から侵入した酸素
は、サイドシーリング壁付近を下降して溶融スズ表面に
向かって流れる雰囲気中の気流に乗って溶融スズ表面に
到達する。しかし、サイドシーリング壁から幅方向に十
分離れた場所においては、溶融スズ上部空間の幅方向中
心付近に形成されている上昇流の影響を受けながら、ガ
ラスリボンの進行方向に向かって流れる還元ガスの気流
に侵入酸素が乗り、その結果侵入酸素は還元反応を受
け、溶融スズに溶解する酸素はほとんど存在しなくな
る。従来のフロート板ガラス製造装置において、溶融ス
ズへの酸素の溶解が認められなくなるのは、サイドシー
リング壁外面との最短距離が４００ｍｍ以上の場合であ
る。 （３）前記温度範囲の溶融スズ面を酸素不透過材料で覆
うことによって溶融スズへの酸素溶解をほとんど無視で
きる程度にまで抑制できる。
することを見出し本発明にいたった。 （１）雰囲気の酸素は８００℃から１０００℃付近まで
の温度範囲においてもっとも顕著に溶融スズ中に溶解す
る。 （２）サイドシーリング壁周囲の隙間から侵入した酸素
は、サイドシーリング壁付近を下降して溶融スズ表面に
向かって流れる雰囲気中の気流に乗って溶融スズ表面に
到達する。しかし、サイドシーリング壁から幅方向に十
分離れた場所においては、溶融スズ上部空間の幅方向中
心付近に形成されている上昇流の影響を受けながら、ガ
ラスリボンの進行方向に向かって流れる還元ガスの気流
に侵入酸素が乗り、その結果侵入酸素は還元反応を受
け、溶融スズに溶解する酸素はほとんど存在しなくな
る。従来のフロート板ガラス製造装置において、溶融ス
ズへの酸素の溶解が認められなくなるのは、サイドシー
リング壁外面との最短距離が４００ｍｍ以上の場合であ
る。 （３）前記温度範囲の溶融スズ面を酸素不透過材料で覆
うことによって溶融スズへの酸素溶解をほとんど無視で
きる程度にまで抑制できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明においては、溶融スズ面が
該溶融スズ面上部の雰囲気にさらされる部分とサイドシ
ーリング壁外面との最短距離を４００ｍｍ以上とする。
４００ｍｍ未満では、サイドシーリング壁周囲の隙間か
ら侵入した酸素は、サイドシーリング壁付近を下降して
溶融スズ表面に向かって流れる雰囲気中の気流に乗って
溶融スズ表面に到達し、溶融スズに溶解する、すなわ
ち、溶融スズは酸素で汚染される。
該溶融スズ面上部の雰囲気にさらされる部分とサイドシ
ーリング壁外面との最短距離を４００ｍｍ以上とする。
４００ｍｍ未満では、サイドシーリング壁周囲の隙間か
ら侵入した酸素は、サイドシーリング壁付近を下降して
溶融スズ表面に向かって流れる雰囲気中の気流に乗って
溶融スズ表面に到達し、溶融スズに溶解する、すなわ
ち、溶融スズは酸素で汚染される。
【００１１】本発明は、少なくとも溶融スズ温度が８０
０〜１０００℃である領域において実施される。８００
℃未満の領域では雰囲気への酸素侵入が少なく、カーボ
ン板設置の効果が小さい。１０００℃超では、侵入酸素
は雰囲気中の還元性ガスによってほとんど還元され、侵
入酸素はほとんど残存しない。
０〜１０００℃である領域において実施される。８００
℃未満の領域では雰囲気への酸素侵入が少なく、カーボ
ン板設置の効果が小さい。１０００℃超では、侵入酸素
は雰囲気中の還元性ガスによってほとんど還元され、侵
入酸素はほとんど残存しない。
【００１２】次に、本発明の実施形態を図面を用いて説
明する。なお、アシストロールは図面中に表示していな
い。図１は、本発明の実施形態の一例の溶融スズ浴幅方
向の部分断面図である。図１において、溶融スズ面が該
溶融スズ面上部の雰囲気にさらされる部分とは、溶融ス
ズ２を保持する溶融スズ浴の側壁を構成する煉瓦（以
下、側壁煉瓦という。）３とガラスリボン１の間の溶融
スズ面である。また、溶融スズ温度は８００〜１０００
℃の範囲にあり、溶融スズ浴底部煉瓦を４で示す。
明する。なお、アシストロールは図面中に表示していな
い。図１は、本発明の実施形態の一例の溶融スズ浴幅方
向の部分断面図である。図１において、溶融スズ面が該
溶融スズ面上部の雰囲気にさらされる部分とは、溶融ス
ズ２を保持する溶融スズ浴の側壁を構成する煉瓦（以
下、側壁煉瓦という。）３とガラスリボン１の間の溶融
スズ面である。また、溶融スズ温度は８００〜１０００
℃の範囲にあり、溶融スズ浴底部煉瓦を４で示す。
【００１３】図示したように、サイドシーリング壁５の
