JPH11169697A - エマルション製造装置及びエマルションの製造方法 - Google Patents
エマルション製造装置及びエマルションの製造方法Info
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- JPH11169697A JPH11169697A JP36982197A JP36982197A JPH11169697A JP H11169697 A JPH11169697 A JP H11169697A JP 36982197 A JP36982197 A JP 36982197A JP 36982197 A JP36982197 A JP 36982197A JP H11169697 A JPH11169697 A JP H11169697A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】仕切撹拌型混合装置を利用して製造されるエマ
ルションのエマルション径を制御する。 【解決手段】エマルション製造装置１を、天板２ａと底
板２ｂにより密閉状態とされた筒状のケーシング２に、
振動源Ｍの駆動軸３ａに振動板である円板３ｂが取り付
けられた振動体３を内装した構成とする。ケーシング２
内部の密閉状態を保つため、駆動軸３ａと軸挿通孔４と
の間はシール材５により密封される。そして、この円板
３ｂの周縁とケーシング２の側壁２ｃとの間に間隙６を
設ける。 【作用】エマルションの滴径をほぼ均一に、すなわち、
エマルションの滴径分布を所定孔径以下に狭くすること
ができる。
ルションのエマルション径を制御する。 【解決手段】エマルション製造装置１を、天板２ａと底
板２ｂにより密閉状態とされた筒状のケーシング２に、
振動源Ｍの駆動軸３ａに振動板である円板３ｂが取り付
けられた振動体３を内装した構成とする。ケーシング２
内部の密閉状態を保つため、駆動軸３ａと軸挿通孔４と
の間はシール材５により密封される。そして、この円板
３ｂの周縁とケーシング２の側壁２ｃとの間に間隙６を
設ける。 【作用】エマルションの滴径をほぼ均一に、すなわち、
エマルションの滴径分布を所定孔径以下に狭くすること
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エマルション製造
装置及びこの装置を使用したエマルションの製造方法に
関するものである。
装置及びこの装置を使用したエマルションの製造方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、流体どうしの撹拌混合を行ってエ
マルションを製造する装置として、図５に示されるよう
な装置１１が存在する。この装置１１の筒状のケーシン
グ１２内には振動体１３が設けられており、この振動体
１３は駆動軸１３ａと、この駆動軸１３ａに取り付けら
れた円板１３ｂとからなる。そして、各円板１３ｂの間
に挿入される形で、仕切板１４がケーシング１２内に取
り付けられている。そして、円板１３ｂには、通常透孔
１３ｃが設けられている。
マルションを製造する装置として、図５に示されるよう
な装置１１が存在する。この装置１１の筒状のケーシン
グ１２内には振動体１３が設けられており、この振動体
１３は駆動軸１３ａと、この駆動軸１３ａに取り付けら
れた円板１３ｂとからなる。そして、各円板１３ｂの間
に挿入される形で、仕切板１４がケーシング１２内に取
り付けられている。そして、円板１３ｂには、通常透孔
１３ｃが設けられている。
【０００３】このタイプの混合装置は、振動体１３が上
下振動することにより撹拌混合を行うものであるが、円
板１３ｂどうしを仕切板１４によってそれぞれ独立させ
ていることが特徴となっている。（以下、本明細書で
は、説明の便宜上、このタイプの混合装置を仕切撹拌型
混合装置と呼ぶ）。
下振動することにより撹拌混合を行うものであるが、円
板１３ｂどうしを仕切板１４によってそれぞれ独立させ
ていることが特徴となっている。（以下、本明細書で
は、説明の便宜上、このタイプの混合装置を仕切撹拌型
混合装置と呼ぶ）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した仕切撹拌型混
合装置によれば、エマルションの製造を効果的に行うこ
とができる。ところで、例えば化粧品、医療品等の用途
に用いられるＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルション等は、微小
な滴径であって限りなく均一であることが要求される。
また、エマルションの派生物、すなわちこのエマルショ
ンを加工することにより得られる微粒子、例えば複写・
印字用のトナーにおいて、造粒されるトナーがエマルシ
ョンを経て製造された場合には、粒子の大きさが適切で
あることに加え、エマルションの分散相粒子の粒径が均
一であることが要求される。
合装置によれば、エマルションの製造を効果的に行うこ
とができる。ところで、例えば化粧品、医療品等の用途
に用いられるＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルション等は、微小
な滴径であって限りなく均一であることが要求される。
また、エマルションの派生物、すなわちこのエマルショ
ンを加工することにより得られる微粒子、例えば複写・
印字用のトナーにおいて、造粒されるトナーがエマルシ
ョンを経て製造された場合には、粒子の大きさが適切で
あることに加え、エマルションの分散相粒子の粒径が均
一であることが要求される。
【０００５】本発明は上記のような課題に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、仕切撹拌型混合装置を利用
して製造されるエマルションのエマルション径を制御す
ることにある。
たものであり、その目的は、仕切撹拌型混合装置を利用
して製造されるエマルションのエマルション径を制御す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項１に係るエマルション製造装置は、
筒状のケーシングと、該ケーシング内に配置される振動
体と、を備え、該振動体は、駆動軸とこの駆動軸に取り
付けられた振動板とからなり、該振動板を前記ケーシン
グ内に設けられた少なくとも一対の仕切板の間で振動さ
せるエマルション製造装置において、前記ケーシングを
密閉状態とし、該ケーシング側壁と前記振動板との間隙
及び／又は前記振動板に穿設された透孔及び前記振動板
の振動数を変化させることによって、製造されるエマル
ション径を制御することを特徴とする。
に、本発明の請求項１に係るエマルション製造装置は、
筒状のケーシングと、該ケーシング内に配置される振動
体と、を備え、該振動体は、駆動軸とこの駆動軸に取り
