JPH11142829A - 液晶表示素子の製造法 - Google Patents
液晶表示素子の製造法Info
- Publication number
- JPH11142829A JPH11142829A JP7762598A JP7762598A JPH11142829A JP H11142829 A JPH11142829 A JP H11142829A JP 7762598 A JP7762598 A JP 7762598A JP 7762598 A JP7762598 A JP 7762598A JP H11142829 A JPH11142829 A JP H11142829A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- weir
- color
- crystal display
- color liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 57
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 31
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 24
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 14
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 11
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 10
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 8
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 abstract description 2
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 3
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000005264 High molar mass liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 2
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N Tetrazine Chemical compound C1=CN=NN=N1 DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペン入力や反射型にも好適なカラ−液晶表示
素子を高価なカラ−フィルタ−を使用することなく安価
に製造する方法を提供する。 【解決手段】 一対の電極基板間に形成された規則的な
パタ−ンの高分子材料からなる堰に液晶が分割され独立
して封入された液晶表示素子において、異なる色のカラ
−液晶をインクジェット方法により、該堰に交互に充填
して封入する。
素子を高価なカラ−フィルタ−を使用することなく安価
に製造する方法を提供する。 【解決手段】 一対の電極基板間に形成された規則的な
パタ−ンの高分子材料からなる堰に液晶が分割され独立
して封入された液晶表示素子において、異なる色のカラ
−液晶をインクジェット方法により、該堰に交互に充填
して封入する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラ−液晶表示素子
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フルカラ−表示は据え置き型においては
一般的であり、携帯型表示においても今や当たり前の要
求になってきている。液晶のカラ−表示にはこれまで、
Ｂ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の３原色の着色層をモザ
イク状やデルタ状に配列したカラ−フィルタ−を使用す
る方法、光の吸収に大きな異方性をもつ２色性染料を添
加したゲスト−ホスト型カラ−液晶を使用する方法、Ｂ
（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の光の位相差を電界で制御
する複屈折方式を利用する方法などが提案され実用され
ている。
一般的であり、携帯型表示においても今や当たり前の要
求になってきている。液晶のカラ−表示にはこれまで、
Ｂ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の３原色の着色層をモザ
イク状やデルタ状に配列したカラ−フィルタ−を使用す
る方法、光の吸収に大きな異方性をもつ２色性染料を添
加したゲスト−ホスト型カラ−液晶を使用する方法、Ｂ
（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の光の位相差を電界で制御
する複屈折方式を利用する方法などが提案され実用され
ている。
【０００３】しかしながら、これらの方法には下記のよ
うな問題があった。カラ−フィルタ−を使用する方法は
極めて一般的ではあるが、カラ−フィルタ−は製造コス
トが高く、その低減が望まれている。ゲスト−ホスト型
カラ−液晶を使用する方法は、単色カラ−表示には望ま
しいが、フルカラ−表示にはＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ
（赤）の３層の液晶層を重ね合わせた構造にしなければ
ならず、コスト的な問題が大きい。複屈折制御方式は視
野角に大きな方向性があり、また多色の発現が難しい。
うな問題があった。カラ−フィルタ−を使用する方法は
極めて一般的ではあるが、カラ−フィルタ−は製造コス
トが高く、その低減が望まれている。ゲスト−ホスト型
カラ−液晶を使用する方法は、単色カラ−表示には望ま
しいが、フルカラ−表示にはＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ
（赤）の３層の液晶層を重ね合わせた構造にしなければ
ならず、コスト的な問題が大きい。複屈折制御方式は視
野角に大きな方向性があり、また多色の発現が難しい。
【０００４】一方、本発明者らは、電極表面に形成した
高さ均一な堰に囲まれたセルに液晶を独立に封入した液
晶表示素子を提案してきた（特開昭６２−２０３１２３
