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JPH11242111A - Composition for color filter protective film, substrate with color filter, method for producing the same, and liquid crystal display device - Google Patents

Composition for color filter protective film, substrate with color filter, method for producing the same, and liquid crystal display device

Info

Publication number
JPH11242111A
JPH11242111A JP4581898A JP4581898A JPH11242111A JP H11242111 A JPH11242111 A JP H11242111A JP 4581898 A JP4581898 A JP 4581898A JP 4581898 A JP4581898 A JP 4581898A JP H11242111 A JPH11242111 A JP H11242111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
substrate
protective film
composition
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4581898A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yorisuke Ikuta
順亮 生田
Kenichi Ehata
研一 江畑
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP4581898A priority Critical patent/JPH11242111A/en
Publication of JPH11242111A publication Critical patent/JPH11242111A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】平坦性、密着性が良く、保護膜用組成物の液管
理が容易で取扱がしやすいカラーフィルタ保護膜用組成
物を得る。 【解決手段】(A)光重合性多官能(メタ)アクリレー
トモノマー、オリゴマー、(B)非アクリル性エポキシ
基含有樹脂、(C)シランカップリング剤及び(D)水
を含み、重量比率で(A)/(B)=50/50〜95
/5とし、溶剤及び水を除いた組成物100重量部に対
して外量で0.3〜5重量部の水を添加する。
(57) [Problem] To provide a composition for a color filter protective film which has good flatness and adhesion, facilitates liquid management of the composition for a protective film, and is easy to handle. SOLUTION: This composition contains (A) a photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate monomer and oligomer, (B) a non-acrylic epoxy group-containing resin, (C) a silane coupling agent, and (D) water. A) / (B) = 50 / 50-95
/ 5, and an external amount of 0.3 to 5 parts by weight of water is added to 100 parts by weight of the composition excluding the solvent and water.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ保
護膜用組成物、カラーフィルタ付き基板、その製法及び
液晶表示素子に関する。
The present invention relates to a composition for a color filter protective film, a substrate with a color filter, a method for producing the same, and a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子等の受光型表示素子はその
薄さ、軽さ、低消費電力などの特徴から従来表示装置の
主流を占めてきたCRT(陰極線管)に替わりうるもの
として近年目覚しい発展を示している。この表示素子を
カラー化し、よりCRTに近い表示性能を得るために、
欠くことができないものがカラーフィルタであり、これ
までに様々な材料や方式が提案されてきている。
2. Description of the Related Art In recent years, light-receiving display elements such as liquid crystal display elements have been remarkable as being able to replace CRTs (cathode ray tubes) which have occupied the mainstream of conventional display devices because of their features such as thinness, lightness and low power consumption. Shows progress. In order to colorize this display element and obtain display performance closer to CRT,
A color filter is indispensable, and various materials and methods have been proposed so far.

【0003】例えば、色素を感光性樹脂の中に予め分散
させてフォトリソグラフィ法によりパターニングしてい
く、いわゆる顔料分散法、無機あるいは有機の顔料や染
料を用いてスクリーン、オフセット、グラビア印刷等に
より基板上に直接パターンを形成する印刷法、電着法等
である。
[0003] For example, a pigment is dispersed in a photosensitive resin in advance and patterned by a photolithography method. A so-called pigment dispersion method, a substrate using an inorganic or organic pigment or dye, screen, offset, gravure printing or the like is used. There are a printing method, an electrodeposition method and the like in which a pattern is formed directly on the upper surface.

【0004】しかし、これらのカラーフィルタ付き基板
では、通常各色内で厚みむら及び各色間での膜厚段差を
生じる(通常0.1μm以上)という問題点がある。こ
のような厚みむら及び色間段差は、このようなカラーフ
ィルタ付き基板を液晶表示素子の一方の電極基板として
用いたとき、充分なコントラスト比や階調がとれない等
の問題を引き起こしやすい。
[0004] However, these substrates with color filters have a problem that thickness unevenness usually occurs in each color and a film thickness step between the colors (generally 0.1 μm or more). Such uneven thickness and steps between colors tend to cause problems such as inability to obtain a sufficient contrast ratio and gradation when such a substrate with a color filter is used as one electrode substrate of a liquid crystal display element.

【0005】特に近年では、複数ライン同時選択駆動法
を用いたSTN型液晶表示素子やIPS型液晶表示素子
等の液晶表示素子の高速応答化が進んでおり、従来より
増してこの厚みむら及び色間段差を低減する要求が高ま
ってきている。特に、色間段差については0.05μm
以下、よりこのましくは0.02μm以下が要求されて
きている。
In particular, in recent years, liquid crystal display elements such as STN type liquid crystal display elements and IPS type liquid crystal display elements using a multiple line simultaneous selection driving method have been improved in response speed, and the thickness unevenness and color have been increased more than before. There is an increasing demand for reducing the level difference. In particular, the step between colors is 0.05 μm
Hereinafter, more preferably, a thickness of 0.02 μm or less is required.

【0006】かかるカラーフィルタにおいては、着色層
保護等を目的として着色層の上に透明な保護膜を形成す
ることが多い。このような保護膜は、同時に着色層の平
坦化の機能も有する。従って、保護膜として平坦化機能
の高いものを用いることは重要である。保護膜として求
められる性能としては、他に、その上に形成される透明
電極(ITO等)との密着性、エッチングによるパター
ニング性、適当な硬度、ガラスとの密着性、液晶表示素
子に用いるシール剤との密着性等がある。
In such a color filter, a transparent protective film is often formed on the colored layer for the purpose of protecting the colored layer. Such a protective film also has a function of flattening the coloring layer. Therefore, it is important to use a protective film having a high flattening function. Other properties required for the protective film include adhesion to a transparent electrode (such as ITO) formed thereon, patterning by etching, appropriate hardness, adhesion to glass, and a seal used for a liquid crystal display element. And adhesion to the agent.

【0007】このようなカラーフィルタ用の保護膜に
は、いくつかの材料が提案されており、大別して、エポ
キシ系、アクリル系、ポリイミド・ポリアミド系、シリ
コーン系等が例示される。
Several materials have been proposed for such a protective film for a color filter, and are roughly classified into epoxy-based, acrylic-based, polyimide / polyamide-based, and silicone-based materials.