付けられた振動板とからなり、該振動板を前記ケーシン
グ内に設けられた少なくとも一対の仕切板の間で振動さ
せるエマルション製造装置において、前記ケーシングを
密閉状態とし、該ケーシング側壁と前記振動板との間隙
及び／又は前記振動板に穿設された透孔及び前記振動板
の振動数を変化させることによって、製造されるエマル
ション径を制御することを特徴とする。
【０００７】そして、請求項２に係るエマルション製造
装置は、請求項１記載のエマルション製造装置におい
て、振動板の断面積に対するケーシング側壁と前記振動
板との間隙又は透孔の断面積の比が０．３以下であるこ
とを特徴とする。
装置は、請求項１記載のエマルション製造装置におい
て、振動板の断面積に対するケーシング側壁と前記振動
板との間隙又は透孔の断面積の比が０．３以下であるこ
とを特徴とする。
【０００８】更に、請求項３に係るエマルション製造装
置は、請求項１記載のエマルション製造装置において、
振動板の断面積に対するケーシング側壁と前記振動板と
の間隙又は透孔の断面積の比を振動数で除した係数が
０．１以下であることを特徴とする。
置は、請求項１記載のエマルション製造装置において、
振動板の断面積に対するケーシング側壁と前記振動板と
の間隙又は透孔の断面積の比を振動数で除した係数が
０．１以下であることを特徴とする。
【０００９】また、請求項４に係るエマルション製造装
置は、請求項１乃至請求項３記載のエマルション製造装
置において、エマルションを構成する物質のケーシング
への流入口及び製造されたエマルションの流出口がケー
シング側壁に設けられていることを特徴とする。
置は、請求項１乃至請求項３記載のエマルション製造装
置において、エマルションを構成する物質のケーシング
への流入口及び製造されたエマルションの流出口がケー
シング側壁に設けられていることを特徴とする。
【００１０】以上のような構成を有する本発明エマルシ
ョン製造装置によれば、振動体が振動し、振動板と仕切
板とが近接離反して筒状のケーシング内に収納された二
種以上の流体の混合が行われることになる。この場合に
おいて、本発明に係るエマルション製造装置では、振動
板との間隙及び／又は前記振動板に穿設された透孔を流
体が上下に流通する。その際、ケーシングが密閉状態と
されているので、振動板と仕切板との間に渦流が発生し
流体の混合が効率よく行われる。
ョン製造装置によれば、振動体が振動し、振動板と仕切
板とが近接離反して筒状のケーシング内に収納された二
種以上の流体の混合が行われることになる。この場合に
おいて、本発明に係るエマルション製造装置では、振動
板との間隙及び／又は前記振動板に穿設された透孔を流
体が上下に流通する。その際、ケーシングが密閉状態と
されているので、振動板と仕切板との間に渦流が発生し
流体の混合が効率よく行われる。
【００１１】請求項５に係るＯ／Ｗ型エマルションは油
又は油相を水相に添加し、振動撹拌して製造され、水相
中に脂肪球が存在するものを言い、Ｗ／Ｏ型エマルショ
ンは油相中に水球又は水相球が存在するものを言う。ま
た、請求項６に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションは、
Ｏ／Ｗ型エマルションの脂肪球中に、更に水球が存在す
るものをいい、Ｏ／Ｗ／Ｏ型複合エマルションは、Ｗ／
Ｏ型エマルションの水球又は水相球中に、更に脂肪球が
存在するものを言う。Ｏ／Ｗ／Ｏ／Ｗ型、Ｗ／Ｏ／Ｗ／
Ｏ／Ｗ型等のエマルションもあり、これらを総称してＷ
／Ｏ／Ｗ型複合エマルション、または多相、多重エマル
ションという。ここで、脂肪球中の水相を内水相、連続
相を形成する水相を外水相という。
又は油相を水相に添加し、振動撹拌して製造され、水相
中に脂肪球が存在するものを言い、Ｗ／Ｏ型エマルショ
ンは油相中に水球又は水相球が存在するものを言う。ま
た、請求項６に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションは、
Ｏ／Ｗ型エマルションの脂肪球中に、更に水球が存在す
るものをいい、Ｏ／Ｗ／Ｏ型複合エマルションは、Ｗ／
Ｏ型エマルションの水球又は水相球中に、更に脂肪球が
存在するものを言う。Ｏ／Ｗ／Ｏ／Ｗ型、Ｗ／Ｏ／Ｗ／
Ｏ／Ｗ型等のエマルションもあり、これらを総称してＷ
／Ｏ／Ｗ型複合エマルション、または多相、多重エマル
ションという。ここで、脂肪球中の水相を内水相、連続
相を形成する水相を外水相という。
【００１２】一般に、Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルション
は、きわめて細かく、皮膚等への接触感がきわめて滑ら
かであること、脂肪球の内部に水溶性物質を封入するこ
とができること、見掛けの脂肪率を高めることができる
ことから、化粧品、医療品等への用途展開が期待されて
いるものである。
は、きわめて細かく、皮膚等への接触感がきわめて滑ら
かであること、脂肪球の内部に水溶性物質を封入するこ
とができること、見掛けの脂肪率を高めることができる
ことから、化粧品、医療品等への用途展開が期待されて
いるものである。
【００１３】そして、このＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンの製造方法には、大別すると、１段階乳化法と２段階
乳化法がある。１段階乳化法は、油に水相を投入して、
まずＷ／Ｏ型エマルションを作り、更に水相を添加して
転相させて、Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションを得る方法
である。この１段階乳化法は、操作は簡単であるが、微
細化しやすくするためには、撹拌を強くする必要があ
る。一方、２段階乳化法は、まずＷ／Ｏ型エマルション
を作り、外水相中にこのＷ／Ｏ型エマルションを投入し
て、Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションを得る方法であり、
Ｗ／Ｏ型エマルションを作る際に転相法を用い、水中に
油を投入してＯ／Ｗ型エマルションを作り、更に油を投
入して転相させてＷ／Ｏ型エマルションとし、このＷ／
Ｏ型エマルションを外水相に添加する方法で、Ｗ／Ｏ／
Ｗ型複合エマルションが得られやすい一般的な製造方法
である。この２段階乳化法の方が脂肪球中の水滴の大き
さがほぼ揃うので、脂肪球径の大きさも揃い、生成率、
安定性に優れるという利点がある。
ンの製造方法には、大別すると、１段階乳化法と２段階
乳化法がある。１段階乳化法は、油に水相を投入して、
まずＷ／Ｏ型エマルションを作り、更に水相を添加して
転相させて、Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションを得る方法
