JPH11237186A - 熱間等方加圧装置 - Google Patents
熱間等方加圧装置Info
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- JPH11237186A JPH11237186A JP10351663A JP35166398A JPH11237186A JP H11237186 A JPH11237186 A JP H11237186A JP 10351663 A JP10351663 A JP 10351663A JP 35166398 A JP35166398 A JP 35166398A JP H11237186 A JPH11237186 A JP H11237186A
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- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 32
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 27
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 2
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B11/00—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
- B30B11/001—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
- B30B11/002—Isostatic press chambers; Press stands therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＨＩＰ処理後の調節手段に応じてガス流出量
を調節し、シール機能等を損傷させない範囲で迅速な冷
却処理が行える。 【解決手段】 高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コ
ップ状の断熱層内に配置された被処理体を圧媒ガスで熱
間等方加圧処理すると共に、前記圧媒ガスを前記断熱層
上部に開設された開閉自在の通気孔を開いて流出させ、
前記断熱層下部に開設された通気孔から再度前記断熱層
内に流入させることにより冷却する熱間等方加圧装置に
おいて、前記通気孔のいずれか一方の口径を変化せしめ
る調節手段を備えている。
を調節し、シール機能等を損傷させない範囲で迅速な冷
却処理が行える。 【解決手段】 高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コ
ップ状の断熱層内に配置された被処理体を圧媒ガスで熱
間等方加圧処理すると共に、前記圧媒ガスを前記断熱層
上部に開設された開閉自在の通気孔を開いて流出させ、
前記断熱層下部に開設された通気孔から再度前記断熱層
内に流入させることにより冷却する熱間等方加圧装置に
おいて、前記通気孔のいずれか一方の口径を変化せしめ
る調節手段を備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱間等方加圧（以
下、ＨＩＰと略記する）装置を損傷させることなく、Ｈ
ＩＰ処理後の冷却を迅速に行えるＨＩＰ装置に関する。
下、ＨＩＰと略記する）装置を損傷させることなく、Ｈ
ＩＰ処理後の冷却を迅速に行えるＨＩＰ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＨＩＰ処理後の冷却方法として、一般に
高圧室内で圧媒ガスを循環させる方法が利用されてい
る。すなわち、高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コ
ップ状の断熱層上部及び下部に通気孔を開設し、上部の
通気孔（第１通気孔という）から断熱層内の圧媒ガスを
流出させ、断熱層の外周側面と高圧容器の内壁面との間
を流下させて、下部の通気孔（第２通気孔という）を通
って再度断熱層内に到る循環流を生ぜしめる。このよう
な圧媒ガスの循環中に、圧媒ガスと高圧室を画成する高
圧容器との間で熱交換が行われ、断熱層内の炉室ひいて
は炉室に配置された被処理体が冷却される。
高圧室内で圧媒ガスを循環させる方法が利用されてい
