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JPH11162253A - Conductive powder and method for producing conductive part using the powder - Google Patents

Conductive powder and method for producing conductive part using the powder

Info

Publication number
JPH11162253A
JPH11162253A JP34208697A JP34208697A JPH11162253A JP H11162253 A JPH11162253 A JP H11162253A JP 34208697 A JP34208697 A JP 34208697A JP 34208697 A JP34208697 A JP 34208697A JP H11162253 A JPH11162253 A JP H11162253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
conductive
less
wiring
content
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34208697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichiro Kitamura
陽一郎 北村
Osamu Kato
理 加藤
Takasumi Shimizu
孝純 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daido Steel Co Ltd filed Critical Daido Steel Co Ltd
Priority to JP34208697A priority Critical patent/JPH11162253A/en
Publication of JPH11162253A publication Critical patent/JPH11162253A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 はんだ濡れ性およびはんだ耐熱性に優れた導
電性粉末および工程数を低減し得る導電性粉末を用いた
導電部の製造方法を提供する。 【解決手段】 導電性粉末は、Agに対するPdの含有
量が20w%以下で両者が合金化されている。AgPd
合金粉末の粒径は、5μm以下に設定される。また導電
性粉末は、AgPd合金粉末が分散した高分散タイプで
ある。このAgPd合金粉末を用いて作製した配線や電
極は、そのはんだ濡れ性およびはんだ耐熱性に優れてい
る。
(57) Abstract: Provided is a method for manufacturing a conductive part using a conductive powder excellent in solder wettability and solder heat resistance and a conductive powder capable of reducing the number of steps. SOLUTION: The conductive powder has a Pd content of 20% by weight or less with respect to Ag, and both are alloyed. AgPd
The particle size of the alloy powder is set to 5 μm or less. The conductive powder is of a high dispersion type in which AgPd alloy powder is dispersed. Wirings and electrodes manufactured using the AgPd alloy powder have excellent solder wettability and solder heat resistance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、Ag(銀)とPd
(パラジウム)とを合金化した濡れ性やはんだ耐熱性に優
れた導電性粉末およびその粉末を用いた導電部の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to Ag (silver) and Pd
The present invention relates to a conductive powder which is alloyed with (palladium) and has excellent wettability and solder heat resistance, and a method for producing a conductive portion using the powder.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器、通信機器の小型、軽量、パー
ソナル化に伴い、LSIではベアチップ実装化が、受動
部品の多くでは表面実装化が急速に伸長している。これ
らの構成材料である基板については、高周波に適した低
誘電率のガラスセラミックスを用いたものが提案されて
いる。そして、導電性の金属粉末、樹脂および溶剤から
なる導電ペーストで、ガラスセラミックスを素材とする
焼成前のグリーンシートの表面に所要の配線パターンを
印刷し、これを同時焼成することで導電材料からなる配
線が作製されたガラスセラミックス基板を製造する技術
がある。
2. Description of the Related Art With the miniaturization, light weight, and personalization of electronic devices and communication devices, bare chip mounting of LSIs and surface mounting of many passive components are rapidly increasing. As a substrate which is a constituent material of the above, a substrate using a glass ceramic having a low dielectric constant suitable for a high frequency has been proposed. Then, a required wiring pattern is printed on the surface of a green sheet made of glass ceramic before firing with a conductive paste made of conductive metal powder, resin and a solvent, and is made of a conductive material by simultaneously firing. There is a technique for manufacturing a glass ceramic substrate on which wiring is manufactured.