である。この１段階乳化法は、操作は簡単であるが、微
細化しやすくするためには、撹拌を強くする必要があ
る。一方、２段階乳化法は、まずＷ／Ｏ型エマルション
を作り、外水相中にこのＷ／Ｏ型エマルションを投入し
て、Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションを得る方法であり、
Ｗ／Ｏ型エマルションを作る際に転相法を用い、水中に
油を投入してＯ／Ｗ型エマルションを作り、更に油を投
入して転相させてＷ／Ｏ型エマルションとし、このＷ／
Ｏ型エマルションを外水相に添加する方法で、Ｗ／Ｏ／
Ｗ型複合エマルションが得られやすい一般的な製造方法
である。この２段階乳化法の方が脂肪球中の水滴の大き
さがほぼ揃うので、脂肪球径の大きさも揃い、生成率、
安定性に優れるという利点がある。
【００１４】そこで、化粧品、医療品等の用途に用いる
Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションの製造には、通常２段階
乳化法が採用されている。そして、一次乳化及び二次乳
化に用いる撹拌手段として、従来はホモミキサー、モホ
ジナイザー、ボテーター等が用いられていた。
Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションの製造には、通常２段階
乳化法が採用されている。そして、一次乳化及び二次乳
化に用いる撹拌手段として、従来はホモミキサー、モホ
ジナイザー、ボテーター等が用いられていた。
【００１５】近年、化粧品、医療品等の分野において
は、皮膚への伸び、被膜性または吸収性の観点から、Ｗ
／Ｏ／Ｗ型複合エマルションは微小なエマルションの滴
径であって限りなく均一であることが望まれている。し
かしながら、上記従来の撹拌手段では、エマルションの
滴径を均一にすることは困難であった。すなわち、従来
のホモミキサー、モホジナイザー、ボテーター等を用い
て微小な滴径を生成させるには、撹拌手段の機械力に頼
るしかなく、折角微細滴径が生成したとしてもさらなる
撹拌によって一部のエマルションは、エマルション同士
が合体してエマルションの滴径を増大させるか、または
破裂して消滅してしまう。このため、エマルションの滴
径に若干ばらつきが生じるという問題があった。
は、皮膚への伸び、被膜性または吸収性の観点から、Ｗ
／Ｏ／Ｗ型複合エマルションは微小なエマルションの滴
径であって限りなく均一であることが望まれている。し
かしながら、上記従来の撹拌手段では、エマルションの
滴径を均一にすることは困難であった。すなわち、従来
のホモミキサー、モホジナイザー、ボテーター等を用い
て微小な滴径を生成させるには、撹拌手段の機械力に頼
るしかなく、折角微細滴径が生成したとしてもさらなる
撹拌によって一部のエマルションは、エマルション同士
が合体してエマルションの滴径を増大させるか、または
破裂して消滅してしまう。このため、エマルションの滴
径に若干ばらつきが生じるという問題があった。
【００１６】そこで、本発明の請求項５に係るＷ／Ｏ型
エマルション及び／又は請求項６に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複
合エマルションは、請求項１乃至請求項３に記載された
仕切撹拌型のエマルション製造装置により振動撹拌して
製造されることを特徴としている。
エマルション及び／又は請求項６に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複
合エマルションは、請求項１乃至請求項３に記載された
仕切撹拌型のエマルション製造装置により振動撹拌して
製造されることを特徴としている。
【００１７】以上、本発明の請求項１乃至請求項３に係
る装置により得られるエマルション、複合エマルション
及びその製造方法は、すべて本発明の範囲に含まれる。
また、このエマルションの派生物一切、すなわち、この
エマルションを加工することにより得られる微粒子もす
べて本発明の範囲に含まれる（請求項７）。尚、エマル
ションを構成する物質はいかなるものでもよい。すなわ
ち、通常の水と油（パラフィン系油等の鉱油、動物性油
脂や植物性油脂等の食用油など）からなるエマルション
のみならず、シリコン系の分散相を有するエマルション
や蛋白質などの生体物質の分散相を有するエマルション
なども含まれる。
る装置により得られるエマルション、複合エマルション
及びその製造方法は、すべて本発明の範囲に含まれる。
また、このエマルションの派生物一切、すなわち、この
エマルションを加工することにより得られる微粒子もす
べて本発明の範囲に含まれる（請求項７）。尚、エマル
ションを構成する物質はいかなるものでもよい。すなわ
ち、通常の水と油（パラフィン系油等の鉱油、動物性油
脂や植物性油脂等の食用油など）からなるエマルション
のみならず、シリコン系の分散相を有するエマルション
や蛋白質などの生体物質の分散相を有するエマルション
なども含まれる。
【００１８】上記のエマルションを加工することにより
得られる微粒子としては、例えば複写・印字用のトナー
やカラムの坦体などがある。これらの加工方法は、粒子
の重合、分離や乾燥等、当業者により通常行われている
加工方法のすべてを含む。
得られる微粒子としては、例えば複写・印字用のトナー
やカラムの坦体などがある。これらの加工方法は、粒子
の重合、分離や乾燥等、当業者により通常行われている
加工方法のすべてを含む。
【００１９】トナーの製法としては、例えば、特開平８
−１７９５５２号公報（特願平６−−３３５１４６号）
に開示されている。すなわち、トナーの製造のために
は、この製法と同様に、モノマー中に着色剤、荷電制御
剤等の添加剤を加えて形成された分散相を、分散安定剤
を含む水相（連続相）中に分散させることにより造粒を
行う。そしてこれを所定の温度に設定して重合反応を開
始させ、反応終了後、生成したトナー粒子を洗浄してか
ら、濾過もしくは遠心分離などにより固液分離を行う。
得られたトナー粒子は回収して乾燥させる。
−１７９５５２号公報（特願平６−−３３５１４６号）
に開示されている。すなわち、トナーの製造のために
は、この製法と同様に、モノマー中に着色剤、荷電制御
剤等の添加剤を加えて形成された分散相を、分散安定剤
を含む水相（連続相）中に分散させることにより造粒を
行う。そしてこれを所定の温度に設定して重合反応を開
始させ、反応終了後、生成したトナー粒子を洗浄してか
ら、濾過もしくは遠心分離などにより固液分離を行う。
得られたトナー粒子は回収して乾燥させる。
【００２０】この過程において、造粒されるトナー粒子
が本発明に係るエマルションを経て製造された場合に
は、粒子の大きさが適切であることに加え、エマルショ
ンの分散相粒子の粒径が均一であるため、造粒の歩留ま
