JPH11228576A - アポトーシス抑制剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 過剰のアポトーシスが原因で起こる疾患、例
えばエイズ等の予防及び治療薬を提供する。 【解決手段】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ¹は置換されてもよいアリール基又は置換さ
れてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ³は低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、シクロアルキル基、低級アル
キニル基、置換されてもよいアリール基又は置換されて
もよいヘテロアリール基等を表し、Ｒ⁴は水素原子、水
酸基、ハロゲン原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ⁵は
水素原子又はハロゲン原子を表すか、あるいはＲ⁴とＲ⁵
が一緒になってオキソ基を表し、Ｒ²¹は水素原子又は低
級アルキル基を表し、環Ａはベンゼン環、ピリジン環又
はチオフェン環を表し、Ｗは窒素原子又はＣＨ基を表
す。）で示される化合物若しくはその医薬的に許容され
る塩を含有してなるアポトーシス抑制剤又は抗ウイルス
剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、トリアゼピン化合
物又はジアゼピン化合物を有効成分とするアポトーシス
抑制剤、より具体的にはＦａｓ拮抗剤及び抗ウイルス剤
に関する。本発明はまた、Ｆａｓ拮抗作用及び抗ウイル
ス作用を有する新規トリアゼピン化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】多細胞生物においては個体発生の過程に
おいて多くの細胞が細胞死により除去されている。この
細胞死は、あらかじめ決められたプログラムによって起
こっていると推測されている。また、成体においても、
一方で細胞分裂により細胞数が増えると、他方で細胞死
が起こり、全体の細胞数のバランスを保っていると考え
られている。ワイリー（Wyllie）らは、死につつある細
胞の形態を電子顕微鏡で観察し、細胞死を形態学的に二
種類、即ちネクローシスとアポトーシスに分類した〔In
t. Cytol., 68, 251-306 (1980)〕。

【０００３】ネクローシスの場合には、初期の段階で細
胞膜の透過性が増大し、核やミトコンドリアなどの細胞
内小器官が膨潤し、やがてライソゾームの破壊が起き、
放出した蛋白分解酵素などにより細胞が破壊する。一
方、アポトーシスの場合には、ミトコンドリアやライソ
ゾームの構造には大きな変化は認められず、初期の段階
で核内で染色体が凝縮し、細胞質も収縮する。同時に核
（ＤＮＡ）がいくつかの部分に断片化されたり、細胞表
面に泡のような構造が生じた後、アポトーシス小体と呼
ばれるミニ細胞に分かれることもある。外的原因によっ
て起こる、いわば受動的な死は主としてネクローシスに
よって起こるのに対し、発生や分化あるいは組織のター
ンオーバーの過程で見られるあらかじめプログラムされ
た細胞死はアポトーシスによって起こると考えられてい
る。

【０００４】アポトーシスのシグナルを細胞外から伝え
る物質に腫瘍壊死因子−α（tumornecrosis factor-
α；ＴＮＦ−α）やＦａｓリガンド（ＦａｓＬ）等の物
質が知られている〔サイエンス，２６７巻，１４４９〜
１４５６頁（１９９５年）[Science, 267(5203), 1449-
1456 (1995)]〕。ＦａｓＬやＴＮＦ−αはそれぞれ特異
的な受容体であるＦａｓ（ＡＰＯ−１、ＣＤ９５とも呼
ばれる）、ＴＮＦレセプター１（ＴＮＦ−Ｒ１、ＴＮＦ
レセプターｐ５５とも呼ばれる）、ＴＮＦレセプター２
（ＴＮＦ−Ｒ２、ＴＮＦレセプターｐ７５とも呼ばれ
る）を介してメッセージを伝える。これらの受容体はＴ
ＮＦ−Ｒスーパーファミリーと呼ばれ、いくつかの特異
的な構造的特徴を示す。ＦａｓＬ、ＴＮＦ−αは三量体
のリガンドとして分泌され、受容体に結合すると受容体
の三量体形成を促す。そしてその受容体複合体より細胞
死のシグナルが核に伝わり、細胞死を誘導する。

【０００５】ＦａｓＬとＴＮＦ−αでは細胞死を誘導す
るまでの時間が異なり、ＦａｓＬの方がＴＮＦ−αより
速やかに細胞死を誘導する。しかし、これらの細胞死誘
導機構は、インターロイキン１β変換酵素（interleuki
n-1β converting enzyme；ＩＣＥ）又はＩＣＥ様プロ
テアーゼがこれらの物質の受容体を介するアポトーシス
に共通のエフェクターではないかと考えられている。

【０００６】これまで、Ｆａｓ／ＦａｓＬを介した免疫
反応は、ウイルス感染による臓器障害や、肝炎、エイズ
等のウイルス性疾患、移植片対宿主病（ＧＶＨＤ）、自
己免疫疾患、潰瘍性大腸炎の発症等に関与していること
が指摘されている。又、多様なＴＮＦ−αの作用のう
ち、細胞障害活性、抗ウイルス活性、抗寄生虫活性、敗
血症ショック、多臓器不全など、ほとんどはｐ５５を介
しているといわれている。エイズの場合、ＣＤ４陽性Ｔ
細胞に誘導されるＦａｓ／ＦａｓＬを介した細胞死が注
目されている。ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）感染者
の末梢Ｔ細胞にＦａｓが強く発現しており、且つ抗Ｆａ
ｓ抗体に対する感受性が高いことが報告されている〔ブ
ラッド，８３巻，５６２４〜５６２８頁（１９９４年）
[Blood, 83, 5624-5628 (1994)]〕。又、ＴＮＦ−αは
ＨＩＶ感染からエイズ発症に伴い血中で増加する〔アメ
リカン ジャーナル オブ メディシン，８５巻，２８
９〜２９１頁（１９８８年）[Am. J. Med., 85, 289-29
1 (1988)]〕。さらに、ＨＩＶ感染者から分離したリン
パ球をＴＮＦ−αで刺激するとＨＩＶ産生が高まること
が示唆されている〔ランセット，１２０６〜１２０７頁
（１９８９年）[Lancet, 1206-1207 (1989)]〕。

【０００７】健常者末梢血には通常１μl当たり1000個
程のＣＤ４陽性細胞が存在するが、エイズ患者はそれが
数個にまで減少してしまい、免疫機構が破綻してしま
う。ところが、ＨＩＶ感染細胞は病態が最も進行したエ
イズ患者でも、末梢血リンパ球細胞の多くて１％程度、
通常は0.01％程度であることが明らかにされている。そ
こで、ＣＤ４陽性Ｔ細胞の死の原因として考えられてい
るのはアポトーシスである。

【０００８】アメイセン（Ameisen）とカプロン（Capro
n）はＨＩＶ感染が、ＣＤ４陽性Ｔ細胞の活性化を引き
起こし、そのことがＣＤ４陽性細胞のアポトーシスによ
る死滅を引き起こすのではないかという考えを提唱して
いる。ＨＩＶ未感染のＣＤ４陽性細胞も、感染細胞から
遊離したフリーのｇｐ１２０蛋白のＣＤ４分子への結合
により活性化され、ＨＩＶ感染なくして死ぬことが考え
られる。又、ＨＩＶ感染患者Ｔ細胞アポトーシスはＩＬ
−２を添加することによって阻止されるとの報告〔臨床
免疫，第２９巻第１号，７８頁〕もある。

【０００９】以上のことから、過剰のアポトーシスを抑
制する化合物ができるならば、このような過剰のアポト
ーシスが原因で起こる疾患、例えばエイズ等のウイルス
疾患をはじめとして、ウイルス感染による肝炎等の臓器
障害、ＧＶＨＤ、自己免疫疾患、あるいは敗血症ショッ
ク、多臓器不全等の疾患の治療に有用であると考えられ
る。

【００１０】アポトーシス抑制活性を有する化合物とし
ては、国際公開ＷＯ９７／０７８０５号明細書に、一般
式

【化１２】 （Ｒ¹は水素，アルコキシ又はハロゲン；Ｒ²はカルバモ
イル；Ｒ³、Ｒ⁴は水素，アシルオキシ，アリールチオ，
ヘテロ環チオ，スルフィニル，スルホニル又は臭素；ｍ
は１又は２を表す。）で示される化合物が記載されてお
り、国際公開ＷＯ９７／０８１７４号明細書に、一般式

【化１３】 （Ｒ¹は水素，アルコキシ又はハロゲン；Ｒ²はアルコキ
シ又はアリールオキシ；Ｒ³は水素，アシルオキシ，ア
リールチオ，ヘテロ環チオ；ｍは１又は２を表す。）で
示される化合物が記載されているが、これらの刊行物、
本発明のようなトリアゼピン化合物又はジアゼピン化合
物に関する開示はない。

【００１１】一方、トリアゼピン化合物としては、国際
公開ＷＯ９６／１６０６２号明細書（特開平８−２２５
５４６号公報）に、一般式

【化１４】 〔式中、Ｒ¹はアリール又はヘテロアリール；Ｒ²はＨ，
水酸基，ハロゲン原子又は低級アルキル；Ｒ⁴はＨ又は
ハロゲン原子，又はＲ²とＲ⁴はカルボニル基を形成し；
Ｒ³はＨ，低級アルキル，低級アルコキシ，シクロアル
キル，アリール，ヘテロアリール，−Ｘ−Ｙ ｛Ｘは−
（ＣＨ₂）_m− ，−ＣＯ− ，−ＣＯＣＨ₂− ，−Ｎ
ＨＣＨ₂− ，−ＣＨ₂ＮＨ− ，−ＯＣＨ₂− ，−
（ＣＨ₂）_nＯ− 等；Ｙはハロゲン原子，シクロアルキ
ル，アリール又はヘテロアリール｝等；Ａはベンゼン環
又はチオフェン環を表す。〕で示される化合物が骨粗鬆
症治療薬として記載されている。

【００１２】又、ある種のトリアゼピン骨格を有する化
合物に関して、抗けいれん作用、筋弛緩作用、鎮静、抗
不安作用、精神安定作用を有することが報告されている
〔米国特許明細書第４１４４２３３号、米国特許明細書
第５０９１３８１号、米国特許明細書第３８９１６６６
号、米国特許明細書第３８８０８７８号〕。

【００１３】しかしながら、これらの刊行物には本発明
のようなトリアゼピン化合物がアポトーシス抑制作用及
び抗ウイルス作用を有することは開示されていないし、
後述の一般式〔II〕及び一般式〔III〕で表される本発
明化合物は記載されていない。

【００１４】さらに、ジアゼピン化合物としては、国際
公開ＷＯ９３／０７１２９号明細書（米国特許第５５９
３９８８号明細書、ヨーロッパ特許６３８５６０号明細
書）に、一般式

【化１５】 〔式中、Arはアリール又はヘテロアリール；Ｘは酸素原
子又は硫黄原子，又はＹと結合して＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ
（Ｒ⁶）− ，＝Ｎ−Ｃ（Ｒ⁵）＝Ｃ（Ｒ⁶）− ，＝Ｃ
（Ｒ⁵）−Ｎ＝Ｃ（Ｒ⁶）− ，＝Ｎ−Ｏ−ＣＯ− 又は
＝Ｎ−Ｎ（Ｒ⁵）−ＣＯ− を形成し；環Ｑは

【化１６】 を表す。〕で示される化合物が骨粗鬆症治療薬として記
載されている。

【００１５】又、ある種のトリアゾロジアゼピン化合物
が細胞接着阻害作用（特開平７−１７９４１７号公
報）、ＰＡＦ拮抗作用（特開平５−８６０６７号公報、
特開平２−４９７８７号公報、特開平２−２５６６８１
号公報）又は冠血管拡張作用（特開昭６４−７９１８５
号公報）を有することが報告されている。

【００１６】しかしながら、これらの刊行物には本発明
のようなジアゼピン化合物がアポトーシス抑制作用及び
抗ウイルス作用を有することは開示されていないし、後
述の一般式〔II〕及び一般式〔III〕で表される本発明
化合物は記載されていない。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規なアポ
トーシス抑制薬、例えば抗ウイルス薬、特に抗ＨＩＶ薬
を提供することを目的とする。又本発明は、前記アポト
ーシス抑制薬の有効成分として有用な新規化合物を提供
することを目的とする。さらに本発明は、過剰なアポト
ーシスに起因する種々の疾患、例えば肝炎等の臓器障
害、ＧＶＨＤ、自己免疫疾患、潰瘍性大腸炎等の予防又
は治療方法、並びにウイルス、特にＨＩＶによる疾患の
予防又は治療方法を提供することを目的とする。又さら
に本発明は、トリアゼピン化合物又はジアゼピン化合物
の新規な用途を提供することを目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題に
鑑み、有用なアポトーシス抑制薬を探索すべく鋭意研究
を行った結果、下記一般式〔Ｉ〕で示されるトリアゼピ
ン化合物又はジアゼピン化合物が、顕著なアポトーシス
抑制作用を有することを見い出し、本発明を完成した。

【００１９】本発明は、下記一般式〔Ｉ〕で示される化
合物又はその医薬的に許容される塩を有効成分として含
有するアポトーシス抑制薬、例えば抗ウイルス薬、特に
抗ＨＩＶ薬に関する。本発明はまた、前記アポトーシス
抑制作用、例えば抗ウイルス作用、特に抗ＨＩＶ作用を
有する新規トリアゼピン化合物に関する。又さらに本発
明は、下記一般式〔Ｉ〕で示される化合物又はその製薬
上許容される塩を投与することからなる過剰なアポトー
シスに起因する種々の疾患の予防又は治療方法、又はウ
イルスによる疾患、特にエイズの予防又は治療方法に関
する。

【００２０】本発明における下記一般式〔Ｉ〕で示され
る化合物は、後述の試験例からも明らかな通り、優れ
た、Ｆａｓリガンド産生抑制作用、ＦａｓリガンドｍＲ
ＮＡ上昇抑制作用、ＴＮＦ−α産生抑制作用、ＩＦＮ−
γ産生抑制作用、ＨＩＶ−１増殖抑制作用、肝炎抑制作
用を有し、しかもアポトーシス阻害作用を有するＩＬ−
２産生に対してはほとんど悪影響しない。よってこれら
の化合物はアポトーシスが関与する種々の疾患、例えば
ＨＩＶ等に対する抗ウイルス剤、あるいは肝炎等の臓器
障害治療剤、ＧＶＨＤ治療剤、自己免疫疾患治療剤、潰
瘍性大腸炎治療剤等として有用である。さらに特筆すべ
きは、本発明化合物はアポトーシス抑制のみならずＨＩ
Ｖの増殖を直接抑制することである。より詳しくは、下
記（１）〜（７）に示す通りである。

【００２１】（１） Ｆａｓリガンド産生抑制作用及び
ＴＮＦ−α産生抑制作用を有する化合物を含有してなる
アポトーシス抑制剤であって、該化合物がトリアゼピン
又はジアゼピンからなる七員環と２乃至４個の窒素原子
を含む五員環との縮合環化合物であることを特徴とする
アポトーシス抑制剤。

【００２２】（２） 一般式〔Ｉ〕

【化１７】 〔式中、Ｒ¹は置換されてもよいアリール基又は置換さ
れてもよいヘテロアリール基を表し；Ｒ²は水酸基，低
級アルコキシ基，アラルキルオキシ基又は

【化１８】 ［ここで、Ｒ³は水素原子，低級アルキル基，シクロア
ルキル基，低級アルキニル基，シアノ基，アシル基，置
換されてもよいアリール基，置換されてもよいヘテロア
リール基，−ＣＲ⁶＝ＣＲ⁷Ｒ⁸ （ここで、Ｒ⁶，Ｒ⁷及
びＲ⁸は同一又は異なって水素原子，ハロゲン原子，低
級アルキル基又は置換されてもよいアリール基を表
す。），−ＣＲ⁹＝Ｎ−Ｒ¹⁰ （ここで、Ｒ⁹は水素原子
又は低級アルキル基を表し、Ｒ¹⁰は低級アルキル基、水
酸基又は低級アルコキシ基を表す。），−（ＣＨ₂）_j−
ＯＲ¹¹ （ここで、Ｒ¹¹は低級アルキル基又は置換され
てもよいアリール基を表し、ｊは０又は１乃至５の整数
を表す。），−（ＣＨ₂）_j−ＣＯ₂Ｒ¹² （ここで、Ｒ
¹²は水素原子，低級アルキル基，シクロアルキル基，置
換されてもよいアリール基，アラルキル基又は置換され
てもよいヘテロアリール基を表し、ｊは前記と同様の意
味を表す。），−ＣＯＮＲ²⁵Ｒ²⁶ ＜ここで、Ｒ²⁵，Ｒ
²⁶はそれぞれ同一又は異なって水素原子、低級アルキル
基、シクロアルキル基、アラルキル基、低級アルコキシ
基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘ
テロアリール基又はＲ²⁵とＲ²⁶が一緒になって−（ＣＨ
₂）_p−Ｚ−（ＣＨ₂）_r− ｛ここで、Ｚは酸素原子、Ｎ
−Ak （Akは前記と同様の意味を表す。）又は単結合を
表し、ｐ，ｒは同一又は異なって１乃至３の整数を表
す。）を表す。｝を表す。＞，−ＣＯＮＨＮＨＣＨＯ
，

【化１９】 （ここで、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は同一又は異なって水素原子，
低級アルキル基，低級アルコキシ基，水酸基，ハロゲン
原子，ニトロ基又はアミノ基を表し、Akは低級アルキル
基を表し、Ｒ¹²は前記と同様の意味を表す。）又は−Ｘ
−Ｙ ｛ここで、Ｘは−（ＣＨ₂）_k− ，−ＣＯ− ，
−ＣＯＣＨ₂− ，−ＮＨ−，−ＮＨＣＨ₂− ，−ＣＨ
₂ＮＨ− ，−ＣＨ₂ＮＨＣＯ− ，−ＯＣＨ₂− ，−
（ＣＨ₂）_kＯ− 又は −ＣＨ₂Ｓ− （ここで、ｋは
１乃至４の整数を表す。）を表し、Ｙはハロゲン原子，
シクロアルキル基，アミノ基，一若しくは二置換アミノ
基，置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘ
テロアリール基又は−Ｎ₂ を表す。｝を表し、Ｒ⁴は水
素原子，水酸基，ハロゲン原子又は低級アルキル基を表
し、Ｒ⁵は水素原子又はハロゲン原子を表すか、あるい
はＲ⁴とＲ⁵が一緒になってそれらが結合する炭素原子と
ともにカルボニル基を形成する。］を表すか、あるいは
ＢがＣＨ基を表すとき、

【化２０】 （ここで、Ｒ_a，Ｒ_bは同一又は異なって水素原子，低級
アルキル基，シクロアルキル基，シクロアルキルアルキ
ル基，アラルキル基，置換されてもよいアリール基，置
換されてもよいヘテロアリール基，ヘテロアリールアル
キル基又はアシル基を表し、Ｒ_c，Ｒ_c’は同一又は異な
って水素原子、低級アルキル基又はアラルキル基を表
し、Ｒ_dは低級アルキル基，低級アルケニル基，低級ア
ルキニル基，シクロアルキル基，シクロアルキルアルキ
ル基，アラルキル基，置換されてもよいアリール基，置
換されてもよいヘテロアリール基又はヘテロアリールア
ルキル基を表し、Ｕは酸素原子又は硫黄原子を表し、ａ
は０，１又は２を表し、ｍは０又は１乃至６の整数を表
す。）を表し；環Ａは

【化２１】 ｛ここで、Ｒ¹⁵，Ｒ¹⁶は同一又は異なって水素原子，ハ
ロゲン原子，低級アルキル基（該低級アルキル基はハロ
ゲン原子，水酸基，低級アルコキシ基，カルボキシ基，
シアノ基，ニトロ基，アミノ基，一若しくは二置換アミ
ノ基，低級アルコキシカルボニル基，アラルキルオキシ
カルボニル基，カルバモイル基，一若しくは二置換アミ
ノカルボニル基又はアシルオキシ基により置換されても
よい。），シクロアルキル基，アラルキル基，低級アル
キル基で置換されたアラルキル基，低級アルケニル基，
低級アルキニル基，水酸基，低級アルコキシ基，カルボ
キシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ基，一若しくは二
置換アミノ基，低級アルコキシカルボニル基，アラルキ
ルオキシカルボニル基，カルバモイル基，一若しくは二
置換アミノカルボニル基，アシル基又はアシルオキシ基
を表す。｝を表し；Ｂは窒素原子又はＣ−Ｒ¹⁷ ｛ここ
で、Ｒ¹⁷は水素原子又は−ＣＯ₂Ｒ¹⁸ （ここで、Ｒ¹⁸
は水素原子，低級アルキル基，置換されてもよいアリー
ル基又はアラルキル基を表す。）を表すか、Ｒ²と一緒
になってそれらが結合する炭素原子とともに

【化２２】 （ここで、Ｒ¹⁹は水素原子，低級アルキル基，シクロア
ルキル基，シクロアルキルアルキル基，アラルキル基，
置換されてもよいアリール基，置換されてもよいヘテロ
アリール基又はヘテロアリールアルキル基を表し、Ｒ²⁰
は水素原子，低級アルキル基又はアラルキル基を表し、
ｎは０又は１を表す。）を表す。｝を表し；Ｖは窒素原
子又はＣ−Ｒ²¹ （ここで、Ｒ²¹は水素原子又は低級ア
ルキル基を表す。）を表し；Ｗは窒素原子又はＣＨ基を
表す。〕で示される化合物又はその医薬的に許容される
塩を含有してなるアポトーシス抑制剤。

【００２３】（３） 一般式〔Ｉ〕のうち、Ｂが窒素原
子である化合物又はその医薬的に許容される塩を含有し
てなる上記（２）に記載のアポトーシス抑制剤。

【００２４】（４） 一般式〔Ｉ〕で示される化合物又
はその医薬的に許容される塩を含有してなる抗ウイルス
剤。

【００２５】（５） ウイルスがＨＩＶである上記
（４）に記載の抗ウイルス剤。

【００２６】（６） 一般式〔II〕

【化２３】 〔式中、Ｒ²¹’は水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｒ²²，Ｒ²³は同一又は異なって水素原子，低級アルキル
基又はアリール基を表すか、Ｒ²²とＲ²³が一緒になって

【化２４】 （ここで、Ｚ、ｐ、ｒはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）を表し；Ｒ²，環Ａ，Ｂ，Ｖ，Ｗはそれぞれ前記
と同様の意味を表す。〕で示される化合物又はその医薬
的に許容される塩。

【００２７】（７） 一般式〔III〕

【化２５】 〔式中、Ｒ³’は

【化２６】 ［ここで、Ｒ_eはピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾ
リル基、イソオキサゾリル基、低級アルキル基で置換さ
れてもよいトリアゾリル基、［１，３，４］オキサジア
ゾリル基、［１，２，３］チアジアゾリル基、イミダゾ
リニル基、オキサゾリニル基、２−オキソイミダゾリジ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、フタルイミド基、マレ
イミド基又は

【化２７】 （ここで、Ｒ²⁵，Ｒ²⁶はそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）を表し、Ｒ_f，Ｒ_gはそれぞれ水素原子を表すか又
はＲ_fとＲ_gが一緒になってカルボニル基を表し、Ｔは酸
素原子，硫黄原子又はＮＨ基を表す。］を表す。〕で示
される化合物又はその医薬的に許容される塩。

【００２８】本明細書において使用する各置換基の定義
は次の通りである。「アリール基」とは、炭素数６乃至
１２個のフェニル基、ナフチル基又はビフェニル基を表
し、好ましくはフェニル基である。

【００２９】「置換されてもよいアリール基」とは、上
記「アリール基」で示したものの環上に１乃至３個の置
換基を有してもよいものを表す。その置換基としてはハ
ロゲン原子、低級アルキル基、ハロアルキル基、アラル
キル基、水酸基、低級アルコキシ基、メチレンジオキシ
基、ハロアルキルオキシ基、アラルキルオキシ基、低級
アルキルチオ基、シアノ基、カルボキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、アミノ基、一
若しくは二置換アミノ基、カルバモイル基、一若しくは
二置換アミノカルボニル基、イミド基、低級アルキルス
ルホニル基、環状アミノスルホニル基、アミジノ基、ア
シルオキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基、ジアル
キルアミノメチルイミノ基（例えば−Ｎ＝ＣＨ−ＮＭｅ
₂ 等。）、ピロリル基、２−オキソオキサゾリジニル
基、ジヒドロイミダゾリル基、イミダゾリル基、２−メ
ルカプトイミダゾリル基、ピラゾリル基、ジヒドロオキ
サゾリル基、イソオキサゾリル基、トリアゾリル基、ア
ルキルトリアゾリル基、オキサジアゾリル基、テトラゾ
リル基、アルキルテトラゾリル基、ベンズイミダゾリル
基又はウレイド基等が挙げられる。又、同時に二種類以
上で置換されてもよいが、好ましくは一置換であり、置
換位置については化学的に許容されるならば特に制限さ
れるものではない。

