JPH11223723A - プラズマディスプレイパネル用フィルター - Google Patents
プラズマディスプレイパネル用フィルターInfo
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- JPH11223723A JPH11223723A JP10026965A JP2696598A JPH11223723A JP H11223723 A JPH11223723 A JP H11223723A JP 10026965 A JP10026965 A JP 10026965A JP 2696598 A JP2696598 A JP 2696598A JP H11223723 A JPH11223723 A JP H11223723A
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- display panel
- plasma display
- filter
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- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱などによる反りが発生せず、近赤外線吸収
機能、電磁波遮断機能および反射防止機能に優れたプラ
ズマディスプレイパネル(PDP)用フィルター。 【解決手段】 透明樹脂基板の両側に透明樹脂層を有す
るPDP用前面フィルター。
機能、電磁波遮断機能および反射防止機能に優れたプラ
ズマディスプレイパネル(PDP)用フィルター。 【解決手段】 透明樹脂基板の両側に透明樹脂層を有す
るPDP用前面フィルター。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明樹脂層および
必要に応じて反射防止層を、透明樹脂基板の両側に設け
ることにより、熱などの影響によりそりを発生しない、
プラズマディスプレイパネル用フィルターに存する。
必要に応じて反射防止層を、透明樹脂基板の両側に設け
ることにより、熱などの影響によりそりを発生しない、
プラズマディスプレイパネル用フィルターに存する。
【0002】
【従来の技術】大型でかつ薄型のテレビとして注目され
ているプラズマディスプレイパネル(以下PDP)は、
その発色機構から、近赤外線や電磁波を放出するため、
近赤外線リモコンを使用する電気機器、コードレスホン
などに作用し誤作動を起こしたり、周囲の電気機器に対
してノイズを発生させたりする等の問題がある。また、
PDPは表面が平面であるため、外光が差込んだ場合に
広い範囲で反射した光が同時に目に入り、画面が見にく
くなる場合がある。このため、PDP前面に設置する近
赤外線吸収機能、電磁波遮断機能、反射防止機構などを
有するフィルターの要求がある。
ているプラズマディスプレイパネル(以下PDP)は、
その発色機構から、近赤外線や電磁波を放出するため、
近赤外線リモコンを使用する電気機器、コードレスホン
などに作用し誤作動を起こしたり、周囲の電気機器に対
してノイズを発生させたりする等の問題がある。また、
PDPは表面が平面であるため、外光が差込んだ場合に
広い範囲で反射した光が同時に目に入り、画面が見にく
くなる場合がある。このため、PDP前面に設置する近
赤外線吸収機能、電磁波遮断機能、反射防止機構などを
有するフィルターの要求がある。
【0003】この要求に対し、特開平9−145918
においては、外光の反射、近赤外線の放出防止、電磁波
の漏洩防止等の性能を有するPDP用のフィルター装置
を開示している。また、特開平9−9−230134に
おいては、特定の金属錯体を有する近赤外線吸収層、電
磁波カット層、反射防止層、ぎらつき防止層等を有する
PDP用フィルターを開示している。
においては、外光の反射、近赤外線の放出防止、電磁波
の漏洩防止等の性能を有するPDP用のフィルター装置
を開示している。また、特開平9−9−230134に
おいては、特定の金属錯体を有する近赤外線吸収層、電
磁波カット層、反射防止層、ぎらつき防止層等を有する
PDP用フィルターを開示している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】PDPは稼働時に70
〜80℃に発熱するため、例えば近赤外線吸収層、電磁
波シールド層等の機能層を透明樹脂板の片面に積層した
場合は、PDPからの熱による収縮率が各面で異なるた
め、そりが生じ、モアレ模様が発生したり、画面がぼや
けたりするなど、フィルターとして使用できない。しか
し、上記に挙げたような公報には、そのような点につい
ての改善策は何ら開示されていない。
〜80℃に発熱するため、例えば近赤外線吸収層、電磁
波シールド層等の機能層を透明樹脂板の片面に積層した
場合は、PDPからの熱による収縮率が各面で異なるた
め、そりが生じ、モアレ模様が発生したり、画面がぼや
けたりするなど、フィルターとして使用できない。しか
し、上記に挙げたような公報には、そのような点につい
ての改善策は何ら開示されていない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明樹脂層、
および必要に応じて反射防止層を透明樹脂基板の両側に
有する、プラズマディスプレイパネル用フィルターに存
する。
および必要に応じて反射防止層を透明樹脂基板の両側に
有する、プラズマディスプレイパネル用フィルターに存
する。
【0006】