りが高くなる。また、エマルションの分散相粒子の粒径
が均一であると、粒子の洗浄も比較的容易に行うことが
できることに加え、固液分離の労力も軽減できる。更
に、通常のエマルションにはきわめて小さい粒子が少な
からず含まれており、これが回収装置をくぐりぬけてし
まうため、後処理に非常な困難を伴うこともあったが、
本発明に係るエマルションのように、その分散相粒子の
粒径が均一であると、そのようなことがなく、環境問題
にも貢献することができる。
が本発明に係るエマルションを経て製造された場合に
は、粒子の大きさが適切であることに加え、エマルショ
ンの分散相粒子の粒径が均一であるため、造粒の歩留ま
りが高くなる。また、エマルションの分散相粒子の粒径
が均一であると、粒子の洗浄も比較的容易に行うことが
できることに加え、固液分離の労力も軽減できる。更
に、通常のエマルションにはきわめて小さい粒子が少な
からず含まれており、これが回収装置をくぐりぬけてし
まうため、後処理に非常な困難を伴うこともあったが、
本発明に係るエマルションのように、その分散相粒子の
粒径が均一であると、そのようなことがなく、環境問題
にも貢献することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施例に基づい
て本発明の実施の形態を説明する。図１は本発明に係る
エマルション製造装置の縦断面図、図２は図１のＡ−Ａ
線断面図、図３は振動板の他の実施例を示す図１のＡ−
Ａ線断面図、図４（Ａ）及び（Ｂ）は他の実施例を示す
縦断面図、図５（Ａ）は従来の仕切撹拌型の混合装置の
縦断面図、（Ｂ）はＣ−Ｃ線断面図である。
て本発明の実施の形態を説明する。図１は本発明に係る
エマルション製造装置の縦断面図、図２は図１のＡ−Ａ
線断面図、図３は振動板の他の実施例を示す図１のＡ−
Ａ線断面図、図４（Ａ）及び（Ｂ）は他の実施例を示す
縦断面図、図５（Ａ）は従来の仕切撹拌型の混合装置の
縦断面図、（Ｂ）はＣ−Ｃ線断面図である。
【００２２】
【実施例１】図１に示すように、本発明に係るエマルシ
ョン製造装置１は、天板２ａと底板２ｂにより密閉状態
とされた筒状のケーシング２に、振動源Ｍの駆動軸３ａ
に振動板である円板３ｂが取り付けられた振動体３を内
装した構成とされている。ここで、駆動軸３ａはケーシ
ング２の天板２ａに穿設された軸挿通孔４に挿通される
が、ケーシング２内部の密閉状態を保つため、駆動軸３
ａと軸挿通孔４との間はシール材５により密封される。
そして、この円板３ｂの周縁とケーシング２の側壁２ｃ
との間には間隙６が設けられるが、この間隙６の大きさ
は、その水平方向の断面積が、円板３ｂの水平方向の断
面積に対して０．３以下の比率であることが好ましい。
すなわち、間隙６の水平方向の断面積（ａ）、円板３ｂ
の水平方向の断面積（Ａ）との理想的な関係は次式のよ
うに表される。
ョン製造装置１は、天板２ａと底板２ｂにより密閉状態
とされた筒状のケーシング２に、振動源Ｍの駆動軸３ａ
に振動板である円板３ｂが取り付けられた振動体３を内
装した構成とされている。ここで、駆動軸３ａはケーシ
ング２の天板２ａに穿設された軸挿通孔４に挿通される
が、ケーシング２内部の密閉状態を保つため、駆動軸３
ａと軸挿通孔４との間はシール材５により密封される。
そして、この円板３ｂの周縁とケーシング２の側壁２ｃ
との間には間隙６が設けられるが、この間隙６の大きさ
は、その水平方向の断面積が、円板３ｂの水平方向の断
面積に対して０．３以下の比率であることが好ましい。
すなわち、間隙６の水平方向の断面積（ａ）、円板３ｂ
の水平方向の断面積（Ａ）との理想的な関係は次式のよ
うに表される。
【００２３】
【数１】
【００２４】実際には、振動板である円板３ｂの振動数
を変化させることによって、製造されるエマルション径
を制御するため、上記（１）式の関係に円板３ｂの振動
数ｆ（Ｈｚ）との関係を加えた理想的な関係は次式のよ
うに表される。
を変化させることによって、製造されるエマルション径
を制御するため、上記（１）式の関係に円板３ｂの振動
数ｆ（Ｈｚ）との関係を加えた理想的な関係は次式のよ
うに表される。
【００２５】
【数２】 すなわち、間隙６の断面積と円板３ｂの水平方向の断面
積の比を振動数で除した係数が０．１以下であることが
好ましい。
積の比を振動数で除した係数が０．１以下であることが
好ましい。
【００２６】このように、上記（１）式若しくは（２）
式を満足させるエマルション製造装置１においては、円
板３ｂの上面と天板２ａ及び円板３ｂの下面と底板２ｂ
との間に渦流が生じ、所望するエマルションを効率よく
製造することができる。
式を満足させるエマルション製造装置１においては、円
板３ｂの上面と天板２ａ及び円板３ｂの下面と底板２ｂ
との間に渦流が生じ、所望するエマルションを効率よく
製造することができる。
【００２７】実施例１に係るエマルション製造装置１
は、所望するエマルションの滴径に応じて、間隙６ある
いは円板３ｂの振動数を変化させるものであるが、図３
に示すように、この間隙６に代えてあるいは加えて振動
板３ｂに複数の所定孔径の透孔３ｃを設けるものでもよ
い。これにより、その孔径以上のエマルションの分散粒
子は、当該孔径を通過可能になるまで微細化され、エマ
ルションの滴径をほぼ均一に、すなわち、エマルション
の滴径分布を所定孔径以下に狭くすることができる。こ
こで、円板３ｂに穿設される透孔３ｃの孔径は５ｍｍ以
下の範囲で任意に設定されるが、その水平方向の断面積
の総和Σａは上記（１）式の間隙６の水平方向の断面積
（ａ）部分に代入して（１）式を満足させるものである
必要がある。
は、所望するエマルションの滴径に応じて、間隙６ある
いは円板３ｂの振動数を変化させるものであるが、図３
に示すように、この間隙６に代えてあるいは加えて振動
板３ｂに複数の所定孔径の透孔３ｃを設けるものでもよ
い。これにより、その孔径以上のエマルションの分散粒
子は、当該孔径を通過可能になるまで微細化され、エマ
ルションの滴径をほぼ均一に、すなわち、エマルション
の滴径分布を所定孔径以下に狭くすることができる。こ
こで、円板３ｂに穿設される透孔３ｃの孔径は５ｍｍ以
下の範囲で任意に設定されるが、その水平方向の断面積
の総和Σａは上記（１）式の間隙６の水平方向の断面積
（ａ）部分に代入して（１）式を満足させるものである
必要がある。
【００２８】ところで、実施例１に係るエマルション製
造装置１においては、エマルションを構成する物質のケ
ーシングへの流入口２ｄ及び製造されたエマルションの
流出口２ｅがケーシング側壁２ｃに設けられている。こ
のようにケーシング側壁２ｃに流入及び流出口を設ける
ことにより、ケーシング内を完全に密閉状態とすること
ができ、撹拌混合がより効果的に行えるようになる。図
４は、実施例１に係るエマルション製造装置１を複数段