【0003】前記配線を形成するための導電ペーストの
金属粉末としては、Ag単体を用いるのが導電性の面で
最適ではあるものの、マイグレーション(正極のAgが
Agイオンとなり、負極方向に移動し、回路間の絶縁部
分でAgが樹枝状に析出し、この症状が進行すると回路
が短絡してしまう現象)を生ずることがあり、配線パタ
ーンの緻密化にとっては好ましくない。そこで、Agに
Pdを所要の割合で混合することで、マイグレーション
を抑制することが行なわれている。
As the metal powder of the conductive paste for forming the wiring, it is optimal to use Ag alone in terms of conductivity. However, migration (Ag of the positive electrode becomes Ag ion and moves toward the negative electrode, Ag precipitates in a dendritic manner in the insulating portion between circuits, and if this symptom progresses, the circuit may be short-circuited), which is not preferable for the densification of the wiring pattern. Therefore, migration is suppressed by mixing Pd with Ag at a required ratio.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前記導電ペースト中の
金属粉末は、AgとPdとが分離した共沈または混合状
態となっていた。このため、AgとPdとの融点の違い
から、導電ペーストの焼成時に熱膨張率の違いによって
歪や割れ等が発生する問題があった。また焼成時にPd
O(酸化パラジウム)が生成され、これによってはんだ濡
れ性やはんだ耐熱性が低下する難点も指摘される。この
ように基板に作製された配線での良好なはんだ濡れ性や
はんだ耐熱性が得られない場合は、殊に高精度が要求さ
れる基板では、はんだ付けの前に配線に所要のメッキを
施さなければならず、工程数が増えると共に材料費等が
嵩む欠点があった。
The metal powder in the conductive paste has been in a coprecipitated or mixed state in which Ag and Pd are separated. For this reason, due to the difference in melting point between Ag and Pd, there is a problem that distortion, cracks, and the like occur due to the difference in the coefficient of thermal expansion during firing of the conductive paste. When firing, Pd
It is pointed out that O (palladium oxide) is generated, which causes a decrease in solder wettability and solder heat resistance. If good solder wettability or solder heat resistance cannot be obtained with the wiring fabricated on the board in this way, especially on a board that requires high precision, the wiring must be plated as required before soldering. However, there is a drawback that the number of steps is increased and the material cost is increased.

【0005】また、前記導電ペーストを用いて積層セラ
ミックコンデンサ等の電子部品の電極を作製することも
行なわれているが、前述したと同様に歪や割れ等が発生
したり、良好なはんだ濡れ性やはんだ耐熱性が得られ
ず、電極に予めメッキを施す等の煩雑が作業が必要とな
っていた。
[0005] Further, electrodes of electronic parts such as multilayer ceramic capacitors are also manufactured using the conductive paste. However, as described above, distortion and cracks are generated, and good solder wettability is obtained. And the soldering heat resistance was not obtained, and complicated work such as pre-plating the electrodes was required.

【0006】[0006]

【発明の目的】本発明は、前述した従来の技術に内在し
ている前記欠点に鑑み、これを好適に解決するべく提案
されたものであって、はんだ濡れ性およびはんだ耐熱性
に優れた導電性粉末および工程数を低減し得る導電性粉
末を用いた導電部の製造方法を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks inherent in the prior art, and has been proposed to solve the problem in a favorable manner. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a conductive part using conductive powder and a conductive powder capable of reducing the number of steps.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記課題を克服し、所期
の目的を好適に達成するため、本発明に係る導電性粉末
は、Agに対するPdの含有量が20w%以下で両者が
合金化され、その粒径が5μm以下の高分散タイプであ
ることを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to overcome the above-mentioned problems and appropriately achieve the intended purpose, the conductive powder according to the present invention has a Pd content of 20% by weight or less based on Ag, and the two are alloyed. And a high dispersion type having a particle size of 5 μm or less.