【発明の実施の形態】(1)プラズマディスプレイパネ
ル用フィルター 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターは、
透明樹脂層を透明樹脂基板の両側に有する。また近赤外
線機能や電磁波遮断機能、反射防止機能などを有するよ
う、近赤外線吸収層、電磁波シールド層および反射防止
層なども有する。透明樹脂層だけでなく反射防止層も基
板の両側に有すると、ディスプレイパネル側の反射防止
層はディスプレイからの光の透過率を上げ、反対側(人
の目に近いほう)の反射防止層は蛍光灯などの外光の映
り込みを防ぐ効果があるため、なお良い。また近赤外線
吸収層や電磁波シールド層も、透明樹脂基板の両側に有
していると、近赤外線吸収特性や電磁波シールド特性が
更に優れるので好ましい。
ル用フィルター 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターは、
透明樹脂層を透明樹脂基板の両側に有する。また近赤外
線機能や電磁波遮断機能、反射防止機能などを有するよ
う、近赤外線吸収層、電磁波シールド層および反射防止
層なども有する。透明樹脂層だけでなく反射防止層も基
板の両側に有すると、ディスプレイパネル側の反射防止
層はディスプレイからの光の透過率を上げ、反対側(人
の目に近いほう)の反射防止層は蛍光灯などの外光の映
り込みを防ぐ効果があるため、なお良い。また近赤外線
吸収層や電磁波シールド層も、透明樹脂基板の両側に有
していると、近赤外線吸収特性や電磁波シールド特性が
更に優れるので好ましい。
【0007】これら透明樹脂基板の両側の各層の積層順
は任意でよいが、基板に対して対称に設けられている場
合がもっとも熱などにより反りが発生しない。積層は公
知の方法でよく、各層の間に接着層や更なる透明樹脂層
を介在させても良い。本発明のプラズマディスプレイパ
ネル用フィルターは、850〜1000nmの近赤外線
透過率が15%以下で、30〜100MHzの電磁波の
シールド特性が30dB以上である。
は任意でよいが、基板に対して対称に設けられている場
合がもっとも熱などにより反りが発生しない。積層は公
知の方法でよく、各層の間に接着層や更なる透明樹脂層
を介在させても良い。本発明のプラズマディスプレイパ
ネル用フィルターは、850〜1000nmの近赤外線
透過率が15%以下で、30〜100MHzの電磁波の
シールド特性が30dB以上である。
【0008】(2)透明樹脂基板 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターを構
成する透明樹脂基板としては、実質的に透明であって吸
収・散乱が大きくない樹脂であればよく、特に制限はな
いが、具体的には、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、
脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ酢酸ビニル等を使用することができる。上記
透明樹脂には、一般的に公知である添加剤、例えばフェ
ノール系、リン系などの酸化防止剤、ハロゲン系、リン
酸系などの難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑
剤、帯電防止剤等を配合することができる。
成する透明樹脂基板としては、実質的に透明であって吸
収・散乱が大きくない樹脂であればよく、特に制限はな
いが、具体的には、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、
脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ酢酸ビニル等を使用することができる。上記
透明樹脂には、一般的に公知である添加剤、例えばフェ
ノール系、リン系などの酸化防止剤、ハロゲン系、リン
酸系などの難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑
剤、帯電防止剤等を配合することができる。
【0009】また上記透明樹脂は、公知の射出成形、T
ダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機
溶剤に溶解させキャスティングする方法などを用い、フ
ィルム、またはシート(板)に成形され、本発明の透明
樹脂基板として使用される。この際、透明樹脂基板の表
面は、公知の表面処理、コロナ処理、プラズマ処理、火
炎処理、化学薬品による処理、プライマー層、光硬化樹
脂、電子線硬化樹脂等の塗布などを施しても良い。透明
樹脂基板の厚みは、目的に応じて1〜5mmの範囲が望
ましい。
ダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機
溶剤に溶解させキャスティングする方法などを用い、フ
ィルム、またはシート(板)に成形され、本発明の透明
樹脂基板として使用される。この際、透明樹脂基板の表
面は、公知の表面処理、コロナ処理、プラズマ処理、火
炎処理、化学薬品による処理、プライマー層、光硬化樹
脂、電子線硬化樹脂等の塗布などを施しても良い。透明
樹脂基板の厚みは、目的に応じて1〜5mmの範囲が望
ましい。
【0010】(3)近赤外線吸収層 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターを構
成する近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤を有機溶剤に