る。すなわち、高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コ
ップ状の断熱層上部及び下部に通気孔を開設し、上部の
通気孔（第１通気孔という）から断熱層内の圧媒ガスを
流出させ、断熱層の外周側面と高圧容器の内壁面との間
を流下させて、下部の通気孔（第２通気孔という）を通
って再度断熱層内に到る循環流を生ぜしめる。このよう
な圧媒ガスの循環中に、圧媒ガスと高圧室を画成する高
圧容器との間で熱交換が行われ、断熱層内の炉室ひいて
は炉室に配置された被処理体が冷却される。
【０００３】なお、第１通気孔及び第２通気孔の少なく
とも一方は開閉自在に構成されていて、ＨＩＰ処理中は
閉じておき、冷却時に開いて、断熱層内のガスを循環さ
せている。このような冷却方法を利用したＨＩＰ装置と
して、例えば、実開昭６３−１２３９９９号公報に、図
６に示すようなＨＩＰ装置が開示されている。このＨＩ
Ｐ装置は、高圧容器１、該高圧容器１上面の開口部を閉
塞する上蓋２、及び該高圧容器１底面の開口部を閉塞す
る下蓋３から画成される高圧室４内に、外側のケーシン
グ６及び内側のケーシング７で構成される倒立コップ状
の断熱層５が設けられている。さらに、断熱層５の内側
はヒータ８が備えられた炉室９を形成している。外側ケ
ーシング６及び内側ケーシング７の上面には第１通気孔
１１、１２が開設されており、断熱層５下部には第２通
気孔１３が開設されている。外側ケーシング６に開設さ
れた第１通気孔１１は、弁棒１５の下端の弁１５ａによ
り開閉できるようになっている。弁１５ａの開閉は、駆
動装置１４による弁棒１５の上下動により行われる。
とも一方は開閉自在に構成されていて、ＨＩＰ処理中は
閉じておき、冷却時に開いて、断熱層内のガスを循環さ
せている。このような冷却方法を利用したＨＩＰ装置と
して、例えば、実開昭６３−１２３９９９号公報に、図
６に示すようなＨＩＰ装置が開示されている。このＨＩ
Ｐ装置は、高圧容器１、該高圧容器１上面の開口部を閉
塞する上蓋２、及び該高圧容器１底面の開口部を閉塞す
る下蓋３から画成される高圧室４内に、外側のケーシン
グ６及び内側のケーシング７で構成される倒立コップ状
の断熱層５が設けられている。さらに、断熱層５の内側
はヒータ８が備えられた炉室９を形成している。外側ケ
ーシング６及び内側ケーシング７の上面には第１通気孔
１１、１２が開設されており、断熱層５下部には第２通
気孔１３が開設されている。外側ケーシング６に開設さ
れた第１通気孔１１は、弁棒１５の下端の弁１５ａによ
り開閉できるようになっている。弁１５ａの開閉は、駆
動装置１４による弁棒１５の上下動により行われる。
【０００４】かかる装置において、ＨＩＰ処理後、弁棒
１５を上昇させて外側ケーシング６の第１通気孔１１を
開くと、炉室９の高温圧媒ガスが第１通気孔１２、１１
を通って流出する。そして、圧媒ガスは、高圧容器１と
熱交換を行いながら高圧容器１と断熱層５との間を流下
し、第２通気孔１３から炉室９に流入して、再び第１通
気孔１２、１１から流出する。このように圧媒ガスが循
環する間に、高圧室４内が冷却される。
１５を上昇させて外側ケーシング６の第１通気孔１１を
開くと、炉室９の高温圧媒ガスが第１通気孔１２、１１
を通って流出する。そして、圧媒ガスは、高圧容器１と
熱交換を行いながら高圧容器１と断熱層５との間を流下
し、第２通気孔１３から炉室９に流入して、再び第１通
気孔１２、１１から流出する。このように圧媒ガスが循
環する間に、高圧室４内が冷却される。
【０００５】なお、このＨＩＰ装置では、被処理体１７
を均熱冷却すべく、炉室９内に安全筒１８が設けられ、
さらにファン１９、２０により循環流が攪拌されてい
る。かかるＨＩＰ装置における圧媒ガスの流れは、矢印
で示されている。
を均熱冷却すべく、炉室９内に安全筒１８が設けられ、
さらにファン１９、２０により循環流が攪拌されてい
る。かかるＨＩＰ装置における圧媒ガスの流れは、矢印
で示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、冷却速度は
ガス流出量、すなわち第１通気孔又は第２通気孔の口径
に依存する。一方、適切な冷却速度は、ＨＩＰ処理の温
度、圧力等により異なる。例えば、冷却開始時に、大量
の高温の圧媒ガスが流出して高圧容器や上蓋と熱交換を
行い、高圧容器１と上蓋２との間又は弁棒１５の周囲に
設けられた高圧シール付近が２００℃以上にまで上昇す
ると、高圧シールの組成が変化して、シール機能が損な