【0008】アクリル系としては、特開昭61−171
24号公報、特開昭61−141401号公報、特開昭
62−89022号公報等に記載があるが、一般に、平
坦性、耐熱性には優れるものの、ガラス基板との密着
性、透明電極との密着性が不足し、耐溶剤性も不充分に
なりやすい等の欠点を有していた。また、エポキシ系と
しては、例えば特開平7−188392公報や特開平7
−188383後方等に記載があるが、ガラス基板との
密着性、透明電極との密着性は優れるものの、平坦性、
耐熱性に欠けやすいという問題があった。
[0008] Acrylic resins are disclosed in JP-A-61-171.
No. 24, JP-A-61-141401, JP-A-62-89022, etc., which are generally excellent in flatness and heat resistance, but have good adhesion to a glass substrate and a transparent electrode. Have poor adhesiveness and the solvent resistance tends to be insufficient. Examples of the epoxy type include, for example, JP-A-7-188392 and JP-A-7-188392.
Although it is described at the back of -188383, etc., although the adhesion with the glass substrate and the adhesion with the transparent electrode are excellent, the flatness,
There was a problem that heat resistance was easily lacking.

【0009】そこで本発明者らは、特開平6−2949
07においてエポキシとアクリルを混合した系、すなわ
ち(A)光重合多官能(メタ)アクリレートモノマー及
び/又はオリゴマー、(B)非アクリル性エポキシ基含
有樹脂、(C)光重合開始剤、(D)エポキシ硬化剤か
ら成る保護膜組成物を提案した。本組成物によれば、両
者の長所を兼ね備えた特性を有した保護膜、すなわちア
クリル系の持つ優れた平坦性と耐熱性を有しかつエポキ
シ系の持つ優れた耐熱性・基板との密着力を有する保護
膜を得ることができる。
Therefore, the present inventors have disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-2949.
07, a system in which epoxy and acrylic are mixed, that is, (A) a photopolymerized polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer, (B) a non-acrylic epoxy group-containing resin, (C) a photopolymerization initiator, and (D) A protective film composition consisting of epoxy curing agent was proposed. According to the present composition, a protective film having characteristics having both advantages, that is, having excellent flatness and heat resistance of an acrylic resin, and excellent heat resistance and adhesion of a substrate to an epoxy resin. Can be obtained.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記のエ
ポキシ及びアクリル混合系は、それぞれの樹脂が持つ長
所を同時に発揮させるための混合比率が狭く、特に平坦
性と基板との密着性の両者について、必ずしも充分な特
性が得られなかった。具体的には、特に平坦性に効果の
あるアクリル成分の比率を増すと、基板との密着力や透
明電極との密着性が劣り、また一方基板との密着性に効
果的なエポキシ成分の比率を増すと、平坦性が失われや
すいという問題があった。
However, in the above-mentioned epoxy and acrylic mixed systems, the mixing ratio for simultaneously exhibiting the advantages of the respective resins is narrow, and in particular, both of the flatness and the adhesion to the substrate are not necessarily improved. Sufficient characteristics could not be obtained. Specifically, increasing the ratio of the acrylic component, which is particularly effective for flatness, results in poor adhesion to the substrate and adhesion to the transparent electrode, and the ratio of the epoxy component effective for adhesion to the substrate. When the number of layers increases, the flatness tends to be lost.

【0011】さらにこの問題を解決すべく、特開平6−
294907においては、前記(A)から(D)の4成
分に加えて(E)シランカップリング剤を添加すること
により、基板との密着性を失うことなく、アクリル成分
の比率を高めることができるとも提案している。しか
し、それでも顔料分散法により作製されたカラーフィル
タ上に保護膜を形成した場合の表面の凹凸は、0.03
〜0.10μmであり、高速応答化や多階調化が進んで
いる最近の液晶表示素子では不充分になり始めている。
In order to further solve this problem, Japanese Unexamined Patent Publication No.
In 294907, by adding the (E) silane coupling agent in addition to the four components (A) to (D), the ratio of the acrylic component can be increased without losing the adhesion to the substrate. It also proposes. However, even when the protective film is formed on the color filter manufactured by the pigment dispersion method, the unevenness of the surface is 0.03.
0.10.10 μm, which is beginning to be insufficient with recent liquid crystal display devices in which high-speed response and multi-gradation are progressing.

【0012】このため、平坦性が良く、密着性も良く、
保護膜用組成物の液管理が容易で取扱がしやすい、保護
膜用組成物が望まれていた。
For this reason, flatness and adhesion are good,
There has been a demand for a composition for a protective film, in which the liquid composition of the composition for a protective film is easy and easy to handle.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意研究を行った結果、保護膜を特定の組
成物を硬化せしめたものとすることにより、上記課題の
解決に極めて有効であることを見出した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by forming a protective film obtained by curing a specific composition, the present invention has been achieved. It was found to be extremely effective.

【0014】すなわち、本発明は、以下のような成分
(A)、(B)、(C)、(D)を含み、主成分(A)
及び(B)の重量比率が(A)/(B)=50/50〜
95/5であり、溶剤及び水を除いた組成物100重量
部に対して外量で0.3〜5重量部の水を添加したこと
を特徴とするカラーフィルタ保護膜用組成物を提供す
る。 (A)光重合性多官能(メタ)アクリレートモノマー及
び/又はオリゴマー (B)非アクリル性エポキシ基含有樹脂 (C)シランカップリング剤 (D)水
That is, the present invention comprises the following components (A), (B), (C) and (D), and the main component (A)
And the weight ratio of (B) is (A) / (B) = 50 / 50-
95/5, wherein 0.3 to 5 parts by weight of water is added in an external amount relative to 100 parts by weight of the composition excluding the solvent and water. . (A) Photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer (B) Non-acrylic epoxy group-containing resin (C) Silane coupling agent (D) Water

【0015】また、それにさらにエポキシ硬化剤を、重
量比で非アクリル性エポキシ基含有樹脂100に対して
3〜90添加するカラーフィルタ保護膜用組成物を提供
する。
Further, there is provided a composition for a color filter protective film, wherein an epoxy curing agent is further added to the non-acrylic epoxy group-containing resin 100 in a weight ratio of 3 to 90.