分散、あるいは溶解させてバインダー樹脂を添加した塗
工液、あるいは近赤外線吸収剤をハードコート剤、アン
カーコート剤、接着剤等に添加した塗工液をコーティン
グするか、透明樹脂に近赤外線吸収剤を添加したものを
フィルム状にすることにより得られる。
成する近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤を有機溶剤に
分散、あるいは溶解させてバインダー樹脂を添加した塗
工液、あるいは近赤外線吸収剤をハードコート剤、アン
カーコート剤、接着剤等に添加した塗工液をコーティン
グするか、透明樹脂に近赤外線吸収剤を添加したものを
フィルム状にすることにより得られる。
【0011】用いられる近赤外線吸収剤としては、有機
物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン
系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル
錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシア
ニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム
系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合
物、アントラキノン系化合物、またはアミノ化合物、ア
ミニウム塩系化合物、あるいは無機物であるカーボンブ
ラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、
周期表4A、5Aまたは6A族に属する金属の酸化物、
もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。こ
れらのうち少なくとも2種類を用いることが好ましい。
物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン
系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル
錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシア
ニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム
系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合
物、アントラキノン系化合物、またはアミノ化合物、ア
ミニウム塩系化合物、あるいは無機物であるカーボンブ
ラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、
周期表4A、5Aまたは6A族に属する金属の酸化物、
もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。こ
れらのうち少なくとも2種類を用いることが好ましい。
【0012】また、近赤外線吸収剤の少なくとも1種
は、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ある
いはアミニウム塩化合物のいずれかを用いることが好ま
しい。イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物とし
ては、下記骨格を有する化合物が挙げられる。
は、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ある
いはアミニウム塩化合物のいずれかを用いることが好ま
しい。イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物とし
ては、下記骨格を有する化合物が挙げられる。
【0013】
【化1】
【0014】
【化2】
【0015】アミニウム塩化合物としては、下記の式で
表される化合物である。
表される化合物である。
【0016】
【化3】
【0017】上述の各式中のXの具体例としては、6フ
ッ化アンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、フッ化ホウ
素酸イオン、6フッ化砒素酸イオン、過ヨウ素酸イオ
ン、トリフルオロ酢酸イオン、塩素イオンなどが挙げら
れる。近赤外線吸収特性、及び透明性の点より、ジイモ
ニウム系色素とフタロシアニン系色素の組み合わせが最
も好ましい。フタロシアニン系化合物としては、下記骨
格を有する化合物が挙げられる。
ッ化アンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、フッ化ホウ
素酸イオン、6フッ化砒素酸イオン、過ヨウ素酸イオ
ン、トリフルオロ酢酸イオン、塩素イオンなどが挙げら
れる。近赤外線吸収特性、及び透明性の点より、ジイモ
ニウム系色素とフタロシアニン系色素の組み合わせが最
も好ましい。フタロシアニン系化合物としては、下記骨
格を有する化合物が挙げられる。
【0018】
【化4】
【0019】該フタロシアニン系化合物は任意の置換基
を有していても良い。置換基として、例えばフッ素原
子、アルコキシ基、フェノキシ基、チオアルキル基、チ
オフェニル基、アミノアルキル基、アミノフェニル基等
が挙げられる。好ましくは、フッ素原子とアミノフェニ
ル基である。また、上記式中のMは金属又は金属化合物