外面と、側壁煉瓦３と溶融スズ２の接触面との距離は５
００ｍｍである。前記距離を５００ｍｍとすることによ
り、サイドシーリング壁の厚さは通常は１００〜３００
ｍｍ程度であるので、サイドシーリング壁５の内面と、
側壁煉瓦３と溶融スズ２の接触面との距離は２００〜４
００ｍｍ程度となる。
外面と、側壁煉瓦３と溶融スズ２の接触面との距離は５
００ｍｍである。前記距離を５００ｍｍとすることによ
り、サイドシーリング壁の厚さは通常は１００〜３００
ｍｍ程度であるので、サイドシーリング壁５の内面と、
側壁煉瓦３と溶融スズ２の接触面との距離は２００〜４
００ｍｍ程度となる。
【００１４】図２及び図３は、本発明の実施形態の他の
例である。図２は溶融スズ浴平面図である。溶融ガラス
は同図の左方から連続的に供給され、右方から引っ張り
出され、その間に目標厚さのガラスリボン１に成形され
る。側壁煉瓦３とガラスリボン１との間の溶融スズ面
は、溶融スズ温度が８００〜１０００℃であり溶融スズ
浴長手方向の全長の約７０％に相当する範囲において、
酸素不透過材料であるカーボンの板（以下、カーボン板
という。）６で覆われている。
例である。図２は溶融スズ浴平面図である。溶融ガラス
は同図の左方から連続的に供給され、右方から引っ張り
出され、その間に目標厚さのガラスリボン１に成形され
る。側壁煉瓦３とガラスリボン１との間の溶融スズ面
は、溶融スズ温度が８００〜１０００℃であり溶融スズ
浴長手方向の全長の約７０％に相当する範囲において、
酸素不透過材料であるカーボンの板（以下、カーボン板
という。）６で覆われている。
【００１５】カーボン板６はタングステンのピン７によ
って、隣接する側壁煉瓦３又はカーボン板６と連結され
ているが、連結の方法は何ら限定されない。また、使用
されるカーボン板６の厚みも何ら限定されない。
って、隣接する側壁煉瓦３又はカーボン板６と連結され
ているが、連結の方法は何ら限定されない。また、使用
されるカーボン板６の厚みも何ら限定されない。
【００１６】前記範囲において溶融スズ面はガラスリボ
ン１とカーボン板６によって覆われている。これによ
り、サイドシーリング壁５又はその周囲の隙間から侵入
した酸素とカーボン板６で覆われた部分の溶融スズとの
接触は防止される。
ン１とカーボン板６によって覆われている。これによ
り、サイドシーリング壁５又はその周囲の隙間から侵入
した酸素とカーボン板６で覆われた部分の溶融スズとの
接触は防止される。
【００１７】図３は溶融スズ浴幅方向の部分断面図（図
２のＡ−Ａ部分断面図）である。カーボン板６はタング
ステンのピン７によって、隣接する側壁煉瓦３と連結さ
れている。
２のＡ−Ａ部分断面図）である。カーボン板６はタング
ステンのピン７によって、隣接する側壁煉瓦３と連結さ
れている。
【００１８】酸素不透過材料としては、１３００℃以上
の耐熱性を有する、カーボン、炭化物、窒化物及び金属
材料からなる群から１種以上を選択できる。ここでいう
１３００℃以上の耐熱性とは、１３００℃未満におい
て、融解又は昇華が起らず、またほとんど揮発せず、ま
た雰囲気中のガス成分とほとんど反応しないことをい
う。溶融ガラス、溶融スズのいずれとも反応しないカー
ボン、又は炭化ケイ素等の炭化物を用いることが好まし
い。また、酸素不透過材料としては気孔率が１０％未満
の緻密な材料が好ましい。
の耐熱性を有する、カーボン、炭化物、窒化物及び金属
材料からなる群から１種以上を選択できる。ここでいう
１３００℃以上の耐熱性とは、１３００℃未満におい
て、融解又は昇華が起らず、またほとんど揮発せず、ま
た雰囲気中のガス成分とほとんど反応しないことをい
う。溶融ガラス、溶融スズのいずれとも反応しないカー
ボン、又は炭化ケイ素等の炭化物を用いることが好まし
い。また、酸素不透過材料としては気孔率が１０％未満
の緻密な材料が好ましい。
【００１９】酸素不透過材料は、側壁煉瓦と連結して設
置し、できるだけガラスリボンに近づけるようにする必
要がある。その際、溶融スズの上に浮かべて設置するこ
とが好ましい。酸素不透過材料の設置は、フロート板ガ
ラス製造装置を運転中であっても作業が可能であり、し
たがって、前記酸素不透過材料の劣化や破損が生じても
運転を停止することなく修復できる。
置し、できるだけガラスリボンに近づけるようにする必
要がある。その際、溶融スズの上に浮かべて設置するこ
とが好ましい。酸素不透過材料の設置は、フロート板ガ