号公報）。この素子はフレキシブルな基板を用いた場合
にも液晶層の厚みを均一、かつ一定に保持することがで
き、ペン入力にも画像が乱れにくく、液晶が独立に封入
されているため衝撃に弱い強誘電液晶にも使用すること
ができる。また、液晶を高分子材料からなる堰に囲まれ
たセルに独立に封入することにより視野角の拡大やコン
トラストの向上も可能である（特開平６−１８６５３３
号公報）。
高さ均一な堰に囲まれたセルに液晶を独立に封入した液
晶表示素子を提案してきた（特開昭６２−２０３１２３
号公報）。この素子はフレキシブルな基板を用いた場合
にも液晶層の厚みを均一、かつ一定に保持することがで
き、ペン入力にも画像が乱れにくく、液晶が独立に封入
されているため衝撃に弱い強誘電液晶にも使用すること
ができる。また、液晶を高分子材料からなる堰に囲まれ
たセルに独立に封入することにより視野角の拡大やコン
トラストの向上も可能である（特開平６−１８６５３３
号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高価
なカラ−フィルタ−を使用せずに、ペン入力や反射型に
も好適な画質に優れたフルカラ−液晶表示素子を経済的
に製造する方法を提供することにある。
なカラ−フィルタ−を使用せずに、ペン入力や反射型に
も好適な画質に優れたフルカラ−液晶表示素子を経済的
に製造する方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、既に提案し
た前記のそれぞれの堰にＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ
（赤）、更にはまたＢＬ（黒）のカラ−液晶を封入する
ことによりカラ−フィルタ−を使用することなく単一液
晶層でフルカラ−表示が可能であることから、このカラ
ー表示の方法に着目し、その製造方法を検討した結果、
インクジェット方法によりカラ−液晶をそれぞれの堰に
囲まれたセルに精度良く充填し封入することができるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
た前記のそれぞれの堰にＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ
（赤）、更にはまたＢＬ（黒）のカラ−液晶を封入する
ことによりカラ−フィルタ−を使用することなく単一液
晶層でフルカラ−表示が可能であることから、このカラ
ー表示の方法に着目し、その製造方法を検討した結果、
インクジェット方法によりカラ−液晶をそれぞれの堰に
囲まれたセルに精度良く充填し封入することができるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明は、（１） 一対の電極
基板間に形成された規則的なパタ−ンの高分子材料から
なる堰に液晶が分割され独立して封入された液晶表示素
子において、異なる色のカラ−液晶をインクジェット方
法により該堰に囲まれたセルに充填して封入することを
特徴とするカラ−液晶表示素子の製造方法、（２） カ
ラ−液晶がゲスト−ホスト型液晶である上記（１）のカ
ラ−液晶表示素子の製造方法、（３） 高分子材料から
なる堰が黒色である上記（１）のカラ−液晶表示素子の
製造方法、（４） カラ−液晶が高分子化合物を含有す
る上記（１）のカラ−液晶表示素子の製造方法、（５）
少なくとも一方の電極基板がフレキシブルである上記
（１）のカラ−液晶表示素子の製造方法、である。
基板間に形成された規則的なパタ−ンの高分子材料から
なる堰に液晶が分割され独立して封入された液晶表示素
子において、異なる色のカラ−液晶をインクジェット方
法により該堰に囲まれたセルに充填して封入することを
特徴とするカラ−液晶表示素子の製造方法、（２） カ
ラ−液晶がゲスト−ホスト型液晶である上記（１）のカ
ラ−液晶表示素子の製造方法、（３） 高分子材料から
なる堰が黒色である上記（１）のカラ−液晶表示素子の
製造方法、（４） カラ−液晶が高分子化合物を含有す
る上記（１）のカラ−液晶表示素子の製造方法、（５）
少なくとも一方の電極基板がフレキシブルである上記
（１）のカラ−液晶表示素子の製造方法、である。
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
使用される一対の電極基板は、両基板がガラスのような
硬い基板同士であっても、また樹脂フィルムのようなフ
レキシブルな基板同士であっても、更にまたそれらの組
み合わせであってもよい。しかし、高さ一定の高分子材
料からなる堰により、液晶層厚が一定に保持できるとい
う本発明の表示素子の特徴を発揮するためには、少なく
とも一方にフレキシブルな基板を使用した場合が特に有
効である。この基板はバックライトを使用した透過型の
表示素子では両者共に透明である必要があるが、反射型
の表示素子では一方は必ずしも透明でなくても良い。
使用される一対の電極基板は、両基板がガラスのような
硬い基板同士であっても、また樹脂フィルムのようなフ
レキシブルな基板同士であっても、更にまたそれらの組
み合わせであってもよい。しかし、高さ一定の高分子材
料からなる堰により、液晶層厚が一定に保持できるとい
う本発明の表示素子の特徴を発揮するためには、少なく
とも一方にフレキシブルな基板を使用した場合が特に有
効である。この基板はバックライトを使用した透過型の
表示素子では両者共に透明である必要があるが、反射型
の表示素子では一方は必ずしも透明でなくても良い。
【０００９】基板間に規則的なパタ−ンで高分子材料か
らなる堰を形成する方法としては、電極基板上に塗布あ
るいは積層した感光性樹脂層に紫外線や電子線をパタ−
ンに合わせて照射する方法（リソグラフィ法）、電極基
板上に高分子材料溶液あるいは高分子材料融液を所定の
パタ−ンで塗布する方法（印刷法）、あるいは予め別の
基板上に形成した高分子材料からなる堰を電極基板上に
転写する方法など、公知の技術を用いることができる。
らなる堰を形成する方法としては、電極基板上に塗布あ
るいは積層した感光性樹脂層に紫外線や電子線をパタ−
ンに合わせて照射する方法（リソグラフィ法）、電極基
板上に高分子材料溶液あるいは高分子材料融液を所定の
パタ−ンで塗布する方法（印刷法）、あるいは予め別の
基板上に形成した高分子材料からなる堰を電極基板上に
転写する方法など、公知の技術を用いることができる。
【００１０】中でも別のフィルム上に感光性樹脂層を形