われることがある。シール機能の損傷は高圧容器のガス
漏れの原因になる。よって、通気孔の口径は、シール機
能を損なわない範囲内で、できる限り大きく設定するこ
とが好ましい。
ガス流出量、すなわち第１通気孔又は第２通気孔の口径
に依存する。一方、適切な冷却速度は、ＨＩＰ処理の温
度、圧力等により異なる。例えば、冷却開始時に、大量
の高温の圧媒ガスが流出して高圧容器や上蓋と熱交換を
行い、高圧容器１と上蓋２との間又は弁棒１５の周囲に
設けられた高圧シール付近が２００℃以上にまで上昇す
ると、高圧シールの組成が変化して、シール機能が損な
われることがある。シール機能の損傷は高圧容器のガス
漏れの原因になる。よって、通気孔の口径は、シール機
能を損なわない範囲内で、できる限り大きく設定するこ
とが好ましい。
【０００７】しかし、上記ＨＩＰ装置において、口径を
変えようとする場合、装置を分解しなければならず、ま
た、口径に応じて弁も変える必要がある。このため、Ｈ
ＩＰ処理条件に応じた適切な口径の設定は大変困難であ
る。一方、弁１５ａを下方に向けて細くなるようなテー
パ状とし、弁１５ａの位置を駆動装置１４で調節するこ
とにより、流出量を制御する方法がある。しかし、この
方法では弁１５ａの精密な位置制御が必要となるため、
一般に困難である。
変えようとする場合、装置を分解しなければならず、ま
た、口径に応じて弁も変える必要がある。このため、Ｈ
ＩＰ処理条件に応じた適切な口径の設定は大変困難であ
る。一方、弁１５ａを下方に向けて細くなるようなテー
パ状とし、弁１５ａの位置を駆動装置１４で調節するこ
とにより、流出量を制御する方法がある。しかし、この
方法では弁１５ａの精密な位置制御が必要となるため、
一般に困難である。
【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、第１通気孔及
び第２通気孔の少なくとも一方の口径を調節可能とする
ことにより、ＨＩＰ処理後のガスの状態等に応じた口径
を適宜選択できるＨＩＰ装置を提供することにある。
たものであり、その目的とするところは、第１通気孔及
び第２通気孔の少なくとも一方の口径を調節可能とする
ことにより、ＨＩＰ処理後のガスの状態等に応じた口径
を適宜選択できるＨＩＰ装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の熱間等方加圧装
置は、高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コップ状の
断熱層内に配置された被処理体を圧媒ガスで熱間等方加
圧処理すると共に、前記圧媒ガスを前記断熱層に開設さ
れた開閉自在の第１の通気孔を開いて流出させ、前記断
熱層に開設された第２の通気孔から再度前記断熱層内に
流入させることにより冷却する熱間等方加圧装置におい
て、前記通気孔のいずれか一方の口径を変化せしめる調
節手段を備えている。
置は、高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コップ状の
断熱層内に配置された被処理体を圧媒ガスで熱間等方加
圧処理すると共に、前記圧媒ガスを前記断熱層に開設さ
れた開閉自在の第１の通気孔を開いて流出させ、前記断
熱層に開設された第２の通気孔から再度前記断熱層内に
流入させることにより冷却する熱間等方加圧装置におい
て、前記通気孔のいずれか一方の口径を変化せしめる調
節手段を備えている。
【００１０】調節手段は、通気孔のいずれか一方に取り
替え可能に取り付けられる調節具、あるいは通気孔のい
ずれか一方の開口部の口径を絞る絞り部及び該絞り部を
高圧容器外部から制御する制御部を備えたものが好まし
い。本発明のＨＩＰ装置では、ＨＩＰ処理後の圧媒ガス
の温度に応じて、所望の冷却速度、すなわち高圧容器に
用いられている高圧シールを損傷しない範囲で圧媒ガス
を流出させるように、第１通気孔又は第２通気孔の口径
を適宜設定する。すなわち、ＨＩＰ処理が高温高圧の場
合には、調節手段にて口径を縮小して大量の高温ガスが
一気に流出するのを抑制する。一方、ＨＩＰ処理がそれ
程高温高圧でない場合には、最大径である通気孔自体の
口径とする。
替え可能に取り付けられる調節具、あるいは通気孔のい
ずれか一方の開口部の口径を絞る絞り部及び該絞り部を
高圧容器外部から制御する制御部を備えたものが好まし
い。本発明のＨＩＰ装置では、ＨＩＰ処理後の圧媒ガス
の温度に応じて、所望の冷却速度、すなわち高圧容器に