ラス製造装置を運転中であっても作業が可能であり、し
たがって、前記酸素不透過材料の劣化や破損が生じても
運転を停止することなく修復できる。
【００２０】品種変更が多いために溶融スズ面が雰囲気
にさらされる部分の大きさを頻繁に変化せざるを得ない
場合は、図２及び図３で示した発明の利用は困難であ
る。しかしこの場合も、図１で示した発明は有効に使用
できる。
にさらされる部分の大きさを頻繁に変化せざるを得ない
場合は、図２及び図３で示した発明の利用は困難であ
る。しかしこの場合も、図１で示した発明は有効に使用
できる。
【００２１】本発明を実施する方法としては、図１に示
すように側壁煉瓦を大きくする方法が容易であるが、大
きくするのに煉瓦を用いることには限定されず、前記し
た、１３００℃以上の耐熱性を有する、カーボン、炭化
物、窒化物及び金属材料からなる群から選ばれた１種以
上のものも使用できる。なお、溶融スズ浴を構成する側
壁煉瓦、底部煉瓦、等の煉瓦構造・煉瓦種類、又はサイ
ドシーリング壁の構造・材料は、何ら限定されない。
すように側壁煉瓦を大きくする方法が容易であるが、大
きくするのに煉瓦を用いることには限定されず、前記し
た、１３００℃以上の耐熱性を有する、カーボン、炭化
物、窒化物及び金属材料からなる群から選ばれた１種以
上のものも使用できる。なお、溶融スズ浴を構成する側
壁煉瓦、底部煉瓦、等の煉瓦構造・煉瓦種類、又はサイ
ドシーリング壁の構造・材料は、何ら限定されない。
【００２２】また、図１で例示した発明を実施するに
は、通常はフロート板ガラス製造装置の運転を停止して
修理改造を行うことが必要になるが、製造するガラスリ
ボンの幅が溶融スズ浴の幅に比べて十分小さいときに
は、図２及び図３で例示した発明の実施の形態に準拠し
た方法、例えば側壁煉瓦と連結したカーボン板を溶融ス
ズに浮かべる方法も採用できる。
は、通常はフロート板ガラス製造装置の運転を停止して
修理改造を行うことが必要になるが、製造するガラスリ
ボンの幅が溶融スズ浴の幅に比べて十分小さいときに
は、図２及び図３で例示した発明の実施の形態に準拠し
た方法、例えば側壁煉瓦と連結したカーボン板を溶融ス
ズに浮かべる方法も採用できる。
【００２３】
【発明の効果】本発明により、侵入酸素と接触する可能
性がもっとも高い場所における溶融スズ面の雰囲気への
露出が減少し、溶融スズへの酸素溶解を抑止できる。本
発明によれば、溶融スズへの侵入酸素の溶解を防止でき
るフロート板ガラス製造装置を提供できる。また、その
結果としてガラスへのスズ酸化物付着欠点の生成を抑制
できる。
性がもっとも高い場所における溶融スズ面の雰囲気への
露出が減少し、溶融スズへの酸素溶解を抑止できる。本
発明によれば、溶融スズへの侵入酸素の溶解を防止でき
るフロート板ガラス製造装置を提供できる。また、その
結果としてガラスへのスズ酸化物付着欠点の生成を抑制
できる。
【図１】本発明の実施形態の溶融スズ浴幅方向の部分断
面図
面図
【図２】本発明の他の実施形態の溶融スズ浴平面図
【図３】図２のＡ−Ａ部分断面図
【符号の説明】 １：ガラスリボン ２：溶融スズ ３：側壁煉瓦 ４：溶融スズ浴底部煉瓦 ５：サイドシーリング壁 ６：カーボン板 ７：タングステンのピン
Claims (3)
- 【請求項１】溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給
し、該溶融ガラスを引っ張ることによって目標厚さのガ
ラスリボンに成形するフロート板ガラス製造装置におい
て、該製造装置は溶融スズを保持する溶融スズ浴と、上
部構造と、該溶融スズ浴と該上部構造の間に設置される
サイドシーリング壁を備え、少なくとも溶融スズ温度が
８００〜１０００℃である領域において、溶融スズ面が
該溶融スズ面上部の雰囲気にさらされる部分とサイドシ
ーリング壁外面との最短距離が４００ｍｍ以上であるフ
ロート板ガラス製造装置。 - 【請求項２】サイドシーリング壁外面からの最短距離が
４００ｍｍ未満である溶融スズ面が酸素不透過の材料で
覆われている請求項１記載のフロート板ガラス製造装
置。 - 【請求項３】酸素不透過の材料が、１３００℃以上の耐
熱性を有する、カーボン、炭化物、窒化物及び金属材料
からなる群から選ばれた１種以上の材料である請求項２