を表す。Mに特に制限はないが、例えば銅、亜銅、コバ
ルト、ニッケル、鉄、バナジル、チタニル、クロロイン
ジウム、クロロアルミニウム、ジクロロ錫、コバルトカ
ルボニル、鉄カルボニル等が好ましい。
を有していても良い。置換基として、例えばフッ素原
子、アルコキシ基、フェノキシ基、チオアルキル基、チ
オフェニル基、アミノアルキル基、アミノフェニル基等
が挙げられる。好ましくは、フッ素原子とアミノフェニ
ル基である。また、上記式中のMは金属又は金属化合物
を表す。Mに特に制限はないが、例えば銅、亜銅、コバ
ルト、ニッケル、鉄、バナジル、チタニル、クロロイン
ジウム、クロロアルミニウム、ジクロロ錫、コバルトカ
ルボニル、鉄カルボニル等が好ましい。
【0020】上記近赤外線吸収剤は、ポリメチルメタク
リレート樹脂、ポリエチレンアクリレート樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹
脂、ポリエステル樹脂等のバインダー、ポリウレタンア
クリレート、エポキシアクリレートなどのアクリレート
あるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、および有
機溶剤を主成分とするハードコート剤、イソシアネート
系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエチレンイ
ミン系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート系等の
公知のアンカーコート剤、シリコン系、アクリル系など
の接着剤とともに、有機溶剤に分散あるいは溶解させて
塗工液としたものを、コーティングすることにより、近
赤外線吸収層とすることができる。近赤外線吸収剤の添
加量は、各樹脂分に対して0.1〜80重量%の濃度に
調製されることが好ましい。
リレート樹脂、ポリエチレンアクリレート樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹
脂、ポリエステル樹脂等のバインダー、ポリウレタンア
クリレート、エポキシアクリレートなどのアクリレート
あるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、および有
機溶剤を主成分とするハードコート剤、イソシアネート
系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエチレンイ
ミン系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート系等の
公知のアンカーコート剤、シリコン系、アクリル系など
の接着剤とともに、有機溶剤に分散あるいは溶解させて
塗工液としたものを、コーティングすることにより、近
赤外線吸収層とすることができる。近赤外線吸収剤の添
加量は、各樹脂分に対して0.1〜80重量%の濃度に
調製されることが好ましい。
【0021】また、上記近赤外線吸収剤は透明樹脂に添
加し、フィルム状にすることによっても、近赤外線吸収
層とすることができる。使用される透明樹脂としては、
実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない樹脂で
あれば良く、特に制限はないが、その具体的なものとし
ては、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル
酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリ
エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等をあげることができる。上記透明樹脂には、
一般的に公知である酸化防止剤、難燃剤、耐熱老化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の添加剤を配合
することができる。該近赤外線吸収剤を添加した透明樹
脂をフィルム状にする方法としては、公知の押出成形、
カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解
させキャスティングする方法が用いられる。また、近赤
外線吸収剤を有機溶剤に分散、あるいは溶解させてバイ
ンダー樹脂を添加した塗工液、あるいは近赤外線吸収剤
をハードコート剤、アンカーコート剤、接着剤等に添加
した塗工液をコーティングしたフィルムを、近赤外線吸
収層としても良い。
加し、フィルム状にすることによっても、近赤外線吸収
層とすることができる。使用される透明樹脂としては、
実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない樹脂で
あれば良く、特に制限はないが、その具体的なものとし
ては、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル
酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリ
エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等をあげることができる。上記透明樹脂には、
一般的に公知である酸化防止剤、難燃剤、耐熱老化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の添加剤を配合
することができる。該近赤外線吸収剤を添加した透明樹
