JPH11144238A - Manufacturing method of magnetic recording medium - Google Patents
Manufacturing method of magnetic recording mediumInfo
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- JPH11144238A JPH11144238A JP30387197A JP30387197A JPH11144238A JP H11144238 A JPH11144238 A JP H11144238A JP 30387197 A JP30387197 A JP 30387197A JP 30387197 A JP30387197 A JP 30387197A JP H11144238 A JPH11144238 A JP H11144238A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 磁気記録媒体の製造に際し、CSS領域とな
る基板部分とデータ記録領域となる基板部分とで異なる
テキスチャを形成する。
【解決手段】 スラリー研削法により基板1にテキスチ
ャ加工を施すに際し、CSS領域となる基板部分と、デ
ータ記録領域となる基板部分とにそれぞれ異なる砥粒を
供給する。
(57) [Summary] (With correction) [PROBLEMS] In manufacturing a magnetic recording medium, different textures are formed in a substrate portion serving as a CSS region and a substrate portion serving as a data recording region. SOLUTION: When texture processing is performed on a substrate 1 by a slurry grinding method, different abrasive grains are supplied to a substrate portion serving as a CSS region and a substrate portion serving as a data recording region.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は基板上にテキスチャ
加工を施したのち、その上に磁気記録層を形成する磁気
記録媒体の製造方法に関するものである。特に本発明は
テキスチャ加工法の改良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic recording layer is formed on a substrate after texturing. In particular, the present invention relates to an improved texture processing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、コンピュータ等の情報処理技術の
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が広く用いられている。磁気ディスクとし
て最も多く用いられているのは、アルミニウム合金基板
にNi−Pの非磁性メッキを施し、その上にCr等の下
地層、Co系合金の磁性層及び炭素質の保護層などから
成る磁気記録層を形成したものである。2. Description of the Related Art In recent years, magnetic recording media such as magnetic disks have been widely used as external storage devices with the development of information processing technologies such as computers. The most widely used magnetic disk consists of a non-magnetic plating of Ni-P on an aluminum alloy substrate, an underlayer of Cr or the like, a magnetic layer of a Co-based alloy, and a carbonaceous protective layer. A magnetic recording layer is formed.
【0003】磁気ディスクの高密度化に伴い、磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの間隔、すなわち浮上量はますます
小さくなっており、最近では0.10μm以下が要求さ
れている。また、磁気ディスクの高密度化と並行して小
型化も進められており、スピンドル回転用のモーターも
ますます小さくなっている。その結果、モーターのトル
クが不足し、起動時に磁気ヘッドが磁気ディスク面に固
着したまま浮上しないという現象が生ずる恐れがある。
また動作中に磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触して、
摩擦抵抗のため正常な回転が阻害される恐れもある。[0003] With the increase in the density of the magnetic disk, the distance between the magnetic disk and the magnetic head, that is, the flying height is becoming smaller and smaller, and recently, 0.10 µm or less is required. In addition, miniaturization has been promoted in parallel with the increase in the density of the magnetic disk, and the motor for rotating the spindle has become smaller. As a result, there is a possibility that the torque of the motor is insufficient, and a phenomenon that the magnetic head does not fly while being fixed to the magnetic disk surface at the time of startup is caused.
Also, during operation, the magnetic head comes in contact with the magnetic disk,
Normal rotation may be hindered due to frictional resistance.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】これらの現象が発生す
るのを防止する手段として、磁気ディスクの基板表面に
微細な凹凸を形成する、テクスチャ加工と称する表面処
理を施すことが行われている。テクスチャ加工の方法と
しては、固定砥粒式の研磨テープを用いるテープ研削法
(特開平1−86320号)や、遊離砥粒を含むスラリ
ーを研磨テープに付着させて行うスラリー研削法(特開
平3−147518号)などが知られている。As means for preventing these phenomena from occurring, a surface treatment called texture processing for forming fine irregularities on the substrate surface of a magnetic disk has been performed. As a texture processing method, a tape grinding method using a fixed abrasive type polishing tape (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-86320) or a slurry grinding method using a slurry containing free abrasive particles adhered to the polishing tape (Japanese Patent Application Laid-Open No. No. 147518) is known.