記載のフロート板ガラス製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08704698A JP4132198B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | フロート板ガラス製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08704698A JP4132198B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | フロート板ガラス製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11278856A true JPH11278856A (ja) | 1999-10-12 |
| JP4132198B2 JP4132198B2 (ja) | 2008-08-13 |
Family
ID=13904009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08704698A Expired - Fee Related JP4132198B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | フロート板ガラス製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4132198B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004060821A1 (ja) * | 2003-01-06 | 2004-07-22 | Asahi Glass Company, Limited | ガラス板およびその製造方法 |
| DE102007011899A1 (de) | 2007-03-13 | 2008-09-18 | Schott Ag | Abdeckung eines Floatbades, Floatbadvorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Flachglas |
| CN103011565A (zh) * | 2012-12-27 | 2013-04-03 | 海南中航特玻材料有限公司 | 一种锡槽流量闸板烘烤炉 |
| WO2013179862A1 (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-05 | 旭硝子株式会社 | フロートガラスの成形装置、及びフロートガラスの製造方法 |
| WO2014080904A1 (ja) * | 2012-11-22 | 2014-05-30 | 旭硝子株式会社 | フロートガラスの成形装置、及びフロートガラスの製造方法 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP08704698A patent/JP4132198B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004060821A1 (ja) * | 2003-01-06 | 2004-07-22 | Asahi Glass Company, Limited | ガラス板およびその製造方法 |
| DE102007011899A1 (de) | 2007-03-13 | 2008-09-18 | Schott Ag | Abdeckung eines Floatbades, Floatbadvorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Flachglas |
| DE102007011899B4 (de) * | 2007-03-13 | 2014-10-30 | Schott Ag | Floatbadvorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Flachglas |
| WO2013179862A1 (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-05 | 旭硝子株式会社 | フロートガラスの成形装置、及びフロートガラスの製造方法 |
| CN104245607A (zh) * | 2012-05-28 | 2014-12-24 | 旭硝子株式会社 | 浮法玻璃的成形装置和浮法玻璃的制造方法 |