脂をフィルム状にする方法としては、公知の押出成形、
カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解
させキャスティングする方法が用いられる。また、近赤
外線吸収剤を有機溶剤に分散、あるいは溶解させてバイ
ンダー樹脂を添加した塗工液、あるいは近赤外線吸収剤
をハードコート剤、アンカーコート剤、接着剤等に添加
した塗工液をコーティングしたフィルムを、近赤外線吸
収層としても良い。
【0022】(4)電磁波シールド層 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターを構
成する電磁波シールド層は、金属酸化物などを蒸着する
方法、導電性繊維等のメッシュを積層する方法により得
られる。上記金属酸化物等の導電性物質は、400〜7
00nmの可視光線領域を70%以上透過し、表面固有
抵抗値が50Ω/□以下であれば、いかなるものであっ
ても良い。好ましくは、酸化スズ、酸化インジウムスズ
(以下ITOという。)、酸化アンチモンスズ(以下A
TOという。)等の金属酸化物、あるいは金属酸化物と
金属を交互に積層させる。金属酸化物と金属の積層は、
表面固有抵抗を低くできるので、より好ましい。金属酸
化物としては、酸化スズ、ITO、ATOであり、金属
として銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、
通常金属酸化物層より始まり3乃至11層程度積層す
る。
成する電磁波シールド層は、金属酸化物などを蒸着する
方法、導電性繊維等のメッシュを積層する方法により得
られる。上記金属酸化物等の導電性物質は、400〜7
00nmの可視光線領域を70%以上透過し、表面固有
抵抗値が50Ω/□以下であれば、いかなるものであっ
ても良い。好ましくは、酸化スズ、酸化インジウムスズ
(以下ITOという。)、酸化アンチモンスズ(以下A
TOという。)等の金属酸化物、あるいは金属酸化物と
金属を交互に積層させる。金属酸化物と金属の積層は、
表面固有抵抗を低くできるので、より好ましい。金属酸
化物としては、酸化スズ、ITO、ATOであり、金属
として銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、
通常金属酸化物層より始まり3乃至11層程度積層す
る。
【0023】導電性物質を蒸着する方法は、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学
蒸着法、プラズマ化学蒸着法等の通常の方法が採用でき
る。好ましくは、真空蒸着法、スパッタリング法であ
る。蒸着する際の真空度は、真空蒸着法で実施する場合
は、1×10-4Torr以下、スパッタリング法では×
10-2Torr以下にすることが好ましい。またスパッ
タリング法で実施する場合、スパッタガスはアルゴンガ
スあるいは酸素・アルゴン混合ガスを使用する。導電物
質の蒸着の際、低抵抗化のため透明樹脂フィルムを加熱
処理することが好ましい。
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学
蒸着法、プラズマ化学蒸着法等の通常の方法が採用でき
る。好ましくは、真空蒸着法、スパッタリング法であ
る。蒸着する際の真空度は、真空蒸着法で実施する場合
は、1×10-4Torr以下、スパッタリング法では×
10-2Torr以下にすることが好ましい。またスパッ
タリング法で実施する場合、スパッタガスはアルゴンガ
スあるいは酸素・アルゴン混合ガスを使用する。導電物
質の蒸着の際、低抵抗化のため透明樹脂フィルムを加熱
処理することが好ましい。
【0024】導電性繊維等のメッシュとしては、導電性
の繊維のメッシュ織物を使用したり、合成樹脂製のメッ
シュ織物に高誘電率の金属である銅または銅ニッケルな
どを無電解メッキしたものが使用できる。また、金属酸
化物などの蒸着したフィルム、導電性繊維等のメッシュ
を積層したフィルムを、電磁波シールド層としても良
い。
の繊維のメッシュ織物を使用したり、合成樹脂製のメッ
シュ織物に高誘電率の金属である銅または銅ニッケルな
どを無電解メッキしたものが使用できる。また、金属酸
化物などの蒸着したフィルム、導電性繊維等のメッシュ
を積層したフィルムを、電磁波シールド層としても良
い。
【0025】(5)透明樹脂層 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターを構
成する透明樹脂層としては、実質的に透明であって、吸
収、散乱が大きくない樹脂であれば良く、特に制限はな
いが、その具体的なものとしては、ポリエステル樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エス
テル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等使用することが
できる。
成する透明樹脂層としては、実質的に透明であって、吸
収、散乱が大きくない樹脂であれば良く、特に制限はな
いが、その具体的なものとしては、ポリエステル樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エス
テル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等使用することが
できる。
【0026】上記透明樹脂には、一般的に公知である添