【0008】前記課題を克服し、所期の目的を達成する
ため、本願の別の発明に係る導電性粉末を用いた導電部
の製造方法は、Agに対するPdの含有量が20w%以
下で両者が合金化され、その粒径が5μm以下の高分散
タイプの導電性粉末に、樹脂および溶剤を所要の割合で
混合して導電ペーストを作成し、前記導電ペーストによ
りガラスセラミックスを素材とする焼成前のグリーンシ
ートの表面に所要パターンを印刷し、前記導電ペースト
で印刷したグリーンシートを所要温度で焼成すること
で、ガラスセラミックス基板上に前記導電性粉末からな
る配線を作製するようにしたことを特徴とする。
In order to overcome the above-mentioned problems and achieve the intended object, a method for producing a conductive part using a conductive powder according to another invention of the present application uses a method in which the content of Pd with respect to Ag is 20% by weight or less. Is alloyed, and a resin and a solvent are mixed in a required ratio to a high dispersion type conductive powder having a particle size of 5 μm or less to form a conductive paste. A required pattern is printed on the surface of the green sheet, and the green sheet printed with the conductive paste is fired at a required temperature, so that a wiring made of the conductive powder is produced on a glass ceramic substrate. And

【0009】前記課題を克服し、所期の目的を達成する
ため、本願の更に別の発明に係る導電性粉末を用いた導
電部の製造方法は、Agに対するPdの含有量が20w
%以下で両者が合金化され、その粒径が5μm以下の高
分散タイプの導電性粉末に、樹脂および溶剤を所要の割
合で混合して導電ペーストを作成し、前記導電ペースト
を電子部品の電極となる部分に塗布し、前記電子部品に
塗布された導電ペーストを所要温度で焼成することで、
該電子部品に前記導電性粉末からなる電極を作製するよ
うにしたことを特徴とする。
In order to overcome the above-mentioned problems and achieve the intended object, a method for producing a conductive part using a conductive powder according to still another invention of the present application has a Pd content of 20 w
% Or less are alloyed, and a resin and a solvent are mixed in a required ratio to a high dispersion type conductive powder having a particle size of 5 μm or less to form a conductive paste, and the conductive paste is used as an electrode of an electronic component. By applying the conductive paste applied to the electronic component and firing the conductive paste applied to the electronic component at a required temperature,
An electrode made of the conductive powder is formed on the electronic component.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】次に、本発明に係る導電性粉末お
よびその粉末を用いた導電部の製造方法につき、添付図
面を参照しながら以下説明する。本発明では、基板上の
配線(導電部)や電子部品の電極(導電部)を作製するため
の導電性粉末として、Agに対するPdの含有量が20
w%以下で両者が合金化し、その粒径が5μm以下の高
分散タイプであるAgPd合金粉末を用いることによ
り、導電部でのはんだ濡れ性およびはんだ耐熱性に優れ
るという知見を内容としている。そして、Agに対する
Pdの含有量および粒径等の前記適正値は、条件を種々
変化させて行なった以下の試験により判明した。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a conductive powder according to the present invention and a method of manufacturing a conductive portion using the powder will be described below with reference to the accompanying drawings. In the present invention, as a conductive powder for producing wirings (conductive portions) on a substrate and electrodes (conductive portions) of electronic components, the content of Pd relative to Ag is 20%.
The content of the findings is that the alloy is formed into an alloy at w% or less, and the use of a highly dispersed AgPd alloy powder having a particle size of 5 μm or less provides excellent solder wettability and solder heat resistance in the conductive portion. The appropriate values such as the Pd content and the particle size with respect to Ag were found by the following tests conducted under various conditions.