用いられている高圧シールを損傷しない範囲で圧媒ガス
を流出させるように、第１通気孔又は第２通気孔の口径
を適宜設定する。すなわち、ＨＩＰ処理が高温高圧の場
合には、調節手段にて口径を縮小して大量の高温ガスが
一気に流出するのを抑制する。一方、ＨＩＰ処理がそれ
程高温高圧でない場合には、最大径である通気孔自体の
口径とする。
【００１１】調節手段が取り替え可能な調節具の場合に
は、ＨＩＰ処理に際し、所望の冷却速度となる口径を設
定できる調節具を選択し、それを通気孔にセットする。
調節具をセットした状態では、高温の圧媒ガスが一気に
流出するのが抑制され、高圧シールの損傷を防止する。
調節手段が通気孔の開口部の口径を絞る絞り部及び該絞
り部を高圧容器外部から制御する制御部を備えたもので
ある場合には、冷却開始時に高温の圧媒ガスが一気に流
出しないように絞り部を絞っておく。そして、ガス温度
の低下に伴い、口径が大きくなるように絞り部を制御す
ると、高圧シールの損傷を防止すると共に、冷却処理が
速くなる。
は、ＨＩＰ処理に際し、所望の冷却速度となる口径を設
定できる調節具を選択し、それを通気孔にセットする。
調節具をセットした状態では、高温の圧媒ガスが一気に
流出するのが抑制され、高圧シールの損傷を防止する。
調節手段が通気孔の開口部の口径を絞る絞り部及び該絞
り部を高圧容器外部から制御する制御部を備えたもので
ある場合には、冷却開始時に高温の圧媒ガスが一気に流
出しないように絞り部を絞っておく。そして、ガス温度
の低下に伴い、口径が大きくなるように絞り部を制御す
ると、高圧シールの損傷を防止すると共に、冷却処理が
速くなる。
【００１２】
【発明の実施の形態】まず、調節手段が取り替え可能な
調節具である請求項２に記載の発明の一実施形態を、図
１〜図３に基づいて説明する。図１に示すＨＩＰ装置
は、高圧容器２６、該高圧容器２６の上面開口部を閉塞
する上蓋２７、及び該高圧容器２６の底面開口部を閉塞
する下蓋２８により高圧室２９が画成され、該高圧室２
９内には倒立コップ状の断熱層３０が設けられている。
さらに断熱層３０の内側は、ヒータ３１を備えた炉室３
２を形成している。炉室３２には、被処理体３３が試料
台３４の上に載置されている。そして、断熱層３０の上
面及び側面下部それぞれに、炉室３２の圧媒ガスを流出
入させるための通気孔３５、３６が開設されている。断
熱層３０の上面に開設された通気孔（第１通気孔とい
う）３５には、２つの円盤状の調節具４１が、筒状のス
ペーサ４５を介して上下２段に嵌挿されている。調節具
４１には４つの貫通孔４２が開設されており、上下２つ
の調節具４１は、貫通孔４２が同心状になるようにセッ
トされている。調節具４１を嵌挿したときの第１通気孔
３５周辺を図２に示す。なお、上蓋２７に装設された駆
動装置３８の弁棒３９の下部は、第１通気孔３５を開閉
するための弁３９ａとなっている。弁３９ａは下方に向
けて細くなるテーパを形成しており、弁３９ａと弁座４
０との相対的位置関係によっても流出量を調節すること
ができる。
調節具である請求項２に記載の発明の一実施形態を、図
１〜図３に基づいて説明する。図１に示すＨＩＰ装置
は、高圧容器２６、該高圧容器２６の上面開口部を閉塞
する上蓋２７、及び該高圧容器２６の底面開口部を閉塞
する下蓋２８により高圧室２９が画成され、該高圧室２
９内には倒立コップ状の断熱層３０が設けられている。
さらに断熱層３０の内側は、ヒータ３１を備えた炉室３
２を形成している。炉室３２には、被処理体３３が試料
台３４の上に載置されている。そして、断熱層３０の上
面及び側面下部それぞれに、炉室３２の圧媒ガスを流出
入させるための通気孔３５、３６が開設されている。断
熱層３０の上面に開設された通気孔（第１通気孔とい
う）３５には、２つの円盤状の調節具４１が、筒状のス
ペーサ４５を介して上下２段に嵌挿されている。調節具
４１には４つの貫通孔４２が開設されており、上下２つ
の調節具４１は、貫通孔４２が同心状になるようにセッ
トされている。調節具４１を嵌挿したときの第１通気孔
３５周辺を図２に示す。なお、上蓋２７に装設された駆
動装置３８の弁棒３９の下部は、第１通気孔３５を開閉
するための弁３９ａとなっている。弁３９ａは下方に向
けて細くなるテーパを形成しており、弁３９ａと弁座４
０との相対的位置関係によっても流出量を調節すること
ができる。
【００１３】このような装置において、ＨＩＰ処理後、
ヒータ３１の通電を止めて弁３９ａを開くと、炉室３２