【0005】磁気ディスクは、CSS領域と称する内周
部分と、データ記録領域と称する外周部分との、機能の
異なる2つの部分から成っている。CSS領域は磁気ヘ
ッドの起動点であり、静止摩擦に打勝って起動を円滑に
行わせるために、テクスチャ加工により形成される凹凸
も比較的大きいことが望ましい。これに対しデータ記録
領域では、磁気ヘッドと磁気ディスクとの吸着により正
常な回転が阻害されない限度で、テクスチャ加工により
形成される凹凸はできるだけ小さいことが望ましい。本
発明は、CSS領域とデータ記録領域とで異なるテクス
チャを有する磁気記録媒体を、生産性よく製造する方法
を提供せんとするものである。[0005] The magnetic disk is composed of two parts having different functions, an inner peripheral part called a CSS area and an outer peripheral part called a data recording area. The CSS area is a starting point of the magnetic head, and it is preferable that the unevenness formed by the texture processing is relatively large in order to overcome the static friction and smoothly start the magnetic head. On the other hand, in the data recording area, it is desirable that the irregularities formed by the texture processing be as small as possible, as long as normal rotation is not hindered by adsorption of the magnetic head and the magnetic disk. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium having different textures in a CSS area and a data recording area with high productivity.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、基板上
にテキスチャ加工を施し、その上に磁気記録層を形成す
る磁気記録媒体の製造方法において、テキスチャ加工
を、回転する基板に研磨テープを接触させ、これに砥粒
を含むスラリーを供給しながら行い、且つスラリー中の
砥粒を磁気記録媒体のCSS領域となる基板部分とデー
タ記録領域となる基板部分とで異らせることにより、C
SS領域とデータ記録領域とにそれぞれ適したテキスチ
ャを有する磁気記録媒体を生産性よく製造することがで
きる。According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a substrate is textured and a magnetic recording layer is formed on the substrate. Is performed while supplying slurry containing abrasive grains thereto, and by making the abrasive grains in the slurry different between a substrate portion serving as a CSS region and a substrate portion serving as a data recording region of a magnetic recording medium, C
A magnetic recording medium having a texture suitable for each of the SS area and the data recording area can be manufactured with high productivity.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】本発明では基板としては、磁気記
録媒体の基板として用い得ることが知られている任意の
ものを用いることができる。最も一般的なのは、アルミ
ニウム合金の表面を鏡面加工したのち、これに非磁性金
属、例えばNi−P合金、Ni−Cu−P合金等の無電
解メッキ層を5〜20μm程度の厚さに形成し、更にそ
の表面をポリッシングして表面平均粗さRaが50Å以
下、好ましくは30Å以下に鏡面仕上げしたものであ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, as the substrate, any substrate that can be used as a substrate for a magnetic recording medium can be used. Most commonly, an aluminum alloy surface is mirror-finished, and an electroless plating layer of a non-magnetic metal, for example, a Ni-P alloy or a Ni-Cu-P alloy, is formed on the aluminum alloy to a thickness of about 5 to 20 μm. The surface is further mirror-finished to have a surface average roughness Ra of 50 ° or less, preferably 30 ° or less by polishing.
【0008】本発明ではこの基板上に、研磨テープと砥
粒を含むスラリーを用いて、スラリー研削法によるテキ
スチャ加工を施す。この方法では、基板に研磨テープを
接触させ、基板を回転させながらこれに砥粒を含むスラ
リーを供給することにより、基板にテキスチャが形成さ
れる。本発明ではスラリーとして、それぞれ異なる砥粒
を含む2種類のスラリーを用い、その一方を磁気記録媒
体のCSS領域となる基板部分に、他方をデータ記録領
域となる基板部分に供給する。In the present invention, the substrate is textured by a slurry grinding method using a polishing tape and a slurry containing abrasive grains. In this method, a texture is formed on a substrate by bringing a polishing tape into contact with a substrate and supplying a slurry containing abrasive grains to the substrate while rotating the substrate. In the present invention, two types of slurries each containing different abrasive grains are used, and one of them is supplied to a substrate portion serving as a CSS region of a magnetic recording medium, and the other is supplied to a substrate portion serving as a data recording region.