【００３０】置換基として好ましくはハロゲン原子、低
級アルキル基、ハロアルキル基、水酸基、低級アルコキ
シ基、メチレンジオキシ基、ハロアルキルオキシ基、ア
ラルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ基、カ
ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、アミノ基、一若しくは二置換アミノ基（特に
低級アルキルで置換されたアミノ基、アシルアミノ基、
アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アシ
ルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基又はビス
低級アルキルスルホニルアミノ基。）、カルバモイル
基、一若しくは二置換アミノカルボニル基（特に低級ア
ルキルで置換されたアミノカルボニル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アルコキシアミノカルボニル基、環状アミノカル
ボニル基又はヒドラジノカルボニル基。）、イミド基、
アルキルスルホニル基、環状アミノスルホニル基、アミ
ジノ基、ジアルキルアミノアルコキシ基、−Ｎ＝ＣＨ−
ＮＭｅ₂ 、１−ピロリル基、２−オキソ−１−オキサ
ゾリジニル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル
基、４，５−ジヒドロ−２−イミダゾリル基、２−メル
カプト−１−イミダゾリル基、３−ピラゾリル基、４，
５−ジヒドロ−２−オキサゾリル基、５−イソオキサゾ
リル基、３−トリアゾリル基、５−メチル−３−トリア
ゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、テトラゾ
リル基、アルキルテトラゾリル基、２−ベンズイミダゾ
リル基又はウレイド基等である。

【００３１】置換基として特に好ましくはフッ素原子、
塩素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ基、メチレン
ジオキシ基、メチルチオ基、シアノ基、カルボキシ基、
メトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
基、ニトロ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ基、メ
チルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル
基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカル
ボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、アゼチジニ
ルカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、ヒドラジ
ノカルボニル基、メチルスルホニル基、ピロリジニルス
ルホニル基、アミジノ基、２−オキソ−１−オキサゾリ
ジニル基、２−イミダゾリル基、４，５−ジヒドロ−２
−イミダゾリル基、４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリ
ル基、３−トリアゾリル基、５−メチル−３−トリアゾ
リル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、３−エチル
−１−ウレイド基、３，３−ジメチル−１−ウレイド
基、３，３−ジエチル−１−ウレイド基、３−メチル−
３−フェニル−１−ウレイド基、ピロリジニルカルボニ
ルアミノ基又はモルホリノカルボニルアミノ基等であ
る。

【００３２】Ｒ¹における置換されてもよいアリール基
の置換基として好ましくはハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、一若しくは二置換
アミノ基（特にアルコキシカルボニルアミノ基。）又は
ウレイド基等であり、Ｒ³における置換されてもよいア
リール基の置換基として好ましくはハロゲン原子、低級
アルキル基、ハロアルキル基、水酸基、低級アルコキシ
基、メチレンジオキシ基、ハロアルキルオキシ基、アラ
ルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ基、カル
ボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ニ
トロ基、アミノ基、一若しくは二置換アミノ基（特に低
級アルキルで置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アシル
アミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基又はビス低
級アルキルスルホニルアミノ基。）、カルバモイル基、
一若しくは二置換アミノカルボニル基（特に低級アルキ
ルで置換されたアミノカルボニル基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アルコキシアミノカルボニル基、環状アミノカルボニ
ル基又はヒドラジノカルボニル基。）、イミド基、アル
キルスルホニル基、環状アミノスルホニル基、アミジノ
基、ジアルキルアミノアルコキシ基、−Ｎ＝ＣＨ−ＮＭ
ｅ₂ 、１−ピロリル基、２−オキソ−１−オキサゾリ
ジニル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、
４，５−ジヒドロ−２−イミダゾリル基、２−メルカプ
ト−１−イミダゾリル基、３−ピラゾリル基、４，５−
ジヒドロ−２−オキサゾリル基、５−イソオキサゾリル
基、３−トリアゾリル基、５−アルキル−３−トリアゾ
リル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、テトラゾリ
ル基、アルキルテトラゾリル基又は２−ベンズイミダゾ
リル基等である。

【００３３】Ｒ¹における置換されてもよいアリール基
の置換基として特に好ましくは塩素原子、臭素原子、メ
チル基、メトキシ基、カルボキシ基、メトキシカルボニ
ル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ニトロ基、ア
ミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、３−
エチル−１−ウレイド基、３，３−ジメチル−１−ウレ
イド基、３，３−ジエチル−１−ウレイド基、３−メチ
ル−３−フェニル−１−ウレイド基、ピロリジニルカル
ボニルアミノ基又はモルホリノカルボニルアミノ基等で
あり、Ｒ³における置換されてもよいアリール基の置換
基として特に好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリフルオロメチ
ル基、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、メチレンジオ
キシ基、トリフルオロメトキシ基、ベンジルオキシ基、
メチルチオ基、シアノ基、カルボキシ基、メトキシカル
ボニル基、アセチル基、ニトロ基、アミノ基、ジメチル
アミノ基、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、メト
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ
−メチルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ
基、メタンスルホニルアミノ基、ビスメタンスルホニル
アミノ基、カルバモイル基、メチルアミノカルボニル
基、プロピルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカル
ボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルア
ミノカルボニル基、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアミノカ
ルボニル基、アゼチジニルカルボニル基、ピロリジニル
カルボニル基、４−メチルピペラジニルカルボニル基、
ヒドラジノカルボニル基、スクシンイミド基、マレイン
イミド基、フタルイミド基、メチルスルホニル基、ピロ
リジニルスルホニル基、アミジノ基、２−ジメチルアミ
ノエトキシ基、−Ｎ＝ＣＨ−ＮＭｅ₂ 、１−ピロリル
基、２−オキソ−１−オキサゾリジニル基、１−イミダ
ゾリル基、２−イミダゾリル基、４，５−ジヒドロ−２
−イミダゾリル基、２−メルカプト−１−イミダゾリル
基、３−ピラゾリル基、５−イソオキサゾリル基、５−
メチル−３−トリアゾリル基、１，３，４−オキサジア
ゾリル基、テトラゾリル基、１−メチルテトラゾリル
基、２−メチルテトラゾリル基又は２−ベンズイミダゾ
リル基等である。

【００３４】「ヘテロアリール基」とは、ヘテロ原子と
して窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個
環内に含む５員乃至６員の不飽和環を表し、縮合環であ
ってもよく、一部飽和されていてもよい。例えばピリジ
ル基、ピリジン−１−オキシド基、チエニル基、チアゾ
リル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ト
リアゾリル基、インドリル基、キノリル基、フリル基、
ベンゾフリル基、１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル
基又は２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。好まし
くはピリジル基、ピリジン−１−オキシド基、チエニル
基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、インドリル基
等である。

【００３５】「ピリジン−１−オキシド基」とは、

【化２８】 を表す。

【００３６】「置換されてもよいヘテロアリール基」と
は、上記「ヘテロアリール基」で示したものの環上に１
乃至３個の置換基を有していてもよいものを表す。その
置換基としてはハロゲン原子、低級アルキル基、ハロア
ルキル基、アラルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、
メチレンジオキシ基、ハロアルキルオキシ基、アラルキ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ基、カルボキ
シ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ
基、アミノ基、一若しくは二置換アミノ基、カルバモイ
ル基、一若しくは二置換アミノカルボニル基、イミド
基、低級アルキルスルホニル基、環状アミノスルホニル
基、アミジノ基、アシルオキシ基、ジアルキルアミノア
ルコキシ基、ピロリル基、２−オキソオキサゾリジニル
基、ジヒドロイミダゾリル基、イミダゾリル基、２−メ
ルカプトイミダゾリル基、ピラゾリル基、ジヒドロオキ
サゾリル基、イソオキサゾリル基、トリアゾリル基、オ
キサジアゾリル基、テトラゾリル基、アルキルテトラゾ
リル基、ベンズイミダゾリル基又はウレイド基等が挙げ
られる。又、同時に二種類以上で置換されてもよいが、
好ましくは一置換であり、置換位置については化学的に
許容されるならば特に制限されるものではない。

【００３７】置換基として好ましくは、ハロゲン原子、
低級アルキル基、ハロアルキル基、水酸基、低級アルコ
キシ基、アラルキルオキシ基、ハロアルキルオキシ基、
シアノ基、ニトロ基、アミノ基、一若しくは二置換アミ
ノ基及びアシルオキシ基等である。

【００３８】ヘテロアリール基がピリジル基又はチエニ
ル基の場合、置換基として特に好ましくはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、水酸基、メトキシ基、シアノ基、
ニトロ基又はアミノ基等であり、ヘテロアリール基がイ
ソオキサゾリル基又はチアゾリル基の場合、置換基とし
て特に好ましくは塩素原子若しくはメチル基等である。

【００３９】「ハロゲン原子」とは、塩素、臭素、フッ
素又はヨウ素であり、好ましくは塩素又は臭素である。

【００４０】「低級アルキル基」とは、炭素数１乃至６
個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、
ｔｅｒｔ−ペンチル基又はヘキシル基等であり、好まし
くは炭素数１乃至４個のメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基又はｔｅ
ｒｔ−ブチル基等である。

【００４１】「ハロアルキル基」とは、前記「低級アル
キル基」で示したものが、前記「ハロゲン原子」で示し
たもので置換されたものを表し、例えばフルオロメチル
基、クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメ
チル基、トリクロロメチル基、トリフルオロエチル基、
トリクロロエチル基、ペンタフルオロプロピル基又はク
ロロブチル基等であり、好ましくはフルオロメチル基、
クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル
基又はトリクロロメチル基等である。

【００４２】「シクロアルキル基」とは、炭素数３乃至
１０個の環状アルキル部分を有するアルキル基を表し、
例えばシクロプロピル基、２，３−ジメチルシクロプロ
ピル基、シクロブチル基、３−メチルシクロブチル基、
シクロペンチル基、３，４−ジメチルシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル
基、アダマンチル基、ビシクロ［３．３．０］オクタン
−１−イル基又はビシクロ［３．３．１］ノナン−９−
イル基等である。好ましくはシクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基等で
ある。

【００４３】「シクロアルキルアルキル基」とは、前記
「低級アルキル基」で示したものが、前記「シクロアル
キル基」で示したもので置換されたものを表し、例えば
シクロプロピルメチル基、２，３−ジメチルシクロプロ
ピルメチル基、シクロブチルメチル基、３−メチルシク
ロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、３，４−
ジメチルシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチ
ル基、４−メチルシクロヘキシルメチル基、シクロヘプ
チルメチル基、シクロオクチルメチル基、２−シクロヘ
キシルエチル基、３−シクロヘキシルプロピル基、ノル
ボルニルメチル基、１−アダマンチルメチル基、ビシク
ロ［３．３．０］オクタン−１−イルメチル基、ビシク
ロ［３．３．１］ノナン−９−イルメチル基等である。

【００４４】「アラルキル基」とは、アリール部が前記
「アリール基」で示したものであり、アルキル部が前記
「低級アルキル基」で示したものからなるアリールアル
キル基を表し、例えばベンジル基、フェネチル基、フェ
ニルプロピル基、フェニルブチル基又はフェニルヘキシ
ル基等が挙げられ、アリール基上にはハロゲン原子、低
級アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、ハロアルキ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アシルオキシ基
等から選ばれる１乃至３個の置換基を有してもよい。
又、同時に二種類以上で置換されてもよいが、好ましく
は一置換であり、置換位置については化学的に許容され
るならば特に制限されるものではない。

【００４５】好ましくはフェニル基又は置換基としてハ
ロゲン原子，低級アルキル基，ハロアルキル基，水酸
基，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基若しくはア
ミノ基等を有するフェニル基及びアルキル部が炭素数１
乃至４個のアルキル基を有するアラルキル基である。

【００４６】「低級アルキル基で置換されたアラルキル
基」とは、上記「アラルキル基」で示したものが上記
「低級アルキル基」で示したもので置換されたものを表
し、例えば４−メチルベンジル基、４−エチルベンジル
基、４−プロピルベンジル基、４−イソプロピルベンジ
ル基、４−メチルフェニルエチル基、４−エチルフェニ
ルエチル基又は４−プロピルフェニルエチル基等であ
り、好ましくは４−メチルベンジル基、４−エチルベン
ジル基又は４−イソプロピルベンジル基等である。

【００４７】「ヘテロアリールアルキル基」とは、前記
「低級アルキル基」で示したものが、前記「ヘテロアリ
ール基」で置換されたものを表し、該ヘテロアリール基
はハロゲン原子，低級アルキル基，トリフルオロメチル
基，水酸基，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基及
びアミノ基から選ばれる１乃至３個の置換基を有してい
てもよく、環を構成するヘテロ原子が窒素，酸素あるい
は硫黄等であるものである。又、アルキル部の炭素数が
１乃至４個、好ましくは１乃至２個である。例えばピリ
ジルメチル基（２−ピリジルメチル基，３−ピリジルメ
チル基又は４−ピリジルメチル基）、キノリルメチル基
（２−キノリルメチル基又は３−キノリルメチル基
等）、インドリルメチル基（２−インドリルメチル基又
は３−インドリルメチル基等）、チエニルメチル基（２
−チエニルメチル基又は３−チエニルメチル基）、フリ
ルメチル基（２−フリルメチル基又は３−フリルメチル
基）、ベンゾフリルメチル基（２−ベンゾフリルメチル
基又は３−ベンゾフリルメチル基等）、１Ｈ−ベンゾイ
ミダゾール−２−イルメチル基、２−ベンゾチアゾリル
メチル基、２−（２−チエニル）エチル基、２−（２−
フリル）エチル基等である。

【００４８】「低級アルケニル基」とは、炭素数２乃至
６個のアルケニル基を表し、例えばエテニル基、１−プ
ロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブ
テニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ペンテ
ニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、２−メ
チル−１−ブテニル基、３−メチル−１−ブテニル基、
１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル
基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、２−メチル
−１−ペンテニル基、３−メチル−１−ペンテニル基、
４−メチル−１−ペンテニル基、２，３−ジメチル−１
−ブテニル基又は３，３−ジメチル−１−ブテニル基等
であり、好ましくは炭素数２乃至４個のエテニル基、１
−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３
−ブテニル基又は２−メチル−１−プロペニル基等であ
る。

【００４９】「低級アルキニル基」とは、炭素数２乃至
６個のアルキニル基を表し、例えばエチニル基、１−プ
ロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−
ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−
ペンチニル基、３−ペンチニル基、３−メチル−１−ブ
チニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−
ヘキシニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、
３−メチル−１−ペンチニル基、４−メチル−１−ペン
チニル基又は３，３−ジメチル−１−ブチニル基等であ
り、好ましくは炭素数２乃至４個のエチニル基、１−プ
ロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−
ブチニル基又は３−ブチニル基等である。

【００５０】「低級アルコキシ基」とは、炭素数１乃至
６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を表し、例えばメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキ
シ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基又はヘキシルオキシ
基等であり、好ましくは炭素数１乃至４個のメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基又はｔｅｒｔ−ブトキシ基等である。

【００５１】「アラルキルオキシ基」とは、アリール部
が前記「アリール基」で示したものであり、アルコキシ
部が前記「低級アルコキシ基」で示したものからなるア
リールアルコキシ基を表し、例えばベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基、フェニルプロポキシ基、フェニル
ブトキシ基又はフェニルヘキシルオキシ基等が挙げら
れ、アリール基上にはハロゲン原子、低級アルキル基、
水酸基、低級アルコキシ基、ハロアルキル基、シアノ
基、ニトロ基、アミノ基、アシルオキシ基等から選ばれ
る１乃至３個の置換基を有してもよい。又、同時に二種
類以上で置換されてもよいが、好ましくは一置換であ
り、置換位置については化学的に許容されるならば特に
制限されるものではない。

【００５２】「低級アルキルチオ基」とは、炭素数１乃
至６個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基を表し、例えば
メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプ
ロピルチオ基、ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ
基、ペンチルチオ基、ｔｅｒｔ−ペンチルチオ基又はヘ
キシルチオ基等であり、好ましくは炭素数１乃至４個の
メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオシ基、イソ
プロピルチオ基、ブチルチオ基又はｔｅｒｔ−ブチルチ
オ基等である。特に好ましくはメチルチオ基、エチルチ
オ基、プロピルチオ基又はブチルチオ基等である。

【００５３】「低級アルコキシカルボニル基」とは、低
級アルコキシ部が前記「低級アルコキシ基」で示したも
のを表し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカル
ボニル基又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等であ
る。好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基又はプロポキシカルボニル基等である。

【００５４】「アラルキルオキシカルボニル基」とは、
アラルキル部が前記「アラルキル基」で示したものを表
し、ベンジルオキシカルボニル基、２−フェニルエトキ
シカルボニル基又は３−フェニルプロポキシカルボニル
基等であり、置換基としてハロゲン原子、ニトロ基、ア
ルキル基、アルコキシ基又はトリフルオロメチル基等を
有してもよい。

【００５５】「アシル基」とは、ホルミル基；アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基若しくはピバロイル基
等の炭素数２乃至６個のアルカノイル基；又は、アリー
ル基に一乃至三個の置換基を有してもよいベンゾイル
基、４−クロロベンゾイル基、４−メチルベンゾイル若
しくは４−メトキシベンゾイル基等のアロイル基であ
る。好ましくはホルミル基、アセチル基、ピバロイル基
又はベンゾイル基等である。

【００５６】「低級アルキルスルホニル基」とは、前記
「低級アルキル基」で示したもので置換されたスルホニ
ル基を表し、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホ
ニル基又はプロピルスルホニル基等である。

【００５７】「一若しくは二置換アミノ基」とは、低級
アルキルで置換されたアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコ
キシアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニ
ルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基、低級
アルキルスルホニルアミノ基、ビス低級アルキルスルホ
ニルアミノ基又は環状アミノ基等である

【００５８】「低級アルキル基で置換されたアミノ基」
とは、前記「低級アルキル基」で示したもので一又は二
置換されたアミノ基を表し、例えばメチルアミノ基、エ
チルアミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基又はジプロピルアミノ基等である。好
ましくはメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基又はジエチルアミノ基等である。

【００５９】「アルコキシカルボニルアミノ基」とは、
前記「アルコキシ基」で示したもので置換されたアミノ
基を表し、例えばメトキシカルボニルアミノ基，エトキ
シカルボニルアミノ基、プロピルオキシカルボニルアミ
ノ基、イソプロピルオキシカルボニルアミノ基又はｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等である。

【００６０】「アシルアミノ基」とは、前記「アシル
基」で示したもので置換されたアミノ基を表し、ホルミ
ルアミノ基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
若しくはピバロイルアミノ基等の炭素数２乃至６個のア
ルカノイルアミノ基；又はアリール基上に一乃至三個の
置換基を有してもよいベンゾイルアミノ基、４−クロロ
ベンゾイルアミノ基若しくは４−メチルベンゾイルアミ
ノ基等のアロイルアミノ基である。好ましくはホルミル
アミノ基、アセチルアミノ基又はベンゾイルアミノ基等
である。

【００６１】「Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシアミノ
基」とは、前記「低級アルキル基」で示したもの及び前
記「低級アルコキシ基」で示したもので置換されたアミ
ノ基を表し、例えばＮ−メトキシ−Ｎ−メチルアミノ
基、Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシアミノ基、Ｎ−エトキシ
−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エトキシ−Ｎ−エチルアミ
ノ基等である。

【００６２】「Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニ
ルアミノ基」とは、前記「低級アルキル基」で示したも
の及び前記「低級アルコキシカルボニル基」で示したも
ので置換されたアミノ基を表し、例えばＮ−メトキシカ
ルボニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メト
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ
−メチルアミノ基、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−エチ
ルアミノ基等である。

【００６３】「Ｎ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基」と
は、前記「低級アルキル基」で示したもの及び前記「低
級アシル基」で示したもので置換されたアミノ基を表
し、例えばＮ−ホルミル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ホ
ルミル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチ
ルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−
アセチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ基等である。

【００６４】「低級アルキルスルホニルアミノ基」と
は、前記「低級アルキルスルホニル基」で示したもので
置換されたアミノ基を表し、例えばメチルスルホニルア
ミノ基、エチルスルホニルアミノ基又はプロピルスルホ
ニルアミノ基等である。

【００６５】「ビス低級アルキルスルホニルアミノ基」
とは、前記「低級アルキルスルホニル基」で示したもの
で二置換されたアミノ基を表し、例えばビス（メチルス
ルホニル）アミノ基又はビス（エチルスルホニル）アミ
ノ基等である。

【００６６】「環状アミノ基」とは、アゼチジニル基、
ピロリジニル基、ピペリジノ基、さらにヘテロ原子とし
て酸素、硫黄、窒素原子を有するモルホリノ基、チオモ
ルホリノ基又はピペラジニル基等が挙げられ、ピペラジ
ニル基の４位窒素原子には低級アルキル基又はアラルキ
ル基等が置換してもよい。

【００６７】「一若しくは二置換アミノカルボニル基」
とは、低級アルキルで置換されたアミノカルボニル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシアミノカルボニル基、環
状アミノカルボニル基又はヒドラジノカルボニル基等で
ある

【００６８】「低級アルキル基で置換されたアミノカル
ボニル基」とは、前記「低級アルキル基」で示したもの
で一又は二置換されたアミノカルボニル基を表し、例え
ばメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル
基、プロピルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカル
ボニル基、ジエチルアミノカルボニル基又はジプロピル
アミノカルボニル基等である。好ましくはメチルアミノ
カルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジメチルア
ミノカルボニル基又はジエチルアミノカルボニル基等で
ある。

【００６９】「Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシアミノカ
ルボニル基」とは、前記「低級アルキル基」で示したも
の及び前記「低級アルコキシ基」で示したもので置換さ
れたアミノカルボニル基を表し、例えばＮ−メトキシ−
Ｎ−メチルアミノカルボニル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メト
キシアミノカルボニル基、Ｎ−エトキシ−Ｎ−エチルア
ミノカルボニル基、Ｎ−エトキシ−Ｎ−エチルアミノカ
ルボニル基等である。

【００７０】「環状アミノカルボニル基」とは、環状ア
ミノ部が前記「環状アミノ基」で示したものを表し、例
えばアゼチジニルカルボニル基、ピロリジニルカルボニ
ル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル
基、チオモルホリノカルボニル基、ピペラジニルカルボ
ニル基又は４−メチル−１−ピペラジニルカルボニル基
等である。好ましくはピロリジニルカルボニル基、ピペ
リジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基又はピペ
ラジニルカルボニル基である。

【００７１】「環状アミノスルホニル基」とは、前記
「環状アミノ基」で示したもので置換されたスルホニル
基を表し、例えばアゼチジニルスルホニル基、ピロリジ
ニルスルホニル基又はピペリジノスルホニル基等であ
る。

【００７２】「イミド基」とは、スクシンイミド基、マ
レインイミド基又はフタルイミド基等を表す。

【００７３】「アシルオキシ基」とは、ホルミルオキシ
基；アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリ
ルオキシ基若しくはピバロイルオキシ基等の炭素数２乃
至６個のアルカノイルオキシ基；又は、アリール基に一
乃至三個の置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、
４−クロロベンゾイルオキシ基、４−メチルベンゾイル
オキシ基若しくは４−メトキシベンゾイルオキシ基等の
アロイルオキシ基である。好ましくはアセチルオキシ
基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオキシ基又はベ
ンゾイルオキシ基等である。

【００７４】「アルキルテトラゾリル基」とは、１−メ
チル−１Ｈ−テトラゾリル基又は２−メチル−２Ｈ−テ
トラゾリル基等である。

【００７５】「ジアルキルアミノアルコキシ基」とは、
前記「低級アルキル基」で示したもので二置換されたア
ミノ基が、前記「低級アルコキシ基」に置換したものを
表し、例えば、ジメチルアミノメトキシ基、ジエチルア
ミノメトキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチル
アミノエトキシ基等である。

【００７６】「ウレイド基」とは、

【化２９】 （Ｒ²¹’，Ｒ²²，Ｒ²³はそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）を表す。

【００７７】「医薬的に許容される塩」とは、塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩又は硝酸塩等の無機酸
付加塩；酢酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、グリコ
ール酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、酒石酸
塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンス
ルホン酸塩又はアスコルビン酸塩等の有機酸付加塩；ア
スパラギン酸塩又はグルタミン酸塩等のアミノ酸付加
塩；ナトリウム、カリウム、カルシウム又はマグネシウ
ム等の無機塩基塩；メチルアミン、ジメチルアミン、エ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリ
エタノールアミン、トリスヒドロキシメチルアミノメタ
ン、ジシクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、キニ
ーネ、グアニジン等の有機塩基塩；アスパラギン、グル
タミン、アルギニン、ヒスチジン又はリジン等のアミノ
酸の塩基塩が含まれるが、これらに限定されるものでは
ない。又、場合によっては含水物あるいは水和物であっ
てもよい。