のガスが調節具４１の貫通孔４２を通って流出し、矢印
方向に流下して、第２通気孔３６から炉室３２に流入、
上昇して、再び貫通孔４２を通って流出するというガス
循環流を生じる。この場合の炉室３２からのガス流出量
は、第１通気孔３５に調節具４１をセットしたことによ
り、開口部の見かけ上の口径が小さくなっているので、
調節具４１をセットしない場合よりも減量されている。
このことは、シール機能を破壊するような高温ガスが流
出する場合でも、冷却開始時に、上蓋２７や高圧容器２
６に与える熱伝達量が少なくて済むことを意味する。よ
って、高圧容器２６と上蓋２７間及び弁棒３９周囲に設
けられた高圧シール等の損傷を防止できる。
ヒータ３１の通電を止めて弁３９ａを開くと、炉室３２
のガスが調節具４１の貫通孔４２を通って流出し、矢印
方向に流下して、第２通気孔３６から炉室３２に流入、
上昇して、再び貫通孔４２を通って流出するというガス
循環流を生じる。この場合の炉室３２からのガス流出量
は、第１通気孔３５に調節具４１をセットしたことによ
り、開口部の見かけ上の口径が小さくなっているので、
調節具４１をセットしない場合よりも減量されている。
このことは、シール機能を破壊するような高温ガスが流
出する場合でも、冷却開始時に、上蓋２７や高圧容器２
６に与える熱伝達量が少なくて済むことを意味する。よ
って、高圧容器２６と上蓋２７間及び弁棒３９周囲に設
けられた高圧シール等の損傷を防止できる。
【００１４】さらにガス流出量を減量したい場合には、
第１通気孔にセットする調節具を、貫通孔４２と同径の
貫通孔４４を２つ有する調節具４３に取り替えればよい
（図３参照）。一方、圧媒ガスがシール機能等を損傷せ
しめる程の高温でない場合には、調節具を取り付けず、
第１通気孔の口径に応じたガス流量を流出させればよ
い。かかる場合には冷却速度が速くなる。このように、
第１通気孔にセットする調節具の種類を変えるだけで見
かけ上の口径を変えることができ、一定口径のＨＩＰ装
置の汎用性が高くなる。しかも調節具は、第１通気孔に
嵌挿するなど、容易にセットでき、従来のようにＨＩＰ
装置を分解したり、弁等を取り替える必要がない。な
お、ガス流出量を減量する調節具は、貫通孔の個数だけ
でなく、貫通孔の口径、形状等を変えることによって
も、通気孔の見かけ上の口径を調節できる。また、図１
のＨＩＰ装置において、第１通気孔３５に嵌挿した２つ
の調節具は同種であても良いし、異種であってもよい。
調節具の貫通孔４２は同心状に限らず、ずれていてもよ
い。さらに調節具の使用と併せて、冷却中には弁３９ａ
と弁座４０との相対的位置関係を制御すれば、より適切
で細かな流出量の制御を行える。
第１通気孔にセットする調節具を、貫通孔４２と同径の
貫通孔４４を２つ有する調節具４３に取り替えればよい
（図３参照）。一方、圧媒ガスがシール機能等を損傷せ
しめる程の高温でない場合には、調節具を取り付けず、
第１通気孔の口径に応じたガス流量を流出させればよ
い。かかる場合には冷却速度が速くなる。このように、
第１通気孔にセットする調節具の種類を変えるだけで見
かけ上の口径を変えることができ、一定口径のＨＩＰ装
置の汎用性が高くなる。しかも調節具は、第１通気孔に
嵌挿するなど、容易にセットでき、従来のようにＨＩＰ
装置を分解したり、弁等を取り替える必要がない。な
お、ガス流出量を減量する調節具は、貫通孔の個数だけ
でなく、貫通孔の口径、形状等を変えることによって
も、通気孔の見かけ上の口径を調節できる。また、図１
のＨＩＰ装置において、第１通気孔３５に嵌挿した２つ
の調節具は同種であても良いし、異種であってもよい。
調節具の貫通孔４２は同心状に限らず、ずれていてもよ
い。さらに調節具の使用と併せて、冷却中には弁３９ａ
と弁座４０との相対的位置関係を制御すれば、より適切
で細かな流出量の制御を行える。
【００１５】次に、冷却処理中に口径を変えることがで
きる調節手段を備えた請求項３に記載の発明の一実施形
態を、図４及び図５に基づいて説明する。図４に示すＨ
ＩＰ装置の基本的構成は、図１のＨＩＰ装置と同様であ
る。図４のＨＩＰ装置において、上蓋２７の上面に、調
節手段の制御部たるサーボモータ４６が取り付けられて
いる。サーボモータ４６の出力軸４７は、上蓋２７を貫
通すると共に、断熱層３０の上部に挿通されている。そ
して、出力軸４７の下端には、第１通気孔３５に突出す
るように、絞り部４８が取り付けられている。絞り部４
８は第１通気孔の軸心周り（図５中、矢印方向）に揺動