に重ね装置のケーシングへの流入路７を示すものであ
り、基本的にはケーシング側壁同士を連通させるものと
されている。
造装置１においては、エマルションを構成する物質のケ
ーシングへの流入口２ｄ及び製造されたエマルションの
流出口２ｅがケーシング側壁２ｃに設けられている。こ
のようにケーシング側壁２ｃに流入及び流出口を設ける
ことにより、ケーシング内を完全に密閉状態とすること
ができ、撹拌混合がより効果的に行えるようになる。図
４は、実施例１に係るエマルション製造装置１を複数段
に重ね装置のケーシングへの流入路７を示すものであ
り、基本的にはケーシング側壁同士を連通させるものと
されている。
【００２９】次に、本発明に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマ
ルション製造装置の好適な一実施例を図面に基づいて説
明する。図６は、本発明に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマル
ション製造装置の全体構成を示す概略図である。
ルション製造装置の好適な一実施例を図面に基づいて説
明する。図６は、本発明に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマル
ション製造装置の全体構成を示す概略図である。
【００３０】
【実施例２】図６に示すように、槽８ａ、８ｂには、そ
れぞれ油相と水又は水に少量の界面活性剤を含む水相と
が貯留されており、それぞれポンプ９ｃ、９ｄによって
本発明エマルション製造装置１に供給して一次乳化を行
い、安定な油中水滴エマルション（以下「Ｗ／Ｏ型エマ
ルション」という）を調製する。そして、このＷ／Ｏ型
エマルションを、また槽８ｃより外水相となる水又は少
量の界面活性剤を含む水相を二次乳化用装置である本発
明エマルション製造装置１に供給し、振動源Ｍの振動に
よってＷ／Ｏ型エマルションと水又は水相を流入口２ｄ
から吸引し、円筒形のケーシング２内で振動体３によっ
て振動撹拌し、外水相とＷ／Ｏ型エマルションとが乳化
したＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションとなった乳化液を流
出口２ｅから排出し貯留槽８ｄに貯留する。尚、ポンプ
９ａ、９ｂは振動撹拌すべき液体の流量を調整するもの
であり、このバルブ１０ａ、１０ｂの開閉度を調整する
ことによって流量及び２液の混合比を調整することがで
きる。
れぞれ油相と水又は水に少量の界面活性剤を含む水相と
が貯留されており、それぞれポンプ９ｃ、９ｄによって
本発明エマルション製造装置１に供給して一次乳化を行
い、安定な油中水滴エマルション（以下「Ｗ／Ｏ型エマ
ルション」という）を調製する。そして、このＷ／Ｏ型
エマルションを、また槽８ｃより外水相となる水又は少
量の界面活性剤を含む水相を二次乳化用装置である本発
明エマルション製造装置１に供給し、振動源Ｍの振動に
よってＷ／Ｏ型エマルションと水又は水相を流入口２ｄ
から吸引し、円筒形のケーシング２内で振動体３によっ
て振動撹拌し、外水相とＷ／Ｏ型エマルションとが乳化
したＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションとなった乳化液を流
出口２ｅから排出し貯留槽８ｄに貯留する。尚、ポンプ
９ａ、９ｂは振動撹拌すべき液体の流量を調整するもの
であり、このバルブ１０ａ、１０ｂの開閉度を調整する
ことによって流量及び２液の混合比を調整することがで
きる。
【００３１】一次乳化装置及び二次乳化装置１は、被混
合流体の撹拌乳化を行う場合には、流入口２ｄより撹拌
乳化対象である２以上の種類の流体の混合物を流入する
と共に、ケーシング２内を流出口２ｅに向けて流通す
る。そして、この状態において、振動源Ｍによって振動
体３が上下振動され、ケーシング２内に流通する流体は
振動する円板３ｂとの接触によって十分に混合されるの
である。
合流体の撹拌乳化を行う場合には、流入口２ｄより撹拌
乳化対象である２以上の種類の流体の混合物を流入する
と共に、ケーシング２内を流出口２ｅに向けて流通す
る。そして、この状態において、振動源Ｍによって振動
体３が上下振動され、ケーシング２内に流通する流体は
振動する円板３ｂとの接触によって十分に混合されるの
である。
【００３２】Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルション 本発明のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションの内水相に添加
される酸化又は分解しやすい不安定物質としては、卵白
ペプチド、大豆タンパク、血漿タンパク、乳清タンパ
ク、卵白、卵黄、デキストリン、サイクロデキストリ
ン、澱粉誘導体等、その他内水相に添加されるものとし
て、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース
（ＣＭＣ）、メチルセルロース等が挙げられる。
される酸化又は分解しやすい不安定物質としては、卵白
ペプチド、大豆タンパク、血漿タンパク、乳清タンパ
ク、卵白、卵黄、デキストリン、サイクロデキストリ
ン、澱粉誘導体等、その他内水相に添加されるものとし
て、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース
（ＣＭＣ）、メチルセルロース等が挙げられる。
【００３３】また、本発明のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルシ
ョンの油性物質としては、ミツロウ、ラノリン、ワセリ
ン、パラフィン、動物油（スクワラン、スクワレン
等）、植物油等が用いられる。また、この油性物質に安
定な乳化を行うために、乳化剤として界面活性剤を添加
してもよく、界面活性剤としては、アニオン系、ノニオ
ン系、カチオン系の界面活性剤のいずれを使用してもよ
いが、特にノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン
系界面活性剤としては、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等が挙げられ
る。また、レシチン、グリセリンのジ脂肪酸エステル等
を用いてもよい。
ョンの油性物質としては、ミツロウ、ラノリン、ワセリ
ン、パラフィン、動物油（スクワラン、スクワレン
等）、植物油等が用いられる。また、この油性物質に安
定な乳化を行うために、乳化剤として界面活性剤を添加
してもよく、界面活性剤としては、アニオン系、ノニオ
ン系、カチオン系の界面活性剤のいずれを使用してもよ
いが、特にノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン
系界面活性剤としては、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等が挙げられ
る。また、レシチン、グリセリンのジ脂肪酸エステル等
を用いてもよい。
【００３４】また、本発明のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルシ
ョンの外水相に添加されるものとしては、乳化剤である
界面活性剤であり、上記同様アニオン系、ノニオン系、
カチオン系の界面活性剤のいずれを使用してもよいが、
特にノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン系界面
活性剤としては、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル等が挙げられる。ま
た、レシチン、グリセリンのジ脂肪酸エステル等を用い
てもよい。また、増粘剤として、多糖類、カゼイン、ゼ
ラチン、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、メチ
ルセルロース等を添加してもよい。
ョンの外水相に添加されるものとしては、乳化剤である
界面活性剤であり、上記同様アニオン系、ノニオン系、
カチオン系の界面活性剤のいずれを使用してもよいが、
特にノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン系界面
活性剤としては、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル等が挙げられる。ま
た、レシチン、グリセリンのジ脂肪酸エステル等を用い
てもよい。また、増粘剤として、多糖類、カゼイン、ゼ
ラチン、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、メチ
ルセルロース等を添加してもよい。
【００３５】ここで、乳化剤の添加量は少量であり、と
くに上記一次乳化及び二次乳化においては、本発明エマ
ルション製造装置１を使用するので、極少量添加するだ
けで、十分に安定で均一なＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンが得られる。例えば、乳化剤の添加量は、油性物質の
量に対して０．１〜２０％、好ましくは１〜１５％、よ
り好ましくは１〜１０％である。また、一括して乳化剤
を添加してもよいが、必要に応じて分割して添加しても
良い。また、内水相に上記乳化剤を溶解させる必要はな
く、乳化または懸濁させればよい。また、油性物質に上
記乳化剤を添加しておいてもよい。
くに上記一次乳化及び二次乳化においては、本発明エマ
ルション製造装置１を使用するので、極少量添加するだ
けで、十分に安定で均一なＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンが得られる。例えば、乳化剤の添加量は、油性物質の
量に対して０．１〜２０％、好ましくは１〜１５％、よ
り好ましくは１〜１０％である。また、一括して乳化剤
を添加してもよいが、必要に応じて分割して添加しても
良い。また、内水相に上記乳化剤を溶解させる必要はな
く、乳化または懸濁させればよい。また、油性物質に上
記乳化剤を添加しておいてもよい。
【００３６】Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションの滴径は１
〜２００μｍが好ましい。
〜２００μｍが好ましい。
【００３７】以下に、化粧品に用いる好ましいＷ／Ｏ／
Ｗ型複合エマルションの組成を表１に示す。
Ｗ型複合エマルションの組成を表１に示す。
【００３８】
【表１】
【００３９】化粧品としては、エモリエントクリーム、
クレンジングクリーム、下地クリーム、マッサージクリ
ーム、栄養クリーム、ハンドクリーム、ヘアクリーム等
のクリーム類、またはエモリエントローション、クレン
ジングローション、アフターシェーブローション、サン
タンローション、ハンドローション、ヘアトリートメン
トローション等のローション類、その他の化粧料が製造
できる。
クレンジングクリーム、下地クリーム、マッサージクリ
ーム、栄養クリーム、ハンドクリーム、ヘアクリーム等
のクリーム類、またはエモリエントローション、クレン
ジングローション、アフターシェーブローション、サン
タンローション、ハンドローション、ヘアトリートメン
トローション等のローション類、その他の化粧料が製造
できる。
【００４０】また、本発明のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルシ
ョンを用いて、ＤＤＳの医療用の医薬品に応用すること
ができる。そして、内用医薬品、外用医薬品として利用
することができる。また、内用医薬品としては、内服
剤、注射剤、座薬などが製造でき、一方外用医薬品とし
ては、傷薬、湿布薬、火傷薬などが製造できる。
ョンを用いて、ＤＤＳの医療用の医薬品に応用すること
ができる。そして、内用医薬品、外用医薬品として利用
することができる。また、内用医薬品としては、内服
剤、注射剤、座薬などが製造でき、一方外用医薬品とし
ては、傷薬、湿布薬、火傷薬などが製造できる。
【００４１】尚、本発明のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンは、塗料分野、食品分野等に応用することが可能であ
る。塗料分野では油性物質として、鉱物油を用いてもよ
い。
ンは、塗料分野、食品分野等に応用することが可能であ
る。塗料分野では油性物質として、鉱物油を用いてもよ
い。
【００４２】Ｗ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションの製造方法 本発明では、２段階乳化法が用いられる。一次乳化に
て、上記内水相と油性物質とを振動又は撹拌し、Ｗ／Ｏ
型エマルションを生成する。一次乳化用の装置として
は、上述したように本発明エマルション製造装置１が好
適であるがホモジナイザー又は超音波装置等の撹拌機を
使用するものでもよい。この一次乳化では転相法を用
い、水相中に油性物質を投入してＯ／Ｗ型エマルション
を作り、更に油性物質を投入して転相させてＷ／Ｏ型エ
マルションを製造する。
て、上記内水相と油性物質とを振動又は撹拌し、Ｗ／Ｏ
型エマルションを生成する。一次乳化用の装置として
は、上述したように本発明エマルション製造装置１が好
適であるがホモジナイザー又は超音波装置等の撹拌機を
使用するものでもよい。この一次乳化では転相法を用
い、水相中に油性物質を投入してＯ／Ｗ型エマルション
を作り、更に油性物質を投入して転相させてＷ／Ｏ型エ
マルションを製造する。