加剤、例えばフェノール系、リン系などの酸化防止剤、
ハロゲン系、リン酸系などの難燃剤、耐熱老化防止剤、
紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することがで
きる。また上記透明樹脂は、公知の射出成形、Tダイ成
形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に
溶解させキャスティングする方法などを用い、フィル
ム、またはシート(板)に成形され、本発明の透明樹脂
層として使用される。この際、透明樹脂層の表面は、公
知の表面処理、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、
化学薬品による処理、プライマー層、光硬化樹脂、電子
線硬化樹脂等の塗布などを施しても良い。透明樹脂層の
厚みは、目的に応じて100μm〜1mmの範囲が望ま
しい。また透明樹脂基板の両側の透明樹脂層の厚みが同
一であればより好ましい。この時2つの透明樹脂層は全
く同じ厚みでなくともよい。
加剤、例えばフェノール系、リン系などの酸化防止剤、
ハロゲン系、リン酸系などの難燃剤、耐熱老化防止剤、
紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することがで
きる。また上記透明樹脂は、公知の射出成形、Tダイ成
形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に
溶解させキャスティングする方法などを用い、フィル
ム、またはシート(板)に成形され、本発明の透明樹脂
層として使用される。この際、透明樹脂層の表面は、公
知の表面処理、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、
化学薬品による処理、プライマー層、光硬化樹脂、電子
線硬化樹脂等の塗布などを施しても良い。透明樹脂層の
厚みは、目的に応じて100μm〜1mmの範囲が望ま
しい。また透明樹脂基板の両側の透明樹脂層の厚みが同
一であればより好ましい。この時2つの透明樹脂層は全
く同じ厚みでなくともよい。
【0027】(6)反射防止層 本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターを構
成する反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの
透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケ
イ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物
を真空蒸着装置、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、イオンビームアシスト法等で単層または多層に
積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率
の異なる樹脂を単層または多層に積層させる方法等によ
り得られる。また、反射防止を施したフィルムを反射防
止層としても良い。また、片面の反射防止層を、シリ
カ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表
面にコーティングする、またはコーティングしたフィル
ムを積層したアンチグレア層としても良い。
成する反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの
透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケ
イ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物
を真空蒸着装置、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、イオンビームアシスト法等で単層または多層に
積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率
の異なる樹脂を単層または多層に積層させる方法等によ
り得られる。また、反射防止を施したフィルムを反射防
止層としても良い。また、片面の反射防止層を、シリ
カ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表
面にコーティングする、またはコーティングしたフィル
ムを積層したアンチグレア層としても良い。
【0028】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する
が、本発明がこれらによって限定されるものではない。 〔実施例1〕厚み100μmのポリメタアクリル酸メチ
ル(PMMA)フィルム(厚み100μm)に、トータ
ル厚み200nmのITO/銀/ITOの三層蒸着した
電磁波シールド層、日本化薬社製近赤外線吸収剤「IR
G−022」4重量部、日本触媒社製近赤外線吸収剤
「イーエクスカラー IR−3」1重量部を含有する近
赤外線吸収剤層を積層した。更にその上に粘着剤を塗布
し、このフィルムを厚み4mmのポリカーボネート(P
C)板の両面に貼合した。得られた基板の両面に、旭硝
子社製「サイトップ」をコーティングして反射防止層を
形成し、100℃、45分の熱処理を行い、PDP用フ
ィルターとした。得られたフィルターは、80℃の恒温
槽中に、200時間放置後もそり等がなく、850〜1