【００７８】

【発明の実施の形態】本発明化合物は、国際公開ＷＯ９
６／１６０６２号明細書（特開平８−２２５５４６号公
報）及び国際公開ＷＯ９３／０７１２９号明細書（米国
特許第５５９３９８８号明細書、ヨーロッパ特許６３８
５６０号明細書）に記載の方法により製造できるが、よ
り詳しく述べると、以下の通りである。又、各製造工程
においては必要に応じて官能基に保護基を導入、脱保護
を行って製造を行えばよい。

【００７９】製造方法１ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｂが窒素原子であり、ＶがＣ−Ｒ²¹ （Ｒ²¹
は前記と同様の意味を表す。）であり、Ｗが窒素原子で
ある化合物を製造するのに適する。

【００８０】

【化３０】

【００８１】第１工程 公知の又は特開昭５３−１２１７９１号公報、特開昭６
４−８５９７８号公報、特開平２−２５６６８１号公
報、米国特許第４１４４２３３号明細書、シンセシス，
６７７頁（１９８０年）[Synthesis, 677 (1980)]及び
その引用文献、ジャーナル オブ オーガノメタリック
ケミストリー，２１５巻，１３９〜１５０頁（１９８
１年）[J. Organomet. Chem., 215, 139-150 (1981)]、
ヘテロサイクルズ，３１巻，１２４１頁（１９９０年）
[Heterocycles, 31, 1241 (1990)]、ジャーナル オブ
オーガニック ケミストリー，５６巻，３７５０頁
（１９９１年）[J. Org. Chem., 56, 3750 (1991)]等に
記載の方法によって得られる一般式（iii）（Ｒ¹、環Ａ
はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で示される化合
物をジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、トル
エン、水等の溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で、チオ
ホスゲン、チオカルボニルジイミダゾール、ジ−２−ピ
リジルチオカーボネート、ジエチルチオカルバミルクロ
リド又は二硫化炭素と反応させることにより、一般式
（iv）（Ｒ¹、環Ａはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）で示される化合物が得られる。この反応には、上
記の他にも一般的に用いられるイソチオシアネート合成
法を用いることもできる。

【００８２】第２工程 第１工程で得られる一般式（iv）で示される化合物をジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、アセトン、酢酸エチル、水等の溶媒あるいはこれら
の混合溶媒中で、一般式（ｖ）（Ｒ²は前記と同様の意
味を表す。）で示されるヒドラジン化合物又はその塩と
氷冷下乃至加熱下、好ましくは氷冷下乃至室温で反応さ
せることにより一般式（vi）（Ｒ¹、Ｒ²、環Ａはそれぞ
れ前記と同様の意味を表す。）で示される化合物が得ら
れる。ヒドラジン化合物の塩を用いる場合は、トリエチ
ルアミン若しくはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン
等の有機塩基又は炭酸水素ナトリウム等の無機塩基を加
えることが望ましい。

【００８３】第３工程 第２工程で得られる一般式（vi）で示される化合物をメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベ
ンゼン、トルエン等の溶媒あるいはこれらの混合溶媒中
で、塩酸、硫酸若しくは臭化水素酸等の無機酸又はｐ−
トルエンスルホン酸若しくはトリフルオロ酢酸等の有機
酸の存在下で加熱することにより、一般式（vii）
（Ｒ¹、Ｒ²、環Ａはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）で示される化合物又はその塩が得られる。

【００８４】第４工程 第３工程で得られる一般式（vii）で示される化合物を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等
の溶媒に溶解又は懸濁し、水素化ナトリウム等の塩基と
反応させ、次いで一般式（viii）（Akは低級アルキル基
を表し、Halはハロゲン原子を表す。）で示されるハロ
ゲン化アルキルと反応させることにより、一般式（ix）
（Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）で示される化合物が得られる。あるいは、一般式
（vii）で示される化合物をアセトン、メチルエチルケ
トン、トルエン、メタノール、エタノール、水等あるい
はこれらの混合溶媒中、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の塩基存在
下で一般式（viii）で示される化合物と反応させてもよ
い。

【００８５】第５工程 第４工程で得られる一般式（ix）で示される化合物を、
エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ
−ブタノール、トルエン等の溶媒に溶解又は懸濁し、一
般式（ｘ）（Ｒ²¹は前記と同様の意味を表す。）で示さ
れるアシルヒドラジン化合物を加えて、加熱、好ましく
は９０℃〜１１０℃又はそれ以上の温度で反応させるこ
とにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｂが
窒素原子で、ＶがＣ−Ｒ²¹ である化合物〔Ｉ−２〕で
示される化合物（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ²¹、環Ａはそれぞれ前記
と同様の意味を表す。）が得られる。この場合、塩酸、
酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸又はトリフルオロ酢酸等
の酸を加えることが好ましい。またこれらの酸を一般式
（ix）で示される化合物に対し、一当量以上加えると一
般式〔Ｉ−２〕で示される化合物の塩を直接得ることが
できる。

【００８６】製造方法２ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｂが窒素原子である化合物を製造する場合に
適する。

【化３１】

【００８７】第６工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ²が４−メト
キシベンジル基であり、Ｂが窒素原子である化合物〔Ｉ
−３〕（Ｒ¹、環Ａ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意
味を表す。）をクロロホルム、１，４−ジオキサン、酢
酸、トリフルオロ酢酸等の溶媒あるいはこれらの混合溶
媒中で、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸又は臭化水素酸
等の強酸存在下で反応させることにより、一般式（xi）
（Ｒ¹、環Ａ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）で示される化合物が得られる。場合によっては用
いる酸それ自体を溶媒としてもよい。又、この反応にお
いてフェノール、アニソール又はチオアニソール等のベ
ンジルカチオン捕捉剤を加えることが好ましい場合があ
る。この工程において酸に不安定な保護基の除去を同時
に実施することもできる。例えば、カルボン酸ｔｅｒｔ
−ブチルエステル化合物（Ｒ¹がｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニルフェニル基である化合物）をカルボン酸化合物
（Ｒ¹がカルボキシフェニル基である化合物）に変換す
ることができる。更にこの場合アルコールを加えること
によって、得られたカルボン酸化合物を、反応に用いた
アルコールとのエステルに変換することができる。

【００８８】第７工程 第６工程で得られる一般式（xi）で示される化合物を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン、水等の溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で、水
素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリ
エチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、リチウム
ビス（トリメチルシリル）アミド、リチウム ジイソ
プロピルアミド又はナトリウムアミド等の塩基存在下、
氷冷下乃至加熱下、好ましくは氷冷下乃至室温で一般式
（xii）（Ｒ²、Halはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）で示されるハロゲノ化合物と反応させることによ
り、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｂが窒素原
子である化合物〔Ｉ−４〕（Ｒ¹、Ｒ²、環Ａ、Ｖ、Ｗは
それぞれ前記と同様の意味を表す。）で示される化合物
が得られる。この反応において、反応させる一般式（xi
i）で示される化合物の反応性及び安定性により、用い
る塩基を適宜選択し、且つ場合によってはこれら塩基を
適宜組み合わせて用いてもよい。

【００８９】製造方法３ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ¹がアリール基又はヘテロアリール基であ
って、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基と
してカルボキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
ミノ基又はニトロ基を有する化合物を製造するのに適す
る。

【化３２】

【００９０】第８工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ¹におけるア
リール基又はヘテロアリール基に、置換基としてアルコ
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−
メトキシベンジルオキシカルボニル基又は３，４−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル基を有する化合物〔Ｉ
−５〕（Ｒ²⁴’は低級アルキル基、ベンジル基、４−メ
トキシベンジル基又は３，４−ジメトキシベンジル基を
表し、環Ｃはアリール基又はヘテロアリール基を表し、
Ｒ²、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、はそれぞれ前記と同様の意味
を表す。）をメタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン、水等あるいはこれらの混合溶媒中で、水素
化ナトリウム若しくは水酸化カリウム等の塩基を用いて
反応を行う（Ｒ²⁴’が低級アルキル基の場合。）。又は
塩酸、硫酸、臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸若し
くはメタンスルホン酸等の酸を用いて反応を行う
（Ｒ²⁴’が低級アルキル基、４−メトキシベンジル基又
は３，４−ジメトキシベンジル基の場合。）。あるいは
パラジウム炭素、パラジウム黒又は水酸化パラジウム炭
素等の触媒存在下、水素による接触還元反応を行う（Ｒ
²⁴’がベンジル基，４−メトキシベンジル基又は３，４
−ジメトキシベンジル基の場合。）ことにより、一般式
〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ¹におけるアリール
基又はヘテロアリール基に、置換基としてカルボキシ基
を有する化合物〔Ｉ−６〕（Ｒ²、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、
Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られ
る。場合によっては試薬として用いる酸それ自体を溶媒
としてもよい。

【００９１】第９工程 第８工程で得られる一般式〔Ｉ−６〕で示される化合物
をベンゼン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン
等あるいはこれらの混合溶媒中、ジフェニルリン酸アジ
ド存在下で、一般式（xiii）（Ｒ²⁴は低級アルキル基、
ベンジル基、４−メトキシベンジル基又は３，４−ジメ
トキシベンジル基を表す。）で示されるアルコールと反
応を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物の
うち、Ｒ¹におけるアリール基又はヘテロアリール基
に、置換基としてアルコキシカルボニルアミノ基、ベン
ジルオキシカルボニルアミノ基又は４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニルアミノ基を有する化合物〔Ｉ−７〕
（Ｒ²、Ｒ²⁴、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記
と同様の意味を表す。）が得られる。この反応において
はトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリン、水酸化ナトリウム又は水
酸化カリウム等の塩基を加えることが好ましい場合があ
る。又、場合によっては用いるアルコールそれ自体を溶
媒としてもよい。

【００９２】第１０工程 第９工程で得られる一般式〔Ｉ−７〕で示される化合物
のうち、Ｒ²⁴が低級アルキル基、４−メトキシベンジル
基又は３，４−ジメトキシベンジル基である化合物をメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等
の溶媒中で、塩化水素、臭化水素、トリフルオロ酢酸又
はメタンスルホン酸等の酸存在下で反応を行うか、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノ
ール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、水等
あるいはこれらの混合溶媒中で、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の塩基存在
下で反応を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化
合物のうち、Ｒ¹におけるアリール基又はヘテロアリー
ル基に、置換基としてアミノ基を有する化合物〔Ｉ−
８〕（Ｒ²、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と
同様の意味を表す。）又はその塩が得られる。又、一般
式〔Ｉ−７〕で示される化合物のうち、Ｒ²⁴がベンジル
基、４−メトキシベンジル基又は３，４−ジメトキシベ
ンジル基である化合物をメタノール、エタノール、ｎ−
プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン
又は１，４−ジオキサン等あるいはこれらの混合溶媒中
で、パラジウム炭素、パラジウム黒又は水酸化パラジウ
ム炭素等の触媒存在下、水素による接触還元を行うこと
により、一般式〔Ｉ−８〕で示される化合物が得られ
る。

【００９３】第１１工程 第１０工程で得られる一般式〔Ｉ−８〕で示される化合
物をジクロロメタン、アセトン、酢酸、トリフルオロ酢
酸、水等あるいはこれらの混合溶媒中で過ホウ酸ナトリ
ウム若しくはその水和物、過酸化水素、ｍ−クロロ過安
息香酸又はモノ過硫酸化合物(monopersulfate compoun
d; potassium peroxymonosulfate)等の酸化剤を用いて
反応を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物
のうち、Ｒ¹におけるアリール基又はヘテロアリール基
に、置換基としてニトロ基を有する化合物〔Ｉ−９〕
（Ｒ²、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様
の意味を表す。）が得られる。

【００９４】製造方法４ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、一般式〔II〕で示される化合物を製造するの
に適する。

【化３３】

【００９５】第１２工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけるア
リール基又はヘテロアリール基に、置換基としてアミノ
基を有する化合物〔Ｉ−８〕（Ｒ²、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、
Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）又は
その塩を、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、
クロロホルム又はピリジン等の溶媒中、トリエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン又
は４−ジメチルアミノピリジン等の塩基存在下、一般式
（xiv）（Ｒ²²、Ｒ²³、Halはそれぞれ前記と同様の意味
を表す。）で表される化合物と、室温乃至加熱下で反応
させることにより、一般式〔II〕で示される化合物のう
ち、Ｒ²¹’が水素原子である化合物〔II−２〕が得られ
る。又は、上記溶媒中で一般式（xv）（Ｒ²²、Ｒ²³、は
それぞれ前記と同様の意味を表す。）で表される化合物
と反応させることによっても、一般式〔II−２〕で示さ
れる化合物が得られる。この時、一般式〔Ｉ−８〕で示
される化合物の塩を用いる場合は、上記塩基を加えるこ
とが好ましい。次いでジメチルホルムアミド又はテトラ
ヒドロフラン等の溶媒中、水素化ナトリウム、水酸化ナ
トリウム又は水酸化カリウム等の塩基存在下、Ak−Hal
（Ak、Halはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で
表される化合物と反応させることにより、一般式〔II〕
で示される化合物のうち、Ｒ²¹’が低級アルキル基であ
る化合物〔II−３〕（Ｒ²、Ｒ²²、Ｒ²³、環Ａ、Ｂ、環
Ｃ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）
が得られる。

【００９６】製造方法５ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化３４】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてカルボキシ基、カルバモイル基又は低級アルキル
基で一若しくは二置換されたアミノカルボニル基を有す
る化合物を製造するのに適する。

【化３５】

【００９７】第１３工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけるア
リール基又はヘテロアリール基に、置換基としてアルコ
キシカルボニル基を有する化合物〔Ｉ−１０〕（Ｒ¹、
Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記
と同様の意味を表す。）を、第８工程と同様の方法を行
うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、
Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール基に、置換
基としてカルボキシ基を有する化合物〔Ｉ−１１〕（Ｒ
¹，Ｒ⁴，Ｒ⁵，環Ａ，Ｂ，環Ｃ，Ｖ，Ｗはそれぞれ前記
と同様の意味を表す。）が得られる。

【００９８】第１４工程 第１３工程で得られる一般式〔Ｉ−１１〕で示される化
合物をジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシ
ド等の溶媒中でトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の塩基存在
下、クロロ炭酸エチル又はクロロ炭酸イソブチル等と反
応させ、混合酸無水物を得る。又は上記溶媒中、塩化チ
オニル又は塩化オキザリル等のハロゲン化剤と反応さ
せ、酸ハロゲン化物を得る。この場合、触媒量のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミドを加えることが好ましい場合が
ある。得られる混合酸無水物又は酸ハロゲン化物等のカ
ルボン酸誘導体は、単離精製してもしなくてもよい。次
いで上記溶媒中、上記塩基存在下で一般式（xvi）｛Ｒ
²⁵、Ｒ²⁶は同一又は異なって水素原子、低級アルキル
基、シクロアルキル基、アラルキル基、低級アルコキシ
基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘ
テロアリール基又はＲ²⁵とＲ²⁶が一緒になって

【化３６】 （Ｚ、ｐ、ｒはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）を
表す。｝で示されるアミン化合物と反応させることによ
って、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³にお
けるアリール基又はヘテロアリール基に、置換基として
カルバモイル基又は低級アルキル基で一若しくは二置換
されたアミノカルボニル基を有する化合物〔Ｉ−１２〕
（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、
Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【００９９】あるいは、一般式〔Ｉ−１１〕で示される
化合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン
等の溶媒中、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣ
Ｃ）、ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３
−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸
塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）又はジフェニルホスホリルアジド
等の縮合剤存在下で、一般式（xvi）で表される化合物
と反応させることによっても、一般式〔Ｉ−１２〕で示
される化合物が得られる。この場合、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール又は４−ジメチルアミノピリジン等の
反応補助剤を加えることが好ましい場合がある。又、
「ペプチド合成の基礎と実験」，泉屋信夫著，丸善
（株），（１９８５年）に記載の方法等、公知のアミド
結合形成反応を用いることができる。

【０１００】製造方法６ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で表される化合
物のうち、Ｒ²が

【化３７】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はへテロアリール基に置換基と
してアシル基、３−ピラゾリル基又は５−イソオキサゾ
リル基を有する化合物を製造するのに適する。

【化３８】

【０１０１】第１５工程 第１４工程で得られる一般式〔Ｉ−１２〕で示される化
合物のうち、Ｒ²⁵が低級アルコキシ基、Ｒ²⁶が低級アル
キル基である化合物〔Ｉ−１３〕（Ak’、Ak”はそれぞ
れ同一又は異なって低級アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の
意味を表す。）をジエチルエーテル又はテトラヒドロフ
ラン等の溶媒中、一般式（xvii）（Ak、Halはぞれぞれ
前記と同様の意味を表す。）で示されるグリニヤール試
薬と反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化
合物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリー
ル基に、置換基としてアシル基を有する化合物〔Ｉ−１
４〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞ
れ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１０２】第１６工程 第１５工程で得られる一般式〔Ｉ−１４〕で示される化
合物のうち、Akがメチル基である化合物〔Ｉ−１５〕
（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ
前記と同様の意味を表す。）をＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドジメチルアセタール中で加熱下、好ましくは１０
０℃乃至１３０℃で反応を行う。次いでメタノール、エ
タノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、テト
ラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等の溶媒中、ヒ
ドラジン又はその塩若しくはその水和物と加熱下で反応
を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール基に、
置換基として３−ピラゾリル基を有する化合物〔Ｉ−１
６〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前
記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１０３】第１７工程 一般式〔Ｉ−１５〕で示される化合物を第１６工程と同
様の方法で、ヒドラジン又はその塩若しくはその水和物
の代わりにヒドロキシルアミン又はその塩を用いて反応
を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール基に、
置換基として５−イソオキサゾリル基を有する化合物
〔Ｉ−１７〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、
Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１０４】製造方法７ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化３９】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてヒドラジノカルボニル基又は１，３，４−オキサ
ジアゾリル基を有する化合物を製造するのに適する。

【化４０】

【０１０５】第１８工程 一般式〔Ｉ−１０〕で示される化合物をメタノール、エ
タノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等
の溶媒中、ヒドラジン又はその水和物と反応させること
により、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³に
おけるアリール基又はヘテロアリール基に、置換基とし
てヒドラジノカルボニル基を有する化合物〔Ｉ−１８〕
（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ
前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１０６】第１９工程 第１８工程で得られる一般式〔Ｉ−１８〕で示される化
合物をベンゼン、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド又はジメチルスルホキシド等の溶媒中、オルソギ酸
トリエチル又はオルソ酢酸トリエチル等のオルソエステ
ルと反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化
合物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリー
ル基に、置換基として１，３，４−オキサジアゾリル基
又は５−アルキル−１，３，４−オキサジアゾリル基を
有する化合物〔Ｉ−１９〕（Ｒ²⁷は水素原子又は低級ア
ルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、
Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られ
る。

【０１０７】製造方法８ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化４１】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてベンズイミダゾリル基を有する化合物を製造する
のに適する。

【化４２】

【０１０８】第２０工程 一般式〔Ｉ−１０〕で示される化合物をベンゼン又はト
ルエン等の溶媒中、トリメチルアルミニウムの存在下、
ｏ−フェニレンジアミンを反応させることにより、一般
式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけるアリー
ル基又はヘテロアリール基に、置換基としてベンズイミ
ダゾリル基を有する化合物〔Ｉ−２０〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ
⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意
味を表す。）が得られる。

【０１０９】製造方法９ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化４３】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてアルコキシカルボニルアミノ基又はＮ−アルキル
−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基を有する化合物を
製造するのに適する。

【化４４】

【０１１０】第２１工程 第１３工程で得られる一般式〔Ｉ−１１〕で示される化
合物を、第９工程と同様の方法で、一般式（xviii）（A
kは前記と同様の意味を表す。）で表されるアルコール
と反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール
基に、置換基としてアルコキシカルボニルアミノ基を有
する化合物〔Ｉ−２１〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、
環Ｃ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１１１】第２２工程 第２１工程で得られる一般式〔Ｉ−２１〕で示される化
合物を、第４工程と同様の方法で一般式（xix）（A
k’、Halはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表さ
れる化合物と反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示
される化合物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテ
ロアリール基に、置換基としてＮ−アルキル−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基を有する化合物〔Ｉ−２２〕
（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Ak、Ak’はそれ
ぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１１２】製造方法１０ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化４５】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
として３−トリアゾリル基を有する化合物を製造するの
に適する。

【化４６】

【０１１３】第２３工程 第１４工程で得られる一般式〔Ｉ−１２〕で示される化
合物のうち、Ｒ²⁵，Ｒ²⁶が共に水素原子である化合物
〔Ｉ−２３〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、
Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）をＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド ジメチルアセタール又はＮ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド ジメチルアセタール中で反応を
行う。この反応で得られる化合物は単離精製しなくても
よい。次いで酢酸中でヒドラジンと、好ましくは加熱下
で反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール
基に、置換基として３−トリアゾリル基又は５−アルキ
ル−３−トリアゾリル基を有する化合物〔Ｉ−２４〕
（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ²⁷、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそ
れぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１１４】製造方法１１ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化４７】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてアミジノ基を有する化合物を製造するのに適す
る。

【化４８】

【０１１５】第２４工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけるア
リール基又はヘテロアリール基に、置換基としてシアノ
基を有する化合物〔Ｉ−２５〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）をテトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等
の溶媒中、一般式（xviii）で示されるアルコール及び
塩化水素又は臭化水素等の酸存在下で反応を行う。場合
によっては、用いるアルコールそれ自体を溶媒としても
よい。得られるアルコキシイミノ化合物は単離精製しな
くてもよい。次いで、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロパノール又はイソプロパノール等の溶媒中、アンモニ
アを反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化
合物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリー
ル基に、置換基としてアミジノ基を有する化合物〔Ｉ−
２６〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそ
れぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１１６】製造方法１２ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化４９】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてジヒドロ−２−イミダゾリル基又は２−イミダゾ
リル基を有する化合物を製造するのに適する。

【化５０】

【０１１７】第２５工程 一般式〔Ｉ−２５〕で示される化合物をメタノール、エ
タノール、ｎ−プロパノール又はイソプロパノール等の
アルコール及びテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルムあるいはこれらの混合溶媒中、塩化水素又は臭化
水素等の酸存在下で反応を行う。得られるアルコキシイ
ミノ化合物は単離精製しなくてもよい。次いでメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール又はイソプロパノー
ル等の溶媒中でエチレンジアミンと反応させることによ
り、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけ
るアリール基又はヘテロアリール基に、置換基としてジ
ヒドロ−２−イミダゾリル基を有する化合物〔Ｉ−２
７〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれ
ぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１１８】第２６工程 第２５工程で得られる一般式〔Ｉ−２７〕で示される化
合物をテトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等の
溶媒中、過マンガン酸カリウム、三酸化クロム又は二ク
ロム酸カリウム等の酸化剤及び酢酸ナトリウム又は酢酸
カリウム等の塩基存在下で、好ましくは加熱下で酸化反
応を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物の
うちＲ³におけるアリール基又はヘテロアリール基に、
置換基として２−イミダゾリル基を有する化合物〔Ｉ−
２８〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそ
れぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１１９】製造方法１３ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化５１】である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロア
リール基であって、該アリール基又はヘテロアリール基
に、置換基としてテトラゾリル基又はアルキルテトラゾ
リル基を有する化合物を製造するのに適する。

【化５２】

【０１２０】第２７工程 一般式〔Ｉ−２５〕で示される化合物をテトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタ
ン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロパノール又はｎ−ブタノール等の溶
媒中、塩化アンモニウム、塩酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸若しくはメタンスルホン酸等の酸又は塩化アルミニウ
ムの存在下で、アジ化ナトリウム又はトリメチルシリル
アジド等のアジド化剤と反応させることにより、一般式
〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけるアリール
基又はヘテロアリール基に、置換基としてテトラゾリル
基を有する化合物〔Ｉ−２９〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１２１】第２８工程 第２７工程で得られる一般式〔Ｉ−２９〕で示される化
合物をメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソプロパノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン等あるいはこれらの混合溶媒
中、ジアゾメタン等のジアゾアルカンと反応させること
により、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³に
おけるアリール基又はヘテロアリール基に、置換基とし
てアルキルテトラゾリル基を有する化合物〔Ｉ−３０〕
（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗ、Akはそれ
ぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。この時、
アルキル基の置換位置の異なるものの混合物が得られる
場合があるが、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、
薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー
又は結晶化等の公知の分離手段を用いて分離することが
できる。

【０１２２】製造方法１４ ここで述べる製造方法は、Ｒ²が

【化５３】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてジアルキルアミノアルコキシ基を有する化合物を
製造するのに適する。