【0009】砥粒としては、アルミナ、シリコンカーバ
イド、ダイアモンドなど常用のものを用いることができ
る。砥粒の粒径は0.1〜5μm程度が好ましい。前述
の如く、CSS領域よりもデータ記録領域のテキスチャ
の方が微細であるのが好ましいので、CSS領域となる
基板部分よりもデータ記録領域となる基板部分の方に、
より小粒径の砥粒を供給するのが好ましい。例えばCS
S領域となる基板部分には平均粒径(D50)が1.7
μmの砥粒を供給し、データ記録領域となる基板部分に
は平均粒径1.0μmの砥粒を供給する。この際に注意
すべきことは、CSS領域となる基板部分に供給したス
ラリーが、データ記録領域となる基板部分にまで移動し
ないようにすることである。若しこの移動が起ると、デ
ータ記録領域のテキスチャが所望の微細なものとならな
くなる。Conventional abrasives such as alumina, silicon carbide and diamond can be used as the abrasive grains. The grain size of the abrasive grains is preferably about 0.1 to 5 μm. As described above, the texture of the data recording area is preferably finer than that of the CSS area.
It is preferred to supply abrasive particles of smaller particle size. For example, CS
The average grain size (D50) is 1.7 in the portion of the substrate which becomes the S region.
μm abrasive grains are supplied, and abrasive grains having an average particle diameter of 1.0 μm are supplied to a substrate portion serving as a data recording area. At this time, it should be noted that the slurry supplied to the substrate portion serving as the CSS region does not move to the substrate portion serving as the data recording region. If this movement occurs, the texture of the data recording area will not be as fine as desired.
【0010】CSS領域となる基板部分に供給したスラ
リーをデータ記録領域となる基板部分にまで移動させな
い一つの手段は、このスラリーの供給量を極く少量と
し、且つスラリーを研磨テープ上に供給してその部分に
保持させることである。本発明者らの検討によれば、C
SS領域となる基板部分へのスラリーの供給量を約0.
03ml/cm2 ・min以下、すなわち通常の直径9
5mmで中心の開口部の直径が25mm、CSS領域が
中心から半径16.5mmから19.5mmの磁気ディ
スクの場合には、0.1ml/min以下のスラリー供
給量、例えば0.05〜0.1ml/minとすれば、
スラリーはデータ記録領域までは移動しない。One means for preventing the slurry supplied to the substrate portion serving as the CSS region from moving to the substrate portion serving as the data recording region is to minimize the supply amount of the slurry and supply the slurry onto the polishing tape. In that part. According to the study of the present inventors, C
The supply amount of the slurry to the substrate portion to be the SS region is set to about 0.
03 ml / cm 2 min or less, ie, normal diameter 9
In the case of a magnetic disk having a diameter of 5 mm, a central opening having a diameter of 25 mm, and a CSS region having a radius of 16.5 mm to 19.5 mm from the center, a slurry supply rate of 0.1 ml / min or less, for example, 0.05 to 0.1 mm. If it is 1 ml / min,
The slurry does not move to the data recording area.
【0011】このような極微量のスラリーを連続的に研
磨テープ上に供給するには、図1に示すように、スラリ
ーポンプによりヘッドタンクにスラリーを供給して過剰
分をオーバーフローさせ、且つヘッドタンクから研磨テ
ープ上へのスラリー供給管の先端を研磨テープに接触さ
せるようにすればよい。この方法によれば、ポンプによ
り直接供給する場合のような供給量の脈動もなく、かつ
ヘッドタンクの高さを調節することにより、スラリーの
研磨テープへの供給量を容易に制御することができる。
研磨テープ上でのスラリーの供給位置は、スラリーの滲
みを考慮して、CSS領域の若干内側とする。In order to continuously supply such a very small amount of slurry onto the polishing tape, as shown in FIG. 1, the slurry is supplied to a head tank by a slurry pump to overflow the excess, and The tip of the slurry supply pipe from above to the polishing tape may be brought into contact with the polishing tape. According to this method, the supply amount of the slurry to the polishing tape can be easily controlled by adjusting the height of the head tank without pulsation of the supply amount as in the case of directly supplying by the pump. .
The supply position of the slurry on the polishing tape is slightly inside the CSS region in consideration of the bleeding of the slurry.