【0011】先ず、各種条件で配線が作製されるガラス
セラミックス基板およびアルミナ基板の製造に関して説
明する。すなわち、AgPd合金粉末、Ag粉末と
Pd粉末の混合体(以下、「混合粉末」と云う)およびA
g−Pd共沈粉末について、各粉末と樹脂(エチルセル
ロース)、溶剤(α−テルピネオール)および無機酸化物
(酸化ビスマス,酸化銅等)を混練して導電ペーストを作
成する(図1参照)。ちなみに、導電ペーストの配合割合
は、各粉末:60〜80wt%、樹脂:3〜10wt
%、溶剤:10〜20wt%、無機酸化物:1〜5wt
%である。この導電ペーストにより、ガラスセラミック
ス(SiO2:35wt%、Al23:23wt%、Ca
O:20wt%、MgO:22wt%)を素材とする焼
成前のグリーンシートの表面に、スクリーン印刷法で所
要の配線パターンを印刷する。そして、印刷を完了した
グリーンシートを、950℃×120分の条件でボック
ス炉中で焼成することで、導電性粉末からなる配線が作
製されたガラスセラミックス基板を製造した。
First, the manufacture of a glass ceramic substrate and an alumina substrate on which wirings are manufactured under various conditions will be described. That is, AgPd alloy powder, a mixture of Ag powder and Pd powder (hereinafter referred to as “mixed powder”) and A
g-Pd coprecipitated powder, each powder and resin (ethyl cellulose), solvent (α-terpineol) and inorganic oxide
(Bismuth oxide, copper oxide, etc.) are kneaded to form a conductive paste (see FIG. 1). By the way, the compounding ratio of the conductive paste is as follows: each powder: 60 to 80 wt%, resin: 3 to 10 wt%
%, Solvent: 10 to 20 wt%, inorganic oxide: 1 to 5 wt%
%. With this conductive paste, glass ceramics (SiO 2 : 35 wt%, Al 2 O 3 : 23 wt%, Ca
A required wiring pattern is printed on the surface of the green sheet before firing by using a material of O: 20 wt% and MgO: 22 wt%) by a screen printing method. Then, the printed green sheet was fired in a box furnace at 950 ° C. for 120 minutes to produce a glass-ceramic substrate on which wiring made of conductive powder was formed.

【0012】また、予め焼成されているアルミナ基板上
に、前述と同様に導電ペーストで配線パターンを印刷
し、これを950℃×10分の条件でボックス炉中で焼
成することで、導電性粉末からなる配線が作製されたア
ルミナ基板を製造した。
A wiring pattern is printed on a previously fired alumina substrate with a conductive paste in the same manner as described above, and the wiring pattern is fired in a box furnace at 950 ° C. × 10 minutes to obtain a conductive powder. An alumina substrate on which a wiring made of was prepared was manufactured.

【0013】[0013]

【試験例1】先ず、前記アルミナ基板を用い、粉末の形
態、形状の影響についての試験を行なった。
Test Example 1 First, using the alumina substrate, a test was conducted on the influence of the form and shape of the powder.

【0014】前記導電ペーストの金属粉末につき、Ag
に対するPdの含有量を10wt%に設定したものを用
い、以下の条件で粉末の形態、形状を変動させた実施例
および比較例〜の導電ペーストでアルミナ基盤上
に作製した配線のSEM(走査型電子顕微鏡)写真を図2
に示す。 実施例:AgとPdとが合金化されたものであって、
その粒径が3μmに設定された高分散タイプ 比較例:AgとPdとは共沈状態であって、その粒径
が3μmに設定された高分散タイプ 比較例:AgとPdとが合金化されたものであって、
その粒径が1μmに設定された凝集タイプ 比較例:AgとPdとは共沈状態であって、その粒径
が1μmに設定された凝集タイプ 比較例:AgとPdとは混合状態であって、その粒径
が0.8μmに設定された凝集タイプ
For the metal powder of the conductive paste, Ag
SEM (scanning type) of a wiring prepared on an alumina substrate with the conductive paste of Examples and Comparative Examples 1 to 4 using a powder whose Pd content was set to 10 wt% with respect to Fig. 2 (electron microscope)
Shown in Example: Ag and Pd are alloyed,
High dispersion type whose particle diameter is set to 3 μm Comparative example: Ag and Pd are co-precipitated, and high dispersion type whose particle diameter is set to 3 μm Comparative example: Ag and Pd are alloyed That
Aggregation type whose particle diameter is set to 1 μm Comparative example: Ag and Pd are in a co-precipitated state, and aggregation type whose particle diameter is set to 1 μm Comparative example: Ag and Pd are in a mixed state , Agglomerated type whose particle size is set to 0.8 μm