【0016】また、基板と、該基板上に形成された着色
層と、その上に形成された保護膜とを有するカラーフィ
ルタ付き基板において、保護膜が前記のカラーフィルタ
保護膜用組成物を硬化せしめたものであることを特徴と
するカラーフィルタ付き基板を提供する。
Further, in a substrate with a color filter having a substrate, a colored layer formed on the substrate, and a protective film formed thereon, the protective film is formed by curing the composition for a color filter protective film. A substrate provided with a color filter is provided.

【0017】また、基板上に着色層を形成し、その上に
保護膜を形成するカラーフィルタ付き基板の製法におい
て、前記のカラーフィルタ保護膜用組成物を着色層上に
供給した後、光照射し、次いで加熱することによりカラ
ーフィルタ保護膜用組成物を硬化させることを特徴とす
るカラーフィルタ付き基板の製法を提供する。
Further, in the method of manufacturing a substrate with a color filter in which a colored layer is formed on a substrate and a protective film is formed thereon, the composition for a color filter protective film is supplied onto the colored layer and then irradiated with light. And then heating the composition for a color filter protective film to provide a method for producing a substrate with a color filter.

【0018】また、前記のカラーフィルタ付き基板又は
前記のカラーフィルタ付き基板の製法に製造されたカラ
ーフィルタ付き基板を、液晶表示素子を構成する少なく
とも一方の基板として用いたことを特徴とする液晶表示
素子を提供する。
A liquid crystal display, wherein the substrate with a color filter or the substrate with a color filter manufactured by the method for producing the substrate with a color filter is used as at least one substrate constituting a liquid crystal display element. An element is provided.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタ保護膜用
組成物は、以下の成分(A)、(B)、(C)、(D)
を含む。 (A)光重合性多官能(メタ)アクリレートモノマー及
び/又はオリゴマー (B)非アクリル性エポキシ基含有樹脂 (C)シランカップリング剤 (D)水 なお、この樹脂成分である(A)及び(B)の重量比率
は、(A)/(B)=50/50〜95/5とされる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The composition for a color filter protective film of the present invention comprises the following components (A), (B), (C) and (D).
including. (A) Photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer (B) Non-acrylic epoxy group-containing resin (C) Silane coupling agent (D) Water The resin components (A) and ( The weight ratio of (B) is (A) / (B) = 50/50 to 95/5.

【0020】本発明における成分(A)の光重合性多官
能(メタ)アクリレートとは、紫外線。可視光等の光の
照射によって重合もしくは架橋可能な感光基であるアク
リロイル基、メタクリロイル基等の炭素―炭素不飽和結
合を末端もしくは側鎖に複数持つモノマーもしくはオリ
ゴマーである。分子量は、100〜1000程度のもの
が好ましい。
The photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate of the component (A) in the present invention is an ultraviolet ray. Monomers or oligomers having a plurality of carbon-carbon unsaturated bonds at their terminals or side chains, such as acryloyl groups and methacryloyl groups, which are photosensitive groups that can be polymerized or cross-linked by irradiation with light such as visible light. The molecular weight is preferably about 100 to 1,000.

【0021】多官能(メタ)アクリレートモノマーの具
体例は、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジ
エチレンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピパ
リン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト等が例示される。またオリゴマーはこれらのモノマー
を単独成分として、もしくは共重合成分として含むもの
であればよい。
Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate monomer include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate,
1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene diol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypiparic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like are exemplified. The oligomer may be any one containing these monomers as a single component or a copolymer component.

【0022】成分(B)の非アクリル性エポキシ基含有
樹脂としては、光重合性を示すアクリル基を有しないエ
ポキシ基含有樹脂が使用される。具体的には、脂環式エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、グ
リシジルアミン型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、
エポキシ変性シリコーン樹脂、エポキシ変性メラミン樹
脂、エポキシ変性メラミン樹脂、エポキシ変性ウレタン
樹脂等がある。
As the non-acrylic epoxy group-containing resin of the component (B), a photopolymerizable epoxy group-free resin having no acrylic group is used. Specifically, alicyclic epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A
Epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, glycidylamine epoxy resin, brominated epoxy resin,
There are epoxy-modified silicone resin, epoxy-modified melamine resin, epoxy-modified melamine resin, epoxy-modified urethane resin, and the like.

【0023】この成分(B)の樹脂の非アクリル性と
は、光重合性を持つ(メタ)アクリレート基を実質的に
有さないものであることを意味する。すなわち、この非
アクリル性エポキシ基含有樹脂は実質的には光硬化性が
ない。これらのなかでは、耐光性及び透明性の点から特
に脂環式エポキシ樹脂が好ましい。
The non-acrylicity of the resin of the component (B) means that the resin does not substantially have a photopolymerizable (meth) acrylate group. That is, the non-acrylic epoxy group-containing resin has substantially no photocurability. Among these, an alicyclic epoxy resin is particularly preferable from the viewpoint of light resistance and transparency.

【0024】この(A)成分である光重合性多官能(メ
タ)アクリレートモノマー及び/又はオリゴマーと、
(B)成分である非アクリル性エポキシ基含有樹脂との
互いの配合割合は、重量比で(A)50〜95重量部、
(B)5〜50重量部の範囲内とされる。(A)成分の
配合割合が高過ぎると、平坦性は良好であるものの基板
との密着性が低下しやすくなり、また(A)成分の配合
割合が低過ぎると、平坦性が損なわれやすい。より好ま
しくは、(A)60〜80重量部、(B)20〜40重
量部の範囲内とされる。
The photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer as the component (A),
The mixing ratio of each other with the non-acrylic epoxy group-containing resin as the component (B) is (A) 50 to 95 parts by weight by weight.
(B) It is in the range of 5 to 50 parts by weight. If the blending ratio of the component (A) is too high, the flatness is good, but the adhesion to the substrate tends to decrease. If the blending ratio of the component (A) is too low, the flatness tends to be impaired. More preferably, it is within the range of (A) 60 to 80 parts by weight and (B) 20 to 40 parts by weight.

【0025】成分(C)のシランカップリング剤として
は、以下のものが例示される。γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン等である。前記シランカップリング
剤の添加量は、希釈する溶剤(後記する反応性希釈剤は
これに含めない。以下同じ。)及び成分(D)の水を除
いた組成物100重量部に対して内量で0.1〜20重
量部、より好ましくは1〜10重量部である。シランカ
ップリング剤を添加することにより、耐湿性が向上し、
特にガラスとの密着力が際立って向上する。
The following are examples of the silane coupling agent of the component (C). γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and the like. The amount of the silane coupling agent to be added is an amount based on 100 parts by weight of the solvent to be diluted (reactive diluents described below are not included in this, the same applies hereinafter) and the component (D) excluding water. 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight. By adding a silane coupling agent, moisture resistance is improved,
In particular, the adhesion to glass is significantly improved.