成した、いわゆるドライフィルムレジストを積層する方
法は簡便で好ましい。高分子材料からなる堰の形成は単
純マトリックス駆動の場合にはどちらの基板上であって
もよいが、アクティブマトリックス駆動の場合にはスイ
ッチング素子やキャパシタ素子を形成した基板側である
ことが製造工程上好ましい。
成した、いわゆるドライフィルムレジストを積層する方
法は簡便で好ましい。高分子材料からなる堰の形成は単
純マトリックス駆動の場合にはどちらの基板上であって
もよいが、アクティブマトリックス駆動の場合にはスイ
ッチング素子やキャパシタ素子を形成した基板側である
ことが製造工程上好ましい。
【００１１】高分子材料からなる堰の高さは塗布あるい
は積層する高分子材料層の厚さで調整される。通常この
高分子材料からなる堰の高さは数μｍから数十μｍであ
り、その均一性として±１〜１０％程度の精度が要求さ
れる。特に強誘電液晶が使用される場合には０．１μｍ
の精度が要求される。堰として使用される高分子材料と
しては、紫外線や電子線によって架橋硬化あるいは分解
する感光（あるいは広く感エネルギ−線）性のポリイミ
ド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリ（メタ）アク
リレ−ト、エポキシ、ポリシロキサンなど、加熱や水分
によって架橋硬化する反応性のエポキシ、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ（メタ）アクリレ−ト、ポリシロキサ
ンなど、加熱によって溶融するホットメルト型のワック
ス類、ポリプロピレンやエチレン−ビニルアルコ−ルな
どの熱可塑性樹脂などが代表例として挙げられる。
は積層する高分子材料層の厚さで調整される。通常この
高分子材料からなる堰の高さは数μｍから数十μｍであ
り、その均一性として±１〜１０％程度の精度が要求さ
れる。特に強誘電液晶が使用される場合には０．１μｍ
の精度が要求される。堰として使用される高分子材料と
しては、紫外線や電子線によって架橋硬化あるいは分解
する感光（あるいは広く感エネルギ−線）性のポリイミ
ド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリ（メタ）アク
リレ−ト、エポキシ、ポリシロキサンなど、加熱や水分
によって架橋硬化する反応性のエポキシ、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ（メタ）アクリレ−ト、ポリシロキサ
ンなど、加熱によって溶融するホットメルト型のワック
ス類、ポリプロピレンやエチレン−ビニルアルコ−ルな
どの熱可塑性樹脂などが代表例として挙げられる。
【００１２】本発明でいう規則的なパターンの高分子材
料からなる堰は、マトリックス状とストライプ状に大別
される。マトリックス状の堰に囲まれたセルの形状とし
ては、長方形や正方形、円形や六角形等であり、これら
は従来のカラ−フィルタのような格子状や千鳥目状に配
列される。セルの大きさとしては５０〜５００μｍ平
方、好ましくは１００μｍ平方程度である。一方、スト
ライプ状の堰は、その間隔が５０〜５００μｍ、好まし
くは１００μｍ前後で、パネル全面の長さ、あるいは堰
間隔の数十倍以上の長さで形成され、従来のストライプ
状のカラーフィルタと同様のあるいはそれに近いサイズ
の形状や配列をもつ。
料からなる堰は、マトリックス状とストライプ状に大別
される。マトリックス状の堰に囲まれたセルの形状とし
ては、長方形や正方形、円形や六角形等であり、これら
は従来のカラ−フィルタのような格子状や千鳥目状に配
列される。セルの大きさとしては５０〜５００μｍ平
方、好ましくは１００μｍ平方程度である。一方、スト
ライプ状の堰は、その間隔が５０〜５００μｍ、好まし
くは１００μｍ前後で、パネル全面の長さ、あるいは堰
間隔の数十倍以上の長さで形成され、従来のストライプ
状のカラーフィルタと同様のあるいはそれに近いサイズ
の形状や配列をもつ。
【００１３】高分子材料からなる堰の色はカラ−フィル
タの場合と同様にブラックであることが隣の堰への光の
拡散を防止してコントラストの優れた画像を得る上で好
ましい。そのためには高分子材料からなる堰をリソグラ
フィ法で形成後ブラックに染色する方法や、ブラック顔
料（または染料）を含んだ高分子材料溶液を印刷する方
法、感光性高分子材料を使用する方法にあっては特定の
波長の光でブラック化する染料を予めその中に含ませ、
別の波長の光で堰を形成させた後でこの特定波長の光を
照射する方法などが採用される。
タの場合と同様にブラックであることが隣の堰への光の
拡散を防止してコントラストの優れた画像を得る上で好
ましい。そのためには高分子材料からなる堰をリソグラ
フィ法で形成後ブラックに染色する方法や、ブラック顔
料（または染料）を含んだ高分子材料溶液を印刷する方
法、感光性高分子材料を使用する方法にあっては特定の
波長の光でブラック化する染料を予めその中に含ませ、
別の波長の光で堰を形成させた後でこの特定波長の光を
照射する方法などが採用される。
【００１４】高分子材料からなる堰の形状が、ストライ
プ状のセルである場合は、コントラスト等を向上させる
ため、ピクセル毎にブラックマトリックスを形成するこ
とが望ましく、少なくとも一方の電極基板にブラックマ
トリックスを設けることが好ましい。また、このブラッ
クマトリックスの一方向のラインがストライプ状の堰と
重なることが好ましい。
プ状のセルである場合は、コントラスト等を向上させる
ため、ピクセル毎にブラックマトリックスを形成するこ
とが望ましく、少なくとも一方の電極基板にブラックマ
トリックスを設けることが好ましい。また、このブラッ
クマトリックスの一方向のラインがストライプ状の堰と
重なることが好ましい。
【００１５】異なる色のカラ−液晶を高分子材料からな
る堰に囲まれたセルへ交互に配列して封入させる方法と
しては、カラ−フィルタ−の製造（特開昭５９−７５２
０５公報）でも使用されているインクジェット法が極め
て有効である。この方法には荷電制御方式、電界制御方
式、圧力パルス方式あるいはインクミスト方式など公知
の方式が、用いる液晶の性状や堰に囲まれたセルの容量
に合わせて適宜選択される。各色単一のノズルを用いカ
ラ−液晶を配列させる方式の他、生産性を上げるため、
アレ−状あるいはマトリックス状に設置したマルチノズ
ルを用いることもできる。
る堰に囲まれたセルへ交互に配列して封入させる方法と
しては、カラ−フィルタ−の製造（特開昭５９−７５２