000nmの近赤外線透過率は8%以下で、30〜10
0MHzの電磁波のシールド性は50dB以上と、プラ
ズマディスプレイパネル用フィルターとして良好な性能
を示した。
が、本発明がこれらによって限定されるものではない。 〔実施例1〕厚み100μmのポリメタアクリル酸メチ
ル(PMMA)フィルム(厚み100μm)に、トータ
ル厚み200nmのITO/銀/ITOの三層蒸着した
電磁波シールド層、日本化薬社製近赤外線吸収剤「IR
G−022」4重量部、日本触媒社製近赤外線吸収剤
「イーエクスカラー IR−3」1重量部を含有する近
赤外線吸収剤層を積層した。更にその上に粘着剤を塗布
し、このフィルムを厚み4mmのポリカーボネート(P
C)板の両面に貼合した。得られた基板の両面に、旭硝
子社製「サイトップ」をコーティングして反射防止層を
形成し、100℃、45分の熱処理を行い、PDP用フ
ィルターとした。得られたフィルターは、80℃の恒温
槽中に、200時間放置後もそり等がなく、850〜1
000nmの近赤外線透過率は8%以下で、30〜10
0MHzの電磁波のシールド性は50dB以上と、プラ
ズマディスプレイパネル用フィルターとして良好な性能
を示した。
【0029】〔比較例1〕実施例1同様に、100μm
厚みのPMMAフィルムに電磁波シールド層、近赤外線
吸収層、粘着剤層を積層したフィルムを、同じく厚み4
mmのPC板の片面に貼り合わせた。得られた基板の両
面に実施例1と同様に反射防止層を積層し、100℃4
5分間の熱処理を行い、PDP用フィルターとした。得
られたPDP用フィルターを、80℃の恒温槽中に、2
00時間放置したところ、PMMAフィルムを貼り合わ
せた側にそりが発生した。850〜1000nmの近赤
外線透過率は15%以下で、30〜100MHzの電磁
波のシールド性は40dB以下であった。
厚みのPMMAフィルムに電磁波シールド層、近赤外線
吸収層、粘着剤層を積層したフィルムを、同じく厚み4
mmのPC板の片面に貼り合わせた。得られた基板の両
面に実施例1と同様に反射防止層を積層し、100℃4
5分間の熱処理を行い、PDP用フィルターとした。得
られたPDP用フィルターを、80℃の恒温槽中に、2
00時間放置したところ、PMMAフィルムを貼り合わ
せた側にそりが発生した。850〜1000nmの近赤
外線透過率は15%以下で、30〜100MHzの電磁
波のシールド性は40dB以下であった。
【0030】〔実施例2〕実施例1同様に、100μm
厚みのPMMAフィルムに電磁波シールド層、近赤外線
吸収層、粘着剤層を積層したフィルムを、厚み4mmの
PC板の片面に貼り合わせた。同様にPC板のもう一方
の面には、100μm厚みのPMMAフィルムに粘着剤
層を積層したフィルムを貼り合わせた。得られた基板の
両面に、実施例1と同様に反射防止層を積層し100
℃、45分間の熱処理を行って、PDP用フィルターと
した。得られたPDP用フィルターは、80℃の恒温槽
中に200時間放置後も、そりが発生しなかった。85
0〜1000nmの近赤外線透過率は15%以下で、3
0〜100MHzの電磁波のシールド性は40dB以下
であった。
厚みのPMMAフィルムに電磁波シールド層、近赤外線
吸収層、粘着剤層を積層したフィルムを、厚み4mmの
PC板の片面に貼り合わせた。同様にPC板のもう一方
の面には、100μm厚みのPMMAフィルムに粘着剤
層を積層したフィルムを貼り合わせた。得られた基板の
両面に、実施例1と同様に反射防止層を積層し100
℃、45分間の熱処理を行って、PDP用フィルターと
した。得られたPDP用フィルターは、80℃の恒温槽
中に200時間放置後も、そりが発生しなかった。85
0〜1000nmの近赤外線透過率は15%以下で、3
0〜100MHzの電磁波のシールド性は40dB以下
であった。
【0031】
【発明の効果】本発明は、透明樹脂基板の両側に、透明
樹脂層を有するためプラズマディスプレイパネルからの
熱などにより、そりの発生しない、かつ近赤外線吸収性
能、電磁波シールド性能に優れたプラズマディスプレイ
パネル用フィルターを提供する。
樹脂層を有するためプラズマディスプレイパネルからの
熱などにより、そりの発生しない、かつ近赤外線吸収性
能、電磁波シールド性能に優れたプラズマディスプレイ
パネル用フィルターを提供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/00 318 H01J 11/02 Z G12B 17/02 17/16 H01J 11/02 H05K 9/00 V 17/16 G02B 1/10 A H05K 9/00 Z
Claims (7)
- 【請求項1】 透明樹脂基板の両側に、透明樹脂層を有
するプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 【請求項2】 透明樹脂基板の両側に、透明樹脂層およ
び反射防止層を有する、請求項1記載のプラズマディス
プレイパネル用フィルター。 - 【請求項3】 透明樹脂基板の少なくとも一方の面と反
射防止層との間に、近赤外線吸収層および電磁波シール
ド層を有する請求項1または2記載のプラズマディスプ
レイパネル用フィルター。 - 【請求項4】 透明樹脂基板の両側の各層の積層順序
が、該基板に対して対称である、請求項1ないし3記載
のプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 【請求項5】 近赤外線吸収層が、ジイモニウム化合
物、イモニウム化合物およびアミニウム化合物の少なく
とも1種を含有する、請求項3または4記載のプラズマ
ディスプレイパネル用フィルター。 - 【請求項6】 近赤外線吸収層が、ジイモニウム化合物
とフタロシアニン化合物を含む、請求項3ないし5記載
のプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 【請求項7】 透明樹脂基板の両側に設けられた透明樹
脂層の厚みが同一であり、該厚みは100μm〜1mm
である、請求項1ないし6記載のプラズマディスプレイ
パネル用フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10026965A JPH11223723A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10026965A JPH11223723A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11223723A true JPH11223723A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12207877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10026965A Pending JPH11223723A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11223723A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1275986A3 (en) * | 2001-06-25 | 2005-04-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Optical film |
| KR100675824B1 (ko) * | 2003-08-19 | 2007-01-29 | 주식회사 엘지화학 | 플라즈마 디스플레이 필터용 필름 및 이를 포함하는플라즈마 디스플레이 필터 |
| WO2007046607A1 (en) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Lg Chem. Ltd. | Near infrared ray absorption film for filter of plasma display panel |
| WO2007138697A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 複合電磁波シールドフィルタ |
| WO2008129727A1 (ja) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | バックライト装置、及び表示装置 |
| JP2016117961A (ja) * | 2014-12-18 | 2016-06-30 | 積水ナノコートテクノロジー株式会社 | 新規繊維、その用途、及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP10026965A patent/JPH11223723A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1275986A3 (en) * | 2001-06-25 | 2005-04-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Optical film |
| US6960387B2 (en) | 2001-06-25 | 2005-11-01 | Asahi Glass Company, Limited | Optical film |
| US7153568B2 (en) | 2001-06-25 | 2006-12-26 | Asahi Glass Company, Limited | Optical film |
| KR100675824B1 (ko) * | 2003-08-19 | 2007-01-29 | 주식회사 엘지화학 | 플라즈마 디스플레이 필터용 필름 및 이를 포함하는플라즈마 디스플레이 필터 |
| WO2007046607A1 (en) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Lg Chem. Ltd. | Near infrared ray absorption film for filter of plasma display panel |
| WO2007138697A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 複合電磁波シールドフィルタ |
| WO2008129727A1 (ja) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | バックライト装置、及び表示装置 |
| JP2016117961A (ja) * | 2014-12-18 | 2016-06-30 | 積水ナノコートテクノロジー株式会社 | 新規繊維、その用途、及びその製造方法 |
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