【0026】また、成分(D)の水は、シランカップリ
ング剤の加水分解反応を適宜に促進する成分であり、本
発明の保護膜用組成物の主成分で有る(A)と(B)の
樹脂による平坦性と密着性の両方を充分高めることがこ
とができる。この水の添加量としては、希釈する溶剤及
びこの水を除いた組成物100重量部に対して外量で
0.3〜5重量部、より好ましくは0.5〜2重量部で
ある。特に、シランカップリング剤に対して等量で表し
て0.5倍から1.5倍が好ましい。
The water of the component (D) is a component that appropriately promotes the hydrolysis reaction of the silane coupling agent, and is the main component of the composition for a protective film of the present invention (A) and (B). Both the flatness and adhesiveness of the resin can be sufficiently enhanced. The amount of water to be added is 0.3 to 5 parts by weight, more preferably 0.5 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition excluding the solvent to be diluted and the water. In particular, 0.5 to 1.5 times the equivalent of the silane coupling agent is preferable.

【0027】水の添加量が上記範囲より少ないとシラン
カップリング剤の加水分解反応が充分に促進されないた
めに基板との密着力が不足しやすくなり、また上記範囲
より多いと保護膜組成物を溶解した液が白濁したり、調
合後の粘度上昇が激しくポットライフが短くなる場合が
ある。
If the amount of water is less than the above range, the hydrolysis reaction of the silane coupling agent is not sufficiently promoted, so that the adhesion to the substrate tends to be insufficient. In some cases, the dissolved liquid becomes cloudy or the viscosity increases sharply after blending, thereby shortening the pot life.

【0028】本発明における保護膜組成物として、光重
合開始剤を添加することができる。この光重合開始剤と
しては、例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、ベンゾインイソブチルエー
テル、ベンゾフェノン、ビアセチル、ベンジル、ベンゾ
イル、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウラ
ムスルフィド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、チオキサントン、メチルチ
オキサントン、2−クロロチオキサントン等を用いるこ
とができる。
As the protective film composition of the present invention, a photopolymerization initiator can be added. Examples of the photopolymerization initiator include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzoin isobutyl ether, benzophenone, biacetyl, benzyl, benzoyl, benzyldimethylketal, tetramethylthiuram sulfide, and di- tert-butyl peroxide,
1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1-
(4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-
Methylpropan-1-one, thioxanthone, methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and the like can be used.

【0029】前記光重合開始剤の添加量は、希釈する溶
剤及び成分(D)の水を除いた組成物100重量部に対
して内量で0.1〜20重量部である。また、光重合開
始剤ベンゾフェノンに対する4,4−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノン等のような適当な増感剤を加えて
もよい。
The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition excluding the solvent to be diluted and water as the component (D). Further, a suitable sensitizer such as 4,4-bis (diethylamino) benzophenone to the photopolymerization initiator benzophenone may be added.

【0030】本発明における保護膜組成物として、さら
に成分(E)のエポキシ硬化剤を添加することができ
る。このエポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤や
芳香族ポリアミン系硬化剤、脂肪族ポリアミン系硬化
剤、環状脂肪族ポリアミン系硬化剤、ポリアミド系硬化
剤等を用いることができる。エポキシ硬化剤を添加する
ことにより、耐湿耐熱特性が他の組成の変動により不安
定になるのを抑えることができる。
As the protective film composition of the present invention, an epoxy curing agent of the component (E) can be further added. As the epoxy curing agent, an acid anhydride curing agent, an aromatic polyamine curing agent, an aliphatic polyamine curing agent, a cycloaliphatic polyamine curing agent, a polyamide curing agent, or the like can be used. By adding an epoxy curing agent, it is possible to prevent the moisture and heat resistance from becoming unstable due to a change in another composition.

【0031】前記エポキシ硬化剤の添加量は、エポキシ
樹脂100重量部に対して外量で好ましくは3重量部以
上90重量部以下、特に好ましくは70重量部以下であ
る。またエポキシ硬化剤として酸無水物系硬化剤を用い
た場合、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のルイ
ス塩基類を硬化促進剤としてさらに添加することもでき
る。
The amount of the epoxy curing agent added is preferably 3 parts by weight or more and 90 parts by weight or less, more preferably 70 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the epoxy resin. When an acid anhydride-based curing agent is used as the epoxy curing agent, Lewis bases such as 2-ethyl-4-methylimidazole may be further added as a curing accelerator.

【0032】本発明における保護膜組成物として、さら
に成分(F)として反応性希釈剤を添加することもでき
る。反応性希釈剤としては、アクリル酸やメタクリル酸
等のアクリル系、脂環式エポキシ希釈剤(ダイセル化学
社製セロキサイド3000)等のエポキシ系、脂環式エ
ポキシ基を有する(メタ)アクリルモノマー(ダイセル
化学社製「CYCLOMER M−100」、「CYC
LOMERA−200」、「セロキサイド2000」
等)等のアクリルエポキシ系等が挙げられる。
In the protective film composition of the present invention, a reactive diluent may be further added as the component (F). Examples of the reactive diluent include acrylic type such as acrylic acid and methacrylic acid, epoxy type such as alicyclic epoxy diluent (Celoxide 3000 manufactured by Daicel Chemical Industries), and (meth) acrylic monomer having an alicyclic epoxy group (Daicel "CYCLOMER M-100", "CYC
LOMERA-200 "," CELOXIDE 2000 "
And the like.

【0033】また、本発明における保護膜組成物には、
必要に応じてさらに酸化防止剤、光安定剤、光重合禁止
剤、消泡剤、レベリング剤等の各種添加剤等を加えるこ
ともできる。
The protective film composition according to the present invention includes:
If necessary, various additives such as an antioxidant, a light stabilizer, a photopolymerization inhibitor, an antifoaming agent, and a leveling agent can be added.

