JPH11185303A - Method for manufacturing optical disk and apparatus for manufacturing the same - Google Patents
Method for manufacturing optical disk and apparatus for manufacturing the sameInfo
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- JPH11185303A JPH11185303A JP35081097A JP35081097A JPH11185303A JP H11185303 A JPH11185303 A JP H11185303A JP 35081097 A JP35081097 A JP 35081097A JP 35081097 A JP35081097 A JP 35081097A JP H11185303 A JPH11185303 A JP H11185303A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 迅速かつ大量生産に好適な光ディスクの製造
方法及びその製造装置を提供すること。
【解決手段】 フィルム状或いはシート状の支持基体上
に、グルーブ或いはピットを成形する第1工程と、反射
膜材料及び/又は記録膜材料を成膜する第2工程とを有
し、この後、前記支持基体を所定のディスク形状に加工
する第3工程を行う、光ディスクの製造方法、及びその
製造装置。
(57) [Problem] To provide a method and an apparatus for manufacturing an optical disk suitable for rapid and mass production. SOLUTION: The method includes a first step of forming grooves or pits on a film-like or sheet-like support base, and a second step of forming a reflective film material and / or a recording film material, and thereafter, An optical disk manufacturing method and apparatus for performing a third step of processing the support base into a predetermined disk shape.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、CD(コ
ンパクトディスク)、MD(ミニディスク)、CD−R
(コンパクトディスク−レコーダブル)等の光ディスク
の製造方法及びその製造装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to, for example, a CD (compact disc), an MD (mini disc), and a CD-R.
The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk such as a (compact disk-recordable) and an apparatus for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、CD、MD、CD−R、DVD
(デジタルビデオディスク)等の光ディスクの製作プロ
セスは、原盤作製工程(マスタリング工程)と、ディス
ク化工程(レプリケーション工程)との2つの工程から
なっている。特に、後者のディスク化工程では、原盤作
製工程にて作製された原盤から、光ディスクを多量に、
かつ、迅速に生産することが要求される。2. Description of the Related Art Generally, CD, MD, CD-R, DVD
2. Description of the Related Art A process for manufacturing an optical disc such as a (digital video disc) includes two steps of a master disc manufacturing step (mastering step) and a disc forming step (replication step). In particular, in the latter disc-forming process, a large amount of optical discs are produced from the master produced in the master producing process.
In addition, rapid production is required.
【0003】次に、従来の光ディスクの製造方法を説明
する。なお、以下、光ディスクの製造方法(製造プロセ
ス)とは、光ディスクのディスク化プロセス(レプリケ
ーション工程)を意味する。Next, a conventional method for manufacturing an optical disk will be described. Hereinafter, the optical disk manufacturing method (manufacturing process) means a disk forming process (replication process) of the optical disk.
【0004】図12に、記録可能な光磁気ディスク(ミ
ニディスク)の枚葉式製造プロセスを示す。FIG. 12 shows a single-wafer manufacturing process of a recordable magneto-optical disk (mini-disk).
【0005】まず、ディスク原盤としてマスタリング工
程にて作製されたスタンパーが取り付けられた成形機8
0にペレット状のポリカーボネートを投入し、これを圧
縮成形すると、ミニディスク用のディスク基板81が作
製される(コンプレッション法)。ここで、このディス
ク基板81には、グルーブ(又はピット)が成形され
る。[0005] First, a molding machine 8 to which a stamper manufactured in a mastering process as a master disk is attached.
When a pellet-like polycarbonate is put into the mold 0 and the resultant is compression-molded, a disc substrate 81 for a mini-disc is produced (compression method). Here, grooves (or pits) are formed on the disk substrate 81.
【0006】次いで、ディスク基板81をスパッタリン
グ成膜装置86に投入し、各種薄膜の成膜を行う。スパ
ッタリング成膜装置86は少なくとも成膜する層の数に
分割され、各成膜室で1層ずつ薄膜を形成するように構
成されている。一般に、成膜方式はすべてスパッタリン
グ法で、各成膜室には、マグネトロンスパッタリングカ
ソード87、88、89、90と図示省略したターゲッ
トが取り付けられており、それぞれの成膜室において、
それぞれ所定の条件下で、目的とする薄膜が形成され
る。Next, the disk substrate 81 is put into a sputtering film forming apparatus 86, and various thin films are formed. The sputtering film forming apparatus 86 is divided into at least the number of layers to be formed, and is configured to form a thin film one layer at a time in each film forming chamber. In general, the film forming method is a sputtering method, and magnetron sputtering cathodes 87, 88, 89, and 90 and a target not shown are attached to each film forming chamber.
A desired thin film is formed under each predetermined condition.
【0007】一般に、図13に示すように、ミニディス
クなどの光磁気ディスク(MO:magneto optical dis
k)は、ディスク基板16(図12のディスク基板81
に対応)のグルーブ又はピットが成形された面19上
に、第1の誘電体膜(主に窒化シリコン膜)4、記録膜
5としての光磁気膜(TbFeCoを主成分とした合金
薄膜)、第2の誘電体膜(主に窒化シリコン膜)6、反
射膜7(アルミニウムを主成分とした合金薄膜、或いは
アルミニウム又は金からなる金属薄膜)、及び、紫外線
硬化樹脂等からなる保護層8が順次積層された積層構造
15を有している。Generally, as shown in FIG. 13, a magneto-optical disk (MO) such as a mini disk is used.
k) is the disk substrate 16 (the disk substrate 81 in FIG. 12).
A) a first dielectric film (mainly a silicon nitride film) 4; a magneto-optical film (an alloy thin film containing TbFeCo as a main component) as a recording film 5; A second dielectric film (mainly a silicon nitride film) 6, a reflection film 7 (an alloy thin film containing aluminum as a main component, or a metal thin film made of aluminum or gold), and a protective layer 8 made of an ultraviolet curable resin or the like. It has a laminated structure 15 that is sequentially laminated.
【0008】従って、まず、スパッタリング成膜装置8
6において、第1成膜室82にて窒化シリコンを主成分
とする透明誘電体薄膜(第1の誘電体膜4)が成膜さ
れ、次いで、第2成膜室83ではTbFeCoを主成分
とした光磁気記録膜(記録膜5)が成膜され、次いで、
第3成膜室84では窒化シリコンを主成分とする透明誘
電体薄膜(第2の誘電体膜6)が成膜され、最後に、第
4成膜室85ではアルミニウムを主成分とした合金薄
膜、或いはアルミニウム又は金の金属薄膜からなる反射
膜8が成膜される。なお、各成膜室間の移動は、図示省
略するが、枚葉式の搬送システム等によって、ディスク
毎に行われる。Therefore, first, the sputtering film forming apparatus 8
In 6, a transparent dielectric thin film (first dielectric film 4) containing silicon nitride as a main component is formed in a first film forming chamber 82, and then TbFeCo is used as a main component in a second film forming chamber 83. Magneto-optical recording film (recording film 5) is formed, and then
In the third film forming chamber 84, a transparent dielectric thin film (second dielectric film 6) mainly containing silicon nitride is formed, and finally, in the fourth film forming chamber 85, an alloy thin film mainly containing aluminum is formed. Alternatively, a reflective film 8 made of a thin metal film of aluminum or gold is formed. Although not shown, the movement between the film forming chambers is performed for each disk by a single-wafer transfer system or the like.
【0009】次いで、成膜後のディスクの耐久性を上げ
るために、保護層材料塗布/硬化工程により保護層8を
形成する。この工程は、一般に、まず、スピンコーティ
ング法により紫外線硬化樹脂を塗布する。この塗布は、
保護層材料である紫外線硬化樹脂をディスペンサー92
からスピンコーターに設けられたターンテーブル93上
のディスク91に滴下することによって行われる。紫外
線硬化樹脂を塗布した後、紫外線を照射することにより
樹脂を硬化させて保護層8を形成し、ミニディスクの積
層構造15が製造される。Next, in order to increase the durability of the disk after film formation, a protective layer 8 is formed by a protective layer material application / curing step. In this step, first, an ultraviolet curable resin is applied by a spin coating method. This application
A UV curable resin as a material for a protective layer is dispensed with a dispenser 92.
From the disc 91 on the turntable 93 provided in the spin coater. After applying the ultraviolet curable resin, the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to form the protective layer 8, and the laminated structure 15 of the minidisk is manufactured.
【0010】その後、クランピングプレート取付け、カ
ートリッジへの組み込みなどの後工程を経て製品とな
る。Thereafter, the product is manufactured through post-processes such as mounting of a clamping plate and assembly into a cartridge.
【0011】上述したプロセスフローは、ミニディスク
に限らず、以下の有機色素塗布型のCD−R等を除い
て、成膜材料及び成膜室の数が異なる以外、ほとんどの
光ディスクはミニディスクとほぼ同様な工程で製造され
る。The above-described process flow is not limited to the mini-disc, and most optical discs are the same as the mini-disc except for the number of film-forming materials and the number of film-forming chambers, except for the following organic dye-coated type CD-R and the like. It is manufactured by almost the same process.