【0012】これに対し、データ記録領域となる基板部
分に供給されたスラリーがCSS領域となる基板部分に
移動することは差支えない。従ってデータ記録領域とな
る基板部分には、通常のスラリー研削法におけるスラリ
ー供給法によりスラリーを供給すればよい。但し大量の
スラリーを研磨テープ上に直接供給すると、研磨テープ
の水分が過剰となって、CSS領域となる部分に供給し
たスラリーが、データ記録領域となる部分に移動するこ
とがあるので、注意を要する。通常はデータ記録領域と
なる基板部分の1cm2 当り少くとも0.1ml/mi
n、好ましくは少くとも0.17ml/minのスラリ
ーを基板上に直接供給する。On the other hand, the slurry supplied to the substrate portion serving as the data recording region may move to the substrate portion serving as the CSS region. Therefore, the slurry may be supplied to the substrate portion serving as the data recording area by the slurry supply method in the ordinary slurry grinding method. However, if a large amount of slurry is directly supplied onto the polishing tape, the water in the polishing tape becomes excessive, and the slurry supplied to the portion that becomes the CSS region may move to the portion that becomes the data recording region. It costs. Normally, at least 0.1 ml / mi per 1 cm 2 of the substrate portion serving as the data recording area
A slurry of n, preferably at least 0.17 ml / min, is provided directly on the substrate.
【0013】本発明では、基板のCSS領域となる部分
及びデータ記録領域となる部分に、それぞれ異なる砥粒
をスラリー状で供給する以外は、常法に従ってテクスチ
ャ加工を行うことができる。図1は代表的なテクスチャ
加工法の1例であり、図1(a)において、垂直に保持
されて矢印Aの方向に50〜500、好ましくは100
〜300rpmで回転しているディスク基板の表裏両面
に、4本の研磨テープ2をコンタクトローラー3で押し
つけて研磨を行う。コンタクトローラー3は、図1
(b)に示すように、押えシリンダー4により、研磨テ
ープ2を基板1の表面に所定の力で押圧するようになっ
ている。研磨テープ2は矢印Bの方向に0.1〜10m
m/secでゆるく走行しており、基板は常に新しいテ
ープ面と接触しつつ研磨される。また、研磨テープ2
は、コンタクトローラ3の往復運動により矢印Cの方向
に50回/min以上、好ましくは100〜5000回
/minで往復動(振動)しており、その結果、基板上
に形成される条痕(研磨痕)は、10〜40°程度の交
差角(クロス角度)を形成する。研磨テープ2の研磨面
の内側部分、すなわち基板のCSS領域となる部分と接
触する部分には、スラリー供給ノズル5の先端が接触し
ていて、CSS領域となる部分を研磨するための微量の
スラリーが、常に研磨テープ2上に供給されるようにな
っている。これに対し、基板のうちデータ記録領域とな
る部分を研磨するためのスラリーは、スラリー供給ノズ
ル6を経て、基板1上に直接供給される。スラリーの砥
粒濃度は、いずれのスラリーも0.05〜1.0重量%
程度であり、スラリー中には通常は研削油剤その他の常
用の助剤が含まれている。In the present invention, texture processing can be performed according to a conventional method, except that different abrasive grains are supplied in a slurry state to a portion serving as a CSS region and a portion serving as a data recording region of the substrate. FIG. 1 shows an example of a typical texture processing method. In FIG.
Polishing is performed by pressing four polishing tapes 2 with contact rollers 3 on both the front and back surfaces of the disk substrate rotating at 300 rpm. The contact roller 3 is shown in FIG.
As shown in FIG. 2B, the pressing cylinder 4 presses the polishing tape 2 against the surface of the substrate 1 with a predetermined force. The polishing tape 2 is 0.1 to 10 m in the direction of arrow B.
Running slowly at m / sec, the substrate is polished while always in contact with the new tape surface. Polishing tape 2
Is reciprocating (vibrating) at a rate of 50 times / min or more, preferably 100 to 5000 times / min in the direction of arrow C due to the reciprocating motion of the contact roller 3, and as a result, the striations ( The polishing marks) form an intersection angle (cross angle) of about 10 to 40 °. The tip of the slurry supply nozzle 5 is in contact with the inner part of the polishing surface of the polishing tape 2, that is, the part that contacts the CSS area of the substrate, and a small amount of slurry for polishing the CSS area is used. Is always supplied onto the polishing tape 2. On the other hand, a slurry for polishing a portion to be a data recording area of the substrate is supplied directly onto the substrate 1 via the slurry supply nozzle 6. The abrasive grain concentration of the slurry is 0.05 to 1.0% by weight for each slurry.