| WO2014080904A1 (ja) * | 2012-11-22 | 2014-05-30 | 旭硝子株式会社 | フロートガラスの成形装置、及びフロートガラスの製造方法 |
| CN103011565A (zh) * | 2012-12-27 | 2013-04-03 | 海南中航特玻材料有限公司 | 一种锡槽流量闸板烘烤炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4132198B2 (ja) | 2008-08-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11278856A (ja) | フロート板ガラス製造装置 | |
| JP4168476B2 (ja) | フロート板ガラス製造装置 | |
| JP3344337B2 (ja) | タンディッシュの予熱方法 | |
| JP4095774B2 (ja) | プラズマ灰溶融炉の再起動方法 | |
| JP2000265254A (ja) | 連続溶融金属メッキ設備の異物除去装置 | |
| JP4044649B2 (ja) | ポーラスプラグ | |
| KR101011071B1 (ko) | 그라파이트를 이용한 배재구 지지체 구조 | |
| JP2002283016A (ja) | プラズマトーチを用いたタンディッシュ内溶鋼の加熱装置 | |
| CN213288604U (zh) | 结晶器内保护渣排渣装置 | |
| JP2680985B2 (ja) | 脱ガス設備用浸漬管 | |
| JP2001342525A (ja) | 真空アーク溶解用給電スタブおよびこの給電スタブを備えた真空アーク溶解装置 | |
| JPH067907A (ja) | 表面性状に優れた連鋳鋳片の製造方法 | |
| JP3212135B2 (ja) | 真空脱ガス装置の耐火物ライニング方法 | |
| JP4231397B2 (ja) | 鋳造用モールドパウダー | |
| KR102523899B1 (ko) | 유리 제조 장치 | |
| JP2838190B2 (ja) | 金属炉からの溶融金属の出湯方法 | |
| JP2006026661A (ja) | 連続鋳造方法 | |
| JPH0938755A (ja) | 連続鋳造用ノズル | |
| JP2007253215A (ja) | 鋼の連続鋳造用浸漬ノズル | |
| Scherrer | Continuous Circulation Vacuum Degassing | |
| JP2000160232A (ja) | 低窒素溶鋼の減圧精錬方法及びその減圧精錬装置 | |
| JP2005200696A (ja) | Ｒｈ脱ガス装置の低窒素鋼製造用浸漬管 | |
| JPH06310849A (ja) | 半田付け装置 | |
| JPH0523802A (ja) | 鋼の連続鋳造方法 | |
| JP2005294136A (ja) | 鉛蓄電池用鉛合金の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050308 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080425 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080520 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080602 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 4 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 4 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130606 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130606 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140606 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |