JPH11186373A - Substrate processing equipment - Google Patents
Substrate processing equipmentInfo
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- JPH11186373A JPH11186373A JP36496297A JP36496297A JPH11186373A JP H11186373 A JPH11186373 A JP H11186373A JP 36496297 A JP36496297 A JP 36496297A JP 36496297 A JP36496297 A JP 36496297A JP H11186373 A JPH11186373 A JP H11186373A
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- Japan
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- cassette
- positioning
- wafer
- loading
- mounting table
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 作業者がウエハなどの基板を収納するカセッ
トを例えば基板処理装置の搬入出ステージに置くときに
位置決めが用であり、しかも自動搬送ロボットによるカ
セットの搬送時にも支障にならないようにすること。
【解決手段】 蓋22の付いたクローズ型カセット2の
台座24に例えば3つの凹部を設け、この凹部に夫々嵌
合するピン31を搬入出ステージ3上に形成し、凹部及
びピン31の嵌合によりカセット2が位置決めされる。
そして搬入出ステージ3に、台座24の後側の両角に輪
隔に沿うように例えば塗料によりカギ型のマーク8を形
成しておき、作業者がカセット2を搬入出ステージ3に
置くときの位置決めの目安とする。
(57) [Problem] To perform positioning when an operator places a cassette for storing substrates such as wafers on, for example, a loading / unloading stage of a substrate processing apparatus. Not to be. SOLUTION: For example, three recesses are provided in a pedestal 24 of a closed type cassette 2 having a lid 22, and pins 31 respectively fitted in the recesses are formed on a loading / unloading stage 3, and the recesses and the pins 31 are fitted. , The cassette 2 is positioned.
A key-shaped mark 8 is formed on the carry-in / out stage 3 by, for example, paint at both rear corners of the pedestal 24 along the wheel gap, and positioning is performed when an operator places the cassette 2 on the carry-in / out stage 3. As a guideline.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなど
の基板の搬送用容器であるカセット内から基板を取り出
し、この基板に対して処理を行うための基板処理装置に
関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a substrate processing apparatus for taking out a substrate from a cassette, which is a container for transporting a substrate such as a semiconductor wafer, and processing the substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体ウエハ(以下「ウエハ」という)
を熱処理するための縦型熱処理装置や、レジストを塗布
し、現像処理を行うための塗布/現像装置は、ウエハを
処理ユニットに対して搬入出するための搬入出ポートを
備えており、ウエハを所定枚数収納した搬送用容器であ
るウエハカセットが例えば自動搬送ロボットにより搬入
出ポートに搬入される。そして例えば縦型熱処理装置で
あれば、カセット移載機によりウエハカセットが搬入出
ポートから装置内部のストッカを介してウエハ受け渡し
ステージに移載され、塗布/現像装置であれば、搬入出
ポート上のウエハカセットからウエハアームによりウエ
ハが順次取り出される。2. Description of the Related Art Semiconductor wafers (hereinafter referred to as "wafers")
A vertical heat treatment apparatus for heat-treating the wafer and a coating / developing apparatus for applying and developing a resist are provided with a loading / unloading port for loading / unloading the wafer into / from the processing unit. A wafer cassette, which is a transfer container storing a predetermined number of sheets, is carried into the carry-in / out port by, for example, an automatic carrying robot. For example, in the case of a vertical heat treatment apparatus, a wafer cassette is transferred from a carry-in / out port to a wafer transfer stage via a stocker inside the apparatus by a cassette transfer machine. Wafers are sequentially taken out of the wafer cassette by a wafer arm.
【0003】従って搬入出ポートではウエハカセットは
載置台のウエハに位置決めされて置かれることが必要で
ある。そこで最近においてウエハカセットの構造に対し
て規格化が進められており、今までまちまちだった位置
決めの手法についてもウエハカセットの底部の決められ
た3ヶ所の位置に、決められた大きさの凹部を形成する
一方、載置台の上に前記凹部に係合する係合ピンを設
け、凹部とピンとが係合することで位置決めを行うとい
う統一的な構造を採用することになった。[0003] Therefore, at the loading / unloading port, the wafer cassette needs to be positioned and placed on the wafer on the mounting table. Therefore, the standardization of the structure of the wafer cassette has recently been promoted. Regarding the positioning method which has been various so far, a concave portion having a predetermined size is formed at three predetermined positions on the bottom of the wafer cassette. On the other hand, an integrated pin is provided on the mounting table to engage with the concave portion, and the concave portion and the pin engage with each other to perform positioning.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで装置のメンテ
ナンス時や立上げ時には、作業者がウエハカセットを搬
入出ポートの載置台の上に置くことになるが、この場合
図7に示すように作業者1から載置台11側のピン12
がウエハカセット13に隠れて見えないため、前後左右
にウエハカセット13を動かしながらいわばあたりを付
けてピンと凹部とが係合する位置を探さなければならな
い。ウエハサイズの大口径化に伴ってウエハカセットも
大型化していることから、手の位置の狂いに対して位置
ずれの程度が大きく、このため位置合わせがやりずら
く、更にウエハカセットの重量も大きいので作業者に大
きな負担をかけることになる。At the time of maintenance or start-up of the apparatus, an operator places the wafer cassette on the mounting table of the loading / unloading port. In this case, as shown in FIG. 1 to 12 on the mounting table 11 side
Is hidden behind the wafer cassette 13 and cannot be seen. Therefore, it is necessary to move the wafer cassette 13 back and forth and right and left so as to find a position where the pin and the recess engage with each other. Since the wafer cassette has been increased in size as the wafer size has increased, the degree of misalignment due to misalignment of the hand has been large, making it difficult to perform the alignment and increasing the weight of the wafer cassette. This places a heavy burden on workers.
【0005】そこで載置台に例えばフッ素樹脂などによ
り前記係合ピンよりも高いガイドブロックを左右に設け
てこれらブロックの間にウエハカセットを嵌め込むよう
にする、あるいはウエハカセットの背面に上下に沿って
伸びる切り欠きを形成し、この切り欠きに適合するテー
パピンを載置台上に立てたりする手法も検討されてい
る。しかしながらこのような手法は、自動継続ロボット
によりウエハカセットを載置台上に供給するときには障
害物となるため取り外さなければならず、例えばメンテ
ナンスを終了して運転を再開するときにはその都度ガイ
ドブロックやテーパピンの取り外し作業が必要になる。Therefore, guide blocks higher than the engaging pins are provided on the mounting table on the left and right sides by, for example, a fluororesin or the like, and the wafer cassette is fitted between the blocks, or the guides are vertically arranged on the rear surface of the wafer cassette. A method of forming a notch that extends and setting a taper pin that fits the notch on a mounting table is also being studied. However, such a method becomes an obstacle when the wafer cassette is supplied onto the mounting table by the automatic continuation robot and must be removed because, for example, when the maintenance is completed and the operation is restarted, the guide block or the taper pin must be removed each time. Removal work is required.
【0006】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は作業者がウエハなどの基板を収納
するカセットを載置台に置くときに位置決めが容易であ
り、しかもカセット搬送手段によるカセットの搬送時に
も支障にならない基板処理装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made under such circumstances, and an object thereof is to facilitate positioning when a worker places a cassette for storing substrates such as wafers on a mounting table, and furthermore, to transport cassettes. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus which does not hinder the transfer of a cassette by the above.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、複数の基板の
搬送用容器であるカセット内から基板を取り出し、この
基板に対して処理を行うための基板処理装置において、
前記カセットを載置するための載置台と、前記カセット
の底面に設けられた位置決め用の係合部と、前記載置台
上に設けられ、前記係合部に係合してカセットの位置決
めが行われる位置決め用の被係合部と、前記載置台との
間でカセットの受け渡しを行うカセット搬送手段と、前
記載置台に位置決めされたカセットの周部の輪郭の少な
くとも一部に対応するように載置台に設けられ、前記位
置決め用の被係合部よりも高さの低い位置決め用のマ−
クと、を備えたことを特徴とする。この場合、例えばカ
セットに設けられた位置決め用の係合部は凹部であり、
載置台に設けられた位置決め用の被係合部は凸部であ
る。According to the present invention, there is provided a substrate processing apparatus for taking out a substrate from a cassette, which is a container for transporting a plurality of substrates, and performing processing on the substrate.
A mounting table for mounting the cassette, a positioning engaging portion provided on a bottom surface of the cassette, and a positioning table provided on the mounting table, and engaging with the engaging portion to perform positioning of the cassette; A cassette receiving means for transferring the cassette between the positioning engaged portion to be mounted, the cassette, and the mounting table, and mounting the cassette so as to correspond to at least a part of the contour of the peripheral portion of the cassette positioned on the mounting table. A positioning mark provided on the mounting table and having a height lower than the positioning engaged portion.
, And is provided. In this case, for example, the engaging portion for positioning provided in the cassette is a concave portion,
The engaged portion for positioning provided on the mounting table is a convex portion.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明を縦型熱処理装置に適用し
た実施の形態について説明する。図1はこの実施の形態
に係る縦型熱処理装置の全体構成を概略的に示す斜視図
であり、図1では図示の便宜上装置の外装部や内部の壁
部などは省略してある。この熱処理装置は、基板例えば
ウエハの搬送用容器であるカセット2の搬入出ポートを
なす搬入出ステージ3と、カセット2を一時的に収納し
ておくカセット収納部であるカセット収納棚(ストッ
カ)41と、カセット2内のウエハをウエハボート42
に移載し、ウエハボート42を処理部である熱処理炉4
3内にローディングするローディングエリア44とを備
えている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is applied to a vertical heat treatment apparatus will be described. FIG. 1 is a perspective view schematically showing the entire configuration of a vertical heat treatment apparatus according to this embodiment. In FIG. 1, exterior parts and internal walls of the apparatus are omitted for convenience of illustration. This heat treatment apparatus includes a loading / unloading stage 3 serving as a loading / unloading port for a cassette 2 which is a container for transporting a substrate, for example, a wafer, and a cassette storage shelf (stocker) 41 serving as a cassette storage unit for temporarily storing the cassette 2. And the wafers in the cassette 2
And the wafer boat 42 is moved to the heat treatment furnace 4
3 is provided with a loading area 44 for loading.
【0009】この実施の形態では搬入出ステージ3に特
徴があるが、他の部分についても簡単に述べておく。搬
入出ステージ3は載置台に相当する部分であり、これの
奥側には、カセット移載機5が設けられている。このカ
セット移載機5は、昇降ガイド51に沿って昇降可能な
昇降基体52と、この昇降基体52に設けられ、搬入出
ステージ3から見て前後に動作可能な水平関節アームよ
りなる移載アーム53とを備え、カセット2を吊り下げ
て、搬入出ステージ3、カセット収納棚41及び後述の
ウエハ受け渡し用の保持台45間でカセット2を移載す
る役割をもつ。In this embodiment, the carry-in / out stage 3 is characterized, but other parts will be briefly described. The loading / unloading stage 3 is a portion corresponding to a mounting table, and a cassette transfer machine 5 is provided behind the loading stage. The cassette transfer machine 5 includes a lift base 52 that can be moved up and down along a lift guide 51, and a transfer arm that is provided on the lift base 52 and that is a horizontal joint arm that can move back and forth as viewed from the loading / unloading stage 3. 53, and has a role of suspending the cassette 2 and transferring the cassette 2 between the carry-in / out stage 3, the cassette storage shelf 41, and a wafer transfer table 45 described later.
【0010】前記ローディングエリア44は図示しない
壁部により囲まれて外部に対しては密閉されており、例
えば窒素ガス雰囲気とされている。前記ウエハ受け渡し
用の保持台45はローディングエリアを囲む壁の外に設
けられている。カセット2が前記保持台45に置かれる
と、既述の壁部に設けられた開口部を塞ぐ蓋体とカセッ
ト2の蓋体とが同時に開かれ、ウエハ移載機46により
カセット2内のウエハWがウエハボート42に移載され
る。その後ウエハボート42が熱処理炉43内に搬入さ
れ、ウエハWに対して所定の熱処理例えば酸化処理など
が行われる。The loading area 44 is surrounded by a wall (not shown) and is sealed from the outside, for example, in a nitrogen gas atmosphere. The holding table 45 for transferring the wafer is provided outside a wall surrounding the loading area. When the cassette 2 is placed on the holding table 45, the lid for closing the opening provided in the above-mentioned wall and the lid of the cassette 2 are simultaneously opened, and the wafer in the cassette 2 is moved by the wafer transfer device 46. W is transferred to the wafer boat 42. Thereafter, the wafer boat 42 is loaded into the heat treatment furnace 43, and a predetermined heat treatment, for example, an oxidation treatment, is performed on the wafer W.
【0011】ここで前記カセット2の構造について説明
しておくと、カセット2は、図2の一部切欠縦断面図に
示すようにウエハWの周縁部を保持する棚が多段に形成
されたカセット本体21と、カセット本体21の開口部
(ウエハの搬入出口)を塞ぐ蓋体22と、カセット本体
21の底部に例えば3本の脚部23を介して取り付けら
れた台座24とを備えたクローズ型カセットとして構成
されている。3本の脚部23はカセット2の下から見て
三角形の頂点となる位置に形成されている。Here, the structure of the cassette 2 will be described. The cassette 2 has a multi-tiered shelf for holding the peripheral portion of the wafer W as shown in a partially cutaway vertical sectional view of FIG. A closed type including a main body 21, a lid 22 that closes an opening (a wafer loading / unloading opening) of the cassette main body 21, and a pedestal 24 attached to the bottom of the cassette main body 21 via, for example, three legs 23. It is configured as a cassette. The three legs 23 are formed at positions that are the vertices of a triangle when viewed from below the cassette 2.
【0012】前記台座24における脚部23が設けられ
ている部位には、下方側から脚部23内に窪むように形
成された位置決め用の係合部に相当する円椎台状の凹部
25が形成される一方、前記搬入出ステージ(載置台
3)の表面には、図2及び図3に示すように前記カセッ
ト2の底部の凹部25に対応する位置に、前記凹部25
に係合するように凹部25に対応した形状に形成された
位置決め用の被係合部をなすピン31が設けられてい
る。カセット2は、3個の凹部25が搬入出ステージ3
側の3本のピン31に夫々係合するように載置されるこ
とによって位置決めされることになる。At the portion of the pedestal 24 where the legs 23 are provided, there is formed a disc-shaped concave portion 25 corresponding to a positioning engagement portion formed so as to be recessed into the legs 23 from below. On the other hand, on the surface of the loading / unloading stage (mounting table 3), the recess 25 is located at a position corresponding to the recess 25 at the bottom of the cassette 2 as shown in FIGS.
A pin 31 is provided which is formed in a shape corresponding to the concave portion 25 so as to be engaged with the concave portion 25 and which is a portion to be engaged for positioning. The cassette 2 has three recesses 25 for the loading / unloading stage 3.
Positioning is performed by being placed so as to engage with the three pins 31 on the side.
【0013】前記搬入出ステージ3の表面には、作業者
がカセット2を位置決めするときの目安となるようにマ
ーク6が付されている。このマーク6は、カセット2を
ステージ3に位置決めしたときに当該カセット2の周部
の輪隔の少なくとも一部に対応するように設けられるも
のであり、この例ではカセット2の台座24の後側の両
角の輪隔に沿うように例えば塗料によりカギ型に形成さ
れている。A mark 6 is provided on the surface of the loading / unloading stage 3 so that the mark can be used as a guide when an operator positions the cassette 2. The mark 6 is provided so as to correspond to at least a part of a circumferential interval of the cassette 2 when the cassette 2 is positioned on the stage 3. In this example, the mark 6 is located on the rear side of the pedestal 24 of the cassette 2. It is formed in a key shape by, for example, a paint along the both-sided wheel gaps.