【0012】次に、図14に、CD−Rの枚葉式製造プ
ロセスを示す。FIG. 14 shows a CD-R single-wafer manufacturing process.
【0013】なお、一般に、CD−Rは、図15に示す
ように、グルーブ成形面19を有するディスク基板18
上に、有機色素からなる記録膜12、アルミニウムを主
とする合金薄膜、アルミニウム薄膜又は金薄膜からなる
反射膜13、及び、保護膜14が順次積層された積層構
造17を有している。In general, a CD-R is formed on a disk substrate 18 having a groove forming surface 19 as shown in FIG.
There is provided a laminated structure 17 in which a recording film 12 made of an organic dye, a thin film of an alloy mainly containing aluminum, a reflective film 13 made of an aluminum thin film or a gold thin film, and a protective film 14 are sequentially stacked.
【0014】従って、まず、上述したミニディスクの製
造プロセスと同様に成形機101で成形されたCD−R
用のディスク基板102に、記録膜12となる有機色素
を塗布する。この塗布は、例えば、スピンコーティング
法によって行われ、ディスペンサー103からターンテ
ーブル104上のディスク基板102に有機色素を滴下
することにより行われる。Therefore, first, the CD-R molded by the molding machine 101 in the same manner as in the above-described mini disk manufacturing process.
An organic dye to be the recording film 12 is applied to the disk substrate 102 for use. This application is performed by, for example, a spin coating method, and is performed by dropping an organic dye from the dispenser 103 onto the disk substrate 102 on the turntable 104.
【0015】次いで、スパッタリング成膜装置105を
用いて、反射膜13として、アルミニウムを主成分とす
る合金薄膜、或いはアルミニウムや金などの単金属薄膜
をスパッタリング法又は蒸着法に基づき形成させる。成
膜後は、ミニディスクと同様に、スピンコーティング法
により紫外線硬化樹脂を塗布し、次いで、紫外線を照射
して前記紫外線硬化樹脂を硬化させて保護膜14が形成
され、図15に示した積層構造17を有するCD−R1
09が作製される。Next, using a sputtering film forming apparatus 105, an alloy thin film containing aluminum as a main component or a single metal thin film such as aluminum or gold is formed as the reflective film 13 by a sputtering method or a vapor deposition method. After the film formation, similarly to the mini-disc, an ultraviolet curable resin is applied by a spin coating method, and then, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective film 14, and the laminated film shown in FIG. CD-R1 having structure 17
09 is produced.
【0016】[0016]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の光ディスクの製造プロセスにおいては、ディスク基板
毎に、グルーブ(案内溝)やピットの成形、さらには反
射膜や記録膜の成膜を行っており、従って、基板成形が
1枚ずつしかできず、また、その成形には1枚当たり5
〜7秒かかることと、さらに、その後の工程(成膜工程
など)においても、ほとんどが枚葉処理で流れるため、
大量生産による大幅なコストダウンが望めない。As described above, in the conventional optical disk manufacturing process, grooves (guide grooves) and pits are formed for each disk substrate, and a reflective film and a recording film are formed. Therefore, only one substrate can be molded at a time, and the molding requires
It takes up to 7 seconds, and most of the subsequent steps (such as a film forming step) also flow through single-wafer processing.
Significant cost reduction due to mass production cannot be expected.
【0017】本発明は、上述した従来の実情に鑑みてな
されたものであり、その目的は、大量生産に好適であ
り、生産性に優れた光ディスクの製造方法、及び、その
製造装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and has as its object to provide a method of manufacturing an optical disk which is suitable for mass production and has excellent productivity, and an apparatus for manufacturing the same. It is in.
【0018】[0018]
【課題を解決するだめの手段】即ち、本発明は、フィル
ム状或いはシート状の支持基体上に、グルーブ或いはピ
ットを成形する第1工程と、反射膜材料及び/又は記録
膜材料を成膜する第2工程とを有し、この後、前記支持
基体を所定のディスク形状に加工する第3工程を行う、
光ディスクの製造方法(以下、本発明の製造方法と称す
る。)に係るものである。That is, the present invention provides a first step of forming grooves or pits on a film- or sheet-like supporting base, and forming a reflective film material and / or a recording film material. And a third step of processing the support base into a predetermined disk shape.
The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk (hereinafter, referred to as a manufacturing method of the present invention).
【0019】本発明の製造方法によれば、フィルム状或
いはシート状の支持基体上に、グルーブ或いはピットを
成形すると共に、反射膜材料及び/又は記録膜材料を成
膜し、さらに、この後に、フィルム状或いはシート状の
支持基体を所定のディスク形状に加工しているので、一
連の処理工程をフィルム又はシートの搬送によって行う
ことができ、大量の光ディスクを迅速に生産することが
でき、しかも上記の成膜や加工時の作業性、精度も向上
させることができる。According to the production method of the present invention, grooves or pits are formed on a film-like or sheet-like support base, and a reflection film material and / or a recording film material are formed. Since the film-shaped or sheet-shaped support base is processed into a predetermined disk shape, a series of processing steps can be performed by transporting the film or sheet, and a large amount of optical disks can be rapidly produced. Workability and accuracy during film formation and processing can be improved.
【0020】また、本発明は、本発明の製造方法を実施
できる装置として、フィルム状或いはシート状の支持基
体上に、グルーブ或いはピットを成形する第1工程部
と、反射膜材料及び/又は記録膜材料を成膜する第2工
程部と、前記支持基体を所定のディスク形状に加工する
第3工程部とを有する、光ディスクの製造装置(以下、
本発明の製造装置と称する。)も提供するものである。According to the present invention, there is provided an apparatus capable of carrying out the manufacturing method of the present invention, wherein a first process section for forming grooves or pits on a film-like or sheet-like supporting base, a reflective film material and / or a recording medium are provided. An optical disc manufacturing apparatus (hereinafter, referred to as a “process”) having a second process unit for forming a film material and a third process unit for processing the support base into a predetermined disc shape.
It is referred to as the manufacturing apparatus of the present invention. ) Is also provided.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】図1に、本発明に基づく光ディス
クの製造プロセスフローの一例を示す。FIG. 1 shows an example of an optical disk manufacturing process flow according to the present invention.
【0022】即ち、本発明の製造方法においては、フィ
ルム状或いはシート状の支持基体を用い、この支持基体
に、 (1)グルーブ或いはピットの成形(前記第1工程に対
応) (2)反射膜及び/又は記録膜の成膜(前記第2工程に
対応) (3)保護層の形成 を施した後、 (4)貼り合わせ工程 (5)打ち抜き工程(前記第3工程に対応) (6)後工程 を行って、光ディスクを製造することができる。That is, in the manufacturing method of the present invention, a film-like or sheet-like support base is used, and (1) forming grooves or pits (corresponding to the first step) (2) reflection film And / or formation of a recording film (corresponding to the second step) (3) After forming the protective layer, (4) bonding step (5) punching step (corresponding to the third step) (6) An optical disc can be manufactured by performing a post-process.
【0023】従って、本発明に基づく光ディスクの製造
プロセスは、フィルム状或いはシート状の支持基体に、
グルーブ或いはピットの成形処理、及び反射膜や記録膜
等の成膜処理、さらには保護膜の形成処理を施している
ので、これらの処理工程を、フィルム状或いはシート状
の前記支持基体の搬送によって実施することができ、迅
速かつ大量に光ディスクを生産できる生産性に優れた製
造プロセスである。Therefore, the manufacturing process of the optical disk according to the present invention involves the following steps.
Since a groove or pit forming process, a film forming process of a reflective film or a recording film, and a protective film forming process are performed, these process steps are performed by transporting the film- or sheet-shaped support base. This is a production process that can be implemented and can produce optical discs quickly and in large quantities and has excellent productivity.
【0024】本発明の製造方法及び製造装置において、
前記第2工程の後に、前記支持基体の厚みを調節するた
めのフィルム状或いはシート状支持体(以下、支持体と
称することがある。)を前記支持基体に貼り合わせる工
程(貼り合わせ工程)を有していることが望ましい。In the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention,
After the second step, a step of attaching a film-like or sheet-like support (hereinafter, may be referred to as a support) for adjusting the thickness of the support base to the support base (a bonding step). It is desirable to have.
【0025】即ち、前記支持基体として例えば200μ
m程度のフィルム又はシートを用いる場合、光ディスク
の規格に適応させるために、前記支持基体の厚みを適当
に増やさなければならない。そこで、この貼り合わせ工
程にて、前記支持基体の材質と実質的に同等の材質(例
えば透明プラスチックシート)を用い、例えば接着用フ
ィルムを介して、前記支持基体に接着させることによっ
て、所定のディスク厚に調整することができる。また、
同時に、機械的特性(剛性、弾性等)、光学特性(光透
過率、屈折率等)、熱特性(耐熱性等)などに優れたデ
ィスク基板とすることができる。That is, for example, 200 μm
When a film or sheet of about m is used, the thickness of the supporting base must be appropriately increased in order to conform to the standard of the optical disk. Therefore, in this bonding step, a predetermined disc is formed by using a material (for example, a transparent plastic sheet) substantially equivalent to the material of the support base and adhering to the support base via, for example, an adhesive film. The thickness can be adjusted. Also,
At the same time, a disk substrate having excellent mechanical properties (rigidity, elasticity, etc.), optical properties (light transmittance, refractive index, etc.), thermal properties (heat resistance, etc.) can be obtained.