可能で、絞り部４８の位置に応じて、第１通気孔の見か
け上の口径が調節される。絞り部４８の位置はサーボモ
ータ４６で制御できるので、冷却処理中に連続的に口径
を変化させることができる。
きる調節手段を備えた請求項３に記載の発明の一実施形
態を、図４及び図５に基づいて説明する。図４に示すＨ
ＩＰ装置の基本的構成は、図１のＨＩＰ装置と同様であ
る。図４のＨＩＰ装置において、上蓋２７の上面に、調
節手段の制御部たるサーボモータ４６が取り付けられて
いる。サーボモータ４６の出力軸４７は、上蓋２７を貫
通すると共に、断熱層３０の上部に挿通されている。そ
して、出力軸４７の下端には、第１通気孔３５に突出す
るように、絞り部４８が取り付けられている。絞り部４
８は第１通気孔の軸心周り（図５中、矢印方向）に揺動
可能で、絞り部４８の位置に応じて、第１通気孔の見か
け上の口径が調節される。絞り部４８の位置はサーボモ
ータ４６で制御できるので、冷却処理中に連続的に口径
を変化させることができる。
【００１６】このような調節手段を備えたＨＩＰ装置で
は、高温ガスが流出する冷却開始時には口径を絞って流
出量を減量しておき、ガス温度の低下に従って口径が大
きくなる方向に絞り部４８の位置を移動させるように制
御すると、シール等を損傷させることなく迅速に冷却で
きる。また、調節具の取り替えによる口径調節では、一
旦、冷却条件に応じた調節具を選択して、それを通気孔
に取り付けてしまうと、一連のＨＩＰ処理及び冷却処理
が終了するまで流出量を変えることはできないのに対
し、絞り部による口径調節では、サーボモータで絞り部
を調節することにより適宜流出量を調節できる。よっ
て、ＨＩＰ処理毎に調節具を選択して取り替える必要は
ない。当該調節手段において、絞り部の形状、制御部の
取り付け位置、制御方法等は適宜選択される。当該調節
手段を用いる場合も調節具を用いる場合と同様に、弁３
９ａと弁座４０との相対的位置関係の制御を併せて行う
ことにより、さらに適切で細かな流出量制御が可能とな
る。
は、高温ガスが流出する冷却開始時には口径を絞って流
出量を減量しておき、ガス温度の低下に従って口径が大
きくなる方向に絞り部４８の位置を移動させるように制
御すると、シール等を損傷させることなく迅速に冷却で
きる。また、調節具の取り替えによる口径調節では、一
旦、冷却条件に応じた調節具を選択して、それを通気孔
に取り付けてしまうと、一連のＨＩＰ処理及び冷却処理
が終了するまで流出量を変えることはできないのに対
し、絞り部による口径調節では、サーボモータで絞り部
を調節することにより適宜流出量を調節できる。よっ
て、ＨＩＰ処理毎に調節具を選択して取り替える必要は
ない。当該調節手段において、絞り部の形状、制御部の
取り付け位置、制御方法等は適宜選択される。当該調節
手段を用いる場合も調節具を用いる場合と同様に、弁３
９ａと弁座４０との相対的位置関係の制御を併せて行う
ことにより、さらに適切で細かな流出量制御が可能とな
る。
【００１７】なお、上記いずれの実施形態も、調節手段
は第１通気孔の口径を変えるものであったが、第２通気
孔に取り付けて、第２通気孔の開口面積を変えてもよ
い。また、本発明のＨＩＰ装置に備えられる調節手段は
上記二実施形態に限定されるものではない。適用できる
ＨＩＰ装置は、断熱層が外側ケーシングと内側ケーシン
グとからなる２重断熱層タイプや図６のように被処理体
を均熱冷却するようにファン等を備えたものでもよい。
は第１通気孔の口径を変えるものであったが、第２通気
孔に取り付けて、第２通気孔の開口面積を変えてもよ
い。また、本発明のＨＩＰ装置に備えられる調節手段は
上記二実施形態に限定されるものではない。適用できる
ＨＩＰ装置は、断熱層が外側ケーシングと内側ケーシン
グとからなる２重断熱層タイプや図６のように被処理体
を均熱冷却するようにファン等を備えたものでもよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明のＨＩＰ装置は、通気孔の口径を
変える調節手段を備えているので、ＨＩＰ処理後の圧媒
ガスの状態に応じて冷却速度、すなわち断熱層からのガ
ス流出量を適宜選択できる。よって、本発明のＨＩＰ装
置は、分解したり、弁を取り替えたりしなくても、シー
ル機能等を損傷させない範囲で迅速な冷却処理が行え
る。
変える調節手段を備えているので、ＨＩＰ処理後の圧媒
ガスの状態に応じて冷却速度、すなわち断熱層からのガ
ス流出量を適宜選択できる。よって、本発明のＨＩＰ装
置は、分解したり、弁を取り替えたりしなくても、シー
ル機能等を損傷させない範囲で迅速な冷却処理が行え
る。
【００１９】調節手段として調節具を用いる請求項２に
係る本発明では、従来のＨＩＰ装置の通気孔に当該調節
具をセットするだけでよい。調節手段として制御部及び
絞り部を備えたものを用いる請求項３に係る本発明で
は、冷却処理中にもガス温度の変化に応じて冷却速度を
随時変化させることができ、適切且つより迅速な冷却が
可能となる。
係る本発明では、従来のＨＩＰ装置の通気孔に当該調節
具をセットするだけでよい。調節手段として制御部及び
絞り部を備えたものを用いる請求項３に係る本発明で
は、冷却処理中にもガス温度の変化に応じて冷却速度を
随時変化させることができ、適切且つより迅速な冷却が
可能となる。
【図１】請求項２に記載の発明の一実施形態であるＨＩ
Ｐ装置の構成を示す図である。
Ｐ装置の構成を示す図である。
【図２】図１のＨＩＰ装置の第１通気孔周辺を示す図で
ある。
ある。
【図３】他の調節具を取り付けた場合の第１通気孔周辺
を示す図である。
を示す図である。
【図４】請求項３に記載の発明の一実施形態であるＨＩ
Ｐ装置の構成を示す図である。
Ｐ装置の構成を示す図である。
【図５】図４のＨＩＰ装置の第１通気孔周辺を示す図で
ある。
ある。
【図６】従来のＨＩＰ装置の構成を示す図である。
２９ 高圧室 ３０ 断熱層 ３５ 第１通気孔 ３６ 第２通気孔 ４１ 調節具 ４３ 調節具 ４６ サーボモータ ４８ 絞り部
Claims (3)
- 【請求項１】 高圧容器内の高圧室に設けられた倒立コ
ップ状の断熱層内に配置された被処理体を圧媒ガスで熱
間等方加圧処理すると共に、前記圧媒ガスを前記断熱層
に開設された開閉自在の第１の通気孔を開いて流出さ
せ、前記断熱層に開設された第２の通気孔から再度前記
断熱層内に流入させることにより冷却する熱間等方加圧
装置において、 前記通気孔のいずれか一方の口径を変化せしめる調節手
段を備えたことを特徴とする熱間等方加圧装置。 - 【請求項２】 調節手段は、前記通気孔のいずれか一方
に取り替え可能に取り付けられる調節具である請求項１
に記載の熱間等方加圧装置。 - 【請求項３】 調節手段は、前記通気孔のいずれか一方
の開口部の口径を絞る絞り部、及び該絞り部を高圧容器
外部から制御する制御部を備えていることを特徴とする
請求項１に記載の熱間等方加圧装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35166398A JP3349105B2 (ja) | 1992-04-24 | 1998-12-10 | 熱間等方加圧装置 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2745592U JPH0587497U (ja) | 1992-04-24 | 1992-04-24 | 熱間等方加圧装置 |
| JP35166398A JP3349105B2 (ja) | 1992-04-24 | 1998-12-10 | 熱間等方加圧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11237186A true JPH11237186A (ja) | 1999-08-31 |
| JP3349105B2 JP3349105B2 (ja) | 2002-11-20 |
Family
ID=26365379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35166398A Expired - Fee Related JP3349105B2 (ja) | 1992-04-24 | 1998-12-10 | 熱間等方加圧装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349105B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012092959A1 (en) * | 2011-01-03 | 2012-07-12 | Avure Technologies Ab | Improved outer cooling loop |