And the slurry usually contains a grinding oil and other conventional auxiliaries.
【0014】このテクスチャー加工を経た基板の表面状
態は用いた砥粒の粒径に大きく依存するが、例えば、C
SS領域となる部分で平均粗さRaが65Åで最大突起
高さが280Åであり、データ記録領域となる部分で平
均粗さRaが45Åで最大突起高さが150Åである。
上記のテクスチャ加工を経た基板には、所望により更に
テクスチャ仕上げ加工を施してもよく、これにより最終
的に得られる磁気ディスクの特性を更に向上させること
ができる。このテクスチャ仕上げ加工は、上記と同様に
遊離砥粒を用いて行ってもよく、またホワイトアルミナ
系、グリーンカーボン系などの固定砥粒式の研磨テープ
を用いて行ってもよい。所望ならば砥粒を用いずに研磨
テープで研磨するだけでもよいが、この場合には当然な
がらその効果は小さい。このテクスチャ仕上げ加工は、
上記のテクスチャ加工により形成された表面平均粗さR
aやクロス角度を実質的に変化させることなく、基板表
面のバリやカエリ等の突起を押しつぶすなどしてこれを
選択的に除去し、最大突起粗さRpを小さくする作業で
ある。The surface condition of the substrate after the texture processing greatly depends on the grain size of the abrasive grains used.
The average roughness Ra is 65 ° and the maximum protrusion height is 280 ° in a portion to be the SS region, and the average roughness Ra is 45 ° and the maximum protrusion height is 150 ° in the portion to be the data recording region.
The textured substrate may be further subjected to a texture finishing process if desired, whereby the characteristics of the magnetic disk finally obtained can be further improved. This texture finishing may be performed using free abrasive grains as described above, or may be performed using a fixed abrasive type polishing tape such as a white alumina type or green carbon type. If desired, only polishing with a polishing tape without using abrasive grains may be performed, but in this case, the effect is naturally small. This texture finish processing
Surface average roughness R formed by the above texture processing
This operation is to reduce the maximum projection roughness Rp by crushing or otherwise removing projections such as burrs and burrs on the substrate surface without substantially changing a and the cross angle.
【0015】上記のテクスチャ加工及び所望によりテク
スチャ仕上げ加工を施した基板には、次いで磁気記録層
を形成して、磁気記録媒体とする。磁気記録層の形成は
常法により行えばよく、通常は下地層、磁性層、保護層
を順次スパッタリングにより形成し、更に保護層の上に
潤滑剤を塗布して潤滑層を形成する。下地層は通常はク
ロムで形成し、その厚さは50〜2000Å程度であ
る。磁性層はCo−Cr、Co−Ni、Co−Cr−
X、Co−Ni−X、Co−W−XなどのCo系合金で
形成するのが好ましい。なお上記においてXは、Li、
Si、Ca、Ti、V、Cr、Ni、As、Y、Zr、
Nb、Mo、Ru、Rh、Ag、Sb、Hf、Ta、
W、Re、Os、Ir、Pt、Au、La、Ce、P
r、Nd、Pm、Sm及びEuからなる群から選ばれた
少くとも1種の元素を示す。磁性層の厚さは100〜1
000Å程度である。保護層は炭素質であるのが好まし
く、通常はアルゴン、ヘリウム等の希ガス雰囲気下、又
は少量の水素の存在下で、カーボンをターゲットとして
スパッタリングすることにより、アモルファス状カーボ
ン膜や、水素化カーボン膜などを形成する。保護層の厚
さは50〜500Å程度である。保護層に塗布する潤滑
剤としては、パーフルオロポリエーテル系のものを用
い、10〜20Å程度の膜厚となるようにすればよい。A magnetic recording layer is then formed on the substrate that has been subjected to the above-described texture processing and, if desired, texture finishing processing, to obtain a magnetic recording medium. The formation of the magnetic recording layer may be carried out by a conventional method. Usually, an underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially formed by sputtering, and a lubricant is applied on the protective layer to form a lubricating layer. The underlayer is usually formed of chromium and has a thickness of about 50 to 2000 °. The magnetic layer is made of Co-Cr, Co-Ni, Co-Cr-
It is preferable to use a Co-based alloy such as X, Co-Ni-X, or Co-WX. In the above, X is Li,
Si, Ca, Ti, V, Cr, Ni, As, Y, Zr,
Nb, Mo, Ru, Rh, Ag, Sb, Hf, Ta,
W, Re, Os, Ir, Pt, Au, La, Ce, P
At least one element selected from the group consisting of r, Nd, Pm, Sm, and Eu. The thickness of the magnetic layer is 100 to 1
It is about 000Å. The protective layer is preferably carbonaceous, and is usually sputtered with carbon as a target under an atmosphere of a rare gas such as argon or helium, or in the presence of a small amount of hydrogen to form an amorphous carbon film or hydrogenated carbon. A film or the like is formed. The thickness of the protective layer is about 50 to 500 °. As the lubricant applied to the protective layer, a perfluoropolyether-based lubricant may be used so as to have a thickness of about 10 to 20 °.
【0016】[0016]
【実施例】以下に実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 アルミニウム合金上にNi−Pの無電解メッキ層を形成
した直径95mmの磁気ディスク用基板に、図1の方式
でテキスチャ加工を施した。CSS領域となる基板部分
(中心から19.5〜21.5mmの部分)には、平均
粒径2μmのダイアモンド砥粒をスラリーとして研磨テ
ープ上に0.05ml/minとなるように供給し、デ
ータ記録領域となる基板部分には平均粒径0.5μmの
ダイアモンド砥粒をスラリーとして10ml/minで
基板上に直接供給した。テキスチャ加工後の基板の表面
平均粗さ(Ra)は、CSS領域となる基板部分で約3
0〜65Å(内側から外側に向けて平均粗さが小さくな
る)、データ記録領域となる基板部分で約30Åであっ
た。EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 A substrate for a magnetic disk having a diameter of 95 mm in which a Ni-P electroless plating layer was formed on an aluminum alloy was textured by the method shown in FIG. To a substrate portion (19.5 to 21.5 mm from the center) serving as a CSS region, diamond abrasive grains having an average particle diameter of 2 μm were supplied as slurry to a polishing tape at a rate of 0.05 ml / min. Diamond abrasive grains having an average particle size of 0.5 μm were directly supplied as slurry to the substrate portion serving as a recording area at a rate of 10 ml / min. The surface average roughness (Ra) of the substrate after the texture processing is about 3 in the substrate portion serving as the CSS region.
0 to 65 ° (the average roughness decreases from the inner side to the outer side), and about 30 ° in the substrate portion serving as the data recording area.
【0017】実施例2 データ記録領域となる基板部分に供給するダイアモンド
砥粒を、平均粒径1μmのものに変更した以外は、実施
例1と同様にして基板にテキスチャ加工を施した。得ら
れた基板の表面平均粗さ(Ra)は、CSS領域となる
基板部分で約45〜65Å、データ記録領域となる基板
部分で約45Åであった。Example 2 A substrate was textured in the same manner as in Example 1 except that the diamond abrasive grains supplied to the substrate portion serving as the data recording area were changed to those having an average particle diameter of 1 μm. The surface average roughness (Ra) of the obtained substrate was about 45 to 65 ° in the substrate part serving as the CSS area and about 45 ° in the substrate part serving as the data recording area.
【0018】実施例3 CSS領域となる基板部分に平均粒径2μmのダイアモ
ンド砥粒をスラリーとして研磨テープ上に0.1ml/
minとなるように供給し、データ記録領域となる基板
部分に平均粒径1μmのダイアモンド砥粒をスラリーと
して10ml/minで基板上に直接供給した以外は、
実施例1と同様にして基板にテキスチャ加工を施した。
得られた基板の表面平均粗さ(Ra)は、中心から19
mmの位置で約65Å、21mmの位置で約55Å、2
3mmの位置で約45Åと変化していて、データ記録領
域の内側部分の平均粗さが悪化していた。Example 3 A slurry of diamond abrasive particles having an average particle diameter of 2 μm was formed on a polishing tape in a substrate portion serving as a CSS region by 0.1 ml /
min, and diamond abrasive grains having an average particle diameter of 1 μm were directly supplied as slurry at a rate of 10 ml / min to the substrate portion serving as a data recording area on the substrate.
The substrate was textured in the same manner as in Example 1.
The surface average roughness (Ra) of the obtained substrate was 19
Approximately 65 ° at a position of 25 mm, approximately 55 ° at a position of 21 mm, 2
It changed to about 45 ° at the position of 3 mm, and the average roughness of the inner part of the data recording area was deteriorated.
【図1】(a):本発明において基板の研磨に用いる装
置の1例の正面図である。 (b):図1(a)の装置の側面図である。FIG. 1A is a front view of an example of an apparatus used for polishing a substrate in the present invention. (B): side view of the device of FIG. 1 (a).
【図2】本発明において、CSS領域となる基板部分の
研磨に用いるスラリーの供給装置の1例である。FIG. 2 is an example of a slurry supply device used for polishing a substrate portion serving as a CSS region in the present invention.
1 基板 2 研磨テープ 3 コンタクトローラー 4 押えシリンダー 5 スラリー供給ノズル 6 スラリー供給ノズル 7 スラリーヘッドタンク 8 スラリー循環ポンプ 9 スラリータンク Reference Signs List 1 substrate 2 polishing tape 3 contact roller 4 holding cylinder 5 slurry supply nozzle 6 slurry supply nozzle 7 slurry head tank 8 slurry circulation pump 9 slurry tank
Claims (6)
に磁気記録層を形成する磁気記録媒体の製造方法におい
て、テキスチャ加工を、回転する基板に研磨テープを接
触させ、これに砥粒を含むスラリーを供給しながら行な
い、且つスラリー中の砥粒を、磁気記録媒体のCSS領
域となる基板部分とデータ記録領域となる基板部分とで
異ならせることにより、それぞれの部分に形成されるテ
キスチャを異ならせることを特徴とする方法。In a method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein a substrate is subjected to texturing and a magnetic recording layer is formed thereon, the texturing is performed by bringing a polishing tape into contact with a rotating substrate and including abrasive grains. By performing while supplying the slurry, and by making the abrasive grains in the slurry different between the substrate portion serving as the CSS region and the substrate portion serving as the data recording region of the magnetic recording medium, the texture formed in each portion is different. The method characterized by making it.
砥粒が、データ記録領域となる基板部分に供給される砥
粒よりも大粒径であることを特徴とする請求項1記載の
方法。2. The method according to claim 1, wherein the abrasive particles supplied to the substrate portion serving as the CSS area have a larger particle diameter than the abrasive particles supplied to the substrate portion serving as the data recording region. .
砥粒と、データ記録領域となる基板部分に供給される砥
粒とが共にダイアモンドであることを特徴とする請求項
1又は2記載の方法。3. The abrasive grain supplied to a substrate portion serving as a CSS area and the abrasive grain supplied to a substrate portion serving as a data recording area are both diamonds. Method.
CSS領域となる基板部分には砥粒を含むスラリーを研
磨テープ上に供給し、データ記録領域となる基板部分に
は砥粒を含むスラリーを基板上に直接供給することによ
り行うことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに
記載の方法。4. The supply of abrasive grains to each substrate portion,
A slurry containing abrasive grains is supplied to a polishing tape on a substrate portion to be a CSS area, and a slurry containing abrasive grains is directly supplied onto a substrate to a substrate portion to be a data recording area. The method according to claim 1.
むスラリーの供給量が0.03ml/cm2 ・min以
下であることを特徴とする請求項4記載の方法。5. The method according to claim 4, wherein the supply amount of the slurry containing the abrasive grains to the substrate portion serving as the CSS region is 0.03 ml / cm 2 · min or less.
を含むスラリーの供給量が0.1ml/cm2 ・min
以上であることを特徴とする請求項4又は5記載の方
法。6. A supply rate of slurry containing abrasive grains to a substrate portion to be a data recording area is 0.1 ml / cm 2 · min.
The method according to claim 4 or 5, wherein
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30387197A JPH11144238A (en) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | Manufacturing method of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30387197A JPH11144238A (en) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | Manufacturing method of magnetic recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144238A true JPH11144238A (en) | 1999-05-28 |
Family
ID=17926286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30387197A Pending JPH11144238A (en) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | Manufacturing method of magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144238A (en) |
-
1997
- 1997-11-06 JP JP30387197A patent/JPH11144238A/en active Pending
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