【0034】さらに、上記組成物には、硬化膜の硬度を
高くするためにシリカゾルやアルミナゾル等の無機物粒
子を、希釈する溶剤及び水を除いた組成物100重量部
に対して内量で0〜30重量部、好ましくは1〜10重
量部程度加えることができる。またこれらのゾルを添加
することにより、基板との密着助剤としてのシランカッ
プリング剤の効果を高めることもできる。
Further, in order to increase the hardness of the cured film, the above composition is prepared by adding inorganic particles such as silica sol and alumina sol in an amount of 0 to 100 parts by weight of the composition excluding the solvent for diluting and water. 30 parts by weight, preferably about 1 to 10 parts by weight can be added. Further, by adding these sols, the effect of the silane coupling agent as an adhesion aid to the substrate can be enhanced.

【0035】本発明の保護膜用組成物で形成されるカラ
ーフィルタ保護膜の厚みは、硬化後で1〜100μm程
度とされる。これより薄いと平坦化性能が不足し、これ
より厚いと透明性が不足したりクラック等が生じやすく
なり強度低下の原因となるおそれがある。特に厚みを
1.3〜20μm、さらには2〜5μmとすることによ
り、充分な平坦性が得られることになり好ましい。
The thickness of the color filter protective film formed from the composition for a protective film of the present invention is about 1 to 100 μm after curing. If it is thinner than this, the flattening performance is insufficient, and if it is thicker than this, transparency may be insufficient, cracks or the like may easily occur, and the strength may be reduced. In particular, when the thickness is 1.3 to 20 μm, and more preferably 2 to 5 μm, sufficient flatness can be obtained, which is preferable.

【0036】この保護膜用組成物は、着色層を形成した
基板の上に膜を形成するように供給される。この着色層
を形成する方法としては、公知の顔料分散法、オフセッ
ト印刷法、電着法、染色法、インクジェット法等の方法
が使用できる。このカラーフィルタのパターンにも特に
限定されるものではなく、例えばストライプパターン、
モザイクパターン、デルタパターン等のいずれでもよ
い。
The composition for a protective film is supplied so as to form a film on the substrate on which the colored layer is formed. As a method for forming the colored layer, known methods such as a pigment dispersion method, an offset printing method, an electrodeposition method, a dyeing method, and an ink jet method can be used. The pattern of the color filter is not particularly limited. For example, a stripe pattern,
Any of a mosaic pattern and a delta pattern may be used.

【0037】また、この着色層のパターン間にブラック
マトリックス等の光遮蔽パターンを形成してもよく、ブ
ラックマトリックスの形成も金属クロム等の蒸着法の
他、黒色感光性レジストをフォトリソグラフィ法でパタ
ーニングしたものでもよい。この光遮蔽パターンは、着
色層と同じ平面内、着色層と基板との間又は着色層上に
設けられてもよい。
A light shielding pattern such as a black matrix may be formed between the patterns of the colored layer. The black matrix may be formed by patterning a black photosensitive resist by a photolithography method in addition to the deposition method of metal chromium or the like. May be done. This light shielding pattern may be provided in the same plane as the colored layer, between the colored layer and the substrate, or on the colored layer.

【0038】本発明では、このようにして着色層が形成
された基板の上にこの保護膜用組成物を供給して成膜す
る。この成膜方法としては、通常のロールコーター、エ
アナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコータ
ー、バーコーター、スピンコーター等のコーターや各種
印刷機による公知の薄膜の形成方法が使用できる。
In the present invention, the composition for a protective film is supplied onto the substrate on which the colored layer has been formed as described above to form a film. As the film forming method, a known method for forming a thin film using a usual coater such as a roll coater, an air knife coater, a blade coater, a rod coater, a bar coater, or a spin coater, or various printing machines can be used.

【0039】この保護膜用組成物を供給する際には、流
動性を向上するため、通常溶剤に希釈した溶液として用
いる。溶剤としては、本発明の無機物質の粒子以外の各
成分が可溶な一般の有機溶剤が使用できる。例えば、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン類、エチレングリコール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
ジメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、ポリエチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート等の多価アルコール及び
エーテル類の等の有機溶剤を用いることができる。
When supplying the composition for a protective film, it is usually used as a solution diluted in a solvent in order to improve fluidity. As the solvent, a general organic solvent in which each component other than the inorganic substance particles of the present invention is soluble can be used. For example, acetone, methyl ethyl ketone, ketones such as methyl isobutyl ketone, ethylene glycol, polyhydric alcohols and ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol dimethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, polyethylene glycol monoethyl ether acetate, and the like. Organic solvents can be used.

【0040】これらの溶剤は単独で用いても2種以上混
合してもよい。有機溶剤溶液中の固形分濃度は、成膜方
法にも依存するが、通常は20〜80重量%とされれば
よい。この濃度は、成膜方法に応じて最適な濃度を実験
的に定めればよいが、固形分濃度は高い方が平坦性は良
好であるため、有機溶剤溶液中の固形分濃度は、成膜方
法にも依存するが、通常は40〜80重量%とされるこ
とが好ましい。
These solvents may be used alone or as a mixture of two or more. Although the solid content concentration in the organic solvent solution also depends on the film forming method, it is usually sufficient that the concentration is 20 to 80% by weight. The optimum concentration may be determined experimentally according to the film forming method. However, the higher the solid concentration, the better the flatness. Although it depends on the method, it is usually preferable that the content be 40 to 80% by weight.

【0041】また、本発明に用いられる基板としては、
特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエステル、ジアセテート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルフォン等の有機シート、各種ガラス板
等の透明基板が例示される。基板の厚みは、目的により
選ばれ、特に限定されない。液晶表示素子用でガラス基
板を用いる場合については、0.3〜1.5mm程度が
通常用いられる。
The substrate used in the present invention includes:
There is no particular limitation. For example, polyethylene terephthalate, polyester, diacetate, polycarbonate,
Examples thereof include an organic sheet such as polyether sulfone and a transparent substrate such as various glass plates. The thickness of the substrate is selected depending on the purpose, and is not particularly limited. When a glass substrate is used for a liquid crystal display device, a thickness of about 0.3 to 1.5 mm is usually used.