| RU2467834C1 (ru) * | 2011-06-24 | 2012-11-27 | Открытое акционерное общество Акционерная холдинговая компания "Всероссийский научно-исследовательский и проектно-конструкторский институт металлургического машиностроения имени академика Целикова" (ОАО АХК "ВНИИМЕТМАШ") | Двухкамерный газостат |
| WO2014139936A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | Avure Technologies Ab | Pressing arrangement with a combined fan and ejector cooling, and method of pressing |
-
1998
- 1998-12-10 JP JP35166398A patent/JP3349105B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012092959A1 (en) * | 2011-01-03 | 2012-07-12 | Avure Technologies Ab | Improved outer cooling loop |
| US9784503B2 (en) | 2011-01-03 | 2017-10-10 | Quintus Technologies Ab | Outer cooling loop |
| RU2467834C1 (ru) * | 2011-06-24 | 2012-11-27 | Открытое акционерное общество Акционерная холдинговая компания "Всероссийский научно-исследовательский и проектно-конструкторский институт металлургического машиностроения имени академика Целикова" (ОАО АХК "ВНИИМЕТМАШ") | Двухкамерный газостат |
| WO2014139936A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | Avure Technologies Ab | Pressing arrangement with a combined fan and ejector cooling, and method of pressing |
| CN105121145A (zh) * | 2013-03-13 | 2015-12-02 | 阿维瑞技术公司 | 具有组合的风扇和喷射器冷却的压制装置和压制的方法 |
| US9551530B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-24 | Quintus Technologies Ab | Combined fan and ejector cooling |
| CN107649686A (zh) * | 2013-03-13 | 2018-02-02 | 昆特斯技术公司 | 具有组合的风扇和喷射器冷却的压制装置和压制的方法 |
| RU2673260C2 (ru) * | 2013-03-13 | 2018-11-23 | Куинтус Текнолоджиз Аб | Устройство пресса с комбинированным вентиляторным и эжекторным охлаждением и способ прессования |
| US10458711B2 (en) | 2013-03-13 | 2019-10-29 | Quintus Technologies Ab | Combined fan and ejector cooling |
| CN107649686B (zh) * | 2013-03-13 | 2020-01-17 | 昆特斯技术公司 | 具有组合的风扇和喷射器冷却的压制装置和压制的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3349105B2 (ja) | 2002-11-20 |
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