【化５４】

【０１２３】第２９工程 一般式〔Ｉ〕で表される化合物のうち、Ｒ³におけるア
リール基又はヘテロアリール基に、置換基として水酸基
を有する化合物〔Ｉ−３１〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、
Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）をテ
トラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等の溶媒中、
トリフェニルホスフィン及びジイソプロピルアゾジカル
ボキシレートの存在下で一般式（xx）（ｓは１乃至６の
整数を表し、Ak、Ak’はそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）で表されるジアルキルアミノアルコールと反応さ
せることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール基に、
置換基としてジアルキルアミノアルコキシ基を有する化
合物〔Ｉ−３２〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、
Ｖ、Ｗ、Ak、Ak’、ｓはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１２４】製造方法１５ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化５５】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
として−Ｎ＝ＣＨ−ＮＭｅ₂ を有する化合物を製造す
るのに適する。

【化５６】

【０１２５】第３０工程 一般式〔Ｉ〕で表される化合物のうち、Ｒ³におけるア
リール基又はヘテロアリール基に、置換基としてアミノ
基を有する化合物〔Ｉ−３３〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）をテトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等
の溶媒中、塩化チオニル存在下でＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドと反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示さ
れる化合物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はへテロ
アリール基に、置換基として−Ｎ＝ＣＨ−ＮＭｅ₂ を
有する化合物〔Ｉ−３４〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、
Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１２６】製造方法１６ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化５７】 である時に、Ｒ³がアリール基又はへテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
として２−オキソ−３−オキサゾリジニル基を有する化
合物を製造するのに適する。

【化５８】

【０１２７】第３１工程 一般式〔Ｉ−３３〕で示される化合物をジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド又はジメチルスルホキシド等の溶媒中、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等
の塩基存在下で、クロロギ酸２−クロロエチルを反応さ
せる。得られるカルバメート化合物は、単離精製しなく
てもよい。次いでテトラヒドロフラン又はＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等の溶媒中で水素化ナトリウム等の塩
基を用いて反応を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示さ
れる化合物のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロ
アリール基に、置換基として２−オキソ−３−オキサゾ
リジニル基を有する化合物〔Ｉ−３５〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ
⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意
味を表す。）が得られる。この場合、ヨウ化カリウム等
の反応補助剤を加えることが好ましい場合がある。

【０１２８】製造方法１７ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化５９】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてイミド基を有する化合物を製造するのに適する。

【化６０】

【０１２９】第３２工程 一般式〔Ｉ−３３〕で示される化合物をジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド又はピリジン等の溶
媒中、一般式（xxi）（Ｒ²⁸、Ｒ²⁹はそれぞれ水素原子
を表すか、それらが結合する炭素原子と一緒になってベ
ンゼン環を表し、

【化６１】 は単結合又は二重結合を表す。）で表される酸無水物を
反応させる。得られるアシル化合物は単離精製しなくて
もよい。次いで無水酢酸を溶媒兼試薬として用い、酢酸
ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭
酸水素カリウム等の塩基存在下で、加熱下、好ましくは
９０℃乃至１２０℃でさらに反応させることにより、一
般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³におけるアリ
ール基又はへテロアリール基に、置換基としてイミド基
を有する化合物〔Ｉ−３６〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ²⁸、
Ｒ²⁹、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗ、

【化６２】 はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１３０】製造方法１８ ここで述べる製造方法は、Ｒ²が

【化６３】 である時に、Ｒ³がアリール基又はへテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
として１−ピロリル基を有する化合物を製造するのに適
する。

【化６４】

【０１３１】第３３工程 一般式〔Ｉ−３３〕で示される化合物を酢酸、プロピオ
ン酸等の溶媒中、室温乃至加熱下、好ましくは９０℃乃
至１１０℃で２，５−ジメトキシテトラヒドロフランを
反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物
のうち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール基
に、置換基として１−ピロリル基を有する化合物〔Ｉ−
３７〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそ
れぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１３２】製造方法１９ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化６５】 である時に、Ｒ³がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
として２−メルカプト−１−イミダゾリル基又は１−イ
ミダゾリル基を有する化合物を製造するのに適する。

【化６６】

【０１３３】第３４工程 一般式〔Ｉ−３３〕で示される化合物をＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等の溶媒中、
１，１’−チオカルボニルジイミダゾール及びアミノア
セトアルデヒドジメチルアセタールと反応させることに
より、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³にお
けるアリール基又はヘテロアリール基に、置換基として
２−メルカプト−１−イミダゾリル基を有する化合物
〔Ｉ−３８〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、
Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１３４】第３５工程 第３４工程で得られる一般式〔Ｉ−３８〕で示される化
合物をメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソプロパノール、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオ
キサン等の溶媒中、ラネーニッケルを用いた還元反応を
行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、Ｒ³におけるアリール基又はヘテロアリール基に、
置換基として１−イミダゾリル基を有する化合物〔Ｉ−
３９〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそ
れぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１３５】製造方法２０ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化６７】 である時に、Ｒ³がピリジン−１−オキシド基である化
合物を製造するのに適する。

【化６８】

【０１３６】第３６工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうちＲ³がピリジル基
である化合物〔Ｉ−４０〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、
Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で示
される化合物をジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、１，４−ジオ
キサン、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン等あるいはこれらの
混合溶媒中で、ｍ−クロロ安息香酸若しくは過酢酸等の
過酸又は過酸化水素を用いて酸化反応を行うことによ
り、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうちＲ³がピリジ
ン−１−オキシド基である化合物〔Ｉ−４１〕（Ｒ¹、
Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意
味を表す。）で示される化合物が得られる。

【０１３７】製造方法２１ ここで示す製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合物
のうち、Ｒ²が

【化６９】 である時に、Ｒ³がホルミル基又は−ＣＨ＝Ｎ−Ｒ¹⁰
（Ｒ¹⁰は前記と同様の意味を表す。）である化合物を得
るのに適する。

【化７０】

【０１３８】第３７工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³がジメトキ
シメチル基である化合物〔Ｉ−４２〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を
表す。）をジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒド
ロフラン、アセトン、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロパノール、イソプロパノール、水等あるいはこれらの
混合溶媒中、塩酸、臭化水素酸、硫酸、トリフルオロ酢
酸又はメタンスルホン酸等の酸存在下で反応を行うこと
により、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³が
ホルミル基である化合物〔Ｉ−４３〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を
表す。）が得られる。場合によっては、用いる酸それ自
体を溶媒としてもよい。

【０１３９】第３８工程 第３７工程で得られる一般式〔Ｉ−４３〕で示される化
合物をピリジン等の溶媒中、一般式（xxii）（Ｒ¹⁰は前
記と同様の意味を表す。）で示されるアミン化合物と反
応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物の
うち、Ｒ³が−ＣＨ＝Ｎ−Ｒ¹⁰ である化合物〔Ｉ−４
４〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁰、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれ
ぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１４０】製造方法２２ ここで示す製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合物
のうち、Ｒ²が

【化７１】 である時に、Ｒ³が

【化７２】 （Ｒ²⁵、Ｒ²⁶はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）、
アシル基又は

【化７３】 （Ｒ¹⁰、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）であ
る化合物を得るのに適する。

【化７４】

【０１４１】第３９工程 一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³がカルボキ
シ基である化合物〔Ｉ−４５〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）
を、一般式（xvi）で示されるアミン化合物と第１４工
程と同様の方法により反応させることによって、一般式
〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³が

【化７５】 である化合物〔Ｉ−４６〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ²⁵、Ｒ
²⁶、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１４２】第４０工程 第３９工程で得られる一般式〔Ｉ−４６〕で示される化
合物のうち、Ｒ²⁵が低級アルコキシ基、Ｒ²⁶が低級アル
キル基である化合物〔Ｉ−４７〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Ak’、Ak”はそれぞれ前記と同様の意
味を表す。）を第１５工程と同様の方法を行うことによ
り、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³がアシ
ル基である化合物〔Ｉ−４８〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１４３】第４１工程 第４０工程で得られる一般式〔Ｉ−４８〕で示される化
合物をピリジン等の溶媒中、一般式（xxii）で表される
アミン化合物と反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で
示される化合物のうち、Ｒ³が

【化７６】 である化合物〔Ｉ−４９〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁰、環
Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１４４】製造方法２３ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化７７】 である時に、Ｒ³がホルミルヒドラジノ基又は１，３，
４−オキサジアゾリル基である化合物を製造するのに適
する。

【化７８】

【０１４５】第４２工程 一般式〔Ｉ−４５〕で示される化合物をジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、ベンゼン
又はトルエン等の溶媒中、ギ酸ヒドラジドと反応させる
ことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ
³がホルミルヒドラジノカルボニル基である化合物〔Ｉ
−５０〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞ
れ前記と同様の意味を表す。）が得られる。又は第１４
工程と同様の方法によっても、一般式〔Ｉ−５０〕で表
される化合物が得られる。

【０１４６】第４３工程 第４２工程で得られる一般式〔Ｉ−５０〕で示される化
合物をジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム又はアセトニトリル等の溶媒中、オキシ塩化リ
ンを用い、好ましくは加熱下で反応させることにより、
一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³が１，３，
４−オキサジアゾリル基である化合物〔Ｉ−５１〕（Ｒ
¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様
の意味を表す。）が得られる。この場合、試薬として用
いるオキシ塩化リンそれ自体を溶媒としてもよい。

【０１４７】製造方法２４ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化７９】 である時に、Ｒ³が２−ヒドロキシエチルアミノカルボ
ニル基又は４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリル基であ
る化合物を製造するのに適する。

【化８０】

【０１４８】第４４工程 一般式〔Ｉ−４５〕で示される化合物を、第１４工程で
示した方法と同様にして、２−アミノエタノールと反応
させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、Ｒ³が２−ヒドロキシエチルアミノカルボニル基で
ある化合物〔Ｉ−５２〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、
Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られ
る。

【０１４９】第４５工程 第４４工程で得られる一般式〔Ｉ−５２〕で示される化
合物をジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン又はＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド等の溶媒中、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ
イソプロピルエチルアミン、ピリジン又は４−ジメチル
アミノピリジン等の塩基存在下で、塩化メタンスルホニ
ル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化トリフルオロメ
タンスルホニル又は無水トリフルオロメタンスルホン酸
等のスルホニル化剤又は塩化チオニル等のハロゲン化剤
と、冷却下乃至室温で反応させる。次いでこれを加熱
下、好ましくは４０℃乃至１００℃で反応させることに
より、一般式〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³が
４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリル基である化合物
〔Ｉ−５３〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそ
れぞれ前記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１５０】製造方法２５ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化８１】 である時に、Ｒ³がカルバモイルメチルアミノカルボニ
ル基又は４，５−ジヒドロ−４−オキソイミダゾリル基
である化合物を製造するのに適する。

【化８２】

【０１５１】第４６工程 一般式〔Ｉ−４５〕で示される化合物を、第１４工程で
示した方法と同様の方法で、グリシンアミド又はその塩
と反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ³がカルバモイルメチルアミノカルボニル
基である化合物〔Ｉ−５４〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、
Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得
られる。

【０１５２】第４７工程 第４６工程で得られる一般式〔Ｉ−５４〕で示される化
合物をピリジン等の溶媒中、オキシ塩化リンを用いて、
好ましくは加熱下で反応を行うことにより、一般式
〔Ｉ〕で表される化合物のうち、Ｒ³が４，５−ジヒド
ロ−４−オキソイミダゾリル基である化合物〔Ｉ−５
５〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前
記と同様の意味を表す。）が得られる。

【０１５３】製造方法２６ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ²が

【化８３】 である時に、Ｒ³がジアゾメチルカルボニル基、ハロゲ
ノメチルカルボニル基、２−アミノ−４−チアゾリル基
又は２−アシルアミノ−４−チアゾリル基である化合物
を製造するのに適する。

【化８４】

【０１５４】第４８工程 一般式〔Ｉ−４５〕で示される化合物をテトラヒドロフ
ラン等の溶媒中、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン等の塩基存在下、−１０℃乃至室
温でクロロギ酸イソブチルと反応させる。次いで０℃乃
至室温でジアゾメタンと反応させることにより、一般式
〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ³がジアゾメチルカ
ルボニル基である化合物〔Ｉ−５６〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を
表す。）が得られる。

【０１５５】第４９工程 第４８工程で得られる一般式〔Ｉ−５６〕で示される化
合物をジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン
等の溶媒中、塩化水素又は臭化水素等のハロゲン化水素
を０℃乃至室温で反応させることにより、一般式〔Ｉ〕
で示される化合物のうち、Ｒ³がハロゲノメチルカルボ
ニル基である化合物〔Ｉ−５７〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環
Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Halはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１５６】第５０工程 第４９工程で得られる一般式〔Ｉ−５７〕で示される化
合物をメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソプロパノール、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオ
キサン等の溶媒中、チオウレアと加熱下、好ましくは加
熱還流下で反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で表さ
れる化合物のうち、Ｒ³が２−アミノ−４−チアゾリル
基である化合物〔Ｉ−５８〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、環Ａ、
Ｂ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を表す。）が得
られる。

【０１５７】第５１工程 第５０工程で得られる一般式〔Ｉ−５８〕で示される化
合物をジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はピリジン等の溶媒
中、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン又はピリジン等の塩基存在下で、一般式（xxii
i）（Hal’はハロゲン原子を表し、Akは前記と同様の意
味を表す。）で表されるハロゲン化アシル又は一般式
（xxiv）（Akは前記と同様の意味を表す。）で表される
酸無水物を反応させることにより、一般式〔Ｉ〕で示さ
れる化合物のうち、Ｒ³が２−アシルアミノ−４−チア
ゾリル基である化合物〔Ｉ−５９〕（Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、
環Ａ、Ｂ、Ｖ、Ｗ、Akはそれぞれ前記と同様の意味を表
す。）が得られる。

【０１５８】製造方法２７ ここで述べる製造方法は、一般式〔Ｉ〕で示される化合
物のうち、Ｒ¹がアリール基又はヘテロアリール基であ
って、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基と
してメチルアミノ基を有する化合物、及び一般式〔II〕
で示される化合物のうちＲ²¹’がメチル基である化合物
を製造するのに適する。

【化８５】

【０１５９】第５２工程 第９工程で得られる一般式〔Ｉ−７〕で示される化合物
を、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等の溶
媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を用いて
還元反応を行うことにより、一般式〔Ｉ〕で示される化
合物のうち、Ｒ¹がアリール基又はヘテロアリール基で
あって、該アリール基又はヘテロアリール基に、置換基
としてメチルアミノ基を有する化合物〔Ｉ−６０〕（Ｒ
²、環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意
味を表す。）が得られる。

【０１６０】第５３工程 第５２工程で得られる一般式〔Ｉ−６０〕で示される化
合物を、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジ
クロロメタン、１，２−ジクロロエタン又はクロロホル
ム等の溶媒中、ホスゲン、クロロ炭酸トリクロロメチル
又はトリホスゲン等のホスゲン等価体と反応させる。次
いで一般式（xxv）（Ｒ²²、Ｒ²³はそれぞれ前記と同様
の意味を表す。）で表されるアミン化合物と反応させる
ことによって、一般式〔II−４〕（Ｒ²、Ｒ²²、Ｒ²³、
環Ａ、Ｂ、環Ｃ、Ｖ、Ｗはそれぞれ前記と同様の意味を
表す。）で示される化合物が得られる。

【０１６１】かくして得られる一般式〔Ｉ〕で示される
本発明化合物はＦａｓリガンド産生抑制作用、Ｆａｓリ
ガンドｍＲＮＡ上昇抑制作用、ＴＮＦ−α産生抑制作
用、ＩＦＮ−γ産生抑制作用、アポトーシス抑制作用、
ＨＩＶ増殖抑制作用、肝炎抑制作用を有する。本発明化
合物をアポトーシス抑制剤、抗ＨＩＶ剤等の抗ウイルス
剤、肝炎治療剤、ＧＶＨＤ治療剤、自己免疫疾患治療剤
として用いる場合、通常全身的、あるいは局所的に、経
口又は非経口で投与される。

【０１６２】投与量は年齢、体重、症状、治療効果、投
与方法、処理時間等により異なるが、通常成人一人当た
り０．０１ｍｇ乃至１ｇの範囲で、一日一回から数回経
口あるいは非経口投与される。

【０１６３】本発明化合物を経口投与のための固体組成
物にする場合、錠剤、丸剤、散剤、顆粒剤等の剤形が可
能である。このような固体組成物においては、一つ又は
それ以上の活性物質が、少なくとも一つの不活性な希釈
剤、分散剤又は吸着剤等、例えば乳糖、マンニトール、
ブドウ等、ヒドロキシプロピルセルロース、微晶性セル
ロース、澱粉、ポリビニルヒドリン、メタケイ酸アルミ
ン酸マグネシウム又は無水ケイ酸末等と混合される。
又、組成物は常法に従って、希釈剤以外の添加剤を混合
させてもよい。

【０１６４】錠剤又は丸剤に調製する場合は、必要によ
り白糖、ゼラチン、ヒドロキシプロピルセルロース又は
ヒドロキシメチルセルロースフタレート等の胃溶性ある
いは腸溶性物質のフィルムで皮膜してもよいし、２以上
の層で皮膜してもよい。さらに、ゼラチン又はエチルセ
ルロースのような物質のカプセルにしてもよい。

【０１６５】経口投与のための液体組成物にする場合
は、薬剤的に許容される乳濁剤、溶解剤、懸濁剤、シロ
ップ剤又はエリキシル剤等の剤形が可能である。用いる
希釈剤としては、例えば精製水、エタノール、植物油又
は乳化剤等がある。又、この組成物は希釈剤以外に浸潤
剤、懸濁剤、甘味剤、風味剤、芳香剤又は防腐剤等のよ
うな補助剤を混合させてもよい。

【０１６６】非経口のための注射剤に調製する場合は、
無菌の水性若しくは非水性の溶液剤、可溶化剤、懸濁剤
または乳化剤を用いる。水性の溶液剤、可溶化剤、懸濁
剤としては、例えば注射用蒸留水、生理食塩水シクロデ
キストリン及びその誘導体、トリエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、モノエタノールアミン、トリエチル
アミン等の有機アミン類あるいは無機アルカリ溶液等が
ある。

【０１６７】水溶性の溶液剤にする場合、例えばプロピ
レングリコール、ポリエチレングリコールあるいはオリ
ーブ油のような植物油、エタノールのようなアルコール
類等を用いてもよい。又、可溶化剤として、例えばポリ
オキシエチレン硬化ヒマシ油、蔗糖脂肪酸エステル等の
界面活性剤（混合ミセル形成）、又はレシチンあるいは
水添レシチン（リポソーム形成）等も用いられる。又、
植物油等非水溶性の溶解剤と、レシチン、ポリオキシエ
チレン硬化ヒマシ油又はポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレングリコール等からなるエマルジョン製剤にす
ることもできる。

【０１６８】非経口投与のためのその他の組成物として
は、一つ又はそれ以上の活性物質を含み、それ自体公知
の方法により処方される外用液剤、軟膏のような塗布
剤、座剤又はペッサリー等にしてもよい。

【０１６９】

【実施例】本発明に係る一般式［Ｉ］で示される化合物
及びその製造方法を、以下の参考例、実施例によって具
体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではないことは勿論である。

【０１７０】参考例１（第１工程） ２−（４−ブロモベンゾイル）フェニルイソチオシアネ
ート

【化８６】 米国特許第４１４４２３３号明細書に記載の方法に従っ
て、チオホスゲン(1.67ml)及び２−アミノフェニル ４
−ブロモフェニル ケトン(5.52g)より、表記化合物(5.
2g)を淡黄色固体として得た。 FAB(+) MS(低分解能) 319

【０１７１】参考例２〜４（第１工程） 参考例１と同様にして、参考例２〜参考例４の化合物を
得た。これらを表１に示す。

【表１】

【０１７２】参考例５（第２工程） Ｎ−［２−（４−ブロモベンゾイル）フェニル］−１−
（４−メトキシベンジル）ヒドラジンカルボチオアミド

【化８７】 ４−メトキシベンジルヒドラジン塩酸塩(4.15g)をメタ
ノール(50ml)に溶解させ、氷冷した後トリエチルアミン
(3.38ml)を５分間で滴下した。この反応混合物に、参考
例１で得られた２−（４−ブロモベンゾイル）フェニル
イソチオシアネート(5.2g)のテトラヒドロフラン(100m
l)溶液を氷冷して加え、氷冷下で１５分、室温で４０分
間撹拌させた。反応終了後、減圧濃縮して得られた残渣
を酢酸エチル(200ml)に溶解させ、水で二回洗浄した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、乾燥剤を濾別
後、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をジエチルエーテ
ルより結晶化することにより、表記化合物(5.1g)を淡黄
色結晶として得た。 融点 173.0〜174.5℃

【０１７３】参考例６〜８（第２工程） 参考例５と同様にして、参考例６〜参考例８の化合物を
得た。これらを表２に示す。

【表２】

【０１７４】参考例９（第３工程） ５−（４−ブロモフェニル）−３−（４−メトキシベン
ジル）−１，３−ジヒドロベンゾ［ｅ］［１，２，４］
トリアゼピン−２−チオン

【化８８】 参考例５で得られたＮ−［２−（４−ブロモベンゾイ
ル）フェニル］−１−（４−メトキシベンジル）ヒドラ
ジンカルボチオアミド(5.0g)をエタノール(50ml)に懸濁
させ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物(190mg)を加え
て、１時間加熱還流させた。反応終了後、減圧濃縮して
得られた残渣をクロロホルム(50ml)に溶解させ、水、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥剤を濾別
後、濾液を濃縮して析出した結晶を濾取することによ
り、表記化合物(4.6g)を黄色結晶として得た。 融点 158.0〜159.5℃

【０１７５】参考例１０〜１２（第３工程） 参考例９と同様にして、参考例１０〜参考例１２の化合
物を得た。これらを表３に示す。

【表３】

【０１７６】参考例１３（第４工程） ５−（４−ブロモフェニル）−３−（４−メトキシベン
ジル）−２−メチルチオ−３Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，
２，４］トリアゼピン

【化８９】 参考例９で得られた５−（４−ブロモフェニル）−３−
（４−メトキシベンジル）−１，３−ジヒドロベンゾ
［ｅ］［１，２，４］トリアゼピン−２−チオン(4.5g)
をアセトン(45ml)に溶解させ、炭酸カリウム(13.8g)を
加えて、アルゴン雰囲気下、室温で３０分間撹拌した。
これを氷冷した後、ヨウ化メチル(0.74ml)を加え、氷冷
下で３時間、室温で３０分間撹拌した。反応終了後、反
応液を濾過し、減圧濃縮した。得られた残渣をジエチル
エーテルに溶解し、５％クエン酸水溶液、水で順次洗浄
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥
剤を濾別後、濾液を減圧濃縮することにより、表記化合
物(4.4g)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.53(3H,s), 3.78(3H,
s), 4.69(2H,s), 6.82(2H,d,J=8.7Hz), 6.93-6.97(2H,
m), 7.13-7.25(5H,m), 7.41-7.44(3H,m)

【０１７７】参考例１４〜１６（第４工程） 参考例１３と同様にして、参考例１４〜参考例１６の化
合物を得た。これらを表４に示す。

【表４】

【０１７８】実施例１（第５工程） ６−（４−ブロモフェニル）−４−（４−メトキシベン
ジル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−
ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化９０】 参考例１３で得られた５−（４−ブロモフェニル）−３
−（４−メトキシベンジル）−２−メチルチオ−３Ｈ−
ベンゾ［ｅ］［１，２，４］トリアゼピン(4.3g)、アセ
チルヒドラジン(1.3g)及びｐ−トルエンスルホン酸一水
和物(175mg)をｎ−ブタノ−ル(50ml)に溶解させ、１１
０℃で１８時間加熱撹拌した。反応終了後、減圧濃縮し
て得られた残渣を酢酸エチルに溶解させ、水、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥剤を濾別後、濾液
を減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチル−n-ヘキサン
で結晶化することにより、表記化合物(3.3g)を結晶とし
て得た。 融点 204.5〜205.5℃