【0042】以下、顔料分散法を採用した場合につい
て、本発明にかかるカラーフィルタ付電極基板の製造方
法について説明する。まずガラス、プラスチック等の透
明基板にブラックマトリクスと呼ばれる遮光層を形成す
る。 この遮光層はTFT型の液晶表示素子においてはト
ランジスタの特性の保持あるいはコントラスト比の低下
防止のために設けられるもので、遮光性に優れた金属ク
ロム薄膜やカーボンブラック薄膜あるいはグラファイト
カーボンブラック薄膜等により形成されればよい。
Hereinafter, a method for manufacturing an electrode substrate with a color filter according to the present invention will be described in the case where the pigment dispersion method is employed. First, a light-shielding layer called a black matrix is formed on a transparent substrate such as glass or plastic. This light-shielding layer is provided in a TFT-type liquid crystal display element in order to maintain the characteristics of the transistor or to prevent a decrease in contrast ratio. It should just be formed.

【0043】また、STN型液晶表示素子に代表される
単純マトリックス駆動においては、もともとこれらの素
子のコントラスト比がTFT型に比べ低いことや、低コ
スト化の追求のためにブラックマトリクスは省略された
り、あるいは3原色の重ね合せにより形成されたり、着
色レジストで形成されることが多い。次に、基板上に顔
料等の色素と感光性樹脂とを含む着色レジストを塗布
し、所定のパターン形状のフォトマスクを介して露光を
行い、その後現像により未露光部分を除去して着色層パ
ターンを形成する。露光時に、着色レジスト層に重ねて
酸素遮断膜としてポリビニルアルコール層等を併用して
もよい。この操作をさらに別の色で2回繰り返して3原
色のカラーフィルタが形成される。
In a simple matrix drive represented by an STN type liquid crystal display element, the contrast ratio of these elements is originally lower than that of a TFT type, and a black matrix is omitted in order to pursue cost reduction. Or, it is often formed by superposition of three primary colors, or formed by a colored resist. Next, a colored resist containing a pigment such as a pigment and a photosensitive resin is applied to the substrate, exposed through a photomask having a predetermined pattern shape, and then unexposed portions are removed by development to form a colored layer pattern. To form At the time of exposure, a polyvinyl alcohol layer or the like may be used in combination with the colored resist layer as an oxygen barrier film. This operation is further repeated twice with another color to form a color filter of three primary colors.

【0044】この上に、上記保護膜用組成物からなる層
を前記したような成膜方法で形成する。組成物層の硬化
は、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線、可視光
線、電子線等の活性エネルギー線を照射することにより
行われればよい。フォトマスクを通してパターニングし
て照射し、未露光部分を溶剤等で除去して、パターニン
グ形成してもよい。
On this, a layer made of the composition for a protective film is formed by the above-mentioned film forming method. The curing of the composition layer may be performed by irradiating an active energy ray such as an ultraviolet ray, a visible light ray, an electron beam or the like such as a high pressure mercury lamp or a xenon lamp. Patterning and irradiation may be performed through a photomask, and an unexposed portion may be removed with a solvent or the like to form a pattern.

【0045】次いで、保護膜の上には電極層が形成され
る。 電極層は、一般にはアルミニウム、クロム等の金属
や、酸化インジウム錫(ITO)や酸化錫等の透明導電
膜が用いられるが、これに限られない。また、電極層
は、表示に対応してパターニングされていてもよいし、
共通電極として用いられる場合等ではベタ電極とされて
もよい。電極層の形成方法としては、特に限るものでは
ないが、膜厚を均一にする見地からは、蒸着法、スパッ
タ法等が好ましく用いられる。
Next, an electrode layer is formed on the protective film. The electrode layer is generally made of a metal such as aluminum or chromium, or a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO) or tin oxide, but is not limited thereto. Also, the electrode layer may be patterned corresponding to the display,
When used as a common electrode, it may be a solid electrode. The method for forming the electrode layer is not particularly limited, but from the viewpoint of making the film thickness uniform, an evaporation method, a sputtering method, or the like is preferably used.

【0046】なお本発明においては、必要に応じて基板
の電極の上もしくは下にSiO2 、TiO2 等の絶縁
膜、TFT、MIM、薄膜ダイオード等の能動素子、位
相差膜、偏光膜、反射膜、光導電膜等が形成されていて
もよい。
In the present invention, an insulating film such as SiO 2 or TiO 2 , an active element such as a TFT, a MIM, a thin film diode, a retardation film, a polarizing film, a reflection film, A film, a photoconductive film, or the like may be formed.

【0047】さらに、電極付き基板上に、液晶表示素子
の場合は、 必要に応じて配向膜を形成する。 これはポリ
アミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール等の有機樹
脂膜をラビングしたものであってもよいし、SiO等を
斜め蒸着してもよいし、垂直配向剤を塗布して用いる場
合もある。
Further, in the case of a liquid crystal display element, an alignment film is formed on the substrate with electrodes as necessary. This may be obtained by rubbing an organic resin film of polyamide, polyimide, polyvinyl alcohol, or the like, may be formed by oblique deposition of SiO or the like, or may be used by applying a vertical alignment agent.

【0048】さらに、液晶表示素子を製造する方法につ
いては、通常用いられる方法が採用できる。すなわち、
一対の基板のうちの一方を上記カラーフィルタ付き電極
基板とし、他方を適宜パターニングされた電極基板と
し、上記基板上に必要に応じて液晶配向膜を形成し、次
いで、前記一対の基板を電極面側を相対向させて周辺部
をシールしてその内部に液晶を封入する。これにより、
鮮明度の高いカラー液晶表示体を得ることができる。
Further, as a method of manufacturing a liquid crystal display element, a commonly used method can be employed. That is,
One of the pair of substrates is the electrode substrate with a color filter, the other is an appropriately patterned electrode substrate, a liquid crystal alignment film is formed on the substrate as needed, and then the pair of substrates is The sides are opposed to each other, the peripheral portion is sealed, and the liquid crystal is sealed therein. This allows
A color liquid crystal display having high definition can be obtained.

【0049】本発明のカラーフィルタ付き基板を用途の
面からみれば、液晶表示素子の基板、ブラウン管との組
合せ、撮像管の受光面等が挙げられる。また、本発明で
は特に、厚みむらの極めて少ないカラーフィルタが得ら
れることから、基板間隔精度の要求の厳しい液晶表示素
子用として好ましいものである。
When the substrate with a color filter of the present invention is viewed from the viewpoint of application, a substrate of a liquid crystal display element, a combination with a cathode ray tube, a light receiving surface of an image pickup tube and the like can be mentioned. Further, in the present invention, since a color filter having extremely small thickness unevenness can be obtained, the present invention is preferable for a liquid crystal display device in which the precision of substrate spacing is strict.