【００４３】次に、二次乳化にて、上記Ｗ／Ｏ型エマル
ションを外水相に添加し、上述の二次乳化装置によって
撹拌振動して所望の滴径のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンを得る。
ションを外水相に添加し、上述の二次乳化装置によって
撹拌振動して所望の滴径のＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンを得る。
【００４４】二次乳化装置は、振動数１〜５０ｓｐｓ
（ｓｔｒｏｋｅ ｐｅｒ ｓｅｃｏｎｄ）であることが
好ましい。
（ｓｔｒｏｋｅ ｐｅｒ ｓｅｃｏｎｄ）であることが
好ましい。
【００４５】以下にＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションの製
造方法の例を示す。図６に示す装置の槽８ｂに内水相と
して水２０ｇを入れた。一方、灯油１００ｇとドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＳＤＳ）１２．５ｇを
混ぜたものを槽８ａに入れた。そして、一次乳化装置１
の振動体３を所定のモードで振動させながら（３５ｓｐ
ｓ）、水２０ｇと灯油１００ｇとＳＤＳ１２．５ｇを投
入していき、一次乳化の１３２．５ｇのＷ／Ｏ型エマル
ションを得た。次に、得られたＷ／Ｏ型エマルションの
内２０ｇを二次乳化用装置１に連続投入する。一方、
０．２重量％のＳＤＳを含む外水相１００ｇも槽８ｃか
ら二次乳化装置１に連続投入した。そして、滴径に応じ
て好適な振動撹拌モードに設定された二次乳化装置１内
で連続振動撹拌し、滴径１０μｍの均一なＷ／Ｏ／Ｗ型
複合エマルションを得た。滴径分布の標準偏差σは０．
２２であった。また、生成率も良好であり安定性も優れ
ていた。
造方法の例を示す。図６に示す装置の槽８ｂに内水相と
して水２０ｇを入れた。一方、灯油１００ｇとドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＳＤＳ）１２．５ｇを
混ぜたものを槽８ａに入れた。そして、一次乳化装置１
の振動体３を所定のモードで振動させながら（３５ｓｐ
ｓ）、水２０ｇと灯油１００ｇとＳＤＳ１２．５ｇを投
入していき、一次乳化の１３２．５ｇのＷ／Ｏ型エマル
ションを得た。次に、得られたＷ／Ｏ型エマルションの
内２０ｇを二次乳化用装置１に連続投入する。一方、
０．２重量％のＳＤＳを含む外水相１００ｇも槽８ｃか
ら二次乳化装置１に連続投入した。そして、滴径に応じ
て好適な振動撹拌モードに設定された二次乳化装置１内
で連続振動撹拌し、滴径１０μｍの均一なＷ／Ｏ／Ｗ型
複合エマルションを得た。滴径分布の標準偏差σは０．
２２であった。また、生成率も良好であり安定性も優れ
ていた。
【００４６】尚、滴径の測定は（島津レーザ回析式粒度
分布測定装置ＳＡＬＤ−２００ Ｖ１．０２Ｇ）により
行った。
分布測定装置ＳＡＬＤ−２００ Ｖ１．０２Ｇ）により
行った。
【００４７】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
エマルションの滴径をほぼ均一に、すなわち、エマルシ
ョンの滴径分布を所定孔径以下に狭く生成することがで
きる。
エマルションの滴径をほぼ均一に、すなわち、エマルシ
ョンの滴径分布を所定孔径以下に狭く生成することがで
きる。
【図１】本発明に係るエマルション製造装置の縦断面図
である。
である。
【図２】（Ａ）は図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】振動板の他の実施例を示す図１のＡ−Ａ線断面
図である。
図である。
【図４】（Ａ）及び（Ｂ）はエマルション製造装置の他
の実施例を示す縦断面図である。
の実施例を示す縦断面図である。
【図５】（Ａ）は従来の仕切撹拌型の混合装置の縦断面
図、（Ｂ）はＣ−Ｃ線断面図である。
図、（Ｂ）はＣ−Ｃ線断面図である。
Ｍ 振動源 １ エマルション製造装置 ２ ケーシング ２ａ ケーシングの天板 ２ｂ ケーシングの底板 ２ｃ ケーシングの側壁 ２ｄ ケーシングの流入口 ２ｅ ケーシングの流出口 ３ 振動体 ３ａ 駆動軸 ３ｂ 円板（振動板） ３ｃ 透孔 ４ 軸挿通孔 ５ シール材 ６ 間隙 ７ 流入路 ８ａ 槽（油相） ８ｂ 槽（水相） ８ｃ 槽（水相） ８ｄ 槽（Ｗ／Ｏ／Ｗエマルション） ９ａ ポンプ ９ｂ ポンプ ９ｃ ポンプ ９ｄ ポンプ ９ｅ ポンプ １０ａ バルブ １０ｂ バルブ
【手続補正書】
【提出日】平成１０年４月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るエマルション製造装置の縦断面図
である。
である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】振動板の他の実施例を示す図１のＡ−Ａ線断面
図である。
図である。
【図４】（Ａ）及び（Ｂ）はエマルション製造装置の他
の実施例を示す縦断面図である。
の実施例を示す縦断面図である。
【図５】（Ａ）は従来の仕切撹拌型の混合装置の縦断面
図、（Ｂ）はＣ−Ｃ線断面図である。
図、（Ｂ）はＣ−Ｃ線断面図である。
【図６】本発明に係るＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルション製
造装置の全体構成を示す概略図である。
造装置の全体構成を示す概略図である。
【符号の説明】 Ｍ 振動源 １ エマルション製造装置 ２ ケーシング ２ａ ケーシングの天板 ２ｂ ケーシングの底板 ２ｃ ケーシングの側壁 ２ｄ ケーシングの流入口 ２ｅ ケーシングの流出口 ３ 振動体 ３ａ 駆動軸 ３ｂ 円板（振動板） ３ｃ 透孔 ４ 軸挿通孔 ５ シール材 ６ 間隙 ７ 流入路 ８ａ 槽（油相） ８ｂ 槽（水相） ８ｃ 槽（水相） ８ｄ 槽（Ｗ／Ｏ／Ｗエマルション） ９ａ ポンプ ９ｂ ポンプ ９ｃ ポンプ ９ｄ ポンプ ９ｅ ポンプ １０ａ バルブ １０ｂ バルブ
Claims (7)
- 【請求項１】筒状のケーシングと、該ケーシング内に配
置される振動体と、を備え、該振動体は、駆動軸とこの
駆動軸に取り付けられた振動板とからなり、該振動板を
前記ケーシング内に設けられた少なくとも一対の仕切板
の間で振動させるエマルション製造装置において、前記
ケーシングを密閉状態とし、該ケーシング側壁と前記振
動板との間隙及び／又は前記振動板に穿設された透孔及
び前記振動板の振動数を変化させることによって、製造
されるエマルション径を制御することを特徴とするエマ
ルション製造装置。 - 【請求項２】振動板の断面積に対するケーシング側壁と
前記振動板との間隙又は透孔の断面積の比が０．３以下
であることを特徴とする請求項１記載のエマルション製
造装置。 - 【請求項３】振動板の断面積に対するケーシング側壁と
前記振動板との間隙又は透孔の断面積の比を振動数で除
した係数が０．１以下であることを特徴とする請求項１
記載のエマルション製造装置。 - 【請求項４】エマルションを構成する物質のケーシング
への流入口及び製造されたエマルションの流出口がケー
シング側壁に設けられていることを特徴とする請求項１
乃至請求項３記載のエマルション製造装置。 - 【請求項５】油又は油相を水相に添加し、又は、水又は
水相を油相に添加し、請求項１乃至請求項４に記載の装
置により振動撹拌して製造されることを特徴とする水中
油滴エマルション（Ｏ／Ｗエマルション）又は油中水滴
エマルション（Ｗ／Ｏ型エマルション）の製造方法。 - 【請求項６】油又は油相を水相に添加し、又は、水又は
水相を油相に添加し振動及び／又は撹拌して得られたＯ
／Ｗ型エマルション又はＷ／Ｏ型エマルションに油相又
は水相を添加し、請求項１乃至請求項４に記載の装置に
より振動撹拌して製造されることを特徴とするＯ／Ｗ／
Ｏ型複合エマルション又はＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルショ
ンの製造方法。 - 【請求項７】請求項５又は請求項６記載のエマルション
を加工することにより製造される微粒子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36982197A JPH11169697A (ja) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | エマルション製造装置及びエマルションの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36982197A JPH11169697A (ja) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | エマルション製造装置及びエマルションの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11169697A true JPH11169697A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18495401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36982197A Pending JPH11169697A (ja) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | エマルション製造装置及びエマルションの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11169697A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005511283A (ja) * | 2001-12-11 | 2005-04-28 | ロディア・シミ | 水／油／水複合エマルジョンの製造法 |
| US7090391B2 (en) * | 2002-09-25 | 2006-08-15 | Reika Kogyo Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for mixing by agitation in a multichambered mixing apparatus including a pre-agitation mixing chamber |
| US7350961B2 (en) * | 2003-08-13 | 2008-04-01 | Reika Kogyo Kabushiki Kaisha | Agitation mixer, pasteurizer, and cleaning device |
| JP2008214212A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Kao Corp | 化粧料の製造方法 |
| JP2020124695A (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-20 | 冷化工業株式会社 | 乳化組成物製造システム |
-
1997
- 1997-12-12 JP JP36982197A patent/JPH11169697A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005511283A (ja) * | 2001-12-11 | 2005-04-28 | ロディア・シミ | 水／油／水複合エマルジョンの製造法 |
| US7090391B2 (en) * | 2002-09-25 | 2006-08-15 | Reika Kogyo Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for mixing by agitation in a multichambered mixing apparatus including a pre-agitation mixing chamber |
| CN1306991C (zh) * | 2002-09-25 | 2007-03-28 | 冷化工业株式会社 | 搅拌混合装置及搅拌混合方法 |
| US7293909B2 (en) | 2002-09-25 | 2007-11-13 | Reika Kogyo Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for mixing by agitation in a multichambered mixing apparatus including a pre-agitation mixing chamber |
| US7350961B2 (en) * | 2003-08-13 | 2008-04-01 | Reika Kogyo Kabushiki Kaisha | Agitation mixer, pasteurizer, and cleaning device |
| JP2008214212A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Kao Corp | 化粧料の製造方法 |
| JP2020124695A (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-20 | 冷化工業株式会社 | 乳化組成物製造システム |
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