【0015】すなわち、図2から明らかな如く、同じ合
金粉末である実施例と比較例とを比較すると、高分
散タイプの実施例が凝集タイプの比較例より緻密で
あることが観察された。また同じ高分散タイプである実
施例と比較例とを比較すると、結晶サイズおよび緻
密性については、両者には顕著な差異は観察されなかっ
た。但し、共沈粉末である比較例では、焼成ロットに
よって配線中にクラックが観察された。これは、合金粉
末と共沈粉末との熱膨張挙動の差異によるものと考えら
れる。なお比較例は、実施例に対して結晶サイズが
大きく緻密性に劣っている。
That is, as is apparent from FIG. 2, when comparing the embodiment and the comparative example, which are the same alloy powder, it was observed that the high dispersion type example was more dense than the agglomeration type comparative example. In addition, when comparing the same high dispersion type Examples and Comparative Examples, no remarkable difference was observed between the Examples in terms of crystal size and compactness. However, in the comparative example which was a coprecipitated powder, cracks were observed in the wiring depending on the firing lot. This is considered to be due to the difference in thermal expansion behavior between the alloy powder and the coprecipitated powder. Note that the comparative example has a larger crystal size than the example and is inferior in denseness.

【0016】また実施例と比較例とを比較すると、
合金粉末である実施例が混合粉末である比較例より
緻密であることが観察された。なお、混合粉末について
は、比較例としてAg+Ag20wt%Pdの組成の
ものも併せて考察した、その結果、混合粉末を構成する
一方の材料であるPdの含有量が高くなるほど、緻密性
は悪化することが観察された。すなわち、配線の緻密性
は、混合する2種類の粉末の融点差に影響を受けると考
えられ、融点差が小さいほど、緻密な配線が形成される
ことを確認した。
When comparing the embodiment with the comparative example,
It was observed that the example which was an alloy powder was denser than the comparative example which was a mixed powder. As for the mixed powder, a composition of Ag + Ag 20 wt% Pd was also considered as a comparative example. As a result, as the content of Pd, which is one of the materials constituting the mixed powder, increases, the denseness deteriorates. Was observed. That is, it is considered that the denseness of the wiring is affected by the difference in melting point between the two kinds of powders to be mixed, and it was confirmed that the smaller the difference in melting point, the denser the wiring was formed.

【0017】[0017]

【試験例2】前記実施例および比較例〜につい
て、前記アルミナ基板を用いてはんだ濡れ性およびはん
だ耐熱性(食われ性)についての試験を行なった。なお、
はんだ濡れ性およびはんだ耐熱性試験は、62%Sn3
6%Pb2%Agのはんだ液を用い、はんだ濡れ性では
アルミナ基板を230℃のはんだ液中に3秒間ディップ
し、そのときの(はんだの面積/配線の面積)比で評価
し、またはんだ耐熱性ではアルミナ基板を230℃のは
んだ液中に60秒間ディップし、そのときの(はんだの
面積/配線の面積)比で評価した結果を表1に示す。ま
たこのときの配線の厚膜パターンは1.5×1.5mmで
実施した。
Test Example 2 With respect to the above Examples and Comparative Examples, tests were conducted on the solder wettability and solder heat resistance (corrosion) using the alumina substrate. In addition,
Solder wettability and solder heat resistance test is 62% Sn3
For solder wettability, 6% Pb 2% Ag solder solution was used. For solder wettability, the alumina substrate was dipped in a 230 ° C. solder solution for 3 seconds, and evaluated by the ratio (area of solder / area of wiring) at that time. As to the properties, the alumina substrate was dipped in a solder liquid at 230 ° C. for 60 seconds, and the result of evaluation at the ratio (area of solder / area of wiring) at that time is shown in Table 1. At this time, the thickness of the wiring was 1.5 × 1.5 mm.