【0050】[0050]

【実施例】例1〜17 まず透明ガラス基板上にマグネトロンスパッタリング法
でクロム膜を100nmの厚みに成膜した。この上にフ
ォトマスクを用い、感光性レジストでパターンを形成し
た後、クロム膜をエッチングして光遮蔽パターンを形成
した。
Examples 1 to 17 First, a chromium film was formed to a thickness of 100 nm on a transparent glass substrate by magnetron sputtering. After forming a pattern with a photosensitive resist thereon using a photomask, the chromium film was etched to form a light shielding pattern.

【0051】次いで、赤色の感光性着色剤をコートし
て、この上にフォトマスクを用い、感光性着色剤を感光
させた後、エッチングして赤色パターンの着色層を形成
した。同様にして緑色、青色の着色パターンを着色層と
して光遮蔽パターンの間に順次形成した。
Next, a red photosensitive coloring agent was coated, and the photosensitive coloring agent was exposed thereon using a photomask, followed by etching to form a colored layer having a red pattern. Similarly, green and blue colored patterns were sequentially formed between the light shielding patterns as colored layers.

【0052】次いで保護膜用組成物として、表1〜表4
記載の組成物(例1〜8は実施例、例9〜17は比較
例)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ートに溶かして、固形分濃度50重量%にした溶液を用
意した。なお、水分量は、溶剤中にも若干の水分(概
0.1wt%相当)が含まれるので、その量も含めて記
載した。例9〜例14の水分量はほぼ溶剤中に含まれる
水分のみで、積極的には水分を添加していない例であ
る。
Next, as compositions for the protective film, Tables 1 to 4
A solution was prepared by dissolving the described compositions (Examples 1 to 8 were Examples and Examples 9 to 17 were Comparative Examples) in propylene glycol monomethyl ether acetate to a solid content concentration of 50% by weight. In addition, since the solvent contains a small amount of water (approximately 0.1 wt%) even in the solvent, the amount of water is also described. Examples 9 to 14 are examples in which the amount of water is almost only the water contained in the solvent and water is not actively added.

【0053】ここで調合した液の白濁・濁りをポイント
ライトで確認し、白濁・濁りの見られたものを×、確認
されなかったものを○とした。さらにポットライフを評
価した。このポットライフは、調合直後及び調合してか
ら24時間後の液の粘度を測定し、調合直後に比べて液
の粘度が20%以上上昇した場合を×、10〜20%上
昇した場合を△、10%未満しか上昇しなかった場合を
○として評価した。
The turbidity / turbidity of the prepared liquid was confirmed with a point light, and those with white turbidity / turbidity were evaluated as x, and those not observed were evaluated as ○. Furthermore, the pot life was evaluated. The pot life is measured by measuring the viscosity of the liquid immediately after the preparation and 24 hours after the preparation. The case where the viscosity of the liquid is increased by 20% or more compared to the time immediately after the preparation is x, and the case where the viscosity is increased by 10 to 20% is %. The case where it increased by less than 10% was evaluated as ○.

【0054】前記の着色層を形成した基板上に、これら
の組成物をスピンコーターで硬化後の保護膜の膜厚が
2.0μmになるように全面に塗布した。その後、高圧
水銀灯を用いて2000mJ/cm2 (波長365n
m)の光を照射した。さらに200℃、30分という条
件で加熱して完全に硬化させた。
These compositions were applied to the entire surface of the substrate on which the colored layer had been formed, using a spin coater so that the thickness of the cured protective film was 2.0 μm. Thereafter, using a high-pressure mercury lamp, 2000 mJ / cm 2 (wavelength 365 n
m) was irradiated. Further, it was heated at 200 ° C. for 30 minutes to be completely cured.

【0055】前記の方法により製造されたカラーフィル
タ付き基板について、表面粗さ計を用いて着色層上の保
護膜形成前後の表面の凹凸を調べた。また、ガラスとの
密着力については硬化膜を形成した基板をそれぞれ沸騰
水5時間に浸漬した後、碁盤目試験を行った。この試験
を10回繰り返し行い、10回の試験ともすべて全く剥
がれが無かったものを○、10回の試験中に1〜3回の
試験について剥がれがみられたものを△、10回の試験
中4回以上の試験で剥がれがみられたものを×として評
価した。
With respect to the substrate with a color filter manufactured by the above method, the surface roughness before and after the formation of the protective film on the colored layer was examined using a surface roughness meter. Regarding the adhesion to glass, each of the substrates on which the cured film was formed was immersed in boiling water for 5 hours, and then subjected to a grid test. This test was repeated 10 times, and all of the 10 tests showed no peeling at all. ○ During 10 tests, peeling was observed for 1 to 3 tests. △ During 10 tests When peeling was observed in four or more tests, it was evaluated as x.

【0056】各評価の結果を、表1〜表4に示す。な
お、例17は液が濁ってしまい、粘度上昇が大きかった
ため、成膜できなかった。表のなかのエポキシ樹脂のう
ち、CNはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(分子
量915、エポキシ等量210g/eq)、PNはフェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ等量175
g/eq)、EHは脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学
社製「EHPE3150」(エポキシ等量170〜20
0g/eq))である。
Tables 1 to 4 show the results of each evaluation. In Example 17, the film was not formed because the liquid became cloudy and the viscosity increased greatly. Of the epoxy resins in the table, CN is a cresol novolak type epoxy resin (molecular weight: 915, epoxy equivalent: 210 g / eq), and PN is a phenol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent: 175)
g / eq) and EH are alicyclic epoxy resins (“EHPE3150” (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., epoxy equivalent 170 to 20).
0 g / eq)).

【0057】また、多官能アクリレートのうち、PAは
ペンタエリスリトールトリアクリレート、TAはトリメ
チロールプロパントリアクリレート、CAはシアヌール
アクリレートを示す。
In the polyfunctional acrylates, PA is pentaerythritol triacrylate, TA is trimethylolpropane triacrylate, and CA is cyanuric acrylate.

【0058】さらにエポキシ硬化剤の内、MHはメチル
ヘキサヒドロ無水フタル酸、TMAは無水トリメリット
酸である。またエポキシ硬化触媒としては、2−エチル
−4−メチルイミダゾールを、増感剤としては2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン
を、シランカップリング剤としてはγ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランを、レベリング剤としてはシ
リコーン系のものをそれぞれ用いた。
Further, among the epoxy curing agents, MH is methylhexahydrophthalic anhydride and TMA is trimellitic anhydride. Also, 2-ethyl-4-methylimidazole is used as an epoxy curing catalyst, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one is used as a sensitizer, and γ-glycidyl is used as a silane coupling agent. Xypropyltrimethoxysilane was used, and a silicone-based leveling agent was used.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】[0060]

【表2】 [Table 2]

【0061】[0061]

【表3】 [Table 3]

【0062】[0062]

【表4】 [Table 4]

【0063】例18 例6で製造したカラーフィルタ付き基板の上にITOに
よる導電膜を形成し、ストライプ状にパターニングし、
ポリイミドの配向膜をラビングで形成して、第1の基板
を形成した。また、ガラス基板上にITOによる導電膜
を形成し、ストライプ状にパターニングし、ポリイミド
の配向膜をラビングで形成して、第2の基板を形成し
た。
Example 18 A conductive film made of ITO was formed on the substrate with a color filter manufactured in Example 6, and was patterned in a stripe shape.
A first substrate was formed by forming a polyimide alignment film by rubbing. A second substrate was formed by forming a conductive film of ITO on a glass substrate, patterning the conductive film in a stripe shape, and forming a polyimide alignment film by rubbing.

【0064】この2枚の基板を周辺でシールして空セル
を形成し、内部にネマチック液晶を封入して注入口を封
止して、STN型の液晶表示セルを形成した。このセル
の両側に位相差板と偏光板とを配置して、STN型液晶
表示装置を作成した。この液晶表示装置は、むらの少な
いカラー表示が得られた。
The two substrates were sealed around the periphery to form empty cells, a nematic liquid crystal was sealed therein, and the injection port was sealed to form an STN type liquid crystal display cell. A retardation plate and a polarizing plate were arranged on both sides of the cell, and an STN liquid crystal display device was produced. With this liquid crystal display device, color display with less unevenness was obtained.

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明では、(A)光重合性多官能(メ
タ)アクリレートモノマー及び/又はオリゴマー、
(B)非アクリル性エポキシ基含有樹脂、(C)シラン
カップリング剤及び(D)水を含み、主成分(A)及び
(B)の重量比率が(A)/(B)=50/50〜95
/5とし、溶剤及び水を除いた組成物100重量部に対
して外量で0.3〜5重量部の水を添加する。これによ
り、平坦性が良く、密着性も良く、保護膜用組成物の液
管理が容易で取扱がしやすい、保護膜用組成物が得られ
る。
According to the present invention, (A) a photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer;
It contains (B) a non-acrylic epoxy group-containing resin, (C) a silane coupling agent and (D) water, and the weight ratio of the main components (A) and (B) is (A) / (B) = 50/50. ~ 95
/ 5, and an external amount of 0.3 to 5 parts by weight of water is added to 100 parts by weight of the composition excluding the solvent and water. As a result, a composition for a protective film having good flatness, good adhesion, easy management of a liquid for the composition for a protective film, and easy handling can be obtained.

【0066】本発明は、本発明の効果を損しない範囲内
で、種々の応用が可能である。
The present invention can be applied to various applications within a range that does not impair the effects of the present invention.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】以下のような成分(A)、(B)、
(C)、(D)を含み、主成分(A)及び(B)の重量
比率が(A)/(B)=50/50〜95/5であり、
溶剤及び水を除いた組成物100重量部に対して外量で
0.3〜5重量部の水を添加したことを特徴とするカラ
ーフィルタ保護膜用組成物。 (A)光重合性多官能(メタ)アクリレートモノマー及
び/又はオリゴマー (B)非アクリル性エポキシ基含有樹脂 (C)シランカップリング剤 (D)水
(1) The following components (A) and (B):
(C) and (D), wherein the weight ratio of the main components (A) and (B) is (A) / (B) = 50/50 to 95/5,
A composition for a color filter protective film, wherein 0.3 to 5 parts by weight of water is added in an external amount to 100 parts by weight of a composition excluding a solvent and water. (A) Photopolymerizable polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer (B) Non-acrylic epoxy group-containing resin (C) Silane coupling agent (D) Water
【請求項2】さらにエポキシ硬化剤を、重量比で非アク
リル性エポキシ基含有樹脂100に対して3〜90添加
する請求項1記載のカラーフィルタ保護膜用組成物。
2. The composition for a color filter protective film according to claim 1, wherein an epoxy curing agent is further added in a weight ratio of 3 to 90 with respect to 100 of the non-acrylic epoxy group-containing resin.
【請求項3】基板と、該基板上に形成された着色層と、
その上に形成された保護膜とを有するカラーフィルタ付
き基板において、保護膜が請求項1又は2記載のカラー
フィルタ保護膜用組成物を硬化せしめたものであること
を特徴とするカラーフィルタ付き基板。
3. A substrate, a coloring layer formed on the substrate,
A substrate with a color filter having a protective film formed thereon, wherein the protective film is obtained by curing the composition for a color filter protective film according to claim 1 or 2. .
【請求項4】基板上に着色層を形成し、その上に保護膜
を形成するカラーフィルタ付き基板の製法において、請
求項1又は2記載のカラーフィルタ保護膜用組成物を着
色層上に供給した後、光照射し、次いで加熱することに
よりカラーフィルタ保護膜用組成物を硬化させることを
特徴とするカラーフィルタ付き基板の製法。
4. A method for producing a substrate with a color filter, comprising forming a colored layer on a substrate and forming a protective film thereon, supplying the composition for a color filter protective film according to claim 1 or 2 onto the colored layer. After that, the composition for a color filter protective film is cured by irradiating light and then heating to produce a substrate with a color filter.
【請求項5】請求項3記載のカラーフィルタ付き基板又
は請求項4記載のカラーフィルタ付き基板の製法に製造
されたカラーフィルタ付き基板を、液晶表示素子を構成
する少なくとも一方の基板として用いたことを特徴とす
る液晶表示素子。
5. A substrate with a color filter according to claim 3 or a substrate with a color filter manufactured by the method for producing a substrate with a color filter according to claim 4 is used as at least one substrate constituting a liquid crystal display element. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
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