【0026】或いは、前記支持基体としてハードディス
ク用の厚みのものを使用して、前記貼り合わせ工程を省
略することも可能である。即ち、光ディスクの全厚が、
所定の厚み(例えば、CDやMDの場合1.2mm)と
なるような前記支持基体を予め用いてもよい。Alternatively, it is also possible to use a support base having a thickness for a hard disk and omit the bonding step. That is, the total thickness of the optical disc is
The support base having a predetermined thickness (for example, 1.2 mm for a CD or MD) may be used in advance.
【0027】さらに、前記貼り合わせ工程の後に、グル
ーブ又はピットの成形処理、反射膜や記録膜の成膜処理
等の所定の処理が施されたフィルム状若しくはシート状
の前記支持基体を、所定のディスク形状に加工すること
が望ましい。Further, after the laminating step, the film- or sheet-shaped support base, which has been subjected to a predetermined process such as a groove or pit forming process and a reflective film or recording film forming process, is moved to a predetermined position. It is desirable to process it into a disk shape.
【0028】また、本発明の製造方法及び製造装置にお
いては、前記第1工程において、前記支持基体上に紫外
線硬化樹脂または熱硬化樹脂を成膜し、この紫外線硬化
樹脂または熱硬化樹脂に、例えばスタンパー等によっ
て、所定のグルーブパターン或いはピットパターンを転
写することができる(2P法)。勿論、その他の方法、
例えば、前記支持基体に直接にグルーブパターン或いは
ピットパターンを転写してもよいし、所定のグルーブパ
ターン或いはピットパターンが転写されたシート等を前
記支持基体に固着してもよい。Further, in the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention, in the first step, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is formed on the support base, and the ultraviolet curable resin or the thermosetting resin is, for example, A predetermined groove pattern or pit pattern can be transferred by a stamper or the like (2P method). Of course, other methods,
For example, a groove pattern or a pit pattern may be directly transferred to the support base, or a sheet or the like to which a predetermined groove pattern or pit pattern has been transferred may be fixed to the support base.
【0029】なお、前記紫外線硬化樹脂としては、アク
リル酸系の化合物やそのオリゴマー、ビニル系化合物な
ど、種々の紫外線硬化樹脂を使用できる。また、熱硬化
樹脂としては、エチレングリコール系化合物、エポキシ
樹脂等の熱硬化樹脂を使用できる。As the UV-curable resin, various UV-curable resins such as acrylic acid compounds, oligomers thereof, and vinyl compounds can be used. In addition, as the thermosetting resin, a thermosetting resin such as an ethylene glycol compound or an epoxy resin can be used.
【0030】前記第2工程においては、前記反射膜材料
及び/又は前記記録膜材料を成膜した後に保護膜を成膜
することが望ましい。但し、保護膜の成膜は、前記第3
工程の前段階で行ってもよいし、後段階で行ってもよ
い。In the second step, it is preferable to form a protective film after forming the reflective film material and / or the recording film material. However, the formation of the protective film is performed in the third step.
It may be performed at a stage before or after the process.
【0031】前記第3工程においては、所定形状の金型
による打ち抜きによって前記支持基体を所定のディスク
形状に加工することが望ましい。但し、レーザーカッタ
ーなど、その他の打ち抜き方法によっても構わない。In the third step, it is desirable that the support base is processed into a predetermined disk shape by punching with a mold having a predetermined shape. However, other punching methods such as a laser cutter may be used.
【0032】また、本発明の製造方法において、前記第
1工程、前記第2工程及び前記第3工程を連続的に行う
ことが望ましく、従って、本発明の製造装置において、
前記第1工程部、前記第2工程部及び前記第3工程部が
連続的に行われるように構成されていてよい。各工程
(又は工程部)を連続的に行うことによって、生産性を
より一層向上させることができ、さらに、ロール時の転
写等を抑制できる。In the manufacturing method of the present invention, it is preferable that the first step, the second step, and the third step are continuously performed.
The first process unit, the second process unit, and the third process unit may be configured to be continuously performed. By continuously performing each process (or process portion), productivity can be further improved, and further, transfer or the like at the time of rolling can be suppressed.
【0033】次に、本発明の製造方法及び製造装置に基
づく好ましい実施の形態例を説明する。Next, a preferred embodiment based on the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention will be described.
【0034】〔第1の実施の形態〕図2〜図5に、記録
可能なミニディスク(MD)の一連の製造工程を示す。
図2はグルーブ形成工程を、図3は薄膜形成工程を、図
4は保護層形成工程を、そして図5は貼り合わせ工程及
び打ち抜き工程を示している。次に、これを各工程順に
説明する。[First Embodiment] FIGS. 2 to 5 show a series of manufacturing steps of a recordable mini-disc (MD).
2 shows a groove forming step, FIG. 3 shows a thin film forming step, FIG. 4 shows a protective layer forming step, and FIG. 5 shows a bonding step and a punching step. Next, this will be described in the order of each step.
【0035】まず、図2のグルーブ形成工程では、ポリ
カーボネートフィルムロール21から、支持基体として
の例えば200μm厚のポリカーボネートフィルム22
を図中矢印A方向に巻き出し、フィルム22上にナイフ
コーター24により紫外線硬化樹脂23を均一な厚さに
なるように塗布する。First, in the groove forming step shown in FIG. 2, a polycarbonate film 22 having a thickness of, for example, 200 μm as a supporting substrate is removed from the polycarbonate film roll 21.
Is unwound in the direction of arrow A in the figure, and an ultraviolet curable resin 23 is applied onto the film 22 by a knife coater 24 so as to have a uniform thickness.
【0036】次いで、マスタリング工程で作製された原
盤(図示省略)が取り付けられたスタンパー25を紫外
線硬化樹脂23が塗布された面に押し当てる。スタンパ
ー25は押し当てられたまま、一定時間フィルム22と
共に移動する。この時、圧着ローラー26で加圧するこ
とによって、原盤のグルーブパターンをフィルム22上
に塗布された紫外線硬化樹脂に転写させる。Next, the stamper 25 to which the master (not shown) produced in the mastering step is attached is pressed against the surface on which the ultraviolet curable resin 23 is applied. The stamper 25 moves with the film 22 for a certain time while being pressed. At this time, the groove pattern of the master is transferred to the ultraviolet curable resin applied on the film 22 by applying pressure by the pressure roller 26.
【0037】次いで、ポリカーボネートフィルム22上
に塗布された紫外線硬化樹脂にスタンパー25が押しつ
けられている部分を、フィルム22の裏側より紫外線照
射ランプ27により紫外線を一定時間照射させて硬化さ
せ、前記グルーブパターンのフィルム22上の樹脂への
転写を完成させる。Next, the portion where the stamper 25 is pressed against the ultraviolet-curing resin applied on the polycarbonate film 22 is cured by irradiating ultraviolet rays from the back side of the film 22 with an ultraviolet irradiation lamp 27 for a predetermined time, thereby curing the groove pattern. Transfer to the resin on the film 22 is completed.
【0038】次いで、フィルム22はスタンパー25が
押しつけられたまま移動し、フィルム剥離用ローラー2
8を利用してフィルム22をスタンパー25から剥離す
る。このようにしてポリカーボネートフィルム22表面
にグルーブ成形面29を成形させる。さらに、これを巻
き取ることにより、グルーブが形成されたポリカーボネ
ートフィルムロール30を作製する。なお、スタンパー
25は複数個用いることが望ましく、また順次繰り返し
て用いることができる。Then, the film 22 moves while the stamper 25 is pressed, and the film
The film 22 is peeled off from the stamper 25 by using 8. Thus, the groove forming surface 29 is formed on the surface of the polycarbonate film 22. Furthermore, by winding this, the polycarbonate film roll 30 in which the groove was formed is produced. Note that it is desirable to use a plurality of stampers 25, and the stampers 25 can be used repeatedly.
【0039】次に、図3に、各種薄膜の成膜工程を示
す。グルーブが形成されたポリカーボネートフィルムロ
ール30をスパッタリング成膜装置20に取り付け、グ
ルーブ形成面29が成膜される面となるようにフィルム
30aを、図中矢印A方向に巻き出し、図中矢印B方向
に回転するメインロール39に巻き付ける。Next, FIG. 3 shows a process of forming various thin films. The polycarbonate film roll 30 on which the groove is formed is attached to the sputtering film forming apparatus 20, and the film 30a is unwound in the direction of arrow A in the figure so that the groove forming surface 29 becomes the surface on which the film is formed. Is wound around the main roll 39 which rotates.
【0040】スパッタリング成膜装置20の成膜部は、
形成する薄膜の層数に仕切り板41によって分けられて
おり、各成膜室には目的とする膜を形成するためのター
ゲット(図示省略)が取り付けられたスパッタリングカ
ソード35、36、37及び38が設置されている。The film forming section of the sputtering film forming apparatus 20 includes:
The number of layers of the thin film to be formed is divided by a partition plate 41, and in each of the film forming chambers, sputtering cathodes 35, 36, 37 and 38 to which a target (not shown) for forming a target film are attached. is set up.