【0018】 [0018]

【0019】すなわち、表1からは、はんだ濡れ性およ
びはんだ耐熱性の何れにおいても、粒径3μmのAgP
d合金粉末(高分散タイプ)が最も優れていることが判明
した。但し、AgPd合金粉末の粒径に関しては、3μ
mが最適であるが、5μm以下であれば工業的に実用可
能である。
That is, Table 1 shows that AgP having a particle size of 3 μm was obtained in both solder wettability and solder heat resistance.
The d alloy powder (high dispersion type) was found to be the most excellent. However, regarding the particle size of the AgPd alloy powder, 3 μm
m is optimal, but if it is 5 μm or less, it is industrially practical.

【0020】[0020]

【試験例3】次に、前記ガラスセラミックス基板を用
い、粒径3μmのAgPd合金粉末に限定し、その粉末
中のPd含有量の影響についての試験を行なった。
Test Example 3 Next, using the above-mentioned glass ceramic substrate, a test was conducted on the effect of the Pd content in the powder limited to the AgPd alloy powder having a particle size of 3 μm.

【0021】前記導電ペーストの金属粉末について、A
gに対するPdの含有量を30wt%,20wt%,10
wt%,5wt%と変動させた実施例〜でガラスセ
ラミックス基盤上に作製した配線のSEM写真を図3に
示す。
Regarding the metal powder of the conductive paste, A
The content of Pd is 30 wt%, 20 wt%, 10 g
FIG. 3 shows an SEM photograph of the wiring fabricated on the glass ceramic substrate in Examples 1 to 5 in which the weight was changed to 5% by weight.

【0022】すなわち、図3から判明する如く、合金粉
末中のPd含有量が低いほど、結晶サイズが大きく、緻
密な配線を形成していることが観察された。また合金粉
末中のPd含有量が30wt%では、隣接する結晶の界
面が明確に観察されない。更に、各実施例〜につい
て配線の抵抗値を計測した結果、合金粉末中のPd含有
量が高くなると、配線の抵抗値は大きくなった。なお、
配線のX線回折を実施すると、合金粉末中のPd含有量
が20wt%より多くなるとPdOの回折線が観察さ
れ、合金粉末中のPd含有量が20%以下では、PdO
は検出されなかった。
That is, as can be seen from FIG. 3, it was observed that the lower the Pd content in the alloy powder, the larger the crystal size and the more dense the wiring. When the Pd content in the alloy powder is 30 wt%, the interface between adjacent crystals is not clearly observed. Further, as a result of measuring the resistance value of the wiring in each of Examples 1 to 3, as the Pd content in the alloy powder increases, the resistance value of the wiring increases. In addition,
When the X-ray diffraction of the wiring is performed, a PdO diffraction line is observed when the Pd content in the alloy powder is more than 20% by weight, and when the Pd content in the alloy powder is 20% or less, PdO is
Was not detected.

【0023】[0023]

【試験例4】前記実施例〜について、はんだ濡れ性
およびはんだ耐熱性についての試験を、前述した試験例
2と同一の条件で行ない、その結果を表2に示す。な
お、各実施例の導電率を計測した結果も併せて示す。
Test Example 4 In each of Examples 1 to 3, tests for solder wettability and solder heat resistance were performed under the same conditions as in Test Example 2 described above, and the results are shown in Table 2. The results of measuring the conductivity of each example are also shown.

【0024】 [0024]

【0025】すなわち、ガラスセラミックス基板では、
合金粉末中のPd含有量が20wt%より増えると、は
んだ濡れ性が急激に低下する。これは、以下の2つの原
因が重畳することによるものと考えられる。 (1)AgPd合金粉末中のPd含有量が低いほど、融点
が低くなるため、粉末が緻密に焼結し、はんだと配線と
の接触面積が小さくなることで、はんだに食われ難くな
る。 (2)合金粉末中のPd含有量>20wt%では、厚膜表
面にPdOが存在し始めるので、配線上へはんだが濡れ
難くなり、はんだと配線との接触面積が小さくなるた
め、見掛け上はんだに食われ難くなる。なお、はんだ耐
熱性は、合金粉末中のPd含有量が20wt%近傍で低
下するが、この時点でのはんだ濡れ性は充分に優れてい
るので、工業的には何ら問題なく実施可能である。
That is, in a glass ceramic substrate,
When the content of Pd in the alloy powder is more than 20 wt%, the solder wettability sharply decreases. This is considered to be due to the following two causes overlapping. (1) The lower the Pd content in the AgPd alloy powder, the lower the melting point. Therefore, the powder is sintered densely and the contact area between the solder and the wiring is reduced, so that the solder is hardly eroded. (2) When the Pd content in the alloy powder is> 20 wt%, PdO starts to be present on the surface of the thick film, so that the solder is hardly wet on the wiring and the contact area between the solder and the wiring is reduced, so that the apparent solder is formed. Hard to eat. The solder heat resistance decreases when the Pd content in the alloy powder is close to 20 wt%, but since the solder wettability at this point is sufficiently excellent, it can be implemented industrially without any problem.

【0026】前述した各試験結果から、AgとPdとが
合金化され、その粒径が5μm以下で、Agに対してP
dが20wt%以下に設定されたAgPd合金粉末を用
いることにより、配線に歪や割れ等を発生させることな
く、はんだ濡れ性およびはんだ耐熱性を向上させ得るこ
とが明らかとなった。従って、精度が要求される基板に
おいて、その配線に予めメッキを施す必要はなく、工程
数およ材料費を低減することができるものである。
From the results of the above-described tests, Ag and Pd were alloyed, and the particle size was 5 μm or less.
It has been clarified that by using an AgPd alloy powder in which d is set to 20 wt% or less, solder wettability and solder heat resistance can be improved without generating distortion, cracks, and the like in the wiring. Therefore, it is not necessary to pre-plate the wiring on a substrate that requires accuracy, and the number of steps and material cost can be reduced.

【0027】なお、実施例のAgPd合金粉末は、電子
部品、例えば積層セラミックコンデンサの電極として用
いることができる。この場合も、図4に示す如く、前述
した条件に設定されたAgPd合金粉末を含む導電ペー
ストを積層セラミックコンデンサの電極となる部分に塗
布し、このペーストを所要温度で焼成することで、該積
層セラミックコンデンサに前記導電性粉末からなる電極
が作製される。この電極は、はんだ濡れ性およびはんだ
耐熱性に優れているから、精度が要求される場合であっ
ても、電極にメッキを施すことなく確実にはんだ付けす
ることができる。また、電子部品としては積層セラミッ
クコンデンサに限定されるものでなく、各種部品の電極
材料としてAgPd合金粉末が採用可能である。
The AgPd alloy powder of the embodiment can be used as an electrode of an electronic component, for example, a multilayer ceramic capacitor. Also in this case, as shown in FIG. 4, a conductive paste containing the AgPd alloy powder set under the above-mentioned conditions is applied to a portion to be an electrode of the multilayer ceramic capacitor, and the paste is fired at a required temperature to obtain the laminate. An electrode made of the conductive powder is formed on a ceramic capacitor. Since this electrode is excellent in solder wettability and solder heat resistance, even when precision is required, the electrode can be reliably soldered without plating. Further, the electronic component is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and AgPd alloy powder can be adopted as an electrode material of various components.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明した如く、本発明に係る導電性
粉末およびその粉末を用いた導電部の製造方法によれ
ば、導電性粉末はAgとPdとが合金化し、かつPdの
含有量を20wt%以下に設定してあるから、ガラスセ
ラミックス基板の配線や電子部品の電極を作製するべく
導電ペーストを焼成した際にPdOが生成され難く、歪
や割れ等の発生を抑制することができる。また導電性粉
末からなる配線や電極等の導電部は、はんだ濡れ性およ
びはんだ耐熱性に優れているので、はんだの接着を良好
にするために配線や電極等の導電部に予めメッキを施す
ことなく良好なはんだ付けが達成され、工程数を低減し
てランニングコストを抑えることができる。更には、配
線を緻密に形成可能であるので、配線パターンの緻密化
が好適になし得る。
As described above, according to the conductive powder according to the present invention and the method of manufacturing a conductive part using the powder, the conductive powder is formed by alloying Ag and Pd and reducing the Pd content. Since the content is set to 20 wt% or less, PdO is not easily generated when the conductive paste is baked to produce wiring of a glass ceramic substrate or an electrode of an electronic component, and it is possible to suppress the occurrence of distortion, cracking, and the like. In addition, conductive parts such as wiring and electrodes made of conductive powder are excellent in solder wettability and solder heat resistance, so conductive parts such as wiring and electrodes should be plated in advance to improve solder adhesion. Therefore, good soldering can be achieved, and the number of steps can be reduced to reduce running costs. Further, since the wiring can be formed densely, the wiring pattern can be suitably densified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ガラスセラミックス基板に配線を作製する工程
を示す工程図である。
FIG. 1 is a process diagram showing a process for producing a wiring on a glass ceramic substrate.

【図2】アルミナ基板上の配線のSEM写真を示す説明
図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an SEM photograph of a wiring on an alumina substrate.

【図3】ガラスセラミックス基板上の配線のSEM写真
を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing an SEM photograph of a wiring on a glass ceramic substrate.

【図4】積層セラミックコンデンサに電極を作製する工
程を示す工程図である。
FIG. 4 is a process chart showing a process for producing an electrode on the multilayer ceramic capacitor.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Agに対するPdの含有量が20w%以
下で両者が合金化され、その粒径が5μm以下の高分散
タイプであることを特徴とする導電性粉末。
1. A conductive powder characterized in that both are alloyed when the content of Pd with respect to Ag is 20% by weight or less and the particle size is 5 μm or less.
【請求項2】 Agに対するPdの含有量が20w%以
下で両者が合金化され、その粒径が5μm以下の高分散
タイプの導電性粉末に、樹脂および溶剤を所要の割合で
混合して導電ペーストを作成し、 前記導電ペーストによりガラスセラミックスを素材とす
る焼成前のグリーンシートの表面に所要パターンを印刷
し、 前記導電ペーストで印刷したグリーンシートを所要温度
で焼成することで、ガラスセラミックス基板上に前記導
電性粉末からなる配線を作製するようにしたことを特徴
とする導電性粉末を用いた導電部の製造方法。
2. A resin and a solvent are mixed at a required ratio with a highly dispersed conductive powder having a Pd content of 20% by weight or less with respect to Ag and a particle size of 5 μm or less. A paste is prepared, a required pattern is printed on the surface of a green sheet before firing using glass ceramic as a material by the conductive paste, and the green sheet printed with the conductive paste is fired at a required temperature, thereby forming a glass ceramic substrate. A method of manufacturing a conductive part using a conductive powder, wherein a wiring made of the conductive powder is manufactured.
【請求項3】 Agに対するPdの含有量が20w%以
下で両者が合金化され、その粒径が5μm以下の高分散
タイプの導電性粉末に、樹脂および溶剤を所要の割合で
混合して導電ペーストを作成し、 前記導電ペーストを電子部品の電極となる部分に塗布
し、 前記電子部品に塗布された導電ペーストを所要温度で焼
成することで、該電子部品に前記導電性粉末からなる電
極を作製するようにしたことを特徴とする導電性粉末を
用いた導電部の製造方法。
3. A resin and a solvent are mixed at a required ratio with a highly dispersed conductive powder having a Pd content of 20% by weight or less with respect to Ag and a particle size of 5 μm or less. A paste is prepared, the conductive paste is applied to a portion to be an electrode of an electronic component, and the conductive paste applied to the electronic component is fired at a required temperature, so that the electrode made of the conductive powder is applied to the electronic component. A method for manufacturing a conductive part using a conductive powder, wherein the conductive part is manufactured.
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