０５公報）でも使用されているインクジェット法が極め
て有効である。この方法には荷電制御方式、電界制御方
式、圧力パルス方式あるいはインクミスト方式など公知
の方式が、用いる液晶の性状や堰に囲まれたセルの容量
に合わせて適宜選択される。各色単一のノズルを用いカ
ラ−液晶を配列させる方式の他、生産性を上げるため、
アレ−状あるいはマトリックス状に設置したマルチノズ
ルを用いることもできる。
【００１６】一つの高分子材料からなる堰に囲まれたセ
ルに充填するに必要な液晶量はインクジェット法で通常
の印刷を行う場合の一ドットあたりの液滴の数倍以上で
ある。ノズル径を大きくして液滴数を少なくするよりも
ノズル位置を移動させながら高分子材料からなる堰に囲
まれたセル内に液滴を均等に分散させて滴下すること
が、液量の調整や、対向基板で液晶を封入する際の隣接
した高分子材料からなる堰に囲まれたセルへの液晶のは
み出しを防止する上で望ましい。なお、充填される液晶
量の微妙な調整は液面をセンシングしながら液滴数や液
滴量を制御する方法（例えば、ラインセンサやレ−ザ−
センサで液面状態の良否を検出した後、修正用のノズル
から必要量を滴下補正する。）も必要に応じて採用され
る。
ルに充填するに必要な液晶量はインクジェット法で通常
の印刷を行う場合の一ドットあたりの液滴の数倍以上で
ある。ノズル径を大きくして液滴数を少なくするよりも
ノズル位置を移動させながら高分子材料からなる堰に囲
まれたセル内に液滴を均等に分散させて滴下すること
が、液量の調整や、対向基板で液晶を封入する際の隣接
した高分子材料からなる堰に囲まれたセルへの液晶のは
み出しを防止する上で望ましい。なお、充填される液晶
量の微妙な調整は液面をセンシングしながら液滴数や液
滴量を制御する方法（例えば、ラインセンサやレ−ザ−
センサで液面状態の良否を検出した後、修正用のノズル
から必要量を滴下補正する。）も必要に応じて採用され
る。
【００１７】本発明に用いられるカラ−液晶の代表とし
ては、２色性色素を用いたホスト−ゲスト型液晶が挙げ
られる。ホスト液晶としてはネマティック液晶、スメク
ティック液晶、図４に示すようなコレステリック（また
はカイラルスメクティック）液晶、強誘電性液晶等の公
知の液晶を使用することができる。２色性色素としては
Ｂ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）あるいはＢＬ（黒）の色
素が使用され、また表示方式に合わせてｐ型あるいはｎ
型のいずれの色素をも使用することができる。このよう
な２色性色素の代表例としてはアゾ系色素、アントラキ
ノン系色素、テトラジン系色素が挙げられる。また、黒
色の２色性色素に色素を含有したマイクロカプセルある
いは粒子を混合分散させた液晶も使用することができ
る。更に、２色性色素の代わりに通常の色素を含有させ
たマイクロカプセルや粒子を分散させたカラー液晶を使
用することもできる。
ては、２色性色素を用いたホスト−ゲスト型液晶が挙げ
られる。ホスト液晶としてはネマティック液晶、スメク
ティック液晶、図４に示すようなコレステリック（また
はカイラルスメクティック）液晶、強誘電性液晶等の公
知の液晶を使用することができる。２色性色素としては
Ｂ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）あるいはＢＬ（黒）の色
素が使用され、また表示方式に合わせてｐ型あるいはｎ
型のいずれの色素をも使用することができる。このよう
な２色性色素の代表例としてはアゾ系色素、アントラキ
ノン系色素、テトラジン系色素が挙げられる。また、黒
色の２色性色素に色素を含有したマイクロカプセルある
いは粒子を混合分散させた液晶も使用することができ
る。更に、２色性色素の代わりに通常の色素を含有させ
たマイクロカプセルや粒子を分散させたカラー液晶を使
用することもできる。
【００１８】本発明でいう高分子化合物は、高分子格子
型、高分子分散型、螺旋高分子配向型等の表示モードに
用いられるものであり、カラー液晶を分散させる、配向
させる、あるいは安定化させる等の機能をもつ。高分子
化合物としては、カラー液晶と屈折率が近いものが好ま
しく、例えばアクリレート系やビニルアルコール系の高
分子化合物が使用される。
型、高分子分散型、螺旋高分子配向型等の表示モードに
用いられるものであり、カラー液晶を分散させる、配向
させる、あるいは安定化させる等の機能をもつ。高分子
化合物としては、カラー液晶と屈折率が近いものが好ま
しく、例えばアクリレート系やビニルアルコール系の高
分子化合物が使用される。
【００１９】ホスト液晶の配向を助長するため一般に
は、電極表面にはラビングや配向膜処理が施される。配
向膜としては一般にポリイミドが使用される。光重合性
カイラルモノマ−やカイラルド−パントを使用した場合
には配向膜やラビング処理を必要としない場合がある。
ラビングや光照射等の配向処理は一般には高分子材料か
らなる堰を形成する前に電極基板面に施されるが、高分
子材料からなる堰を形成した後でこの堰の壁面や電極面
に施すこともできる。また、更に配向を助長するためカ
イラルドーパント、高分子液晶等をホスト液晶に添加す
ることや、またホスト液晶自体を高分子液晶にすること
もできる。更にホスト液晶のネマティク液晶に光重合性
カイラルモノマーと２色性色素を添加して、高分子材料
からなる堰に囲まれたセル中で配向させ、紫外線でカイ
ラルモノマーを重合させる方法や、ネマティック液晶、
光重合性モノマー、カイラルドーパントおよび２色性色
素の混合物を配向処理した高分子材料からなる堰に囲ま
れたセル中に充填した後に、紫外線重合させる方法等、
多くの方法をとることができる。
は、電極表面にはラビングや配向膜処理が施される。配
向膜としては一般にポリイミドが使用される。光重合性
カイラルモノマ−やカイラルド−パントを使用した場合
には配向膜やラビング処理を必要としない場合がある。
ラビングや光照射等の配向処理は一般には高分子材料か
らなる堰を形成する前に電極基板面に施されるが、高分
子材料からなる堰を形成した後でこの堰の壁面や電極面
に施すこともできる。また、更に配向を助長するためカ
イラルドーパント、高分子液晶等をホスト液晶に添加す
ることや、またホスト液晶自体を高分子液晶にすること
もできる。更にホスト液晶のネマティク液晶に光重合性
カイラルモノマーと２色性色素を添加して、高分子材料
からなる堰に囲まれたセル中で配向させ、紫外線でカイ