【0041】本実施の形態に基づく記録可能なミニディ
スクの製造工程においては、第1成膜室31では、窒化
シリコンを主成分とする透明誘電体膜を、第2成膜室3
2では、TbFeCoを主成分とする光磁気記録膜を、
第3成膜室33では、窒化シリコンを主成分とする透明
誘電体薄膜を、第4成膜室34では、アルミニウムを主
成分とするアルミニウム合金あるいは単金属からなる反
射膜を成膜する。In the process of manufacturing a recordable mini-disc according to the present embodiment, in the first film forming chamber 31, a transparent dielectric film containing silicon nitride as a main component is formed.
In No. 2, a magneto-optical recording film containing TbFeCo as a main component is
In the third film forming chamber 33, a transparent dielectric thin film mainly containing silicon nitride is formed, and in the fourth film forming chamber 34, a reflective film made of an aluminum alloy or a single metal mainly containing aluminum is formed.
【0042】前記成膜は、各層の膜厚が所定の厚さにな
るように、各成膜室毎に成膜条件(例えば、圧力、温
度、スパッタパワー等)を調整して行う。成膜されたフ
ィルムは巻き取られ、成膜されたポリカーボネートフィ
ルムロール40を作製する。ここまでが成膜工程(薄膜
形成工程)である。次に保護層形成工程に移る。The film formation is performed by adjusting film formation conditions (eg, pressure, temperature, sputtering power, etc.) for each film formation chamber so that the thickness of each layer becomes a predetermined thickness. The formed film is wound up to produce a formed polycarbonate film roll 40. This is the film forming step (thin film forming step). Next, the process proceeds to a protective layer forming step.
【0043】図4は保護層形成工程を示している。この
保護層は成膜された膜の汚染や錆の発生を防ぐために形
成される。FIG. 4 shows a protective layer forming step. This protective layer is formed in order to prevent contamination and rust of the formed film.
【0044】まず、各種薄膜が成膜されたポリカーボネ
ートフィルム40aの成膜面上にナイフコーター43に
より紫外線硬化樹脂42を一定厚塗布する。塗布後に紫
外線硬化樹脂を塗布した面側から紫外線照射ランプ44
により紫外線を照射し、塗布された紫外線硬化樹脂を硬
化させ保護膜を形成させる。保護膜形成後は、これを巻
き取ることにより、保護膜が形成されたポリカーボネー
トフィルムロール46を作製する。First, an ultraviolet-curing resin 42 is applied to the film-forming surface of the polycarbonate film 40a on which various thin films have been formed by a knife coater 43 to a predetermined thickness. After the application, an ultraviolet irradiation lamp 44 is applied from the side on which the ultraviolet curing resin is applied.
UV light is applied to cure the applied UV-curable resin to form a protective film. After the formation of the protective film, this is wound up to produce the polycarbonate film roll 46 on which the protective film is formed.
【0045】ここで、ここまでの工程で作製された積層
構造を図6に示す。Here, FIG. 6 shows the laminated structure manufactured in the steps up to here.
【0046】即ち、前記グルーブ形成工程にて、支持基
体2(ポリカーボネートフィルム22)上に、紫外線硬
化樹脂23からなる紫外線硬化樹脂層3が配され、さら
に、この紫外線硬化樹脂層3の面10には、前述した成
形処理によって図示しないグルーブが形成されている。
さらに、前記薄膜形成工程にて、第1の誘電体薄膜4と
しての窒化シリコンを主成分とする透明誘電体膜、記録
膜5としてのTbFeCoを主成分とする光磁気記録
膜、第2の誘電体薄膜6としての窒化シリコンを主成分
とする透明誘電体薄膜、反射膜7としてのアルミニウム
を主成分とする薄膜が順次積層され、さらに、前記保護
膜形成工程にて、紫外線硬化樹脂からなる保護膜8が形
成される。That is, in the groove forming step, the UV-curable resin layer 3 made of the UV-curable resin 23 is disposed on the supporting substrate 2 (polycarbonate film 22). Has a groove (not shown) formed by the above-described molding process.
Further, in the thin film forming step, a transparent dielectric film mainly composed of silicon nitride as the first dielectric thin film 4, a magneto-optical recording film mainly composed of TbFeCo as the recording film 5, a second dielectric film A transparent dielectric thin film mainly composed of silicon nitride as a body thin film 6 and a thin film mainly composed of aluminum as a reflection film 7 are sequentially laminated. A film 8 is formed.
【0047】ところで、ここまでの工程で製造されたも
のは、原材料であるポリカーボネートフィルム21の厚
さ200μmに、各工程で形成された薄膜の総厚30μ
m程度を加えた厚さしかない。即ち、現行の光ディスク
(例えばミニディスク)はその全厚が1.2mmと規定
されているために、次に示す貼り合わせ工程によって、
全厚を1.2mmにしなければならない。その貼り合わ
せ工程と最終的にディスク形状に加工する打ち抜き工程
とを図5に示す。By the way, the film manufactured in the steps up to this point has a thickness of 200 μm of the polycarbonate film 21 as a raw material and a total thickness of 30 μm of the thin film formed in each step.
It has a thickness of about m. That is, since the total thickness of the current optical disk (for example, a mini disk) is specified to be 1.2 mm, the following bonding process is performed.
The total thickness must be 1.2 mm. FIG. 5 shows the laminating step and the punching step for finally processing into a disk shape.
【0048】まず、保護膜が形成されたポリカーボネー
トフィルムロール46から図中矢印A方向に巻き出され
たポリカーボネートフィルム54と、総厚を1.2mm
にするためのディスク厚調整用ポリカーボネートシート
(前記支持基体の厚みを調節するためのフィルム状或い
はシート状支持体)52とを、接着用フィルムロール5
0から巻き出された両面に加圧接着剤が塗られた接着用
フィルム51を介して、圧着ローラ53で加圧接着を行
い、フィルム54とシート(支持体)52とを貼り合わ
せる。First, the polycarbonate film 54 unwound from the polycarbonate film roll 46 on which the protective film is formed in the direction of arrow A in the figure and the total thickness is 1.2 mm.
Film thickness adjusting polycarbonate sheet (a film-like or sheet-like support for adjusting the thickness of the supporting substrate) 52 and a bonding film roll 5
Pressure bonding is performed by a pressure roller 53 via a bonding film 51 coated with a pressing adhesive on both surfaces unwound from 0, and a film 54 and a sheet (support) 52 are bonded together.
【0049】次いで、この貼り合わせ工程で規定のディ
スク厚になったハードフィルム(又はハードシート)
を、打ち抜き用金型55を用いて所定のディスク形状に
加工し(打ち抜き)、図7に示す積層構造1を有するミ
ニディスク56を製造する。ここで製造されたディスク
56は、図13で示したミニディスク15と実質的に同
等の品質を保持するものである。そして、打ち抜かれた
ミニディスク56は、クランプ取り付け及びカートリッ
ジ組み込み等の後工程へ進み、製品としてのミニディス
クが製造される。Next, a hard film (or hard sheet) having a specified disk thickness in this bonding step
Is processed into a predetermined disk shape by using a punching die 55 (punching) to produce a mini disk 56 having a laminated structure 1 shown in FIG. The disc 56 manufactured here has substantially the same quality as the mini disc 15 shown in FIG. Then, the punched mini-disc 56 proceeds to post-processes such as mounting of a clamp and mounting of a cartridge, and a mini-disc as a product is manufactured.
【0050】これら一連の工程を経て作製された記録可
能なミニディスクの積層構造1を図7に示す。即ち、前
記保護膜形成工程までに支持基体2上の積層構造(図6
参照)が作製され、さらに、前記貼り合わせ工程にて、
図示省略した接着用フィルム層を介して、支持体9が形
成されている。この積層構造1を有するミニディスク
は、上述したように、図13に示した従来のミニディス
クとその特性、性能について実質的に同等である。FIG. 7 shows a laminated structure 1 of a recordable mini-disc produced through these series of steps. That is, the laminated structure on the supporting substrate 2 (FIG.
Is produced, and in the bonding step,
The support 9 is formed via an adhesive film layer not shown. As described above, the mini-disc having the laminated structure 1 has substantially the same characteristics and performance as those of the conventional mini-disc shown in FIG.
【0051】上述したように、本実施の形態は、フィル
ム状の支持基体(ポリカーボネートフィルム)を用い
て、記録可能なミニディスクの製造工程を実施している
ので、迅速に大量のミニディスクを製造でき、生産性に
優れた方法である。しかも、個々のディスク基板に処理
する場合に比べ、上記した成膜や貼り合わせ工程の作業
性が向上し、また成膜性や加工精度も良好となる。As described above, in the present embodiment, since the process of manufacturing a recordable mini-disc is performed using a film-like supporting substrate (polycarbonate film), a large number of mini-discs can be rapidly manufactured. It is a good and productive method. In addition, the workability of the film forming and bonding steps described above is improved, and the film forming property and processing accuracy are also improved, as compared with the case where processing is performed on individual disk substrates.
【0052】〔第2の実施の形態〕次に、有機色素塗布
型CD−Rディスクの製造方法について、図8及び図9
を参照に説明する。図8は、記録層形成工程(有機色素
の塗布工程)を示し、図9は、反射膜形成工程を示す。[Second Embodiment] Next, a method of manufacturing an organic dye-coated CD-R disc will be described with reference to FIGS.
Will be described with reference to FIG. FIG. 8 shows a recording layer forming step (organic dye coating step), and FIG. 9 shows a reflective film forming step.
【0053】まず、第1の実施の形態と同様に、図2に
示した如く、ポリカーボネートフィルム上に紫外線硬化
樹脂を用いてグルーブを形成する。First, similarly to the first embodiment, as shown in FIG. 2, grooves are formed on a polycarbonate film using an ultraviolet curable resin.
【0054】次いで、図8に示すように、グルーブが形
成されたポリカーボネートフィルム60を図中矢印A方
向に巻き出し、グルーブが形成された面(記録層形成
面)63にナイフコーター62を用いて有機色素61を
所定の厚さに塗布する。続いて、乾燥機65を通して有
機色素61を乾燥させ、記録層を形成させる。これを巻
き取ることによって、記録層が形成されたポリカーボネ
ートフィルムロール64が作製される。Next, as shown in FIG. 8, the polycarbonate film 60 on which the groove is formed is unwound in the direction of arrow A in the figure, and the knife-coater 62 is used on the surface (recording layer forming surface) 63 on which the groove is formed. The organic dye 61 is applied to a predetermined thickness. Subsequently, the organic dye 61 is dried through a dryer 65 to form a recording layer. By winding this, a polycarbonate film roll 64 having a recording layer formed thereon is produced.
【0055】次いで、反射膜形成工程を実施するが、反
射膜には、金或いはアルミニウムを主成分とした合金薄
膜又は単金属薄膜等が用いられ、この薄膜は、例えばス
パッタリング法により形成される。即ち、図9に示すよ
うに、記録層が形成されたポリカーボネートフィルムロ
ール64をスパッタリング成膜装置70に取り付け、記
録層形成面66が成膜される面となるようにフィルム6
4aをメインロール67に巻き付ける。スパッタリング
成膜装置70の成膜室68には、目的とする膜を形成す
るためのターゲット(図示省略)が取り付けられたスパ
ッタリングカソード69が設置されている。Next, a reflection film forming step is performed. As the reflection film, an alloy thin film or a single metal thin film containing gold or aluminum as a main component is used, and this thin film is formed by, for example, a sputtering method. That is, as shown in FIG. 9, the polycarbonate film roll 64 on which the recording layer is formed is attached to the sputtering film forming apparatus 70, and the film 6 is formed so that the recording layer forming surface 66 becomes the surface on which the film is formed.
4a is wound around the main roll 67. A sputtering cathode 69 provided with a target (not shown) for forming a target film is provided in a film forming chamber 68 of the sputtering film forming apparatus 70.
【0056】この成膜は、反射膜の膜厚が所定の厚さに
なるように、成膜条件(圧力、温度、スパッタパワー
等)及びフィルム送り速度を調節して行う。成膜後のフ
ィルムは巻き取られて、反射膜が形成されたポリカーボ
ネートフィルムロール71となる。This film formation is performed by adjusting the film formation conditions (pressure, temperature, sputtering power, etc.) and the film feeding speed so that the film thickness of the reflection film becomes a predetermined thickness. The film after film formation is wound up, and becomes a polycarbonate film roll 71 on which a reflection film is formed.
【0057】ここまでの工程で作製された積層構造を図
10に示す。FIG. 10 shows the laminated structure manufactured in the steps up to here.
【0058】即ち、前記グルーブ形成工程にて、支持基
体2(ポリカーボネートフィルム22)上に、紫外線硬
化樹脂からなる紫外線硬化樹脂層3が配され、さらに、
この紫外線硬化樹脂層3の面10には、前述した成形処
理によって図示しないグルーブが形成されている。さら
に、前記記録層形成工程にて、有機色素61からなる記
録膜12が形成され、さらに、前記反射膜形成工程に
て、金或いはアルミニウムを主成分とした反射膜13が
積層され、さらに、前記保護膜形成工程にて、紫外線硬
化樹脂からなる保護膜14が形成される。That is, in the groove forming step, an ultraviolet-curable resin layer 3 made of an ultraviolet-curable resin is disposed on the support base 2 (polycarbonate film 22).
Grooves (not shown) are formed on the surface 10 of the ultraviolet curable resin layer 3 by the above-described molding process. Further, in the recording layer forming step, a recording film 12 made of an organic dye 61 is formed, and in the reflecting film forming step, a reflective film 13 containing gold or aluminum as a main component is laminated. In the protective film forming step, a protective film 14 made of an ultraviolet curable resin is formed.
【0059】そして、成膜以降の工程は第1の実施の形
態で示したミニディスクの場合と同様に、図4に示した
保護膜形成工程、及び、図5に示した貼り合わせ及び抜
き打ち工程を経てCD−Rディスクが製造される。The steps after the film formation are the same as the case of the mini-disc shown in the first embodiment, the protective film forming step shown in FIG. 4, and the bonding and punching steps shown in FIG. After that, a CD-R disc is manufactured.
【0060】これら一連の工程を経て作製された記録可
能なCD−Rディスクの積層構造11を図11に示す。
即ち、前記保護膜形成工程までに支持基体2上の積層構
造(図10参照)が作製され、さらに、前記貼り合わせ
工程にて、図示省略した接着用フィルム層を介して、支
持体9が形成されている。この積層構造11を有するC
D−Rディスクは、図15に示した従来のCD−Rとそ
の特性、性能について実質的に同等である。FIG. 11 shows a laminated structure 11 of a recordable CD-R disc manufactured through these series of steps.
That is, a laminated structure (see FIG. 10) on the support base 2 is produced before the protective film forming step, and the support 9 is formed in the bonding step via an adhesive film layer (not shown). Have been. C having this laminated structure 11
The DR disc has substantially the same characteristics and performance as the conventional CD-R shown in FIG.
【0061】以上、本発明を好ましい実施の形態につい
て説明したが、本発明は上述した実施の形態に限定され
るものではない。Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments.
【0062】例えば、本発明の製造方法及び製造装置
は、記録可能なミニディスクやCD−Rに限らず、C
D、CD−ROM、光磁気(MO)ディスク、相変化型
光ディスク、DVDなど全ての光ディスクの製造方法に
適用できる。For example, the manufacturing method and manufacturing apparatus of the present invention are not limited to recordable mini-discs and CD-Rs,
D, CD-ROM, magneto-optical (MO) disk, phase change optical disk, DVD, etc., can be applied to all optical disk manufacturing methods.
【0063】従って、前記支持基体、前記支持体、前記
記録膜、前記反射膜、前記誘電体膜、前記紫外線硬化樹
脂層、前記保護層などからなる積層構造は、光ディスク
の種類によって適宜変化するものであり、また、その材
料等も上述したものに限定されるものではない。Therefore, the laminated structure composed of the support base, the support, the recording film, the reflection film, the dielectric film, the ultraviolet curable resin layer, the protective layer, and the like is appropriately changed depending on the type of the optical disk. In addition, the material and the like are not limited to those described above.
【0064】例えばCDは、ポリカーボネート等からな
る薄膜フィルム(支持基体)上に、所定パターンのピッ
トを例えばスタンピングにより成形した後、例えばスパ
ッタリング法によって反射膜を成膜する。そして、さら
に保護膜等を成膜した後、この薄膜フィルムを所定のデ
ィスク形状に加工することで得られる。For example, for a CD, a pit having a predetermined pattern is formed on a thin film (support base) made of polycarbonate or the like by, for example, stamping, and then a reflection film is formed by, for example, a sputtering method. After a protective film or the like is further formed, the thin film is obtained by processing the thin film into a predetermined disk shape.
【0065】また、第1の実施の形態及び第2の実施の
形態では、支持基体(プラスチックフィルム)としてポ
リカーボネートを使用したが、ポリエチレンテレフタレ
ート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ポリスチレンやその他の光学的に透明なプラスチ
ックフィルムを用いることができる。また、フィルム状
の支持基体ではなく、シート状の支持基板を用意し、こ
のシートを前記各工程に順次供してもよい。In the first and second embodiments, polycarbonate is used as the supporting substrate (plastic film). However, polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PE) are used.
N), polystyrene and other optically transparent plastic films can be used. Alternatively, a sheet-like support substrate may be prepared instead of a film-like support base, and the sheet may be sequentially subjected to the above-described steps.
【0066】また、第1の実施の形態及び第2の実施の
形態では、ディスク厚調整用のプラスチックシート(前
記支持基体の厚みを調節するためのフィルム状或いはシ
ート状支持体)としてポリカーボネートフィルムを使用
したが、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ
エチレンナフタレート(PEN)、ポリスチレンなどを
原料とした、その他の光学的に透明なプラスチックフィ
ルム(又はシート)を用いることができる。In the first and second embodiments, a polycarbonate film is used as a plastic sheet for adjusting the disk thickness (film or sheet-like support for adjusting the thickness of the support base). Although used, other optically transparent plastic films (or sheets) made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polystyrene, or the like can be used.
【0067】また、前述の実施の形態では、各工程ごと
にロールに巻き取ることを示したが、本発明はこれに限
らず、少なくとも2つ以上の工程を巻き取ることなく連
続に行ってもよい。Further, in the above-described embodiment, winding on a roll is shown for each step. However, the present invention is not limited to this, and at least two or more steps may be performed continuously without winding. Good.
【0068】即ち、例えば、図2の一点鎖線(1)の如
く、グルーブ形成工程にてグルーブが形成されたフィル
ムをロール30に巻き取らずに、図3の一点鎖線(1)
の如く薄膜形成工程に導き、さらに、薄膜形成工程で各
種薄膜が成膜されたフィルムを巻き取らずに、図3及び
図4の一点鎖線(2)の如く、保護膜形成工程に導き、
さらに、図4及び図5の一点鎖線(3)の如く、保護膜
工程から貼り合わせ工程及び打ち抜き工程へと巻き取り
を行わずに導くことによって、連続的に前記各工程を実
施できる。That is, for example, as shown by the dashed line (1) in FIG. 2, the film on which the groove is formed in the groove forming step is not wound around the roll 30, and the dashed line (1) in FIG.
3 and 4, without winding the film on which the various thin films are formed in the thin film forming step, and leading to the protective film forming step as shown by the dashed line (2) in FIGS.
Furthermore, as shown by the dashed line (3) in FIGS. 4 and 5, by leading the protective film process to the bonding process and the punching process without winding, each of the above processes can be performed continuously.
【0069】また、前記第1の実施の形態及び第2の実
施の形態では、支持基体(出発材料)としてロールに巻
かれたフィルム状基体を使用したが、ペレット状の原料
を用い、まず始めにフィルムを製造して、その後に前述
した各工程に供してもよい。また、支持基体として20
0μm厚のポリカーボネートのフィルムを用いたが、本
発明はこれに限らず、特に1.2mm以下の透明プラス
チックフィルムであればよい。In the first and second embodiments, a film-like substrate wound on a roll is used as a supporting substrate (starting material). A film may be manufactured and then subjected to the above-described steps. In addition, 20
Although a polycarbonate film having a thickness of 0 μm was used, the present invention is not limited to this. In particular, any transparent plastic film having a thickness of 1.2 mm or less may be used.
【0070】次に、前記グルーブ形成工程においては、
プラスチックフィルム上にグルーブを形成する方法とし
て、紫外線硬化樹脂を用いたいわゆる2P法(Photo Po
lymerization法)について述べたが、本発明はこれに限
らず、直接スタンパーをフィルムに押し当てるダイレク
トエンボス法を適用してもよい。或いは、フィルム上に
ポリカーボネートなどで直接成形してもよい。また、熱
硬化性樹脂を使用してもよい。さらに、紫外線硬化樹脂
をナイフコーターにより塗布する方法を適用したが、例
えばロールコーターなど他の方法を用いてもよい。言う
までもないが、グルーブ形成の代わりに、若しくはグル
ーブ形成と共に、ピットの形成を行ってもよい。Next, in the groove forming step,
As a method of forming a groove on a plastic film, a so-called 2P method using an ultraviolet curable resin (Photo Po
The present invention is not limited to this, and a direct embossing method in which a stamper is directly pressed against a film may be applied. Or you may shape | mold directly with a polycarbonate etc. on a film. Further, a thermosetting resin may be used. Further, the method of applying the ultraviolet curable resin with a knife coater is applied, but other methods such as a roll coater may be used. Needless to say, pits may be formed instead of or together with the groove formation.
【0071】次に、前記成膜工程においては、各種薄膜
の成膜にスパッタリング法を用いたが、本発明はこれに
限らず、蒸着法、CVD(Chemical Vapor Deposition
)法など、他の成膜法を適用してもよい。さらにスパ
ッタリング法も含めて一つの成膜機に少なくとも2種類
以上の成膜法が混在してもよい。Next, in the film forming step, a sputtering method was used for forming various thin films. However, the present invention is not limited to this, and a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method is used.
Other film formation methods such as the method may be applied. Further, at least two or more kinds of film forming methods may be mixed in one film forming machine including the sputtering method.
【0072】また、第1の実施の形態において、成膜室
を成膜する膜の総数に成膜室を分割したが、本発明はこ
れに限らず、さらに分割してもよい。また、一つの成膜
装置の中で連続して多層膜を形成する方法を適用した
が、少なくとも1層ずつ別々の装置で成膜してもよい。
また、成膜装置の中で成膜室を成膜する膜の総数に分割
し、かつ一方向にフィルム(又はシート)を走行させて
巻き取る方法を適用したが、成膜室の数が成膜数より少
なく、かつフィルム(又はシート)を往復走行させても
よい。Further, in the first embodiment, the film forming chamber is divided into the total number of films to be formed in the film forming chamber. However, the present invention is not limited to this, and may be further divided. Further, the method of continuously forming a multilayer film in one film forming apparatus is applied, but film formation may be performed by separate devices at least one layer at a time.
Further, in the film forming apparatus, a method in which the film forming chamber is divided into the total number of films to be formed and the film (or sheet) is run and wound in one direction is applied. The number of films (or sheets) may be less than the number of films and the film (or sheet) may be reciprocated.
【0073】また、透明誘電体膜として窒化シリコンを
主成分とした膜を適用したが、例えば、ZnS:SiO
2 を主成分とする誘電体膜、あるいはSiCを主成分と
する誘電体膜、あるいは窒化アルミニウム(AlN)を
主成分とする誘電体膜など、その他の適当な透明誘電体
膜を適用できる。Further, a film containing silicon nitride as a main component is applied as the transparent dielectric film. For example, ZnS: SiO
Other suitable transparent dielectric films such as a dielectric film mainly composed of 2 , a dielectric film mainly composed of SiC, and a dielectric film mainly composed of aluminum nitride (AlN) can be applied.
【0074】さらに、記録層(光磁気記録膜)としてT
bFeCoを主成分とする合金薄膜を適用したが、例え
ば、NdTbFe等、その他の光磁気合金薄膜も適用で
きる。また、光磁気合金薄膜以外に、例えば、GeSb
TeあるいはInSbTeを主成分とする相変化記録材
料を用いれば、相変化型光ディスク(例えば、CD−R
W:compact disk rewritable )を形成できる。Further, as a recording layer (magneto-optical recording film), T
Although an alloy thin film containing bFeCo as a main component is used, other magneto-optical alloy thin films such as NdTbFe can be used. In addition to the magneto-optical alloy thin film, for example, GeSb
If a phase-change recording material containing Te or InSbTe as a main component is used, a phase-change optical disk (for example, a CD-R
W: compact disk rewritable).
【0075】同様に、第2の実施の形態において、有機
色素を塗布して記録層を形成したが、前記有機色素は、
公知の種々の材料を用いることができ、また、染料を用
いてもよい。Similarly, in the second embodiment, the recording layer was formed by applying an organic dye.
Various known materials can be used, and dyes may be used.
【0076】次に、前記保護層形成工程において、保護
層形成は、紫外線硬化樹脂を塗布した後、紫外線を照射
させて硬化させる方法を用いたが、例えば、プラズマ重
合などの手段を用いて高分子フィルムを形成させてもよ
い。また、熱硬化樹脂を用いて熱の作用下で硬化させて
もよい。さらに保護層の形成は、記録膜や反射膜を成膜
する成膜装置に組み込んで、記録膜や反射膜の成膜後、
連続的に保護層を形成させてもよい。Next, in the protective layer forming step, the protective layer was formed by applying an ultraviolet curable resin and then irradiating it with ultraviolet light to cure the resin. A molecular film may be formed. Moreover, you may harden under the action of heat using a thermosetting resin. Further, the formation of the protective layer is incorporated into a film forming apparatus for forming a recording film and a reflective film, and after forming the recording film and the reflective film,
The protective layer may be formed continuously.
【0077】また、紫外線硬化樹脂の塗布方法としてナ
イフコーターを用いたが、例えば、ロールコーターな
ど、他のコーティング方式を用いてもよい。また、保護
層の形成を、成膜工程後、貼り合わせ工程前に行ってい
るが、例えば、貼り合わせ後または打ち抜き後でもよ
い。Although a knife coater is used as a method of applying the ultraviolet curable resin, other coating methods such as a roll coater may be used. Further, the protection layer is formed after the film formation step and before the bonding step, but may be performed after bonding or after punching.
【0078】次に、前記貼り合わせ工程において、保護
膜まで形成したフィルムとディスク厚調整用のフィルム
を貼り合わすために、加圧することによって接着可能な
加圧接着剤付きのフィルムを用いたが、本発明これに限
らず、加熱することにより接着する接着剤が塗布された
フィルムを用い、加熱しながら圧着して接着剤を硬化さ
せてもよい。または、接着用のフィルムを用いずに、貼
り合わせ前に保護膜まで形成したフィルムの保護層が形
成されていない面(即ち、支持基体のグルーブ或いはピ
ットが形成されていない面)、若しくは、ディスク厚調
整用プラスチックシートの貼り合わせ面に液状の接着剤
を塗布する方法を用いてもよい。Next, in the bonding step, in order to bond the film formed up to the protective film and the film for adjusting the disk thickness, a film with a pressure-sensitive adhesive which can be bonded by pressing was used. The present invention is not limited to this, and the adhesive may be cured by applying pressure while heating using a film coated with an adhesive that is bonded by heating. Alternatively, the surface of the film formed up to the protective film before bonding without using an adhesive film, on which the protective layer is not formed (that is, the surface of the support base on which no grooves or pits are formed), or a disk A method of applying a liquid adhesive to the bonding surface of the thickness adjusting plastic sheet may be used.
【0079】また、保護膜まで形成したフィルムとディ
スク厚調整用のフィルムとを貼り合わせる方法によって
ディスクの厚さを調整したが、本発明はこれに限らず、
出発原料であるプラスチックフィルム(又はシート)と
してディスク厚に相当するものを用い、この貼り合わせ
工程を省略してもよい。Further, the thickness of the disk is adjusted by a method of bonding the film formed up to the protective film and the film for adjusting the disk thickness, but the present invention is not limited to this.
A plastic film (or sheet), which is a starting material, may have a thickness corresponding to the disk thickness, and the bonding step may be omitted.
【0080】また、保護膜まで形成したフィルムとディ
スク厚調整用のフィルムを貼り合わすために、加圧する
ことによって接着する加圧接着剤付きのフィルムを用い
たが、本発明はこれに限らず、支持基体としてのプラス
チックフィルムのグルーブ形成面ではない面に予め接着
剤が塗布されたフィルムを用いてもよい。または、ディ
スク厚調整用シートとしてあらかじめ接着剤が塗布され
たシートを用いてもよい。Further, in order to bond the film formed up to the protective film and the film for adjusting the disk thickness, a film with a pressure-sensitive adhesive which is bonded by pressing is used, but the present invention is not limited to this. A film in which an adhesive is applied in advance to a surface other than the groove forming surface of a plastic film as a supporting base may be used. Alternatively, a sheet to which an adhesive has been applied in advance may be used as the disk thickness adjusting sheet.
【0081】また、保護膜まで形成したフィルムをディ
スク厚調整用のフィルムと貼り合わせる方法によりディ
スクの厚さを調整したが、本発明はこれに限らず、前記
支持体を貼り合わせる前に打ち抜き等を行い、その後、
あらかじめ成形法などで作製しておいたグルーブ及びピ
ットの形成していない、いわゆるミラーディスクと貼り
合わせてもよい。Although the thickness of the disk was adjusted by bonding the film formed up to the protective film to the film for adjusting the thickness of the disk, the present invention is not limited to this. And then
It may be bonded to a so-called mirror disk in which no grooves and pits have been formed in advance by a molding method or the like.
【0082】次に、前記打ち抜き工程において、所定の
ディスク形状に打ち抜くために打ち抜き用の金型を用い
たが、本発明はこれに限らず、例えばレーザーカッター
等、他の方法を用いてもよい。また、所定のディスク形
状に打ち抜くために、高精度な画像処理及び位置決め装
置を併用することが望ましい。Next, in the punching step, a punching die was used to punch into a predetermined disk shape. However, the present invention is not limited to this, and another method such as a laser cutter may be used. . In addition, it is desirable to use a high-precision image processing and positioning device together in order to punch into a predetermined disk shape.
【0083】また、打ち抜きは、一枚のフィルム(又は
シート)毎に行ってもよいが、フィルムを積層させ、こ
れを一度に打ち抜いても構わない。また、上述した一連
の工程は、各工程ごとにフィルム(又はシート)の搬送
を一時的に止めた状態で行ってもよいし、その搬送を行
いながら前記各工程を実施してもよい。The punching may be performed for each film (or sheet). Alternatively, the films may be laminated and punched at once. In addition, the above-described series of steps may be performed in a state where the transport of the film (or sheet) is temporarily stopped in each step, or may be performed while the transport is being performed.
【0084】[0084]
【発明の作用効果】本発明の製造方法によれば、フィル
ム状或いはシート状の支持基体上に、グルーブ或いはピ
ットを成形する第1工程と、反射膜材料及び/又は記録
膜材料を成膜する第2工程とを有し、この後、前記支持
基体を所定のディスク形状に加工する第3工程を行うの
で、一連の処理工程をフィルム又はシートの搬送によっ
て行うことができ、大量の光ディスクを迅速かつ容易に
生産できる。According to the production method of the present invention, the first step of forming grooves or pits and the formation of a reflection film material and / or a recording film material are formed on a film or sheet support substrate. A second step, and thereafter, a third step of processing the support base into a predetermined disk shape is performed. Therefore, a series of processing steps can be performed by transporting a film or a sheet, and a large amount of optical disks can be quickly processed. And it can be easily produced.
【0085】また、本発明の製造装置は、本発明の製造
方法を再現性良く実施できる。The manufacturing apparatus of the present invention can implement the manufacturing method of the present invention with good reproducibility.
【図1】本発明に基づく光ディスクの製造プロセスフロ
ーである。FIG. 1 is a process flow of manufacturing an optical disc according to the present invention.
【図2】同、光ディスクを作製する際のグルーブ形成工
程を示す概略模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a groove forming step in producing the optical disc.
【図3】同、光ディスクを作製する際の薄膜形成工程を
示す概略模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a thin film forming step when manufacturing an optical disc.
【図4】同、光ディスクを作製する際の保護膜形成工程
を示す概略模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a protective film forming step when manufacturing an optical disc.
【図5】同、光ディスクを作製する際の貼り合わせ工程
及び打ち抜き工程を示す概略模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a bonding step and a punching step in producing the optical disk.
【図6】同、光磁気ディスクの一部積層構造を示す概略
断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view showing a partially laminated structure of the magneto-optical disk.
【図7】同、製造された光磁気ディスクの積層構造を示
す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view showing a laminated structure of the manufactured magneto-optical disk.
【図8】同、他の光ディスクを作製する際の記録層形成
工程を示す概略模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a recording layer forming step when another optical disk is manufactured.
【図9】同、他の光ディスクを作製する際の反射膜形成
工程を示す概略模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a reflection film forming step when another optical disk is manufactured.
【図10】同、CD−Rの一部積層構造を示す概略断面
図である。FIG. 10 is a schematic sectional view showing a partially laminated structure of the CD-R.
【図11】同、製造されたCD−Rの積層構造を示す概
略断面図である。FIG. 11 is a schematic sectional view showing a laminated structure of the manufactured CD-R.
【図12】従来の光磁気ディスク(ミニディスク)の枚
葉式製造プロセスを示す概略模式図である。FIG. 12 is a schematic view showing a single-wafer manufacturing process of a conventional magneto-optical disk (mini disk).
【図13】同、製造プロセスによって作製された光磁気
ディスクの積層構造を示す概略断面図である。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing a laminated structure of the magneto-optical disk manufactured by the manufacturing process.
【図14】従来のCD−Rの枚葉式製造プロセスを示す
概略模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram showing a conventional single-wafer CD-R manufacturing process.
【図15】同、製造プロセスによって作製されたCD−
Rの積層構造を示す概略断面図である。FIG. 15 shows a CD- manufactured by the same manufacturing process.
It is a schematic sectional drawing which shows the laminated structure of R.
1、15…記録可能なミニディスクの積層構造、2…支
持基体、3…紫外線硬化樹脂層、4…第1の誘電体膜、
5、12…記録膜、6…第2の誘電体膜、7、13…反
射膜、8、14…保護層、9…支持体、10、19…グ
ルーブ又はピット成形面、11、17…CD−Rの積層
構造、20、70、86、105…スパッタリング成膜
装置、21…ポリカーボネートフィルムロール、22…
ポリカーボネートフィルム、23、42…紫外線硬化樹
脂、24、43、62…ナイフコーター、25…スタン
パー、26…圧着ローラー、27、44…紫外線照射ラ
ンプ、28…フィルム剥離用ローラー、29…グルーブ
形成面、30、60…グルーブが形成されたポリカーボ
ネートフィルムロール、30a…グルーブが形成された
ポリカーボネートフィルム、31、82…第1成膜室、
32、83…第2成膜室、33、84…第3成膜室、3
4、85…第4成膜室、35、36、37、38、6
9、87、88、89、90、106…スパッタリング
カソード、39、67…メインロール、40…成膜され
たポリカーボネートフィルムロール、40a…成膜され
たポリカーボネートフィルム、41…仕切り板、45…
保護膜形成面、46…保護膜が形成されたポリカーボネ
ートフィルムロール、50…接着用フィルムロール、5
1…接着用フィルム、52…ディスク厚調整用透明プラ
スチックシート(支持体)、53…圧着ローラー、54
…保護膜が形成されたポリカーボネートフィルム、55
…打ち抜き用金型、56…打ち抜かれたディスク、61
…有機色素、64…記録層が形成されたポリカーボネー
トフィルムロール、64a…記録層が形成されたポリカ
ーボネートフィルム、65…乾燥機、66…記録層形成
面、68…成膜室、71…反射膜が形成されたポリカー
ボネートフィルムロール、80、101…成形機、8
1、102…ディスク基板、91…成膜後のディスク、
92、103、107…ディスペンサー、93、10
4、108…ターンテーブル、94…ミニディスク、1
09…CD−R1, 15: laminated structure of recordable mini-disc, 2: support base, 3: ultraviolet curable resin layer, 4: first dielectric film,
5, 12: recording film, 6: second dielectric film, 7, 13: reflection film, 8, 14: protective layer, 9: support, 10, 19: groove or pit forming surface, 11, 17: CD -R laminated structure, 20, 70, 86, 105 ... sputtering film forming apparatus, 21 ... polycarbonate film roll, 22 ...
Polycarbonate film, 23, 42 UV curable resin, 24, 43, 62 Knife coater, 25 Stamper, 26 Crimping roller, 27, 44 UV irradiation lamp, 28 Film peeling roller, 29 Groove forming surface, 30, 60: a polycarbonate film roll on which grooves are formed; 30a: a polycarbonate film on which grooves are formed; 31, 82: a first film forming chamber;
32, 83: second film forming chamber, 33, 84: third film forming chamber, 3
4, 85: fourth film forming chamber, 35, 36, 37, 38, 6
9, 87, 88, 89, 90, 106: sputtering cathode; 39, 67: main roll; 40: formed polycarbonate film roll; 40a: formed polycarbonate film; 41: partition plate;
Protective film forming surface, 46: polycarbonate film roll on which protective film is formed, 50: adhesive film roll, 5
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Adhesive film, 52 ... Transparent plastic sheet for disk thickness adjustment (support), 53 ... Crimping roller, 54
... Polycarbonate film on which protective film is formed, 55
... punching die, 56 ... punched disc, 61
... an organic dye, 64 ... a polycarbonate film roll on which a recording layer is formed, 64a ... a polycarbonate film on which a recording layer is formed, 65 ... a dryer, 66 ... a recording layer forming surface, 68 ... a film forming chamber, 71 ... a reflective film Formed polycarbonate film roll, 80, 101 ... molding machine, 8
1, 102: disk substrate, 91: disk after film formation,
92, 103, 107: dispensers, 93, 10
4, 108: turntable, 94: mini disk, 1
09 ... CD-R
Claims (16)
に、 グルーブ或いはピットを成形する第1工程と、 反射膜材料及び/又は記録膜材料を成膜する第2工程と
を有し、この後、 前記支持基体を所定のディスク形状に加工する第3工程
を行う、光ディスクの製造方法。1. A first step of forming grooves or pits on a film- or sheet-shaped support base, and a second step of forming a reflective film material and / or a recording film material, and thereafter A method for manufacturing an optical disk, comprising performing a third step of processing the support base into a predetermined disk shape.
みを調節するためのフィルム状或いはシート状支持体を
前記支持基体に貼り合わせる工程を有する、請求項1に
記載した光ディスクの製造方法。2. The method for manufacturing an optical disk according to claim 1, further comprising, after the second step, a step of bonding a film-like or sheet-like support for adjusting the thickness of the support base to the support base. .
る工程の後に、所定のディスク形状に加工する、請求項
2に記載した光ディスクの製造方法。3. The method for manufacturing an optical disk according to claim 2, wherein after the step of bonding the support to the support base, the support is processed into a predetermined disk shape.
厚みのものを使用する、請求項1に記載した光ディスク
の製造方法。4. The method for manufacturing an optical disk according to claim 1, wherein said support base has a thickness for a hard disk.
に紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を成膜し、前記紫外
線硬化樹脂または熱硬化樹脂に所定のグルーブパターン
或いはピットパターンを転写する、請求項1に記載した
光ディスクの製造方法。5. The method according to claim 1, wherein in the first step, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is formed on the support base, and a predetermined groove pattern or pit pattern is transferred to the ultraviolet curable resin or the thermosetting resin. 2. The method for manufacturing an optical disc according to item 1.
及び/又は前記記録膜材料を成膜した後に、保護膜を成
膜する、請求項1に記載した光ディスクの製造方法。6. The method of manufacturing an optical disk according to claim 1, wherein in the second step, a protective film is formed after forming the reflective film material and / or the recording film material.
による打ち抜きによって前記支持基体を所定のディスク
形状に加工する、請求項1に記載した光ディスクの製造
方法。7. The method of manufacturing an optical disk according to claim 1, wherein, in the third step, the support base is processed into a predetermined disk shape by punching with a die having a predetermined shape.
3工程を連続的に行う、請求項1に記載した光ディスク
の製造方法。8. The method for manufacturing an optical disk according to claim 1, wherein the first step, the second step, and the third step are continuously performed.
に、グルーブ或いはピットを成形する第1工程部と、 反射膜材料及び/又は記録膜材料を成膜する第2工程部
と、 前記支持基体を所定のディスク形状に加工する第3工程
部とを有する、光ディスクの製造装置。9. A first process unit for forming grooves or pits on a film- or sheet-shaped support substrate, a second process unit for forming a reflective film material and / or a recording film material, and the support substrate An optical disc manufacturing apparatus, comprising: a third process unit configured to process the optical disc into a predetermined disc shape.
体の厚みを調節するためのフィルム状或いはシート状支
持体を前記支持基体に貼り合わせる工程部を有する、請
求項9に記載した光ディスクの製造装置。10. The optical disk according to claim 9, further comprising a step for attaching a film-like or sheet-like support for adjusting the thickness of the support base to the support base, after the second step. Manufacturing equipment.
せる工程部の後段に、所定のディスク形状に加工する工
程部を有する、請求項10に記載した光ディスクの製造
装置。11. The optical disk manufacturing apparatus according to claim 10, further comprising a processing section for processing into a predetermined disk shape, subsequent to a processing section for bonding the support to the support base.
の厚みのものが使用される、請求項9に記載した光ディ
スクの製造装置。12. The apparatus for manufacturing an optical disk according to claim 9, wherein said support base is of a thickness for a hard disk.
体上に紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂が成膜され、前
記紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂に所定のグルーブパ
ターン或いはピットパターンが転写される、請求項9に
記載した光ディスクの製造装置。13. In the first step, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is formed on the support base, and a predetermined groove pattern or a pit pattern is transferred to the ultraviolet curable resin or the thermosetting resin. An optical disk manufacturing apparatus according to claim 9.
材料及び/又は前記記録膜材料を成膜した後に保護膜が
成膜される、請求項9に記載した光ディスクの製造装
置。14. The optical disk manufacturing apparatus according to claim 9, wherein a protective film is formed after forming the reflective film material and / or the recording film material in the second process unit.
金型による打ち抜きによって前記支持基体が所定のディ
スク形状に加工される、請求項9に記載した光ディスク
の製造装置。15. The optical disk manufacturing apparatus according to claim 9, wherein in the third step, the support base is processed into a predetermined disk shape by punching with a die having a predetermined shape.
前記第3工程部が連続的に行われるように構成されてい
る、請求項9に記載した光ディスクの製造装置。16. The optical disk manufacturing apparatus according to claim 9, wherein the first process unit, the second process unit, and the third process unit are configured to be continuously performed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35081097A JPH11185303A (en) | 1997-12-19 | 1997-12-19 | Method for manufacturing optical disk and apparatus for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35081097A JPH11185303A (en) | 1997-12-19 | 1997-12-19 | Method for manufacturing optical disk and apparatus for manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11185303A true JPH11185303A (en) | 1999-07-09 |
Family
ID=18413037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35081097A Pending JPH11185303A (en) | 1997-12-19 | 1997-12-19 | Method for manufacturing optical disk and apparatus for manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11185303A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7101593B2 (en) | 2000-04-25 | 2006-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a disk-shaped substrate and method for producing an optical disk |
| JP2007122761A (en) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Ricoh Co Ltd | Sheet holding method, disk manufacturing method, sheet holding apparatus, transfer apparatus, sputtering apparatus, spin coat apparatus, 2P transfer apparatus, and disk manufacturing apparatus |
| US7859983B2 (en) | 2003-07-15 | 2010-12-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical disk and optical disk recording and reproducing device |
| CN114026639A (en) * | 2020-01-27 | 2022-02-08 | 松下知识产权经营株式会社 | Method for producing multilayer film for recording and reproduction and apparatus for producing multilayer film for recording and reproduction |
-
1997
- 1997-12-19 JP JP35081097A patent/JPH11185303A/en active Pending
Cited By (4)
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| JP2007122761A (en) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Ricoh Co Ltd | Sheet holding method, disk manufacturing method, sheet holding apparatus, transfer apparatus, sputtering apparatus, spin coat apparatus, 2P transfer apparatus, and disk manufacturing apparatus |
| CN114026639A (en) * | 2020-01-27 | 2022-02-08 | 松下知识产权经营株式会社 | Method for producing multilayer film for recording and reproduction and apparatus for producing multilayer film for recording and reproduction |
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