【０１７９】実施例２〜４（第５工程） 参考例１４で得られた４−［３−（４−メトキシベンジ
ル）−２−メチルチオ−３Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，２，
４］トリアゼピン−５−イル］安息香酸 ｔｅｒｒｔ−
ブチルエステル、参考例１５で得られた５−（４−クロ
ロフェニル）−３−（４−メトキシベンジル）−８−メ
チル−２−メチルチオ−３Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，２，
４］トリアゼピン、参考例１６で得られた５−（４−ク
ロロフェニル）−３−（４−メトキシベンジル）−２−
メチルチオ−３Ｈ−ピリド［２，３−ｅ］［１，２，
４］トリアゼピンより、実施例１と同様にして、実施例
２〜実施例４の化合物を得た。これらを表５に示す。 実施例２ ４−［４−（４−メトキシベンジル）−１−メチル−４
Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］
アズレン−６−イル］安息香酸 ｔｅｒｔ−ブチルエス
テル¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.59(9H,s), 2.61(3H,
s), 3.80(3H,s), 4.85-5.12(2H,m), 6.85(2H,d,J=8.7H
z), 7.14(1H,d,J=8.0Hz), 7.31-7.36(4H,m), 7.44(2H,
d,J=8.5Hz), 7.60-7.63(1H,m), 7.94(2H,d,J=8.5Hz) 実施例３ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−メトキシベン
ジル）−１，９−ジメチル−４Ｈ−２，３，４，５，１
０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 213.5〜216.5℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジ
エチルエーテル） 実施例４ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−メトキシベン
ジル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０，１
０ｂ−ヘキサアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.72(3H,s), 3.80(3H,
s), 4.99(2H,s), 6.86(2H,d,J=8.7Hz), 7.27-7.35(7H,
m), 7.50-7.53(1H,m), 8.61-8.63(1H,m)

【０１８０】

【表５】

【０１８１】参考例１７（第６工程） ４−（１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル）安息香酸
メチルエステル

【化９１】 実施例２で得られた４−［４−（４−メトキシベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸
ｔｅｒｔ−ブチルエステル(300mg)のメタンスルホン酸
(0.6ml)溶液を７０℃で１時間撹拌した。反応混合物に
メタノール(1ml)を加え、１時間加熱還流させた。放冷
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(25ml)とクロロホル
ム(25ml)を反応混合物に加えた。分離した有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液
で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、乾燥剤
を濾別した。この濾液を減圧濃縮して得られた残渣をク
ロロホルム−ジエチルエーテルより結晶化することによ
り、表記化合物(134mg)を無色結晶として得た。 融点 245.5〜247℃

【０１８２】参考例１８〜２０（第６工程） 参考例１７と同様にして、参考例１８〜参考例２０の化
合物を得た。これらを表６に示す。

【表６】

【０１８３】実施例５（第７工程） ４−［４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）ベンジ
ル］−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン

【化９２】 特開平８−２２５５４６号公報に記載の６−（４−クロ
ロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１
０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン(270mg)をＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド(5ml)に溶解させ、氷冷した
後水素化ナトリウム(60%油性、38mg)を加えてアルゴン
雰囲気下室温で３０分間攪拌した。再び氷冷し、塩化４
−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）ベンジル(190m
g)を加えて室温で終夜攪拌した。反応液に水を加えてク
ロロホルムで三回抽出した。有機層を水で五回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、
濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに供し、クロロホルム：メタノール＝
２５：１溶出液より得られた残渣をクロロホルム−ジエ
チルエーテルで結晶化することにより、標記化合物(330
mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.87(3H,s), 2.62(3H,
s), 3.25(3H,s), 4.80-5.35(2H,m), 7.12(2H,d,J=8.1H
z), 7.20-7.55(9H,m), 7.65(1H,t,J=6.0Hz)

【０１８４】実施例６（第７工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（４−
メチルスルホニルベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，
１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化９３】 特開平８−２２５５４６号公報に記載の６−（４−クロ
ロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１
０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン(400mg)をＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド(8ml)に溶解させ、氷冷した
後水素化ナトリウム(60%油性、62mg)を加えてアルゴン
雰囲気下室温で３０分間攪拌した。再び氷冷し、塩化４
−メチルスルホニルベンジル(291mg)を加えて室温で終
夜攪拌した。反応液を氷冷しクエン酸及び水を加えて酢
酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液及び水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃縮して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、
クロロホルム：メタノール＝２５：１溶出液より得られ
た残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルで再結晶するこ
とにより、標記化合物(395mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 3.04(3H,
s), 4.90-5.40(2H,m), 7.20-7.50(7H,m), 7.59(2H,d,J=
8.4Hz), 7.67(1H,t,J=7.6Hz), 7.87(2H,d,J=8.4Hz)

【０１８５】実施例７〜１８（第７工程） 実施例５又は実施例６と同様にして、実施例７〜実施例
１８の化合物を得た。これらを表７及び表８に示す。 実施例７ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−ジメチルアミ
ノカルボニルベンジル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，
４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 2.80-3.20
(6H,m), 4.80-5.30(2H,m), 7.20-7.50(11H,m), 7.60-7.
70(1H,m) 実施例８ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−ジエチルアミ
ノカルボニルベンジル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，
４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 175.5〜176.5℃（再結晶溶媒：酢酸エチル） 実施例９ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−ジプロピルア
ミノカルボニルベンジル）−１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 0.60-1.10(6H,m), 1.40-
1.90(4H,m), 2.62(3H,s), 3.10-3.60(4H,m), 4.80-5.30
(2H,m), 7.10-7.80(12H,m) 実施例１０ ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］安息香酸 メチルエステル 融点 137〜139℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル） 実施例１１ ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（４−
メチルチオベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ
−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 171.5〜173.0℃（再結晶溶媒：メタノール−ジエ
チルエーテル）

【０１８６】実施例１２ ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−［４−
（ピロリジン−１−イルカルボニル）ベンジル］−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.08-2.00(4H,m), 2.62
(3H,s), 3.43(2H,t,J=6.6Hz), 3.64(2H,t,J=6.6Hz), 4.
97(1H,d,J=15.0Hz), 5.15(1H,d,J=15.0Hz), 7.20-7.49
(12H,m), 7.63(1H,t,J=7.8Hz) 実施例１３ ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（４−
ピロリジン−１−イルスルホニルベンジル）−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン 融点 245.9〜247.6℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジ
エチルエーテル） 実施例１４ ６−（４−クロロフェニル）−４−［３−（４，５−ジ
ヒドロオキサゾール−２−イル）ベンジル］−１−メチ
ル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.05(2H,t,
J=9.3Hz), 4.16(2H,t,J=9.3Hz), 4.80-5.30(2H,m), 7.1
0-8.10(12H,m) 実施例１５ ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（２−
プロピニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.25-2.35(1H,m), 2.61
(3H,s), 4.50-4.75(2H,m), 7.20-7.75(8H,m) 実施例１６ ４−（２−ブチニル）−６−（４−クロロフェニル）−
１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタア
ザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 226.5〜229.5℃（再結晶溶媒：ジクロロメタン−
ジエチルエーテル）

【０１８７】実施例１７ ６−（４−クロロフェニル）−４−シアノメチル−１−
メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 4.55-4.80
(2H,m), 7.30-7.60(7H,m), 7.68(1H,dt,J=8.0Hz,1.5Hz) 実施例１８ ６−（４−クロロフェニル）−４−（２，２−ジメトキ
シエチル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 3.20-3.50
(6H,m), 3.80-4.30(2H,m), 4.76(1H,t,J=5.4Hz), 7.20-
7.70(8H,m)

【０１８８】

【表７】

【０１８９】

【表８】

【０１９０】実施例１９〜３０（第７工程） 特開平８−２２５５４６号公報に記載の１−メチル−６
−フェニル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタア
ザベンゾ［ｅ］アズレン、参考例１８で得られた６−
（４−ブロモフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，
４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン、特
開平８−２２５５４６号公報に記載の１−メチル−６−
（４−メチルフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン、参考例１７で得
られた４−（１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル）安息
香酸 メチルエステル、特開平８−２２５５４６号公報
に記載の１，９−ジメチル−６−フェニル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレ
ン、参考例１９で得られた６−（４−クロロフェニル）
−１，９−ジメチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−
ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレンより、実施例５又は実
施例６と同様にして、実施例１９〜実施例３０の化合物
を得た。これらを表９及び表１０に示す。

【０１９１】実施例１９ ４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−６−フェニ
ル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン 融点 215〜216.5℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジエ
チルエーテル） 実施例２０ ４−（４−ブロモベンジル）−６−（４−ブロモフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 248.5〜249.5℃（再結晶溶媒：クロロホルム−メ
タノール） 実施例２１ ４−［４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）ベンジ
ル］−１−メチル−６−（４−メチルフェニル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.87(3H,s), 2.37(3H,
s), 2.62(3H,s), 3.25(3H,s), 4.80-5.30(2H,m), 7.00-
7.70(12H,m) 実施例２２ １−メチル−６−（４−メチルフェニル）−４−（４−
メチルスルホニルベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，
１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.36(3H,s), 2.63(3H,
s), 3.06(3H,s), 4.90-5.40(2H,m), 7.10-8.00(12H,m) 実施例２３ ４−［１−メチル−６−（４−メチルフェニル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］安息香酸 メチルエステル¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.35(3H,s), 2.65(3H,
s), 3.90(3H,s), 4.90-5.30(2H,m), 7.00-8.10(12H,m)

【０１９２】実施例２４ １−メチル−６−（４−メチルフェニル）−４−［４−
（ピロリジン−１−イルカルボニル）ベンジル］−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.80-2.00(4H,m), 2.36
(3H,s), 2.62(3H,s), 3.43(2H,t,J=6.6Hz), 3.64(2H,t,
J=6.6Hz), 4.95(1H,d,J=15.0Hz), 5.14(1H,d,J=15.0H
z), 7.12(2H,d,J=7.8Hz), 7.20-7.48(9H,m), 7.62(1H,
t,J=7.8Hz) 実施例２５ ４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］安息香酸 メチルエステル 融点 186〜187.5℃（再結晶溶媒：酢酸エチル） 実施例２６ ４−［４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］安息香酸 メチルエステル 融点 239.5〜241℃（再結晶溶媒：酢酸エチル） 実施例２７ ４−（３，４−ジクロロベンジル）−１，９−ジメチル
−６−フェニル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペン
タアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 158〜159℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル） 実施例２８ ４−（４−シアノベンジル）−１，９−ジメチル−６−
フェニル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザ
ベンゾ［ｅ］アズレン 融点 214〜216℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−n-ヘキサ
ン）

【０１９３】実施例２９ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−シアノベンジ
ル）−１，９−ジメチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 206.5〜208.0℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジ
エチルエーテル） 実施例３０ ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−ジエチルアミ
ノカルボニルベンジル）−１，９−ジメチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン 融点 195〜196℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジエチ
ルエーテル−n-ヘキサン）

【０１９４】

【表９】

【０１９５】

【表１０】

【０１９６】実施例３１〜３６（第７工程） 特開平８−２２５５４６号公報に記載の２，９−ジメチ
ル−４−フェニル−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペン
タアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン、４−（４−クロ
ロフェニル）−２−エチル−９−メチル−６Ｈ−５，
６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］ア
ズレン、４−（４−クロロフェニル）−２，３，９−ト
リメチル−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチ
エノ［２，３−ｅ］アズレン、４−（４−メトキシフェ
ニル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレンよ
り、実施例５又は実施例６と同様にして実施例３１〜実
施例３６の化合物を得た。これらを表１１に示す。

【０１９７】実施例３１ ６−（４−クロロベンジル）−２，９−ジメチル−４−
フェニル−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチ
エノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 128〜130℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル−n-
ヘキサン） 実施例３２ ６−（４−シアノベンジル）−２，９−ジメチル−４−
フェニル−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチ
エノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 192〜195℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル） 実施例３３ ４−（４−クロロフェニル）−６−（４−シアノベンジ
ル）−２−エチル−９−メチル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 199〜200℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル） 実施例３４ ４−（４−クロロフェニル）−６−（３，４−ジフルオ
ロベンジル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，
６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］ア
ズレン 融点 189〜191℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル） 実施例３５ ４−（４−クロロフェニル）−６−（４−シアノベンジ
ル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 210〜211℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル） 実施例３６ ６−（４−シアノベンジル）−４−（４−メトキシフェ
ニル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 171〜172℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル）

【０１９８】

【表１１】

【０１９９】実施例３７（第７工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−（３，４−ジクロロ
ベンジル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化９４】 実施例５又は実施例６と同様にして、表記化合物(128m
g)を得た。但し、水素化ナトリウム(60%油性)の代わり
に水酸化カリウム(88mg)を、塩化４−メチルスルホニル
ベンジルの代わりに塩化３，４−ジクロロベンジル(44
μl)を用いた。 融点 181〜183℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル−n-
ヘキサン）

【０２００】実施例３８〜４１（第７工程） 実施例３７と同様にして、実施例３８〜４１の化合物を
得た。これらを表１２に示す。 実施例３８ ４−（４−クロロフェニル）−６−（３，４−ジクロロ
ベンジル）−２−エチル−９−メチル−６Ｈ−５，６，
７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレ
ン 融点 151〜153℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル） 実施例３９ ４−（４−クロロフェニル）−６−（４−フルオロベン
ジル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 242〜243℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル） 実施例４０ ６−（４−クロロベンジル）−４−（４−クロロフェニ
ル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン 融点 230〜231℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル） 実施例４１ ４−（４−クロロフェニル）−６−（３，４−ジクロロ
ベンジル）−２，３，９−トリメチル−６Ｈ−５，６，
７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレ
ン 融点 191〜193℃（再結晶溶媒：ジエチルエーテル）

【０２０１】

【表１２】

【０２０２】実施例４２（第７工程） ４−［１−メチル−４−（４−ニトロベンジル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］安息香酸 メチルエステル

【化９５】 参考例１７で得られた４−（１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン
−６−イル）安息香酸 メチルエステル(1.20g)より、
実施例５と同様にして、表記化合物(1.22g)を淡黄色結
晶として得た。但し、水素化ナトリウム(60%油性)の代
わりにリチウム ビス（トリメチルシリル）アミド １
Ｍテトラヒドロフラン溶液(3.78ml)を、塩化４−メチル
スルホニルベンジルの代わりに臭化ｐ−ニトロベンジル
(855mg)を用いた。 融点 205〜206℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル）

【０２０３】実施例４３（第７工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（４−
ニトロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０，１０
ｂ−ヘキサアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化９６】 参考例２０で得られた６−（４−クロロフェニル）−１
−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０，１０ｂ−ヘキ
サアザベンゾ［ｅ］アズレン(150mg)より、実施例４２
と同様にして、表記化合物(152mg)を得た。 融点 224〜226℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル）

【０２０４】実施例４４（第８工程） ４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］安息香酸

【化９７】 実施例２５で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸
メチルエステル(2.24g)のメタノール(45ml)懸濁液に１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液(9.8ml)を加えた。この混合
物を５０℃で１．５時間撹拌した。反応混合物を放冷
後、減圧濃縮した。残渣にジエチルエーテル、水を加
え、水層を分離した。得られた水層を５％硫酸水素カリ
ウム水溶液(50ml)で酸性とし、析出物をクロロホルムで
二回抽出した。このクロロホルム層を塩化ナトリウム水
溶液で三回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
乾燥剤を濾別後、減圧濃縮して得られた残渣をクロロホ
ルム−ジエチルエーテルで結晶化することにより、表記
化合物(2.09g)を無色結晶として得た。 融点 247〜248℃

【０２０５】実施例４５（第８工程） ［４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン−６−イル］安息香酸

【化９８】 実施例２６で得られた４−［４−（４−シアノベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸
メチルエステル(630mg)より、実施例４４と同様にし
て、表記化合物(446mg)を得た。 融点 190〜192℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジエチ
ルエーテル）

【０２０６】実施例４６（第８工程） ４−［１−メチル−４−（４−ニトロベンジル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］安息香酸

【化９９】 実施例４２で得られた４−［１−メチル−４−（４−ニ
トロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペン
タアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸 メ
チルエステル(97.1mg)を１，４−ジオキサン(0.5ml)に
溶解させ、これに濃塩酸(0.8ml)を加え、１００℃で７
時間加温した。反応液を減圧濃縮し、残渣に１Ｎ水酸化
ナトリウムを加えて塩基性水溶液とした後、酢酸エチル
で洗浄した。塩基性溶液を１Ｎ塩酸で酸性にし、不溶性
の固体生成物を生成させた。この物質をメタノール−酢
酸エチル−ジエチルエーテルで再結晶することにより、
表記化合物(79.4mg)を淡黄色結晶として得た。 融点 290℃

【０２０７】実施例４７（第９工程） ４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルカルバミン酸 ｔｅｒｔ−
ブチルエステル

【化１００】 実施例４４で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸(3
50mg)、ジフェニルリン酸アジド(diphenylphosphoryl a
zide; DPPA、0.18ml)、トリエチルアミン(0.12ml)のｔ
ｅｒｔ−ブチルアルコール(7ml)溶液を１８時間加熱還
流させた。反応液を放冷後、減圧濃縮した。得られた残
渣に５％硫酸水素カリウム水溶液および酢酸エチルを加
え、有機層を分離した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに供し、クロロホ
ルム：メタノール＝５０：１溶出液より、表記化合物(3
95mg)を淡黄色不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.52(9H,s), 2.61(3H,
s), 4,86-5.09(2H,m), 6.63(1H,s), 7.24-7.38(11H,m),
7.59-7.62(1H,m)

【０２０８】実施例４８〜４９（第９工程） 実施例４５で得られた［４−（４−シアノベンジル）−
１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタア
ザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸、実施例
４６で得られた４−［１−メチル−４−（４−ニトロベ
ンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザ
ベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸より、実施
例４７と同様にして、実施例４８〜実施例４９の化合物
を得た。これらを表１３に示す。 実施例４８ ４−［４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルカルバミン酸 ｔｅｒｔ−
ブチルエステル¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.52(9H,s), 2.62(3H,
s), 4.95-5.19(2H,m), 6.59(1H,s), 7.27-7.40(7H,m),
7.48(2H,d,J=8.4Hz), 7.59(2H,d,J=8.7Hz), 7.62-7.67
(1H,m) 実施例４９ ４−［１−メチル−４−（４−ニトロベンジル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルカルバミン酸 ｔｅｒｔ−
ブチルエステル¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.51(9H,s), 2.63(3H,
s), 5.03(1H,d,J=14.0Hz), 5.15(1H,d,J=14.0Hz), 6.61
(1H,s), 7.20-7.42(7H,m), 7.54(2H,d,J=8.7Hz),7.60-
7.69(1H,m), 8.16(2H,d,J=8.7Hz)

【０２０９】

【表１３】

【０２１０】実施例５０（第１０工程） ４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルアミン 塩酸塩

【化１０１】 実施例４７で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルカ
ルバミン酸 ｔｅｒｔ−ブチルエステル(100mg)を４Ｎ
塩化水素−1,4-ジオキサン溶液(1.5ml)に溶解し、室温
で１時間撹拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を
エタノールより結晶化することにより、表記化合物(62m
g)を淡黄色結晶として得た。 融点 183〜185℃

【０２１１】実施例５１〜５２（第１０工程） 実施例４８で得られた４−［４−（４−シアノベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルカ
ルバミン酸 ｔｅｒｔ−ブチルエステル、実施例４９で
得られた４−［１−メチル−４−（４−ニトロベンジ
ル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベン
ゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルカルバミン酸
ｔｅｒｔ−ブチルエステルより、実施例５０と同様にし
て、実施例５１〜実施例５２の化合物を得た。これらを
表１４に示した。 実施例５１ ４−［４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルアミン 塩酸塩 融点 180〜190℃（分解、再結晶溶媒：エタノール−イ
ソプロパノール） 実施例５２ ４−［１−メチル−４−（４−ニトロベンジル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルアミン 塩酸塩 融点 236〜237℃（再結晶溶媒：メタノール−ジエチル
エーテル）

【０２１２】

【表１４】

【０２１３】実施例５３（第１１工程） ４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−６−（４−
ニトロフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１０２】 実施例５０で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルア
ミン 塩酸塩(135mg)を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
とクロロホルム間で分配し、有機層を飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
乾燥剤を濾別後、濾液を減圧濃縮して得られた残渣(100
mg)を酢酸(2ml)に溶解した。この溶液に過ホウ酸ナトリ
ウム四水和物(sodium peroxoboratetetrahydrate、185m
g)を加え、５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を放冷
し、水(20ml)、クロロホルム(20ml)を加えた。分離した
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別
後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに供し、クロロホルム：メタノール＝９
８：２溶出液より得られた残渣を酢酸エチルで結晶化す
ることにより、表記化合物(68mg)を淡黄色固体として得
た。 融点 240〜242℃

【０２１４】実施例５４（第１２工程） ３−［４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン−６−イル］フェニル］−１，１−ジメ
チウルレア

【化１０３】 実施例５０で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルア
ミン 塩酸塩(500mg)のピリジン(1ml)溶液に、塩化Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイル(143mg)を加え、室温で１．
５時間、７０℃で１．５時間攪拌した。反応液を放冷
し、５％硫酸水素カリウム水溶液(30ml)に注いで、酢酸
エチル(100ml)で抽出した。５％硫酸水素カリウム水溶
液(30ml)で二回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(30m
l)、飽和塩化ナトリウム水溶液(30ml)で順次洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに供し、クロロホルム：メタノール＝９７：３溶
出液より得られた残渣をクロロホルム−ジエチルエーテ
ルで結晶化することにより、表記化合物(491mg)を淡黄
色結晶として得た。 融点 262〜263℃

【０２１５】実施例５５〜６２（第１２工程） 実施例５０で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルア
ミン 塩酸塩、 実施例５２で得られた４−［１−メチル−４−（４−ニ
トロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペン
タアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルアミ
ン 塩酸塩より、実施例５４と同様にして実施例５５〜
実施例６２の化合物を得た。これらを表１５に示す。 実施例５５ １，１−ジメチル−３−［４−［１−メチル−４−（４
−ニトロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−
ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニ
ル］ウレア¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 3.04(6H,
s), 5.03(1H,d,J=15.5Hz), 5.21(1H,d,J=15.5Hz), 6.42
(1H,s), 7.26-7.43(7H,m), 7.54(2H,d,J=8.8Hz),7.65(1
H,dt,J=7.7, 2.1Hz), 8.16(2H,d,J=8.8Hz) 実施例５６ １，１−ジエチル−３−［４−［４−（４−クロロベン
ジル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−
ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニ
ル］ウレア¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.23(6H,t,J=7.3Hz), 2.
61(3H,s), 3.38(4H,q,J=7.3Hz), 4.86-5.09(2H,m), 6.3
9(1H,s), 7.18-7.39(11H,m), 7.63(1H,m) 実施例５７ １−メチル−３−［４−［４−（４−クロロベンジル）
−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニル］−１
−フェニルウレア 融点 243.5〜245.0℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエ
チルエーテル） 実施例５８ １−メチル−３−［４−［１−メチル−４−（４−ニト
ロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニル］−１
−フェニルウレア¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 3.34(3H,
s), 5.01(1H,d,J=13.9Hz), 5.19(1H,d,J=13.9Hz), 6.34
(1H,s), 7.21-7.42(11H,m), 7.47-7.54(3H,m), 7.64(1
H,dt,J=7.7, 1.5Hz), 8.14(2H,d,J=8.4Hz) 実施例５９ ４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−６−［４−
（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）フェニル］
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン 融点 158〜161℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル）

【０２１６】実施例６０ １−メチル−４−（４−ニトロベンジル）−６−［４−
（ピロリジン−１−イルカルボニルアミノ）フェニル］
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.92-2.00(4H,m), 2.62
(3H,s), 3.47(4H,t,J=6.6Hz), 5.00(1H,d,J=15.5Hz),
5.21(1H,d,J=15.5Hz), 6.29(1H,s), 7.20-7.45(7H,m),
7.53(2H,d,J=8.4Hz), 7.65(1H,t,J=8.4Hz), 8.16(2H,d,
J=8.4Hz) 実施例６１ ４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−６−（４−
モルホリノカルボニルアミノフェニル）−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン 融点 175〜176℃（再結晶溶媒：クロロホルム−ジエチ
ルエーテル） 実施例６２ １−メチル−４−（４−ニトロベンジル）−６−（４−
モルホリノカルボニルアミノフェニル）−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 3.49(4H,t,
J=5.1Hz), 3.75(4H,t,J=5.1Hz), 5.03(1H,d,J=15.5Hz),
5.21(1H,d,J=15.5Hz), 6.52(1H,s), 8.20-8.42(7H,m),
7.53(2H,d,J=8.4Hz), 7.66(1H,t,J=7.7Hz), 8.16(2H,
d,J=8.4Hz)

【０２１７】

【表１５】

【０２１８】実施例６３（第１２工程） １−エチル−３−［４−［４−（４−クロロベンジル）
−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニル］ウレ
ア

【化１０４】 実施例５０で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルア
ミン 塩酸塩(90mg)、トリエチルアミン(20mg)のクロロ
ホルム(1ml)溶液にエチルイソシアネート(40mg)を加え
て、室温で１時間、６０℃で４時間攪拌した。反応液を
放冷し、クロロホルム(20ml)を加えた。５％硫酸水素カ
リウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(10ml)、
飽和塩化ナトリウム水溶液(10ml)で順次洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、減圧濃縮
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに供し、クロロホルム：メタノール＝９６：４溶出液
より得られた残渣をクロロホルム−ジエチルエーテルで
結晶化することにより、表記化合物(85mg)を淡黄色結晶
として得た。 融点 179〜180℃

【０２１９】実施例６４（第１２工程） １−エチル−３−［４−［１−メチル−４−（４−ニト
ロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニル］ウレ
ア

【化１０５】 実施例５２で得られた４−［１−メチル−４−（４−ニ
トロベンジル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペン
タアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルアミ
ン 塩酸塩(90mg)より、実施例６３と同様にして、表記
化合物(67mg)を得た。 融点 261.2〜261.8℃（再結晶溶媒：クロロホルム）

【０２２０】実施例６５（第１３工程） ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］安息香酸

【化１０６】 実施例１０で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息
香酸 メチルエステル(171mg)のエタノール(1ml)溶液に
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液(0.37ml)を加え、室温で５
時間、さらに４５℃で４時間攪拌した。反応終了後、反
応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルと水を加えた。水
層を分離し、氷冷下、１Ｎ塩酸でｐＨ３に調整した。析
出した残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を三回水洗し
た。この有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤
を濾別後、減圧濃縮した。得られた残渣をクロロホルム
−酢酸エチルの混合溶媒で結晶化することにより、表記
化合物(105.6mg)を無色結晶として得た。 融点 190〜193℃

【０２２１】実施例６６（第１３工程） ４−［１−メチル−６−（４−メチルフェニル）−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］安息香酸

【化１０７】 実施例２３で得られた４−［１−メチル−６−（４−メ
チルフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペン
タアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル）安息香酸 メ
チルエステル(2.25g)のエタノール(22ml)溶液に、２Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液(5.14ml)を加え、室温で１４時
間攪拌した。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、残渣に
水(12.1ml)、４Ｎ塩酸(3.50ml)を氷冷下加え、室温で１
０分間攪拌した。析出した固体を濾取、水洗することに
より、表記化合物(1.96g)を無色結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.33(3H,s), 2.55(3H,
s), 4.86(1H,d,J=14.1Hz), 5.06(1H,d,J=14.1Hz), 7.15
-7.30(4H,m), 7.40-7.50(3H,m), 7.68-7.80(2H,m), 7.8
8(2H,d,J=8.2Hz)

【０２２２】実施例６７（第１４工程） Ｎ−メチル−４−［１−メチル−６−（４−メチルフェ
ニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベンズアミド

【化１０８】 実施例６６で得られた４−［１−メチル−６−（４−メ
チルフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペン
タアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息香
酸(250mg)及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール 一
水和物(108mg)をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(5ml)に
溶解させた。氷冷下、１−エチル−３−（３−ジメチル
アミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩(ＷＳＣ・ＨＣ
ｌ、136mg)、トリエチルアミン(286μl)及びメチルアミ
ン塩酸塩(100mg)を順次加え、室温で終夜攪拌した。反
応終了後、反応液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに
溶解した。これを０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で三
回、さらに水で四回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。乾燥剤を濾別後、減圧濃縮して得られた残渣
をクロロホルム−ジエチルエーテルで結晶化することに
より、表記化合物(228mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.35(3H,s), 2.61(3H,
s), 3.00(3H,d,J=3.3Hz), 4.80-5.30(2H,m), 6.10-6.30
(1H,m), 7.00-7.80(12H,m)

【０２２３】実施例６８〜７３（第１４工程） 実施例６５で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息
香酸より、実施例６７と同様にして、実施例６８〜実施
例７３の化合物を得た。これらを表１６に示す。 実施例６８ ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］ベンズアミド¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.51(3H,s), 4.75-5.1
0(2H,m), 7.10-8.00(14H,m) 実施例６９ Ｎ−メチル−４−［６−（４−クロロフェニル）−１−
メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベンズアミド¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 3.00(3H,d,
J=4.9Hz), 4.80-5.30(2H,m), 6.10-6.30(1H,m), 7.10-
7.80(12H,m) 実施例７０ Ｎ−プロピル−４−［６−（４−クロロフェニル）−１
−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザ
ベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベンズアミド¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 0.98(3H,t,J=7.4Hz), 1.
54-1.78(2H,m), 2.62(3H,s), 3.38-3.45(2H,m), 4.97(1
H,d,J=12.4Hz), 5.16(1H,d,J=12.4Hz), 6.05-6.20(1H,
m), 7.15-7.80(12H,m) 実施例７１ ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（４−
メチルピペラジノカルボニルベンジル）−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.32(3H,s), 2.35-2.50
(4H,m), 2.62(3H,s), 3.40-3.55(2H,m), 3.70-3.85(2H,
m), 4.90-5.20(2H,m), 7.20-7.45(11H,m), 7.60-7.70(1
H,m) 実施例７２ Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−［１−メチル−６−（４−メチ
ルフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベンズア
ミド¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.36(3H,s), 2.62(3H,
s), 2.80-3.20(6H,m), 4.80-5.30(2H,m), 7.00-7.70(12
H,m) 実施例７３ Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−［１−メチル−６−（４−メチ
ルフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベンズア
ミド¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.00-1.40(6H,m), 2.36
(3H,s), 2.62(3H,s), 3.10-3.70(4H,m), 4.80-5.30(2H,
m), 7.00-7.70(12H,m)

【０２２４】

【表１６】

【０２２５】実施例７４（第１４工程） Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−４−［６−（４−クロロフ
ェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ
−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］
ベンズアミド

【化１０９】 実施例６５で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息
香酸(500mg)のクロロホルム(5ml)溶液に、氷冷下塩化チ
オニル(164μl)を加え、室温で１時間、５０℃で２０分
間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣にクロ
ロホルム(5ml)を加え、氷冷下Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロ
キシルアミン塩酸塩(130mg)及びトリエチルアミン(0.31
ml)を加えて、室温で１時間攪拌した。反応液を水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾
別後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに供し、クロロホルム：メタノール＝
１９：１溶出液より、表記化合物(533mg)を得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 3.35(3H,
s), 3.56(3H,s), 4.80-5.30(2H,m), 7.15-7.70(12H,m)

【０２２６】実施例７５ ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（アゼ
チジン−１−イルカルボニルベンジル）−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１１０】 実施例７４と同様にして、表記化合物(31.9mg)を得た。
但し、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンの代わりに
アゼチジン塩酸塩(28mg)、クロロホルムの代わりにジク
ロロメタンを用いた。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.20-2.50(2H,m), 2.62
(3H,s), 4.16-4.40(4H,m), 4.96(1H,m), 5.16(1H,m),
7.20-7.42(9H,m), 7.57(2H,d,J=7.8Hz), 7.64(1H,t,J=
7.8Hz)

【０２２７】実施例７６（第１５工程） ４−（４−アセチルベンジル）−６−（４−クロロフェ
ニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−
ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１１１】 実施例７４で得られたＮ−メトキシ−Ｎ−メチル−４−
［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン−４−イルメチル］ベンズアミド(300mg)のテトラ
ヒドロフラン(3ml)溶液を、アルゴン雰囲気下−３０℃
で１Ｍ臭化メチルマグネシウム−トルエン溶液(2ml)を
加え、室温までゆっくりと昇温した。反応液にクエン酸
(150mg)を加え、３０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣を酢酸エチルに溶解させて、飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧濃縮し
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に供し、クロロホルム：メタノール１９：１溶出液より
表記化合物(150mg)を得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.59(3H,s), 2.62(3H,
s), 4.90-5.30(2H,m), 7.20-8.00(12H,m)

【０２２８】実施例７７（第１６工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−［４−（ピ
ラゾール−３−イル）ベンジル］−４Ｈ−２，３，４，
５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１１２】 実施例７６で得られた４−（４−アセチルベンジル）−
６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン
(150mg)をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ジメチルア
セタール(1ml)に溶解させ、１２０℃で１２時間攪拌し
た。反応液にクロロホルム(5ml)を加え、水、飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧濃縮して得ら
れた残渣にエタノール(5ml)及びヒドラジン(200μl)を
加え、１１０℃で２時間攪拌した。反応液にクロロホル
ムを加え、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄して、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、濾液
を減圧濃縮して得られた残渣をクロロホルム−ジエチル
エーテルで結晶化することにより、表記化合物(82mg)を
結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 4.93-5.17
(2H,m), 6.59(1H,d,J=2.5Hz), 7.19-7.44(9H,m), 7.60-
7.71(4H,m)

【０２２９】実施例７８（第１７工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［４−（イソオキサ
ゾール−５−イル）ベンジル］−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン

【化１１３】 実施例７６で得られた４−（４−アセチルベンジル）−
６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン
(150mg)をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ジメチルア
セタール(1.5ml)に溶解させ、１１０℃で８時間攪拌し
た。反応液にクロロホルム(5ml)を加え、水、飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧濃縮して得ら
れた残渣にエタノール(5ml)及びヒドロキシルアミン塩
酸塩(35mg)を加え、１１０℃で２時間攪拌した。反応液
を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルに溶解して、
水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥剤を濾別後、濾液
を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに供し、クロロホルム：メタノール＝１
９：１溶出液より、表記化合物(57mg)を不定形固体とし
て得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.90-5.25
(2H,m), 6.49(1H,s), 7.21-7.75(12H,m), 8.24(1H,s)

【０２３０】実施例７９（第１８工程） ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］ベンゾイルヒドラジン

【化１１４】 実施例１０で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息
香酸 メチルエステル(70mg)をＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド(0.5ml)に溶解させ、ヒドラジン一水和物(73μl)
を加えて室温で２３時間攪拌した。反応液にクロロホル
ムを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥
剤を濾別し、濾液をトルエン共沸によって濃縮すること
により、表記化合物(67mg)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.90-2.40(3H,br s), 2.
62(3H,s), 4.90-5.20(2H,m), 7.20-7.50(9H,m), 7.60-
7.70(3H,m)

【０２３１】実施例８０（第１９工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−［４−
（１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）ベンジ
ル］−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベン
ゾ［ｅ］アズレン

【化１１５】 実施例７９で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベン
ゾイルヒドラジン(100mg)をトルエン(5ml)に溶解させ、
オルソギ酸トリエチル(1ml)を加えて１１０℃で５時間
加熱還流させた。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、クロロホ
ルム：メタノール＝１９：１溶出液より得られた残渣を
酢酸エチル−ジエチルエーテルで結晶化することによ
り、表記化合物(85mg)を無色結晶として得た。 融点 198〜200℃

【０２３２】実施例８１（第２０工程） ４−［４−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）ベ
ンジル］−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−
４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン

【化１１６】 アルゴン雰囲気下、トルエン(5ml)に１．８Ｍトリメチ
ルアルミニウム−トルエン溶液(1.4ml)を加え、氷冷し
た。次いでｏ−フェニレンジアミン(81mg)を加え、氷冷
下で３０分、室温で１．５時間攪拌した。これに実施例
１０で得られた４−［６−（４−クロロフェニル）−１
−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザ
ベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息香酸 メ
チルエステル(220mg)を加え、２時間加熱還流させた。
反応液を氷冷し、水(1ml)、メタノール(5ml)を加えて、
不溶物を濾取した。濾取した不溶物をクロロホルム−メ
タノールの混合溶媒に溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄して、
無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、減
圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに供し、クロロホルム：メタノール＝９６：４
溶出液より得られた残渣をイソプロパノールで結晶化す
ることにより、表記化合物(182mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.53(3H,s), 3.31(3H,
s), 4.75-5.20(2H,m),7.10-8.25(16H,m), 12.83(1H,s)

【０２３３】実施例８２（第２１工程） ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］フェニルカルバミン酸 メチ
ルエステル

【化１１７】 実施例６５で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］安息
香酸(177mg)のトルエン(3ml)溶液に、トリエチルアミン
(60.6μl)及びジフェニルリン酸アジド(121mg)を加え、
１００℃で１．５時間、１２０℃で３０分間攪拌した
後、メタノール(0.5ml)を加えてさらに３０分間攪拌し
た。反応液を放冷し、５％クエン酸水溶液、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾
燥剤を濾別後、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに供し、クロロホル
ム：メタノール＝２０：１溶出液より得られた粗精製物
をクロロホルム−メタノールで結晶化することにより、
表記化合物(57mg)を得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 3.75(3H,
s), 4.80-5.10(2H,m), 6.69(1H,s), 7.18-7.38(11H,m),
7.63(1H,m)

【０２３４】実施例８３（第２２工程） Ｎ−［４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン−４−イルメチル］フェニル］−Ｎ−メ
チルカルバミン酸 メチルエステル

【化１１８】 実施例８２で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］フェ
ニルカルバミン酸 メチルエステル(330mg)をＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド(5ml)に溶解させ、氷冷下水素化
ナトリウム(60%油性、28mg)を加えた後、室温で３０分
間攪拌した。次いでヨウ化メチルを１時間ごとに20μl
ずつ２回加えた。反応混合物を再び氷冷し水素化ナトリ
ウム(60%油性、14mg)を加え、室温で３０分間攪拌した
後、ヨウ化メチルを１時間ごとに20μlずつ２回加え
た。反応混合物を再度氷冷し、水素化ナトリウム(60%油
性、7mg)を加えて室温で３０分間攪拌した後、ヨウ化メ
チルを１時間ごとに20μlずつ２回加えた。反応混合物
に水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、乾燥剤を濾別した。濾液を減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、酢
酸エチル溶出液で得られた粗精製物を再びシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに供し、アセトン：ｎ−ヘキサ
ン＝１：１溶出液より、表記化合物(140mg)を不定形固
体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 3.28(3H,
s), 3.70(3H,s), 4.85-5.20(2H,m), 7.15-7.50(10H,m),
7.60-7.70(2H,m)

【０２３５】実施例８４（第２３工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−［４−
（５−メチル−４Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３
−イル）ベンジル］−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−
ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１１９】 実施例６８で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］ベン
ズアミド(50mg)にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド ジメ
チルアセタール(0.90ml)を加え、アルゴン雰囲気下１１
０℃で２．５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得ら
れた残渣に酢酸(0.40ml)及び無水ヒドラジン(7.4μl)を
加えて、アルゴン雰囲気下９０℃で４．５時間攪拌し
た。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機
層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別
後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに供し、クロロホルム：メタノール＝９
８：２〜９４：６溶出液より得られた粗精製物をクロロ
ホルム−n-ヘキサンで結晶化することにより、表記化合
物(32.5mg)を淡黄色結晶として得た。 融点 205〜206℃

【０２３６】実施例８５（第２４工程） ３−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］フェニルアミジン

【化１２０】 後述の実施例１６３に記載の６−（４−クロロフェニ
ル）−４−（３−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン(1.5g)をクロロホルム(15ml)に溶解し、エタノー
ル(620ml)及び４Ｎ塩化水素−1,4-ジオキサン溶液(18m
l)を加えて室温で３日間攪拌した。反応液を減圧濃縮し
て得られた残渣をメタノール(15ml)に溶解し、２．０Ｍ
アンモニア−メタノール溶液(3.5ml)を加えて、室温で
終夜攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣を２Ｎ塩酸に
溶解し、酢酸エチルで二回洗浄した。水層を氷冷下２Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液で塩基性とした後、ｎ−ブタノ
ールで抽出した。有機層を水で二回洗浄し、溶媒を減圧
留去して得られた残渣をメタノール−ジエチルエーテル
で粉末化することにより、表記化合物(125mg)を不定形
固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.53(3H,s), 4.70-5.1
0(2H,m), 6.20-6.50(1H,m), 7.10-7.90(12H,m), 8.31(3
H,s)

【０２３７】実施例８６（第２４工程） ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］フェニルアミジン

【化１２１】 後述の実施例１６４に記載の６−（４−クロロフェニ
ル）−４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン(1.20g)より、実施例８５と同様にして、表記化
合物(184mg)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.54(3H,s), 4.91(1H,
d,J=14.7Hz), 5.14(1H,d,J=14.7Hz), 7.00-7.90(12H,
m), 9.15(1.5H,s), 9.35(1.5H,s)

【０２３８】実施例８７（第２５工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［４−（４，５−ジ
ヒドロ−１Ｈ−イミダゾ−２−イル）ベンジル］−１−
メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン

【化１２２】 後述の実施例１６４に記載の６−（４−クロロフェニ
ル）−４−（４−シアノベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン(1.20g)をエタノール(12ml)及びクロロホルム(12
ml)に溶解させ、４Ｎ塩化水素−1,4-ジオキサン(73ml)
を加えて、室温で１７時間攪拌した。反応液を減圧濃縮
し、残渣を得た。得られた残渣のうち600mgをメタノー
ル(16ml)に溶解し、エチレンジアミン(71.1mg)を加えて
アルゴン雰囲気下４．５時間加熱還流させた。反応液を
減圧濃縮し、得られた残渣をメタノール−酢酸エチル、
次いでエタノール−酢酸エチルで再結晶することによ
り、表記化合物(225mg)を無色結晶として得た。 融点 253.5〜254.5℃

【０２３９】実施例８８（第２６工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［４−（１Ｈ−イミ
ダゾ−２−イル）ベンジル］−１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１２３】 実施例８７で得られた６−（４−クロロフェニル）−４
−［４−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾ−２−イ
ル）ベンジル］−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，
１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン(200mg)、酢
酸ナトリウム(73.6mg)を無水１，４−ジオキサン(15ml)
に溶解し、過マンガン酸カリウム(195mg)を少しずつ加
えた後、アルゴン雰囲気下１５時間加熱還流させた。反
応液中の不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、ク
ロロホルム：メタノール＝９６：４〜９０：１０溶出液
より、黄色油状物(22.3mg)を得た。これをクロロホルム
−n-ヘキサンで結晶化することにより、表記化合物(15.
1mg)を淡桃色結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.42-5.00
(1H,m), 5.00-5.10(1H,m), 7.14(2H,s), 7.19-7.79(12
H,m)

【０２４０】実施例８９（第２７工程） ２，９−ジメチル−４−フェニル−６−［４−（１Ｈ−
テトラゾール−５−イル）ベンジル］−６Ｈ−５，６，
７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレ
ン

【化１２４】 実施例３２で得られた６−（４−シアノベンジル）−
２，９−ジメチル−４−フェニル−６Ｈ−５，６，７，
８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン(2
43mg)、アジ化ナトリウム(116mg)、塩化アンモニウム(9
7mg)の混合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(2.4ml)
に溶解させ、１５０℃で３時間加温した。反応液を減圧
濃縮し、残渣をテトラヒドロフラン(5ml)に溶解した。
この有機層を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させて、乾燥剤を濾別した後、酢酸
エチルを加えて結晶化させることにより、表記化合物(2
42mg)を黄色結晶として得た。 融点 264〜265℃（分解）

【０２４１】実施例９０、９１（第２８工程） ２，９−ジメチル−４−フェニル−６−［４−（１−メ
チル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ベンジル］−６
Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３
−ｅ］アズレン（実施例９０）

【化１２５】 及び２，９−ジメチル−４−フェニル−６−［４−（２
−メチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ベンジル］
−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ
［２，３−ｅ］アズレン（実施例９１）

【化１２６】 実施例８９で得られた２，９−ジメチル−４−フェニル
−６−［４−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ベンジ
ル］−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ
［２，３−ｅ］アズレン(183mg)をテトラヒドロフラン
(5ml)とメタノール(1ml)の混合溶媒に溶解させ、氷冷し
た。これにジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を反応
溶液が黄色になるまで加えた。反応溶媒を減圧留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒
クロロホルム：アセトン＝１０：１）に供した。低極性
画分を集めて濃縮し、得られた残渣をジエチルエーテル
−酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させることにより、
２，９−ジメチル−４−フェニル−６−［４−（１−メ
チル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ベンジル］−６
Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３
−ｅ］アズレン(123mg)を淡黄色結晶として得た。 融点 199.5〜200.5℃

【０２４２】次いで、高極性画分を集めて濃縮し、得ら
れた残渣をジエチルエーテル−酢酸エチルの混合溶媒か
ら結晶化させることにより、２，９−ジメチル−４−フ
ェニル−６−［４−（２−メチル−２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ベンジル］−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ
−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］アズレン(17mg)を黄
色結晶として得た。 融点 180〜182℃

【０２４３】実施例９２（第２９工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［４−（２−ジメチ
ルアミノエトキシ）ベンジル］−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン

【化１２７】 後述の実施例１６７に記載の６−（４−クロロフェニ
ル）−４−（４−ヒドロキシベンジル）−１−メチル−
４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン(350mg)及びトリフェニルホスフィン(24
3mg)をテトラヒドロフラン(7ml)に溶解させ、ジイソプ
ロピルアゾジカルボキシレート(182μl)のテトラヒドロ
フラン(500μl)溶液を滴下した。次いでＮ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエタノール(85μl)のテトラヒドロフラン(500
μl)を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに供し、クロロホルム：メタノール＝４０：１〜１
０：１溶出液より、表記化合物(188mg)を不定形固体と
して得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.32(6H,s), 2.60(3H,
s), 2.71(2H,t,J=6.0Hz), 4.05(2H,t,J=6.0Hz), 4.70-
5.20(2H,m), 6.86(2H,d,J=8.4Hz), 7.10-7.70(10H,m)

【０２４４】実施例９３（第３０工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−（４−ジメチルアミ
ノメチリデンアミノベンジル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン 塩酸塩

【化１２８】 窒素雰囲気下とした反応容器に無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド(22μl)を入れ、無水テトラヒドロフラン(2.
0ml)に溶解させて、氷冷した。この溶液に塩化チオニル
(24μl)を加えた後、室温で１時間攪拌した。これに後
述の実施例１７０に記載の４−（４−アミノベンジル）
−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン(83mg)のテトラヒドロフラン(3.0ml)溶液を滴下
し、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロ
ホルムで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤
を濾別し、濾液を減圧濃縮して、黄色油状物(74mg)を得
た。このうち64mgを酢酸エチル(10ml)に溶解させ、４Ｎ
塩化水素−酢酸エチル溶液(0.10ml)及びメタノールを数
滴加えて、８０℃で１時間攪拌した。反応液を放冷して
析出した結晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄することによ
り、表記化合物(37mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.56(3H,s), 3.26(3H,
s), 3.32(3H,s), 4.75-4.85(1H,m), 4.95-5.50(1H,m),
7.20(1H,d,J=7.8Hz), 7.35-7.55(8H,m), 7.70-7.75(2H,
m), 8.69(1H,d,J=12.9Hz), 11.41(1H,d,J=12.9Hz)

【０２４５】実施例９４（第３１工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−［４−
（２−オキソオキサゾリジン−３−イル）ベンジル］−
４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン

【化１２９】 後述の実施例１７０に記載の４−（４−アミノベンジ
ル）−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン(207mg)をテトラヒドロフラン(3ml)に懸濁させ、
炭酸カリウム(138mg)及びクロロギ酸２−クロロエチル
(62μl)のジクロロメタン(1ml)溶液を加えて、室温で２
０分間攪拌した。反応液にクロロホルム(30ml)を加え、
有機層を水(10ml)で二回、飽和塩化ナトリウム水溶液(1
0ml)で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃縮して残渣(311mg)
を無色油状物として得た。このうち211mgをＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド(15ml)に溶解させ、ヨウ化カリウム
(66mg)及び水素化ナトリウム(60%油性、32mg)を加えて
窒素雰囲気下室温で３時間攪拌した。反応液に氷冷下水
を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた。乾燥剤を濾別し、濾液をトルエン共沸によって
濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに供した。酢酸エチル溶出液より得られた残渣を
酢酸エチルで結晶化することにより、表記化合物(114m
l)を結晶として得た。 融点 242.5〜244.0℃

【０２４６】実施例９５（第３２工程） １−［４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン−４−イルメチル］フェニル］ピロール
−２，５−ジオン

【化１３０】 後述の実施例１７０に記載の４−（４−アミノベンジ
ル）−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン(120mg)及び無水マレイン酸(31.2mg)をクロロホ
ルム(2.4ml)に溶解させ、アルゴン雰囲気下室温で４時
間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を無水
酢酸(2.4ml)に溶解させ、酢酸ナトリウム(119mg)を加え
て、アルゴン雰囲気下１００℃で１５分間攪拌した。反
応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、濾液を
減圧濃縮して得られた残渣を分取用薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝９：１）
で精製し、次いでクロロホルム−n-ヘキサンで結晶化す
ることにより、表記化合物(20.1mg)を淡黄色結晶として
得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 4.95(1H,d,
J=13.8Hz), 5.18(1H,d,J=13.8Hz), 6.85(2H,s), 7.15-
7.70(12H,m)

【０２４７】実施例９６〜９７（第３２工程） 実施例９５と同様にして、実施例９６〜実施例９７の化
合物を得た。これらを表１７に示す。 実施例９６ １−［４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン−４−イルメチル］フェニル］ピロリジ
ン−２，５−ジオン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 2.89(4H,
s), 4.95(1H,d,J=13.5Hz), 5.19(1H,d,J=13.5Hz), 7.15
-7.40(9H,m), 7.50(2H,d,J=8.4Hz), 7.64(1H,t,J=8.4H
z) 実施例９７ ２−［４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン−４−イルメチル］フェニル］イソイン
ドール−１，３−ジオン¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 4.98(1H,d,
J=12.8Hz), 5.21(1H,d,J=12.8Hz), 7.20-7.48(9H,m),
7.53(2H,d,J=8.4Hz), 7.65(1H,t,J=8.4Hz), 7.73-7.84
(2H,m),7.90-8.00(2H,m)

【０２４８】

【表１７】

【０２４９】実施例９８（第３３工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−［４−
（ピロール−１−イル）ベンジル］−４Ｈ−２，３，
４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１３１】 後述の実施例１７０に記載の４−（４−アミノベンジ
ル）−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン(100mg)の酢酸(20ml)溶液に２，５−ジメトキシ
テトラヒドロフラン(32mg)を加えて、室温で３時間、１
００℃で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られ
た残渣をクロロホルムに溶解させた。有機層を水、飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃縮し
て得られた残渣をクロロホルム−ジエチルエーテルで結
晶化することにより、表記化合物(75mg)を結晶として得
た。 融点 219.5〜220.5℃

【０２５０】実施例９９（第３４工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［４−（１−メルカ
プトイミダゾール−２−イル）ベンジル］−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン

【化１３２】 １，１−チオカルボニルジイミダゾール(106mg)及びア
ミノアセトアルデヒドジメチルアセタール(63mg)のＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド(2ml)溶液を、氷冷下１時
間、室温で終夜攪拌した。これを後述の実施例１７０に
記載の４−（４−アミノベンジル）−６−（４−クロロ
フェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン(225mg)のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド(1ml)溶液に加え、室温で１５
分間、６０℃で３時間攪拌した。反応液を放冷し、水(1
ml)を加えた後、硫酸を用いてｐＨ３として、１００℃
で３時間攪拌した。反応液を放冷し、クロロホルムで抽
出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、
濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに供した。クロロホルム：メタノール
＝１９：１溶出液より得られた残渣をクロロホルム−ジ
エチルエーテルで結晶化することにより、表記化合物(1
25mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.53(3H,s), 4.80-5.1
0(2H,m), 7.01-7.03(1H,m), 7.21-7.24(2H,m), 7.43-7.
49(7H,m), 7.57-7.60(2H,m), 7.70-7.73(2H,m), 12.33
(1H,br s)

【０２５１】実施例１００（第３５工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［４−（イミダゾー
ル−１−イル）ベンジル］−１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１３３】 実施例９９で得られた６−（４−クロロフェニル）−４
−［４−（１−メルカプトイミダゾール−２−イル）ベ
ンジル］−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ
−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン(150mg)をエタノー
ル(3ml)に溶解させ、ラネーニッケルを少量加えて、
７．５時間加熱還流させた。反応液をセライト濾過し、
濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに供した。クロロホルム：メタノール
＝１９：１溶出液より得られた残渣をクロロホルム−ジ
エチルエーテルで結晶化することにより、表記化合物(8
0mg)を結晶として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 4.80-5.26
(2H,m), 7.19-7.84(15H,m)

【０２５２】実施例１０１（第３６工程） ３−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］−ピリジン−１−オキシド

【化１３４】 後述の実施例１８０に記載の６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４−（ピリジン−３−イルメチル）
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン(20.06g)を無水ジクロロメタン(300ml)
に溶解させ、氷冷下でｍ−クロロ過安息香酸(9.07g)を
加えて、室温で１時間撹拌した。反応液を氷冷した後、
ｍ−クロロ過安息香酸を更に二回(1.5g及び0.8g)に分け
て加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、
得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、減圧濃
縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに供した。クロロホルム：メタノール＝５０：１〜
２０：１の溶出液より得られた残渣をエタノール(50ml)
に溶解し、ジエチルエーテル(50ml)を二回に分けて徐々
に加えて結晶化を行うことにより、表記化合物(7.94g)
を無色針状晶として得た。 融点 239〜240℃

【０２５３】実施例１０２〜１０５（第３６工程） 実施例１０１と同様にして、実施例１０２〜実施例１０
３の化合物を得た。これらを表１８に示す。 実施例１０２ ３−［８−クロロ−６−（２−クロロフェニル）−１−
メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチル］−ピリジン−１
−オキシド 融点 196〜197℃（結晶化溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル） 実施例１０３ ４−［２，９−ジメチル−４−フェニル−６Ｈ−５，
６，７，８，９ａ−ペンタアザチエノ［２，３−ｅ］ア
ズレン−６−イルメチル］−ピリジン−１−オキシド¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.50(3H,s), 2.63(3H,
s), 6.47(1H,s), 7.32-7.44(7H,m), 8.20(2H,d,J=4.8H
z) 実施例１０４ ４−［４−（４−クロロフェニル）−２−エチル−９−
メチル−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチエ
ノ［２，３−ｅ］アズレン−６−イルメチル］−ピリジ
ン−１−オキシド 融点 147〜150℃（結晶化溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル） 実施例１０５ ４−［４−（４−クロロフェニル）−２，３，９−トリ
メチル−６Ｈ−５，６，７，８，９ａ−ペンタアザチエ
ノ［２，３−ｅ］アズレン−６−イルメチル］−ピリジ
ン−１−オキシド 融点 159〜162℃（結晶化溶媒：酢酸エチル−ジエチル
エーテル）

【０２５４】

【表１８】

【０２５５】実施例１０６（第３７工程） ［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン−４−イル］エタナール

【化１３５】 実施例１８で得られた６−（４−クロロフェニル）−４
−（２，２−ジメトキシエチル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン(2.76g)に５０％トリフルオロ酢酸水溶液(30ml)を
加えて室温で６時間攪拌した。トリフルオロ酢酸(15ml)
を追加し、室温で終夜攪拌した。反応液に水を加え、ク
ロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で二回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。乾燥剤を濾別後、減圧濃縮して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、
クロロホルム：メタノール＝２５：１溶出液より、表記
化合物(1.1g)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 4.40-4.70
(2H,m), 7.20-7.60(7H,m), 7.60-7.80(1H,m), 9.95(1H,
s)

【０２５６】実施例１０７（第３８工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［２−（Ｎ−メトキ
シイミノ）エチル］−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，
５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１３６】 実施例１０６で得られた［６−（４−クロロフェニル）
−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］エタナール(250
mg)をピリジン(5ml)に溶解し、メトキシルアミン塩酸塩
(89mg)を加えて室温で１．５時間攪拌した。反応液を減
圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解して、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧留去
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに供し、酢酸エチル溶出液より、表記化合物(100mg)
を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 3.89(1.5H,
s), 3.94(1.5H,s), 4.50-4.90(2H,m), 6.90-7.10(0.5H,
m), 7.20-7.70(8.5H,m)

【０２５７】実施例１０８〜１０９（第３９工程） 後述の実施例２１０に記載の［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］酢酸より、
実施例６７と同様にして、実施例１０８〜実施例１０９
の化合物を得た。これらを表１９に示す。 実施例１０８ ［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン−４−イル］−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアセトア
ミド¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 3.22(3H,
s), 3.79(3H,s), 4.70-5.10(2H,br s), 7.25-7.62(8H,
m) 実施例１０９ ［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン−４−イル］アセトアミド¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.53(3H,s), 4.10-4.5
0(2H,m), 7.00-7.20(1H,m), 7.22(1H,d,J=7.2Hz), 7.30
-7.60(6H,m), 7.65-7.80(2H,m)

【０２５８】

【表１９】

【０２５９】実施例１１０（第４０工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（２−
オキソプロピル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１３７】 実施例１０８で得られた［６−（４−クロロフェニル）
−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタ
アザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］−Ｎ−メトキシ
−Ｎ−メチルアセトアミド(1.6g)を無水テトラヒドロフ
ラン(20ml)に溶解させ、−７８℃に冷却して臭化メチル
マグネシウム(12.7ml)を加えて、氷冷下１．５時間攪拌
した。反応液に１Ｎ塩酸(15ml)を滴下し、酢酸エチルで
二回抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で二回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。乾燥剤を濾別し、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、クロロ
ホルム：メタノール＝５０：１溶出液より、表記化合物
(956mg)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.22(3H,s), 2.61(3H,
s), 4.50-4.90(2H,m), 7.20-7.50(7H,m), 7.60-7.70(1
H,m)

【０２６０】実施例１１１（第４１工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−［２−（Ｎ−メトキ
シイミノ）プロピル］−１−メチル−４Ｈ−２，３，
４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１３８】 実施例１１０で得られた６−（４−クロロフェニル）−
１−メチル−４−（２−オキソプロピル）−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン
(190mg)をピリジン(5ml)に溶解させ、メトキシルアミン
塩酸塩(52mg)を加えて室温で３時間攪拌した。反応液を
減圧濃縮し、得られた残渣にクロロホルムを加えた。こ
れを飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で二回、順次洗
浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾
燥剤を濾別し、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに供し、酢酸エチル溶
出液より、表記化合物(135mg)を不定形固体として得
た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.81(3H,s), 2.61(3H,
s), 3.87(1.5H,s), 3.91(1.5H,s), 4.50-5.10(2H,m),
7.20-7.70(8H,m)

【０２６１】実施例１１２（第４２工程） ２−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチルカルボニル］ヒドラジノカルボ
アルデヒド

【化１３９】 後述の実施例２１０に記載の［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］酢酸(300m
g)より、実施例６７と同様にして、表記化合物(313mg)
を不定形固体として得た。但し、メチルアミン塩酸塩及
びトリエチルアミンの代わりにギ酸ヒドラジド(54mg)を
用いた。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.40-4.80
(2H,m), 7.10-7.80(8H,m), 8.07(1H,s), 8.90-9.20(1H,
m), 9.30-9.60(1H,m)

【０２６２】実施例１１３（第４３工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４−（１，
３，４−オキサジアゾール−２−イルメチル）−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン

【化１４０】 実施例１１２で得られた２−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イルメチルカルボ
ニル］ヒドラジノカルボアルデヒド(313mg)をアセトニ
トリル(5ml)に溶解させ、オキシ塩化リン(570μl)を加
えて１．５時間加熱還流させた。反応液に水を加え、ク
ロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で二回、水で二回、順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、減圧濃縮して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
供し、クロロホルム：メタノール＝２５：１溶出液よ
り、表記化合物(75mg)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 5.20-5.45
(2H,m), 7.20-7.50(7H,m), 7.60-7.75(1H,m), 8.41(1H,
s)

【０２６３】実施例１１４（第４４工程） ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，５，１０ｂ−テトラアザベンゾ［ｅ］アズレ
ン−４−イル］−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アセト
アミド

【化１４１】 ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，５，１０ｂ−テトラアザベンゾ［ｅ］アズレ
ン−４−イル］酢酸(350mgより)、実施例６７と同様に
して、表記化合物(290mg)を無色結晶として得た。但
し、メチルアミン塩酸塩及びトリエチルアミンの代わり
に２−アミノエタノール(69.9mg)を用いた。又、結晶化
溶媒はエタノール−n-ヘキサンを用いた。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.65(3H,s), 3.38-3.60
(4H,m), 3.70-3.80(2H,m), 4.67(1H,t,J=5.3Hz), 7.20-
7.45(7H,m), 7.70(1H,dt,J=6.0, 1.2Hz)

【０２６４】実施例１１５（第４５工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−（４，５−ジヒドロ
オキサゾール−２−イルメチル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，５，１０ｂ−テトラアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１４２】 実施例１１４で得られた６−（４−クロロフェニル）−
１−メチル−４Ｈ−２，３，５，１０ｂ−テトラアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］−Ｎ−（２−ヒドロキ
シエチル）アセトアミド(250mg)、塩化メタンスルホニ
ル(140mg)及びトリエチルアミン(0.43ml)をクロロホル
ム(10ml)に溶解させ、アルゴン雰囲気下室温で２時間攪
拌し、１．５時間加熱還流させた。反応液に飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。
有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣
を酢酸エチル−n-ヘキサンで結晶化することにより、表
記化合物(191mg)を無色結晶として得た。 融点 208〜209℃

【０２６５】実施例１１６（第４６工程） ６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，
３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン
−４−イルメチルカルボニルアミノグリシンアミド

【化１４３】 後述の実施例２１０に記載の［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］酢酸(500m
g)及びグリシンアミド塩酸塩(165mg)より、実施例６７
と同様にして表記化合物(494mg)を得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.53(3H,s), 3.50-3.8
0(2H,m), 4.10-4.70(2H,m), 7.00-8.20(11H,m)

【０２６６】実施例１１７（第４７工程） ２−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イルメチル］イミダゾール−４−オン

【化１４４】 実施例１１６で得られた６−（４−クロロフェニル）−
１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタア
ザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］−Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）アセトアミド(253mg)をピリジン(5ml)に
溶解させ、オキシ塩化リン(70μl)を加えて、８０℃で
１５分間攪拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣
に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃縮して得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供
し、クロロホルム：メタノール＝２０：１溶出液より、
表記化合物(75mg)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,DMSO-d₆) 2.54(3H,s), 4.17(2H,
d,J=5.4Hz), 4.20-4.60(2H,m), 7.10-7.80(8H,m), 8.74
(1H,t,J=5.4Hz)

【０２６７】実施例１１８（第４８工程） ３−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イル］ジアゾプロパン−２−オン

【化１４５】 後述の実施例２１０に記載の［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］酢酸(4.0g)
をテトラヒドロフラン(80ml)に懸濁させ、−５℃に冷却
してトリエチルアミン(2.3ml)及びクロロギ酸イソブチ
ル(1.55ml)を加えて、−５℃で３０分間攪拌した。次い
でこれに大過剰のジアゾメタン−ジエチルエーテル溶液
を加えて、室温で終夜攪拌した。反応液を減圧濃縮し、
得られた残渣にクロロホルム及び水を加えて分液した。
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別
し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに供し、クロロホルム：メタノー
ル＝１０：１溶出液より、表記化合物(3.81g)を不定形
固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.40-4.90
(2H,m), 5.30-5.60(1H,m), 7.20-7.80(8H,m)

【０２６８】実施例１１９（第５０工程） １−クロロ−３−［６−（４−クロロフェニル）−１−
メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］プロパン−２−オン

【化１４６】 実施例１１８で得られた３−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］ジアゾプロ
パン−２−オン(1.03g)をクロロホルム(20ml)に溶解さ
せ、氷冷下４Ｎ塩化水素−1,4-ジオキサン溶液(1.3ml)
を滴下し、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、
クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液で二回、水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃
縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに供し、クロロホルム：メタノール＝１０：１溶出
液より、表記化合物(753mg)を不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.27(2H,
s), 4.60-5.20(2H,m), 7.20-7.80(8H,m)

【０２６９】実施例１２０（第５１工程） ４−（２−アミノチアゾール−４−イルメチル）−６−
（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，
４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１４７】 実施例１１９で得られた１−クロロ−３−［６−（４−
クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，
５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イ
ル］プロパン−２−オン(753mg)をエタノール(20ml)に
溶解させ、チオ尿素(286mg)を加えて終夜加熱還流させ
た。反応液を減圧濃縮して得られた残渣に飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで二回抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、クロロ
ホルム：メタノール＝１０：１溶出液より、表記化合物
(450mg)を不定形固体として得た。 ¹H NMR(300MHz,δp
pm,DMSO-d₆) 2.53(3H,s), 4.40-4.90(2H,m), 6.29(1H,
s), 6.85(2H,s), 7.23(1H,d,J=7.8Hz), 7.40-7.80(7H,
m)

【０２７０】実施例１２１（第５２工程） ４−（２−アセトアミドチアゾール−４−イルメチル）
−６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン

【化１４８】 実施例１２０で得られた４−（２−アミノチアゾール−
４−イルメチル）−６−（４−クロロフェニル）−１−
メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベ
ンゾ［ｅ］アズレン(250mg)をクロロホルム(10ml)に溶
解させ、トリエチルアミン(164μl)及び塩化アセチル(6
3μl)を加えて、室温で３０分間，１．５時間加熱還流
させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤
を濾別し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに供し、クロロホルム：メ
タノール＝１０：１溶出液より、表記化合物(90mg)を得
た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.19(3H,s), 2.60(3H,
s), 4.80-5.40(2H,m), 6.84(1H,s), 7.10-7.70(8H,m),
9.91(1H,s)

【０２７１】実施例１２２〜２８２ 特開平８−２２５５４６号公報に記載の方法と同様にし
て、実施例１２２〜実施例２８２の化合物を得た。これ
らを表２０乃至表３５に示す。

【表２０】

【０２７２】

【表２１】

【０２７３】実施例１３８¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.62(3H,s), 5.03(1H,
m), 5.11(1H,m), 7.24-7.43(7H,m), 7.54(2H,d,J=8.8H
z), 7.68(1H,m), 8.17(2H,d,J=8.8Hz) 実施例１３９¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 5.15(1H,
m), 5.28(1H,m), 7.20-7.47(6H,m), 7.68(1H,m), 8.63
(1H,d,J=2.2Hz), 8.95(1H,t,J=2.2Hz)

【０２７４】

【表２２】

【０２７５】

【表２３】

【０２７６】

【表２４】

【０２７７】実施例１６６¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.81-4.85
(1H,m), 5.02-5.05(1H,m), 5.06(2H,s), 5.13(2H,s),
6.72-7.00(3H,m), 7.17-7.44(17H,m), 7.60-7.66(1H,m) 実施例１６８¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.56-4.60
(1H,m), 4.81-4.85(1H,m), 6.59-6.66(2H,m), 6.74-6.7
5(1H,m), 7.18-7.20(1H,d,J=7.4Hz), 7.42-7.51(5H,m),
7.68-7.75(2H,m) 実施例１６９¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.40(3H,t,J=7.2Hz), 2.
60(3H,s), 4.02(2H,q,J=7.2Hz), 4.88-5.03(2H,m), 6.8
3(2H,d,J=9.0Hz), 7.18-7.64(10H,m)

【０２７８】

【表２５】

【０２７９】

【表２６】

【０２８０】実施例１８５¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 4.92(1H,
m), 5.09(1H,m), 7.26-7.47(9H,m), 7.70(1H,dt,J=7.8,
1.6Hz)

【０２８１】

【表２７】

【０２８２】実施例１９８¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.65(2H,
s), 5.38(1H,m), 5.49(1H,m), 7.18-7.41(10H,m), 7.52
(2H,d,J=8.6Hz), 7.63(1H,dt,J=7.6, 1.4Hz)

【０２８３】

【表２８】

【０２８４】実施例２０８¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.54(2H,d,
J=6.6Hz), 6.27(1H,t,J=6.6Hz), 7.25-7.41(5H,m), 7.4
7-7.52(2H,m), 7.60-7.67(1H,m)

【０２８５】

【表２９】

【０２８６】実施例２２１¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.70(3H,s), 4.23-4.42
(2H,m), 7.36-7.52(5H,m), 7.62-7.65(2H,m), 7.72-7.7
8(1H,m)

【０２８７】

【表３０】

【０２８８】実施例２２３¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.68(3H,s), 4.25-4.40
(2H,m), 6.16-6.20(1H,m), 6.28-6.37(2H,m), 6.97-7.0
5(1H,m), 7.32-7.47(5H,m), 7.61-7.70(3H,m) 実施例２２４¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.19(3H,s), 2.67(3H,
s), 4.25-4.39(2H,m), 6.42(2H,d,J=8.2Hz), 6.71(1H,
s), 6.87(2H,d,J=8.2Hz), 7.31-7.44(5H,m), 7.61-7.66
(3H,m) 実施例２２５¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.67(3H,s), 3.82(3H,
s), 4.35(2H,m), 6.37(1H,m), 6.60-6.72(3H,m), 7.29-
7.43(6H,m), 7.61-7.64(3H,m) 実施例２２６¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.67(3H,s), 3.63(3H,
s), 3.77(3H,s), 4.31(2H,m), 5.98(1H,m), 6.07-6.11
(1H,m), 6.60-6.62(1H,d,J=6.0Hz), 7.31-7.43(6H,m),
7.60-7.64(3H,m) 実施例２２７¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.69(3H,s), 3.96-4.12
(2H,m), 7.03-7.76(13m) 実施例２３２¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.08(2H,
m), 5.34(1H,m), 7.27-7.72(13H,m)

【０２８９】

【表３１】

【０２９０】実施例２３３¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.63(3H,s), 5.40(2H,
s), 7.28-7.67(11H,m),8.03-8.07(2H,m) 実施例２３７¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 3.77(3H,
s), 3.89(3H,s), 5.34(2H,br s), 6.88(1H,d,J=6.0Hz),
7.04(1H,dd,J=3.0, 9.0Hz), 7.23-7.47(8H,m),7.59-7.
65(1H,m) 実施例２３８¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.59(3H,s), 2.73-2.88
(2H,m), 3.81-3.98(2H,m), 4.44-4.61(1H,m), 7.22-7.4
4(12H,m), 7.60-7.65(1H,t,J=7.5Hz) 実施例２３９¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 0.96-1.66(7H,m), 2.57
(3H,s), 2.88-3.47(3H,m), 3.95-4.78(4H,m), 7.13-7.6
5(13H,m) 実施例２４０¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.10-1.71(5H,m), 2.57
(3H,s), 3.20(1H,m), 3.54(1H,m), 3.74-3.83(4H,m),
4.04-4.08(2H,m), 4.52-4.59(1H,m), 5.42(1H,m), 6.80
-7.59(12H,m) 実施例２４２¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 3.74(2H,
s), 3.83(3H,s), 3.85(2H,s), 6.71-6.80(3H,m), 7.25-
7.41(7H,m), 7.60-7.66(1H,m)

【０２９１】

【表３２】

【０２９２】実施例２４３¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 3.72-3.74
(8H,m), 4.78(2H,s), 6.71-6.77(3H,m), 7.24-7.64(8H,
m) 実施例２４５¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.36(3H,s), 2.62(3H,
s), 5.07(2H,m), 7.16(2H,d,J=9Hz), 7.25-7.68(10H,m) 実施例２４８¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.98(1H,
m), 5.11(1H,m), 7.21(1H,d,J=2.4Hz), 7.25-7.31(2H,
m), 7.35-7.38(3H,m), 7.42-7.48(1H,m), 7.59(1H,dd,J
=8.7, 2.4Hz), 7.74(1H,dt,J=8.0, 1.8Hz), 8.53(1H,d
d,J=4.8, 1.6Hz), 8.67(1H,d,J=1.8Hz) 実施例２４９¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 4.98(1H,
m), 5.12(1H,m), 7.26-7.47(9H,m), 7.62(1H,dd,J=8.8,
2.4Hz), 8.55(1H,m), 8.56(1H,m) 実施例２５０¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.57(3H,s), 5.12(1H,
m), 5.28(1H,m), 7.22(1H,d,J=2.0Hz), 7.38-7.54(5H,
m), 7.80-7.89(2H,m), 7.94(2H,d,J=6.5Hz), 8.82(2H,
d,J=5.6Hz)

【０２９３】実施例２５１¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.27(3H,s), 2.55(3H,
s), 5.15(1H,m), 5.30(1H,m), 7.10(2H,d,J=8.0Hz), 7.
21(1H,d,J=2.5Hz), 7.38-7.52(7H,m), 7.79-7.88(2H,
m), 7.95(2H,d,J=6.5Hz), 8.82(2H,d,J=6.5Hz) 実施例２５４¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 4.98(1H,
m), 5.15(1H,m), 7.27-7.46(9H,m), 7.63(1H,dd,J=8.9,
4.0Hz), 8.55(2H,dd,J=4.5, 2.0Hz)

【０２９４】

【表３３】

【０２９５】実施例２６２¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.47(3H,d,J=1.1Hz), 2.
61(3H,s), 3.81(3H,s), 4.97(2H,s), 6.42(1H,q,J=1.1H
z), 6.85-6.90(2H,m), 7.32-7.49(7H,m) 実施例２６３¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.48(3H,d,J=1.5Hz), 2.
63(3H,s), 5.05(2H,s), 6.43(1H,q,J=1.5Hz), 7.25-7.4
5(6H,m), 7.79(1H,dt,J=7.5, 2.0Hz), 8.53(1H,dd,J=5.
0, 2.0Hz), 8.72(1H,d,J=2.0Hz)

【０２９６】

【表３４】

【０２９７】

【表３５】

【０２９８】実施例２８２¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 3.79(3H,s), 4.92(2H,
s), 6.83-6.87(2H,m), 6.97(1H,d,J=1.8Hz), 7.06-7.41
(9H,m), 7.51-7.57(1H,m)

【０２９９】実施例２８３〜２９８ 国際公開ＷＯ９３／０７１２９号明細書に記載の方法と
同様にして、実施例２８３〜２９８の化合物を得た。こ
れらを表３６乃至表３７に示す。

【表３６】

【０３００】

【表３７】

【０３０１】実施例２９９（第４４工程） ４−［６−（４−クロロフェニル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−４−イル］−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ア
セトアミド

【化１４９】 実施例２１０に記載の４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］酢酸(1.06g
より)、エタノールアミン(209μl)より、実施例６７と
同様にして、表記化合物(940mg)を得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 3.20-3.80
(5H,m), 4.54(2H,s), 7.10-7.80(9H,m)

【０３０２】実施例３００（第４５工程） ６−（４−クロロフェニル）−４−（４，５−ジヒドロ
オキサゾール−２−イルメチル）−１−メチル−４Ｈ−
２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズ
レン

【化１５０】 実施例２９９で得られた４−［６−（４−クロロフェニ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−４−イル］−Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）アセトアミド(250mg)より、実施
例１１５と同様にして、表記化合物(189mg)を得た。但
し、精製はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：１）を用い
た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.59(3H,s), 3.88(2H,t,
J=9.4Hz), 4.28(2H,t,J=9.4Hz), 7.20-7.80(8H,m)

【０３０３】実施例３０１（第９工程） ４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−４Ｈ
−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］ア
ズレン−６−イル］フェニルカルバミン酸 エチルエス
テル

【化１５１】 実施例４４で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］安息香酸
(4.0g)より、実施例４７と同様にして、表記化合物(3.4
8g)を得た。但し、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールの代わ
りにエタノール(20ml)を用いた。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 1.31(3H,t,J=7.2Hz), 2.
61(2H,s), 4,23(2H,q,J=7.2Hz), 4.87-5.10(2H,m), 6.8
3(1H,s), 7.24-7.39(11H,m), 7.60-7.65(1H,m)

【０３０４】実施例３０２（第５２工程） ４−（４−クロロベンジル）−１−メチル−６−（４−
メチルアミノフェニル）−４Ｈ−２，３，４，５，１０
ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］アズレン

【化１５２】 実施例３０１で得られた４−［４−（４−クロロベンジ
ル）−１−メチル−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペ
ンタアザベンゾ［ｅ］アズレン−６−イル］フェニルカ
ルバミン酸 エチルエステル(1.50g)のテトラヒドロフ
ラン(15ml)液を、氷冷下、水素化リチウムアルミニウム
(140mg)のテトラヒドロフラン懸濁液に５分間かけて滴
下し、室温で３時間攪拌した。反応液を氷冷し、水(0.1
4ml)及びテトラヒドロフラン(3ml)の混合液を加えた
後、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液(0.14ml)、水(0.42ml)
を順次加えた。室温で２０分間攪拌した後、不溶物を濾
別した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をクロロホル
ムに溶解させ、飽和塩化ナトリウム水溶液(20ml)で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥剤を濾別
し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに供し、クロロホルム：メタノー
ル＝９８：２〜９７：３溶出液より、表記化合物(874m
g)を淡黄色不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.60(3H,s), 2.85(3H,
s), 4,01(1H,br s), 4.86-5.06(2H,m), 6.50(2H,d,J=8.
7Hz), 7.21-7.36(9H,m), 7.58-7.63(1H,m)

【０３０５】実施例３０３（第５３工程） ３−［４−［４−（４−クロロベンジル）−１−メチル
−４Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ
［ｅ］アズレン−６−イル］フェニル］−１，１，３−
トリメチルウレア

【化１５３】 実施例３０２で得られた４−（４−クロロベンジル）−
１−メチル−−６−（４−メチルアミノフェニル）−４
Ｈ−２，３，４，５，１０ｂ−ペンタアザベンゾ［ｅ］
アズレン(824mg)及びトリエチルアミン(583mg)のテトラ
ヒドロフラン(10ml)溶液に、氷冷下、トリホスゲン(228
mg)を加え、室温で１時間攪拌した。再び氷冷した後、
２Ｍジメチルアミン−テトラヒドロフラン溶液(4.80ml)
を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を０．３Ｎ塩酸
(50ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml)で抽出した。有機層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(30ml)、飽和塩化ナト
リウム水溶液(30ml)で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた。乾燥剤を濾別後、濾液を減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに供
し、酢酸エチル：メタノール＝９６：４〜クロロホル
ム：メタノール＝９５：５溶出液より、表記化合物(292
mg)を淡黄色不定形固体として得た。¹ H NMR(300MHz,δppm,CDCl₃) 2.61(3H,s), 2.72(6H,
s), 3.22(3H,s), 4.88-5.10(2H,m), 6.97(2H,d,J=7.2H
z), 7.25-7.42(9H,m), 7.61-7.67(1H,m)

【０３０６】試験例 次に、本発明化合物の生物活性について試験した。 試験例１ ヒトＴ細胞株（ＨＰＢ−ＡＬＬ）のＦａｓリガンド産生
抑制 ＨＰＢ−ＡＬＬはヒト白血病患者から樹立された、ＣＤ
４陽性、恒常的・機能的Ｆａｓ陽性ヒトＴ細胞株であ
る。ＨＰＢ−ＡＬＬはＦａｓリガンド様のＣＨ−１１抗
体〔米原ら、ジャーナル オブ エクスペリメンタル
メディシン，１６９巻，１７４７〜１７５６頁（１９８
９年）[J. Exp. Med., 169, 1747-1756 (1989)〕の添加
により、 アポトーシス型細胞死を起こす。この細胞に
ＰＭＡ（4-α-Phorbol-12-myristate-13-acetate）とイ
オノマイシンを同時添加した時、顕著なＦａｓリガンド
の産生とそれに伴うアポトーシスが起きる。 ヒトＦａｓリガンドの検出 ＨＰＢ−ＡＬＬ細胞を１０％ＦＣＳ（ウシ胎児血清）／
ＲＰＭＩ１６４０培地で培養した。この後、試験化合物
を最終濃度0.01〜10μMになるように加え、ＰＭＡとイ
オノマイシンを各最終濃度10ng/ml、2μg/mlになるよう
に加えた。さらにメタロプロテアーゼ阻害剤を最終濃度
10μM添加した。５時間の培養後、ヒトＦａｓリガンド
特異的マウスモノクローナル抗体と蛍光標識抗マウス抗
体で細胞表面Ｆａｓリガンドを染色した。検出はフロー
サイトメーター〔ベクトンディッキンソン(Becton Dick
inson)社〕を用いて行った。この結果を表３８にＩＣ₅₀
値で示した。

【０３０７】

【表３８】

【０３０８】試験例２ ヒトＴ細胞株（ＨＰＢ−ＡＬＬ）のアポトーシス抑制活
性 試験化合物を最終濃度0.01〜10μMになるようにＨＰＢ
−ＡＬＬに加え、ＰＭＡとイオノマイシンを各最終濃度
10ng/ml、2μg/mlになるように加えた。１５時間の培養
後、生細胞の検出を行った。 生細胞の検出 アポトーシスの抑制活性は細胞の生存を指標に行った。
即ちＭＴＴ〔3-(4,5-Dimethylthiazol-2-yl)-2,5-diphe
nyltetrazolium bromide〕と同様の機能を有するＷＳＴ
−１〔4-[3-(4-Iodophenyl)-2-(4-nitrophenyl)-2H-5-t
etrazolio]-1,3-benzenedisulfonate、ベーリンガーマ
ンハイム(Boehringer Mannheim)社〕を用いて行った。
ＷＳＴ−１の添加後４時間培養し、吸収波長450nmの吸
光度測定により検出した。この結果を表３９にＩＣ₅₀値
で示した。

【０３０９】

【表３９】

【０３１０】試験例３ ヒト末梢血単核球細胞（ＰＢＭＣ；Peripheral Blood M
ononuclear Cell）からのＴＮＦ−α産生抑制活性 ヒトＰＢＭＣの分離と培養 ヘパリン含有輸血バッグを用いて採血した健常人血液か
らFicoll-Paque〔商品名，ファルマシアバイオテック(P
harmacia Biotech)社〕を用いＰＢＭＣ画分を分離し
た。この細胞（ＰＢＭＣ）を１０％ＦＣＳ（ウシ胎児血
清）／ＲＰＭＩ１６４０培地で培養した。この後、試験
化合物を最終濃度0.01〜10μMになるように加え、ＬＰ
Ｓ（リポポリサッカライド；lipopolysaccaride）を最
終濃度10μg／mlになるように加えた。２４時間培養し
た上清を分取し、−８０℃にて凍結保存した。 ＴＮＦ−αの測定 測定当日、培養上清を解凍し、ＴＮＦ−α含有量をＥＬ
ＩＳＡ〔アマシャム(Amersham)社〕を用い定量した。方
法はＥＬＩＳＡキットの測定法に従った。この結果を表
４０にＩＣ₅₀値で示した。

【０３１１】

【表４０】

【０３１２】試験例４ ヒト末梢血単核球細胞（ＰＢＭＣ；Peripheral Blood M
ononuclear Cell）からのＩＬ−２産生抑制活性 ヒトＰＢＭＣの分離と培養 ヘパリン含有輸血バッグを用いて採血した健常人血液か
らFicoll-Paque（商品名）を用いＰＢＭＣ画分を分離し
た。この細胞（ＰＢＭＣ）を１０％ＦＣＳ（ウシ胎児血
清）／ＲＰＭＩ１６４０培地で培養した。この後、試験
化合物を最終濃度0.01〜10μMになるように加え、ｃｏ
ｎ Ａ（コンカナバリンＡ；concanavalin A）を最終濃
度10μg／mlになるように加えた。１５時間培養した上
清を分取し、−８０℃にて凍結保存した。 ＩＬ−２の測定 測定当日、培養上清を解凍し、ＩＬ−２含有量をＥＬＩ
ＳＡ〔カイマン(CAYMAN)社〕を用いて定量した。方法は
ＥＬＩＳＡキットの測定法に従った。この結果を表４１
にＩＣ₅₀値で示した。

【０３１３】

【表４１】

【０３１４】試験例５ ヒトＰＢＭＣのＨＩＶ−１増殖抑制活性 健常人末梢血液から分離したＰＢＭＣを2μg/mlのＰＨ
Ａ（フィトヘマグルチニン；Phytohemagglutinin）で刺
激した。３日後、試験化合物を最終濃度0.001〜20μMに
なるように加え、ＨＩＶ−１をm.o.i（mulitiplicity o
f infection）=0.1にて感染させた。７日間培養後、Ｈ
ＩＶ−１増殖は上清中のＨＩＶ−１抗原ｐ２４量をanti
gen capture ELISA（Cellular社）により測定し、検出
した。方法はＥＬＩＳＡキットの測定法に従い、結果を
表４２にＩＣ₅₀値で示した。

【０３１５】

【表４２】

【０３１６】試験例６ Ｃｏｎ Ａ刺激による生体内ＦａｓリガンドｍＲＮＡ上
昇の抑制活性 マウスの脾臓細胞をｃｏｎ Ａ（concanavalin A）で刺
激すると、細胞内のＦａｓリガンドｍＲＮＡ量が増加す
る〔ジャーナル オブ イミュノロジー，１５４巻，３
８０６〜３８１３頁（１９９５年）[J. Immunol., 154,
3806-3813 (1995)〕。又、マウスにｃｏｎ Ａを静脈
投与すると、ＴＮＦ−α，ＩＮＦ−γ等の血中濃度が上
昇する〔ジャーナル オブ エクスペリメンタル メデ
ィシン，１７９巻，１５２９〜１５３７頁（１９９４
年）[J. Exp. Med., 179, 1529-1537 (1994)〕。本発明
者らはこの時、肝、脾臓中のＦａｓリガンドｍＲＮＡ量
が増加することを見い出した。マウスは正常体において
も肝細胞膜上に高頻度でＦａｓを発現しており〔ネイチ
ャー，３６４巻，８０６〜８０９頁（１９９３年）[Nat
ure, 364, 806-809 (1993)〕、Ｆａｓ−Ｆａｓリガンド
システムが肝障害の一因となっている可能性が示唆され
ている〔ネイチャー メディシン，３巻，４０９〜４１
３頁（１９９７年）[Nature med., 3, 409-413 (199
7)〕。

【０３１７】７週齢、雌性Ｃ５７ＢＬ／６マウスに、
０．５％ＣＭＣ−Ｎａ（カルボキシメチルセルロースナ
トリウム）に懸濁した試験化合物を10mg/kgの用量で経
口投与した。１時間後、生理食塩水で調製したｃｏｎ
Ａを15mg/kgの用量で静脈内投与した。さらに１時間
後、脾臓を摘出し液体窒素で急速冷凍し−８０℃保存し
た。常法に従い脾臓中よりｍＲＮＡを抽出し、³²Ｐラベ
ルＲＴ−ＰＣＲ法によりマウスＦａｓリガンドｍＲＮＡ
を増幅した。検出はノーザンブロッティングの後、ドッ
トの³²ＰカウントをＢＡＳ２０００（富士フィルム社）
デンシトロメーターを用いて行った。又、ＨＰＲＴ（ヒ
ポキサンチンホスホリボシルトランスフェラーゼ；Hypo
xantinephosphoribosyltransferaze）量を対照とし、補
整を行った。０．５％ＣＭＣ−Ｎａ投与群の脾臓中マウ
スＦａｓリガンドｍＲＮＡ上昇に対する試験化合物投与
群の抑制率（阻害％）を算出し、その結果を表４３に示
した。

【０３１８】

【表４３】

【０３１９】試験例７ マウスｃｏｎ Ａ肝炎の抑制活性 ７週齢、雌性Ｃ５７ＢＬ／６マウスに０．５％ＣＭＣ−
Ｎａ（カルボキシメチルセルロースナトリウム）に懸濁
した試験化合物を、10mg/kgの用量で経口投与した。直
ちに、生理食塩水で調製したｃｏｎ Ａ（concanavalin
A）を10mg/kgの用量で静脈内投与した。２４時間後、
眼底より採血を行い、遠心分離後した。血漿画分を希釈
しＡＬＴ（アラニンアミノトランスフェエラーゼ；Alan
ine aminotransferase）（ＧＰＴ）を測定し、０．５％
ＣＭＣ−Ｎａ投与群の血中ＧＰＴ増加に対する試験化合
物投与群の抑制率（阻害％）を算出し、その結果を表４
４に示した。

【０３２０】

【表４４】

【０３２１】

【発明の効果】本発明に係る前記一般式〔Ｉ〕で示され
る化合物は、上記試験例からも明かな通り、Ｆａｓリガ
ンド産生抑制活性、ＴＮＦ−α産生抑制活性、Ｆａｓリ
ガンドｍＲＮＡ上昇抑制活性を有し、それに基づく優れ
たアポトーシス抑制活性を有すると共に、ＨＩＶ増殖抑
制活性、肝炎抑制活性等を有する。しかも、Ｔ細胞増殖
活性及びアポトーシス阻害活性を有するＩＬ−２の産生
に対しては極めて弱い抑制活性しか示さない。それ故、
本発明に係る一般式〔Ｉ〕で示される化合物は、ＨＩＶ
等に対する抗ウイルス作用をも合わせ持つ。従って、こ
れらの化合物は過剰のアポトーシスが原因で起こる疾
患、例えばエイズ、肝炎、ＧＶＨＤ、自己免疫疾患、潰
瘍性大腸炎等の予防及び治療に有効であると考えられ
る。本発明化合物は抗ウイルス作用を有することから、
極めて有用な抗ウイルス薬となることが期待される。

【化５１】

【化５１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 馬場 昌範 鹿児島県鹿児島市皇徳寺台３丁目54番19号

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｆａｓリガンド産生抑制作用及びＴＮＦ
   −α産生抑制作用を有する化合物を含有してなるアポト
   ーシス抑制剤であって、該化合物がトリアゼピン又はジ
   アゼピンからなる七員環と２乃至４個の窒素原子を含む
   五員環との縮合環化合物であることを特徴とするアポト
   ーシス抑制剤。
2. 【請求項２】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 〔式中、Ｒ¹は置換されてもよいアリール基又は置換さ
   れてもよいヘテロアリール基を表し；Ｒ²は水酸基，低
   級アルコキシ基，アラルキルオキシ基又は 【化２】 ［ここで、Ｒ³は水素原子，低級アルキル基，シクロア
   ルキル基，低級アルキニル基，シアノ基，アシル基，置
   換されてもよいアリール基，置換されてもよいヘテロア
   リール基，−ＣＲ⁶＝ＣＲ⁷Ｒ⁸ （ここで、Ｒ⁶，Ｒ⁷及
   びＲ⁸は同一又は異なって水素原子，ハロゲン原子，低
   級アルキル基又は置換されてもよいアリール基を表
   す。），−ＣＲ⁹＝Ｎ−Ｒ¹⁰ （ここで、Ｒ⁹は水素原子
   又は低級アルキル基を表し、Ｒ¹⁰は低級アルキル基、水
   酸基又は低級アルコキシ基を表す。），−（ＣＨ₂）_j−
   ＯＲ¹¹ （ここで、Ｒ¹¹は低級アルキル基又は置換され
   てもよいアリール基を表し、ｊは０又は１乃至５の整数
   を表す。），−（ＣＨ₂）_j−ＣＯ₂Ｒ¹² （ここで、Ｒ
   ¹²は水素原子，低級アルキル基，シクロアルキル基，置
   換されてもよいアリール基，アラルキル基又は置換され
   てもよいヘテロアリール基を表し、ｊは前記と同様の意
   味を表す。），−ＣＯＮＲ²⁵Ｒ²⁶ ＜ここで、Ｒ²⁵，Ｒ
   ²⁶はそれぞれ同一又は異なって水素原子、低級アルキル
   基、シクロアルキル基、アラルキル基、低級アルコキシ
   基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘ
   テロアリール基又はＲ²⁵とＲ²⁶が一緒になって−（ＣＨ
   ₂）_p−Ｚ−（ＣＨ₂）_r− ｛ここで、Ｚは酸素原子、Ｎ
   −Ak （Akは前記と同様の意味を表す。）又は単結合を
   表し、ｐ，ｒは同一又は異なって１乃至３の整数を表
   す。）を表す。｝を表す。＞，−ＣＯＮＨＮＨＣＨＯ
   ， 【化３】 （ここで、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は同一又は異なって水素原子，
   低級アルキル基，低級アルコキシ基，水酸基，ハロゲン
   原子，ニトロ基又はアミノ基を表し、Akは低級アルキル
   基を表し、Ｒ¹²は前記と同様の意味を表す。）又は−Ｘ
   −Ｙ ｛ここで、Ｘは−（ＣＨ₂）_k− ，−ＣＯ− ，
   −ＣＯＣＨ₂− ，−ＮＨ−，−ＮＨＣＨ₂− ，−ＣＨ
   ₂ＮＨ− ，−ＣＨ₂ＮＨＣＯ− ，−ＯＣＨ₂− ，−
   （ＣＨ₂）_kＯ− 又は −ＣＨ₂Ｓ− （ここで、ｋは
   １乃至４の整数を表す。）を表し、Ｙはハロゲン原子，
   シクロアルキル基，アミノ基，一若しくは二置換アミノ
   基，置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘ
   テロアリール基又は−Ｎ₂ を表す。｝を表し、Ｒ⁴は水
   素原子，水酸基，ハロゲン原子又は低級アルキル基を表
   し、Ｒ⁵は水素原子又はハロゲン原子を表すか、あるい
   はＲ⁴とＲ⁵が一緒になってそれらが結合する炭素原子と
   ともにカルボニル基を形成する。］を表すか、あるいは
   ＢがＣＨ基を表すとき、 【化４】 （ここで、Ｒ_a，Ｒ_bは同一又は異なって水素原子，低級
   アルキル基，シクロアルキル基，シクロアルキルアルキ
   ル基，アラルキル基，置換されてもよいアリール基，置
   換されてもよいヘテロアリール基，ヘテロアリールアル
   キル基又はアシル基を表し、Ｒ_c，Ｒ_c’は同一又は異な
   って水素原子、低級アルキル基又はアラルキル基を表
   し、Ｒ_dは低級アルキル基，低級アルケニル基，低級ア
   ルキニル基，シクロアルキル基，シクロアルキルアルキ
   ル基，アラルキル基，置換されてもよいアリール基，置
   換されてもよいヘテロアリール基又はヘテロアリールア
   ルキル基を表し、Ｕは酸素原子又は硫黄原子を表し、ａ
   は０，１又は２を表し、ｍは０又は１乃至６の整数を表
   す。）を表し；環Ａは 【化５】 ｛ここで、Ｒ¹⁵，Ｒ¹⁶は同一又は異なって水素原子，ハ
   ロゲン原子，低級アルキル基（該低級アルキル基はハロ
   ゲン原子，水酸基，低級アルコキシ基，カルボキシ基，
   シアノ基，ニトロ基，アミノ基，一若しくは二置換アミ
   ノ基，低級アルコキシカルボニル基，アラルキルオキシ
   カルボニル基，カルバモイル基，一若しくは二置換アミ
   ノカルボニル基又はアシルオキシ基により置換されても
   よい。），シクロアルキル基，アラルキル基，低級アル
   キル基で置換されたアラルキル基，低級アルケニル基，
   低級アルキニル基，水酸基，低級アルコキシ基，カルボ
   キシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ基，一若しくは二
   置換アミノ基，低級アルコキシカルボニル基，アラルキ
   ルオキシカルボニル基，カルバモイル基，一若しくは二
   置換アミノカルボニル基，アシル基又はアシルオキシ基
   を表す。｝を表し；Ｂは窒素原子又はＣ−Ｒ¹⁷ ｛ここ
   で、Ｒ¹⁷は水素原子又は−ＣＯ₂Ｒ¹⁸ （ここで、Ｒ¹⁸
   は水素原子，低級アルキル基，置換されてもよいアリー
   ル基又はアラルキル基を表す。）を表すか、Ｒ²と一緒
   になってそれらが結合する炭素原子とともに 【化６】 （ここで、Ｒ¹⁹は水素原子，低級アルキル基，シクロア
   ルキル基，シクロアルキルアルキル基，アラルキル基，
   置換されてもよいアリール基，置換されてもよいヘテロ
   アリール基又はヘテロアリールアルキル基を表し、Ｒ²⁰
   は水素原子，低級アルキル基又はアラルキル基を表し、
   ｎは０又は１を表す。）を表す。｝を表し；Ｖは窒素原
   子又はＣ−Ｒ²¹ （ここで、Ｒ²¹は水素原子又は低級ア
   ルキル基を表す。）を表し；Ｗは窒素原子又はＣＨ基を
   表す。〕で示される化合物又はその医薬的に許容される
   塩を含有してなるアポトーシス抑制剤。
3. 【請求項３】 一般式〔Ｉ〕のうち、Ｂが窒素原子であ
   る化合物又はその医薬的に許容される塩を含有してなる
   請求項２に記載のアポトーシス抑制剤。
4. 【請求項４】 一般式〔Ｉ〕で示される化合物又はその
   医薬的に許容される塩を含有してなる抗ウイルス剤。
5. 【請求項５】 ウイルスがＨＩＶである請求項４に記載
   の抗ウイルス剤。
6. 【請求項６】 一般式〔II〕 【化７】 〔式中、Ｒ²¹’は水素原子又は低級アルキル基を表し、
   Ｒ²²，Ｒ²³は同一又は異なって水素原子，低級アルキル
   基又はアリール基を表すか、Ｒ²²とＲ²³が一緒になって 【化８】 （ここで、Ｚ、ｐ、ｒはそれぞれ前記と同様の意味を表
   す。）を表し；Ｒ²，環Ａ，Ｂ，Ｖ，Ｗはそれぞれ前記
   と同様の意味を表す。〕で示される化合物又はその医薬
   的に許容される塩。
7. 【請求項７】 一般式〔III〕 【化９】 〔式中、Ｒ³’は 【化１０】 ［ここで、Ｒ_eはピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾ
   リル基、イソオキサゾリル基、低級アルキル基で置換さ
   れてもよいトリアゾリル基、［１，３，４］オキサジア
   ゾリル基、［１，２，３］チアジアゾリル基、イミダゾ
   リニル基、オキサゾリニル基、２−オキソイミダゾリジ
   ニル基、ベンズイミダゾリル基、フタルイミド基、マレ
   イミド基又は 【化１１】 （ここで、Ｒ²⁵，Ｒ²⁶はそれぞれ前記と同様の意味を表
   す。）を表し、Ｒ_f，Ｒ_gはそれぞれ水素原子を表すか又
   はＲ_fとＲ_gが一緒になってカルボニル基を表し、Ｔは酸
   素原子，硫黄原子又はＮＨ基を表す。］を表す。〕で示
   される化合物又はその医薬的に許容される塩。