ラルモノマーを重合させる方法や、ネマティック液晶、
光重合性モノマー、カイラルドーパントおよび２色性色
素の混合物を配向処理した高分子材料からなる堰に囲ま
れたセル中に充填した後に、紫外線重合させる方法等、
多くの方法をとることができる。
【００２０】カラ−液晶を充填した電極基板と対面する
もう一方の電極基板の表面には、これらの電極基板を重
ね合わせて液晶を封入する際に密着性を向上させるた
め、薄い接着層が形成されることが望ましい。このよう
な接着層の材質としてはホットメルト型樹脂や溶媒希釈
型樹脂接着剤を一般的に使用することができる。電極基
板表面には高分子材料からなる堰が設けられているた
め、インクジェット法で同時あるいは逐次に射出した異
なるカラー液晶を混合させることなく所定の独立セルに
充填し封入することができる。カラーフィルターを必要
とせず生産性も高いことから安価な製品を提供できる。
もう一方の電極基板の表面には、これらの電極基板を重
ね合わせて液晶を封入する際に密着性を向上させるた
め、薄い接着層が形成されることが望ましい。このよう
な接着層の材質としてはホットメルト型樹脂や溶媒希釈
型樹脂接着剤を一般的に使用することができる。電極基
板表面には高分子材料からなる堰が設けられているた
め、インクジェット法で同時あるいは逐次に射出した異
なるカラー液晶を混合させることなく所定の独立セルに
充填し封入することができる。カラーフィルターを必要
とせず生産性も高いことから安価な製品を提供できる。
【００２１】本発明の製造方法は、液晶表示素子をロー
ル・ツー・ロールプロセスで連続生産する際に極めて有
効である。すなわち、従来のように液晶表示素子を一個
づつ組み上げてから液晶を電極基板間に注入する、いわ
ゆるバッチプロセスに比べて、本発明の製造方法は液晶
をインクジェット法で連続的に電極基板に充填すること
ができることから、フイルム印刷プロセスのような連続
的な製造プロセスであるロール・ツー・ロールプロセス
で液晶表示素子を効率的に連続生産することができる。
ル・ツー・ロールプロセスで連続生産する際に極めて有
効である。すなわち、従来のように液晶表示素子を一個
づつ組み上げてから液晶を電極基板間に注入する、いわ
ゆるバッチプロセスに比べて、本発明の製造方法は液晶
をインクジェット法で連続的に電極基板に充填すること
ができることから、フイルム印刷プロセスのような連続
的な製造プロセスであるロール・ツー・ロールプロセス
で液晶表示素子を効率的に連続生産することができる。
【００２２】液晶表示素子としては、基板の内部あるい
は外部に、必要に応じて、偏光板、反射板、吸光板、反
射防止板、光散乱板、複屈折フィルム、バックライト、
１／４波長膜等を設置して使用される。
は外部に、必要に応じて、偏光板、反射板、吸光板、反
射防止板、光散乱板、複屈折フィルム、バックライト、
１／４波長膜等を設置して使用される。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の内容を具体的に示
すために、好ましい実施形態を例示する。
すために、好ましい実施形態を例示する。
【００２４】
【実施例１】図１に示すように、ＩＴＯ（Indium Tin O
xide）で透明帯状行（走査）電極１（導電部幅８０μ
ｍ、絶縁部幅２０μｍ）を形成したポリアリレ−トフィ
ルム基板２の表面にポリイミドの配向膜３をコートした
後、ナイロン布でラビングする。この表面に感光性ポリ
イミドのドライフィルムレジストを貼り合わせた後、紫
外線を用いてフォトリソグラフィ法で１００μｍ角の正
方形で高さ７μｍのセルを電極位置に合わせてマトリッ
クス状に形成する（堰４の幅２０μｍ、高さ７μｍ）。
これらの堰に囲まれたセルにＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ
（赤）の色素を含有したゲスト−ホスト型液晶（ネマテ
ィック液晶、それぞれＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の
２色性色素およびカイラルドーパントの混合物）５、
６、７を電界制御方式のインクジェット法でそれぞれの
ノズルから射出して充填する。
xide）で透明帯状行（走査）電極１（導電部幅８０μ
ｍ、絶縁部幅２０μｍ）を形成したポリアリレ−トフィ
ルム基板２の表面にポリイミドの配向膜３をコートした
後、ナイロン布でラビングする。この表面に感光性ポリ
イミドのドライフィルムレジストを貼り合わせた後、紫
外線を用いてフォトリソグラフィ法で１００μｍ角の正
方形で高さ７μｍのセルを電極位置に合わせてマトリッ
クス状に形成する（堰４の幅２０μｍ、高さ７μｍ）。
これらの堰に囲まれたセルにＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ
（赤）の色素を含有したゲスト−ホスト型液晶（ネマテ
ィック液晶、それぞれＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の
２色性色素およびカイラルドーパントの混合物）５、
６、７を電界制御方式のインクジェット法でそれぞれの
ノズルから射出して充填する。
【００２５】一方、ＩＴＯの透明帯状列（信号）電極８
を上記の透明帯状行電極１に対応させて形成したポリア
リレ−トフィルム基板９の表面に設け、これにポリイミ
ドの配向膜３を形成し、同様にラビングして対向透明電
極とする。液晶の充填された堰に囲まれたセルと対向電
極の位置合わせをしながら両者を積層して軽く圧力をか
けながら両基板を密着させて液晶セルとする。このセル
の面に偏向膜を取り付け表示素子を製作する。
を上記の透明帯状行電極１に対応させて形成したポリア
リレ−トフィルム基板９の表面に設け、これにポリイミ
ドの配向膜３を形成し、同様にラビングして対向透明電
極とする。液晶の充填された堰に囲まれたセルと対向電
極の位置合わせをしながら両者を積層して軽く圧力をか
けながら両基板を密着させて液晶セルとする。このセル
の面に偏向膜を取り付け表示素子を製作する。
【００２６】
【実施例２】図２に示すように、ＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）１０と透明選択電極１６を設けたアクティブマト
リックス基板１２の上にスピンコ−ト法で感光性ポリイ
ミドを塗布した後、フォトリソグラフィ法により画素電
極に合わせて厚み４．５μｍの堰４を形成する。
スタ）１０と透明選択電極１６を設けたアクティブマト
リックス基板１２の上にスピンコ−ト法で感光性ポリイ
ミドを塗布した後、フォトリソグラフィ法により画素電
極に合わせて厚み４．５μｍの堰４を形成する。
【００２７】実施例１と同様にして、それぞれの堰に囲
まれたセルにＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の色素を含
有したゲスト−ホスト型液晶（ネマティック液晶、それ
ぞれＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の２色性色素、感光
性カイラルモノマー）５、６、７を電界制御方式のイン
クジェット法で充填する。一方、ＩＴＯの透明共通電極
１３を全面に形成したポリアリレ−トフィルム基板１４
の全面に、接着層１５としてエチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体を０．２μｍの厚みで形成した後、この対向
透明共通電極基板を上記の液晶の充填された堰側の基板
に積層して軽く圧力をかけながら加熱ロ−ルを用い両基
板を密着させて表示素子を製作する。その後、紫外線を
照射して高分子材料からなる堰に囲まれたセル中のカイ
ラルモノマーを重合して螺旋状のポリマー構造を形成さ
せる。
まれたセルにＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の色素を含
有したゲスト−ホスト型液晶（ネマティック液晶、それ
ぞれＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の２色性色素、感光
性カイラルモノマー）５、６、７を電界制御方式のイン
クジェット法で充填する。一方、ＩＴＯの透明共通電極
１３を全面に形成したポリアリレ−トフィルム基板１４
の全面に、接着層１５としてエチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体を０．２μｍの厚みで形成した後、この対向
透明共通電極基板を上記の液晶の充填された堰側の基板
に積層して軽く圧力をかけながら加熱ロ−ルを用い両基
板を密着させて表示素子を製作する。その後、紫外線を
照射して高分子材料からなる堰に囲まれたセル中のカイ
ラルモノマーを重合して螺旋状のポリマー構造を形成さ
せる。
【００２８】
【実施例３】図３に示すように、ＴＦＴ１０と反射電極
１１を設けたアクティブマトリックス基板１２の上に実
施例２と同様にしてスピンコ−ト法で感光性ポリイミド
を塗布した後、フォトリソグラフィ法により画素電極に
合わせて厚み４．５μｍの堰４を形成する。この堰に実
施例１と同様にして、それぞれの堰に囲まれたセルにＢ
（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の色素を含有したゲスト−
ホスト型液晶（それぞれＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）
のｎ型２色性色素を添加したコレステリック液晶）５、
６、７を電界制御方式のインクジェット法で充填する。
１１を設けたアクティブマトリックス基板１２の上に実
施例２と同様にしてスピンコ−ト法で感光性ポリイミド
を塗布した後、フォトリソグラフィ法により画素電極に
合わせて厚み４．５μｍの堰４を形成する。この堰に実
施例１と同様にして、それぞれの堰に囲まれたセルにＢ
（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の色素を含有したゲスト−
ホスト型液晶（それぞれＢ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）
のｎ型２色性色素を添加したコレステリック液晶）５、
６、７を電界制御方式のインクジェット法で充填する。
【００２９】一方、ＩＴＯの透明共通電極１３を全面に
形成したポリアリレ−トフィルム基板１４の全面に、接
着層１５としてエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体を
０．２μｍの厚みで形成した後、これを上記の液晶の充
填された堰側の基板に積層して軽く圧力をかけながら加
熱ロ−ルを用いて両基板を密着させて表示素子を製作す
る。
形成したポリアリレ−トフィルム基板１４の全面に、接
着層１５としてエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体を
０．２μｍの厚みで形成した後、これを上記の液晶の充
填された堰側の基板に積層して軽く圧力をかけながら加
熱ロ−ルを用いて両基板を密着させて表示素子を製作す
る。
【００３０】
【実施例４】堰の幅が２０μｍ、高さが７μｍで、堰間
隔が１００μｍのストライプ状である以外は、実施例１
と同様にして、表示素子を製作する。
隔が１００μｍのストライプ状である以外は、実施例１
と同様にして、表示素子を製作する。
【００３１】
【発明の効果】本発明は、高価なカラ−フィルタ−を使
用することなく、ペン入力や反射型にも好適なカラ−液
晶表示素子の安価な製造方法を提供することを可能にす
るものである。
用することなく、ペン入力や反射型にも好適なカラ−液
晶表示素子の安価な製造方法を提供することを可能にす
るものである。
【図１】実施例１のポリマ−フィルムを基板に用いたマ
ルチプレックス駆動のフレキシブル液晶カラ−表示素子
の断面構造を模式的に示す図である。
ルチプレックス駆動のフレキシブル液晶カラ−表示素子
の断面構造を模式的に示す図である。
【図２】実施例２の薄膜トランジスタを設けたアクティ
ブマトリックス駆動のカラ−液晶表示素子の断面構造を
模式的に示す図である。
ブマトリックス駆動のカラ−液晶表示素子の断面構造を
模式的に示す図である。
【図３】実施例３の薄膜トランジスタを設けたアクティ
ブマトリックス駆動の反射型カラ−液晶表示素子の断面
構造を模式的に示す図である。
ブマトリックス駆動の反射型カラ−液晶表示素子の断面
構造を模式的に示す図である。
【図４】高分子材料からなる堰に封入した二色性色素を
添加したゲスト−ホスト型コレステリック液晶の配向状
態を示す説明図である。（ａ）電界ｏｆｆでプレーナー
配向をして着色（透明）になる。（ｂ）電界ｏｎでフォ
ーカルコニック配向して遮光（散乱）する。
添加したゲスト−ホスト型コレステリック液晶の配向状
態を示す説明図である。（ａ）電界ｏｆｆでプレーナー
配向をして着色（透明）になる。（ｂ）電界ｏｎでフォ
ーカルコニック配向して遮光（散乱）する。
１ 透明帯状行電極 ２ ポリアリレートフィルム基板 ３ 配向膜 ４ 堰 ５ カラー液晶（Ｂ） ６ カラー液晶（Ｇ） ７ カラー液晶（Ｒ） ８ 透明帯状列電極 ９ ポリアリレートフィルム基板 １０ ＴＦＴ １１ 反射電極 １２ アクティブマトリックス基板 １３ 透明共通電極 １４ ポリアリレートフィルム基板 １５ 接着層 １６ 透明選択電極 １７ ２色性色素 １８ コレステリック液晶
Claims (5)
- 【請求項１】 一対の電極基板間に形成された規則的な
パタ−ンの高分子材料からなる堰に液晶が分割され独立
して封入された液晶表示素子において、異なる色のカラ
−液晶をインクジェット方法により該堰に囲まれたセル
に充填して封入することを特徴とするカラ−液晶表示素
子の製造方法。 - 【請求項２】 カラ−液晶がゲスト−ホスト型液晶であ
る請求項１記載のカラ−液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項３】 高分子材料からなる堰が黒色である請求
項１記載のカラ−液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項４】 カラ−液晶が高分子化合物を含有する請
求項１記載のカラ−液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項５】 少なくとも一方の電極基板がフレキシブ
ルである請求項１記載のカラ−液晶表示素子の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7762598A JPH11142829A (ja) | 1997-09-08 | 1998-03-25 | 液晶表示素子の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-242260 | 1997-09-08 | ||
| JP24226097 | 1997-09-08 | ||
| JP7762598A JPH11142829A (ja) | 1997-09-08 | 1998-03-25 | 液晶表示素子の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11142829A true JPH11142829A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=26418691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7762598A Withdrawn JPH11142829A (ja) | 1997-09-08 | 1998-03-25 | 液晶表示素子の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11142829A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005310779A (ja) * | 2005-04-18 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| WO2006083104A1 (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-10 | Kolon Industries, Inc | Method for manufacturing array board for display device |
| JP2008026387A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示素子用基板の製造方法 |
| JP2008046588A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Ind Technol Res Inst | ディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| US7671520B2 (en) | 2004-09-03 | 2010-03-02 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Display device with birefringent substrate |
| US7977863B2 (en) | 2001-12-06 | 2011-07-12 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| US8922871B2 (en) | 2012-02-17 | 2014-12-30 | Amazon Technologies, Inc. | Electrowetting display device and manufacturing method thereof |
| CN106896559A (zh) * | 2017-04-26 | 2017-06-27 | 信利半导体有限公司 | 一种具有反射区的曲面或柔性液晶显示装置及其制备方法 |
| CN107000464A (zh) * | 2014-12-04 | 2017-08-01 | 雷恩哈德库兹基金两合公司 | 安全元件 |
-
1998
- 1998-03-25 JP JP7762598A patent/JPH11142829A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7977863B2 (en) | 2001-12-06 | 2011-07-12 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| US8188653B2 (en) | 2001-12-06 | 2012-05-29 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and an electronic apparatus |
| US7671520B2 (en) | 2004-09-03 | 2010-03-02 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Display device with birefringent substrate |