【0014】上述実施の形態の作用について述べると、
図4に示すように先ず未処理のウエハを例えば13枚収
納したカセット2が他のステーションからカセット搬送
手段である自動搬送ロボット(AGV)7に搭載されて
熱処理装置の搬入出ステージ3の前まで運ばれる。続い
て自動搬送ロボット7の搬送アーム71が、搭載してい
るカセット2を把んで当該カセット2の底面の凹部25
が搬入出ステージ3側のピン31の上方にてこれと対向
する位置まで搬送し、そこからカセット2を降下させて
凹部25をピン31に係合させ(この例では嵌合させ)
る。この結果カセット2は位置決めされた状態で搬入出
ステージ3上に載置される。The operation of the above embodiment will be described.
As shown in FIG. 4, first, a cassette 2 containing, for example, 13 unprocessed wafers is mounted on an automatic transfer robot (AGV) 7 as a cassette transfer means from another station to a position before the loading / unloading stage 3 of the heat treatment apparatus. Carried. Subsequently, the transfer arm 71 of the automatic transfer robot 7 grasps the loaded cassette 2 and
Is transported above the pins 31 on the loading / unloading stage 3 to a position opposed thereto, from which the cassette 2 is lowered to engage the recesses 25 with the pins 31 (to be fitted in this example).
You. As a result, the cassette 2 is placed on the loading / unloading stage 3 while being positioned.
【0015】その後搬入出ステージ3上のカセット2
は、カセット移載機5によりカセット収納棚41に一旦
収納されてからウエハ受け渡し用保持台45に移載さ
れ、カセット2内のウエハWが既述のようにして熱処理
炉43内に搬入されて所定の熱処理が行われる。Then, the cassette 2 on the loading / unloading stage 3
Is temporarily stored in the cassette storage shelf 41 by the cassette transfer machine 5 and then transferred to the wafer transfer table 45, and the wafer W in the cassette 2 is loaded into the heat treatment furnace 43 as described above. A predetermined heat treatment is performed.
【0016】一方カセット移載機5の調整などのメンテ
ナンスを行う場合には、作業者がカセット2を手で持っ
て搬入出ステージ3に置くが、このとき作業者は、位置
決め用のマーク6にカセット2を合わせ、この例では左
右のカギ型のマークにカセット2の台座24の後部両角
を合わせ、そこからカセット2を下げることにより前記
凹部25及びピン31が係合し、カセット2が位置決め
された状態で搬入出ステージ3上に置かれる。On the other hand, when maintenance such as adjustment of the cassette transfer machine 5 is performed, an operator holds the cassette 2 by hand and places it on the loading / unloading stage 3. At this time, the operator places the cassette 2 on the positioning mark 6. The cassette 2 is aligned, and in this example, the rear corners of the pedestal 24 of the cassette 2 are aligned with the left and right key-shaped marks, and the lower portion of the cassette 2 is engaged with the concave portion 25 and the pin 31 to position the cassette 2. It is placed on the loading / unloading stage 3 in the state of being moved.
【0017】このように上述実施の形態によれば、作業
者が位置決め用のマーク6を目安にしてカセット2を搬
入出ステージ3上の所定の位置に置くことができるの
で、カセット2の位置決めが容易であり、しかもマーク
6は自動搬送ロボット7による搬送の邪魔にならないの
でマーク6を取り外さなくて済む。As described above, according to the above-described embodiment, the operator can place the cassette 2 at a predetermined position on the loading / unloading stage 3 using the positioning mark 6 as a guide. Since the mark 6 does not hinder the transfer by the automatic transfer robot 7, the mark 6 does not have to be removed.
【0018】ここでマーク6は塗料に限らずテープや帯
状のプレートを貼着したものでもよく、また実質平面的
ではなくとも、位置決め用のピン31の高さよりも低い
ものであれば自動搬送ロボット7の搬送の邪魔にならな
いので、その制限内の高さの突起物例えばプレートを用
いてもよい。更にまたマーク6はカセット2の台座の輪
隔全体を囲むように形成したものでもよいし、台座24
がカセット本体21に比べて小さい場合に、カセット本
体21を上から見たときにカセット本体21の輪隔に沿
って形成したものでもよい。またカセット2が台座24
を備えていない場合には例えばカセット本体21の底面
の輪隔の一部に沿って位置決め用のマークを形成しても
よい。更にまた図5(a)、(b)に示すようにカセッ
ト2の背面に上下に沿って伸びる半円状の切り欠き26
を形成する一方、前記切り欠き26の円弧に対応する円
周を備えた円形のマーク61を搬入出ステージ3に設け
るようにしてもよい。以上においてカセットの載置台
は、搬入出ステージ3に限らず例えばウエハ受け渡し用
保持台であってもよい。この場合カセット移載機5はカ
セット搬送手段に相当する。またカセットはクローズ型
カセットに限らず従来から用いられている蓋のないオー
プンカセットでもよいし、対象となる処理装置としては
縦型熱処理装置に限られるものではない。Here, the mark 6 is not limited to the paint, but may be a tape or a band-like plate attached thereto. If the mark 6 is not substantially planar but is lower than the height of the positioning pin 31, an automatic transfer robot is used. Since it does not interfere with the conveyance of the projection 7, a projection such as a plate having a height within the limit may be used. Furthermore, the mark 6 may be formed so as to surround the entire wheel gap of the pedestal of the cassette 2, or the pedestal 24
May be formed along the wheel gap of the cassette body 21 when the cassette body 21 is viewed from above. The cassette 2 has a pedestal 24
Is not provided, for example, a positioning mark may be formed along a part of the annular space on the bottom surface of the cassette body 21. Furthermore, as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), a semicircular notch 26 extending vertically along the back of the cassette 2.
On the other hand, a circular mark 61 having a circumference corresponding to the arc of the notch 26 may be provided on the loading / unloading stage 3. In the above description, the cassette mounting table is not limited to the loading / unloading stage 3, and may be, for example, a wafer transfer holding table. In this case, the cassette transfer device 5 corresponds to a cassette transport unit. Further, the cassette is not limited to a closed type cassette, and may be an open cassette without a lid, which is conventionally used, and the processing apparatus to be used is not limited to a vertical heat treatment apparatus.
【0019】図6は本発明の他の実施の形態を示す図で
あり、この例ではウエハの表面にレジスト液を塗布する
ためのユニットと、露光後のウエハを現像するためのユ
ニットとを備えた塗布現像装置において、オープンカセ
ットを用いてウエハを運び込む場合に本発明を適用した
実施の形態である。図6中8は搬入出ステージ(載置
台)であり、この搬入出ステージ8上にはカセット81
の後部両側の輪隔に沿ってマーク82が形成されてい
る。83はカセット81側の凹部に係合する(この場合
嵌合する)ピンである。搬入出ステージ8上に置かれた
カセット81内のウエハWは搬送機構84により1枚ず
つ取り出されて、各処理ユニット間を搬送するメイン搬
送アーム85に受け渡される。FIG. 6 is a view showing another embodiment of the present invention. In this example, a unit for applying a resist solution to the surface of a wafer and a unit for developing the exposed wafer are provided. This is an embodiment in which the present invention is applied to a case where a wafer is carried using an open cassette in a coating and developing apparatus. In FIG. 6, reference numeral 8 denotes a carry-in / out stage (mounting table).
A mark 82 is formed along the annular space on both sides of the rear part of the vehicle. Reference numeral 83 denotes a pin that engages (fits in this case) with the concave portion on the cassette 81 side. The wafers W in the cassette 81 placed on the loading / unloading stage 8 are taken out one by one by the transfer mechanism 84 and transferred to the main transfer arm 85 for transferring between the processing units.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、基板
処理装置において、作業者がウエハなどの基板を収納す
るカセットを載置台に置くときに位置決めが容易であ
り、しかもカセット搬送手段による搬送時にも支障にな
らず、例えばメンテナンス時や通常運転を行う度毎に位
置決め用部材を着脱しなくて済む。As described above, according to the present invention, in a substrate processing apparatus, an operator can easily position a cassette for accommodating a substrate such as a wafer on a mounting table, and can use a cassette transporting means. It does not cause any trouble at the time of transportation, so that the positioning member does not have to be attached and detached, for example, at the time of maintenance or every time normal operation is performed.
【図1】本発明を縦型熱処理装置に適用した実施の形態
の全体構成を示す概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing an overall configuration of an embodiment in which the present invention is applied to a vertical heat treatment apparatus.
【図2】上記実施の形態におけるカセット及び搬入出ス
テージを示す一部切欠き縦断側面図である。FIG. 2 is a partially cutaway longitudinal side view showing a cassette and a loading / unloading stage in the embodiment.
【図3】上記実施の形態におけるカセット及び搬入出ス
テージを示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a cassette and a loading / unloading stage in the embodiment.
【図4】上記実施の形態において自動搬送ロボットによ
りカセットを搬入する様子を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a cassette is carried in by the automatic carrying robot in the embodiment.
【図5】上記実施の形態における位置決め用マークの他
の例を示す斜視図及び平面図である。FIG. 5 is a perspective view and a plan view showing another example of the positioning mark in the embodiment.
【図6】本発明を塗布/現像装置に適用した実施の形態
の一部を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a part of an embodiment in which the present invention is applied to a coating / developing apparatus.
【図7】従来装置において作業者が載置台にカセットを
置く様子を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing a state in which a worker places a cassette on a mounting table in the conventional apparatus.
2 カセット(クローズ型カセット) 21 カセット本体 24 台座 25 凹部(係合部) 3 搬入出ステージ 31 ピン(被係合部) 5 カセット移載機 6、61 位置決め用マーク 7 自動搬送ロボット 8 搬入出ステージ 81 カセット 82 ピン Reference Signs List 2 cassette (closed type cassette) 21 cassette body 24 pedestal 25 recess (engagement part) 3 carry-in / out stage 31 pin (engaged part) 5 cassette transfer machine 6, 61 positioning mark 7 automatic transfer robot 8 carry-in / out stage 81 cassette 82 pin
Claims (2)
内から基板を取り出し、この基板に対して処理を行うた
めの基板処理装置において、 前記カセットを載置するための載置台と、 前記カセットの底面に設けられた位置決め用の係合部
と、 前記載置台上に設けられ、前記係合部に係合してカセッ
トの位置決めが行われる位置決め用の被係合部と、 前記載置台との間でカセットの受け渡しを行うカセット
搬送手段と、 前記載置台に位置決めされたカセットの周部の輪郭の少
なくとも一部に対応するように載置台に設けられ、前記
位置決め用の被係合部よりも高さの低い位置決め用のマ
−クと、を備えたことを特徴とする基板処理装置。1. A substrate processing apparatus for taking out a substrate from a cassette which is a container for transporting a plurality of substrates and performing processing on the substrate, wherein: a mounting table for mounting the cassette; and the cassette A positioning engagement portion provided on the bottom surface of the positioning table; and a positioning engaged portion provided on the mounting table, wherein the positioning of the cassette is performed by engaging with the engagement portion. Cassette transfer means for transferring a cassette between the cassette and a cassette transfer means provided on the mounting table so as to correspond to at least a part of a contour of a peripheral portion of the cassette positioned on the mounting table; And a positioning mark having a low height.
部は凹部であり、載置台に設けられた位置決め用の被係
合部は凸部であることを特徴とする請求項1記載の基板
処理装置。2. The substrate according to claim 1, wherein the positioning engaging portion provided on the cassette is a concave portion, and the positioning engaging portion provided on the mounting table is a convex portion. Processing equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36496297A JPH11186373A (en) | 1997-12-20 | 1997-12-20 | Substrate processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36496297A JPH11186373A (en) | 1997-12-20 | 1997-12-20 | Substrate processing equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11186373A true JPH11186373A (en) | 1999-07-09 |
Family
ID=18483098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36496297A Pending JPH11186373A (en) | 1997-12-20 | 1997-12-20 | Substrate processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11186373A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010135387A (en) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Miraial Kk | Wafer storage container |
| JP2020523780A (en) * | 2017-05-31 | 2020-08-06 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | Handling device and handling method for handling device |
-
1997
- 1997-12-20 JP JP36496297A patent/JPH11186373A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010135387A (en) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Miraial Kk | Wafer storage container |
| JP2020523780A (en) * | 2017-05-31 | 2020-08-06 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | Handling device and handling method for handling device |
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