| US8216762B2 (en) | 2005-02-02 | 2012-07-10 | Kolon Industries, Inc. | Method for manufacturing array board for display device |
| WO2006083104A1 (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-10 | Kolon Industries, Inc | Method for manufacturing array board for display device |
| JP2005310779A (ja) * | 2005-04-18 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP2008026387A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示素子用基板の製造方法 |
| JP2008046588A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Ind Technol Res Inst | ディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| US8922871B2 (en) | 2012-02-17 | 2014-12-30 | Amazon Technologies, Inc. | Electrowetting display device and manufacturing method thereof |
| CN107000464A (zh) * | 2014-12-04 | 2017-08-01 | 雷恩哈德库兹基金两合公司 | 安全元件 |
| JP2017536582A (ja) * | 2014-12-04 | 2017-12-07 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー． カーゲー | セキュリティエレメント |
| US10759212B2 (en) | 2014-12-04 | 2020-09-01 | Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg | Security element |
| CN106896559A (zh) * | 2017-04-26 | 2017-06-27 | 信利半导体有限公司 | 一种具有反射区的曲面或柔性液晶显示装置及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6331881B1 (en) | Liquid crystal device with composite layer of cured resin pillars and liquid crystal phase and method of producing the same | |
| US6417908B2 (en) | Liquid crystal device having spacers and manufacturing method thereof | |
| US6833885B2 (en) | Two layer liquid crystal display apparatus | |
| US8089592B2 (en) | Method of forming a full color layer by injecting liquid crystals having same properties into the spaces between the partition spacers | |
| US5220447A (en) | Liquid crystal display device and phase plate therefor | |
| US6565932B2 (en) | Liquid crystal composition and liquid crystal light modulating device using the liquid crystal composition | |
| JPH1138393A (ja) | 液晶素子の製造方法 | |
| US5541749A (en) | Electro-optical device | |
| JPH11142829A (ja) | 液晶表示素子の製造法 | |
| US6812977B1 (en) | Liquid crystal element | |
| JPH05215921A (ja) | 複屈折板及び液晶表示素子 | |
| US8125591B2 (en) | Method of forming an array of polymer dispersed liquid crystal cells | |
| JP4655425B2 (ja) | 反射型フルカラー液晶表示素子及び該素子を備えた表示装置 | |
| KR20080053625A (ko) | 고분자 분산형 액정 표시장치 및 그 제조 방법 | |
| JPH1090728A (ja) | 反射型液晶表示素子 | |
| JP2001033807A (ja) | 液晶光変調素子 | |
| JP2001033805A (ja) | 液晶光変調素子 | |
| US20010005258A1 (en) | Liquid crystal element and layered type liquid crystal element | |
| JPH0740098B2 (ja) | カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 | |
| JP2001147444A (ja) | 積層型液晶素子 | |
| JP3612250B2 (ja) | 液晶表示素子 | |
| JPH05281526A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JP2000075309A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2852387B2 (ja) | 液晶電気光学装置 | |
| JP2000122042A (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |