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JPH11121835A - Discharge excitation gas laser device - Google Patents

Discharge excitation gas laser device

Info

Publication number
JPH11121835A
JPH11121835A JP28403297A JP28403297A JPH11121835A JP H11121835 A JPH11121835 A JP H11121835A JP 28403297 A JP28403297 A JP 28403297A JP 28403297 A JP28403297 A JP 28403297A JP H11121835 A JPH11121835 A JP H11121835A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
discharge
electrode
laser
pulse voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28403297A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Minamitani
靖史 南谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP28403297A priority Critical patent/JPH11121835A/en
Publication of JPH11121835A publication Critical patent/JPH11121835A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ランニングコストが安く、レーザ媒質の沸点
に近い沸点を持つCF4等の気体状ハロゲン化物の除去
もでき、さらに不純化物を除去してもレーザガスのハロ
ゲン濃度が低下しない放電励起ガスレーザ装置を得る。 【解決手段】 ガス精製部3Aはコロナ放電電極8と捕
集電極9を有し、コロナ放電電極8には、負極性の直流
電圧Vdとパルス電圧Vpを重ね合わせた電圧を印加す
る。放電管1内のレーザガス2をガス精製部3A内に導
いて浄化する。パルス電圧Vpの印加でコロナ放電電極
8より発生した高エネルギー電子をレーザガス2中の気
体状ハロゲン化物22である気体フッ化物に衝突させて
ハロゲンガスと不純物とに解離させ、元のハロゲン化物
に戻らずそのまま存在する不純物を捕集電極9により沈
着除去する。レーザガス2中の微粒子23も電子によっ
て帯電させ、上述した不純物と同様に捕集電極9により
沈着除去する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] The running cost is low, gaseous halides such as CF 4 having a boiling point close to the boiling point of a laser medium can be removed, and the halogen concentration of a laser gas is reduced even if impurities are removed. To obtain a discharge-excited gas laser device that does not have any. SOLUTION: A gas purification unit 3A has a corona discharge electrode 8 and a collection electrode 9, and applies a voltage obtained by superimposing a negative DC voltage Vd and a pulse voltage Vp to the corona discharge electrode 8. The laser gas 2 in the discharge tube 1 is guided into the gas purification section 3A to be purified. The high-energy electrons generated from the corona discharge electrode 8 by the application of the pulse voltage Vp collide with the gaseous fluoride as the gaseous halide 22 in the laser gas 2 to dissociate into halogen gas and impurities, and return to the original halide. Instead, the impurities present as they are are deposited and removed by the collecting electrode 9. The fine particles 23 in the laser gas 2 are also charged by the electrons, and are deposited and removed by the collecting electrode 9 in the same manner as the impurities described above.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、エキシマレーザ
装置等の放電励起ガスレーザ装置に関し、特にそのガス
浄化の技術に係るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a discharge excitation gas laser device such as an excimer laser device, and more particularly to a gas purification technique.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、例えば“エキシマレーザ用低温
ガス精製装置 技術資料 アステック(株)発行”に記
載された従来の放電励起ガスレーザ装置の構成を示す図
である。図において、1はレーザ放電管であり、この放
電管1内にはフッ素等のハロゲンガスよりなるレーザガ
ス2が封入されている。15,16はレーザガス2を励
起するための主放電を発生するために対向して配された
一対の主放電電極であり、放電管1内に配されている。
21a,21bはレーザ発振器を構成し、レーザ光の反
射やレーザ光の外部への取り出しを行うために対向して
配された窓であり、放電管壁に取り付けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a diagram showing the configuration of a conventional discharge-excited gas laser device described in, for example, "Low-Temperature Gas Purification Device for Excimer Laser Technical Data Published by Astec Corporation". In the figure, reference numeral 1 denotes a laser discharge tube, in which a laser gas 2 made of a halogen gas such as fluorine is sealed. Reference numerals 15 and 16 denote a pair of main discharge electrodes disposed to face each other to generate a main discharge for exciting the laser gas 2, and are disposed in the discharge tube 1.
Reference numerals 21a and 21b constitute laser oscillators. Opposite windows 21a and 21b are provided for reflecting laser light and extracting laser light to the outside, and are attached to the discharge tube wall.

【0003】また、17は主放電電極15,16に印加
するパルス電圧を発生するパルス発生用4端子回路であ
り、この4端子回路17には電源端子19より電源が供
給される。18は4端子回路17よりパルス電圧を発生
させるときにオンとするスイッチである。また、3は放
電管1内のレーザガス2を浄化するための深冷却分離法
のガス精製装置である。このガス精製装置3は、底部が
液体窒素6で冷却される熱伝導体5で構成されたガス精
製部10と、このガス精製部10に取り込まれるレーザ
ガス2より予め微粒子を取り除くための微粒子フィルタ
7とを有してなるものである。この場合、放電管1内か
らのレーザガス2は管路11により微粒子フィルタ7に
導かれて微粒子が取り除かれ、その後にガス精製部10
の内部に取り込まれる。そして、ガス精製部10で浄化
されたレーザガス2は管路12により放電管1内に戻さ
れる。
Reference numeral 17 denotes a four-terminal circuit for generating a pulse voltage applied to the main discharge electrodes 15 and 16, and power is supplied to the four-terminal circuit 17 from a power supply terminal 19. A switch 18 is turned on when a pulse voltage is generated from the four-terminal circuit 17. Reference numeral 3 denotes a gas purifying apparatus for purifying the laser gas 2 in the discharge tube 1 by a deep cooling separation method. The gas purifier 3 includes a gas purifier 10 having a heat conductor 5 whose bottom is cooled by liquid nitrogen 6, and a particle filter 7 for previously removing fine particles from the laser gas 2 taken into the gas purifier 10. And In this case, the laser gas 2 from the inside of the discharge tube 1 is guided to the particle filter 7 through the conduit 11 to remove the particles, and thereafter the gas purification unit 10
Is taken inside. Then, the laser gas 2 purified by the gas purification unit 10 is returned into the discharge tube 1 through the pipe 12.

【0004】次に、図7に示す放電励起ガスレーザ装置
の動作を説明する。スイッチ18をオンとすることで、
4端子回路17よりパルス電圧が発生し、このパルス電
圧が主放電電極15,16間に印加される。これによ
り、主放電電極15,16間に放電20が発生し、この
放電20によってレーザガス2が励起され、レーザ発振
が始まり、窓21a,21bの一方あるいは双方より外
部にレーザ光が取り出される。
Next, the operation of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 7 will be described. By turning on the switch 18,
A pulse voltage is generated from the four-terminal circuit 17, and the pulse voltage is applied between the main discharge electrodes 15 and 16. As a result, a discharge 20 is generated between the main discharge electrodes 15 and 16, the laser gas 2 is excited by the discharge 20, laser oscillation starts, and a laser beam is taken out from one or both of the windows 21 a and 21 b.

【0005】ここで、放電の結果、主放電電極15,1
6がスパッタされて電極を構成する材料の微粒子23お
よび気体状ハロゲン化物22がレーザガス2中に浮遊す
るとともに、放射される紫外線によって放電管壁および
絶縁物から構成材料および吸着物質のハロゲン化物が気
体状ハロゲン化物22または微粒子23として放出され
る。これら気体状ハロゲン化物22および微粒子23
は、レーザの発振過程の妨げとなりレーザの発振効率を
下げ、レーザガス2の寿命を短くする。また微粒子23
が窓21a,21bに付着すると、この窓21a,21
bの透過率が低下し、レーザ発振効率が低下する。
Here, as a result of the discharge, the main discharge electrodes 15, 1
6 are sputtered to cause the fine particles 23 and the gaseous halide 22 of the material constituting the electrode to float in the laser gas 2, and the emitted ultraviolet light causes the halide of the constituent material and the adsorbed material to be converted into gas from the discharge tube wall and the insulator. It is released as halides 22 or fine particles 23. These gaseous halides 22 and fine particles 23
This hinders the laser oscillation process, lowers the laser oscillation efficiency, and shortens the life of the laser gas 2. Also fine particles 23
Is attached to the windows 21a, 21b, the windows 21a, 21b
The transmittance of b decreases, and the laser oscillation efficiency decreases.

【0006】そこで、図7に示す放電励起ガスレーザ装
置においては、放電管1中に発生する気体状ハロゲン化
物22および微粒子23を含むレーザガス2が管路11
を通して微粒子フィルタ7に導かれて微粒子23が取り
除かれ、その後にガス精製装置3のガス精製部10の内
部に導かれる。上述せずも、ガス精製部10の底部表面
4は気体状ハロゲン化物22の沸点以下に下げられた極
低温面とされている。そのため、ガス精製部10の底部
表面4でレーザガス2に含まれる気体状ハロゲン化物2
2が液化あるいは固化され、レーザガス2から分離され
る。そして、浄化されたレーザガス2は管路12を通し
て放電管1内に戻される。
Therefore, in the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 7, the laser gas 2 containing gaseous halide 22 and fine particles 23 generated in the discharge tube 1
Then, the fine particles 23 are removed by being guided to the fine particle filter 7, and thereafter, guided to the inside of the gas purification unit 10 of the gas purification device 3. Even if not described above, the bottom surface 4 of the gas purification unit 10 is a cryogenic surface that has been lowered to the boiling point of the gaseous halide 22 or lower. Therefore, the gaseous halide 2 contained in the laser gas 2 on the bottom surface 4 of the gas purification unit 10
2 is liquefied or solidified and separated from the laser gas 2. Then, the purified laser gas 2 is returned into the discharge tube 1 through the pipe 12.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の放電励起ガスレ
ーザ装置は以上のように構成され、冷却に液体窒素を用
いているので、ランニングコストが高いという問題点が
あった。また、レーザ媒質の沸点に近い沸点を持つ気体
状ハロゲン化物、例えばCF4等の除去率が悪いという
問題点があった。また、レーザ放電によりハロゲン化物
として発生した不純物をそのままの形で除去するため、
ガス中のハロゲン濃度が、発生した不純物量に応じて減
少するという問題点があった。この発明は、上記のよう
な問題点を解決するためになされたもので、ランニング
コストが安く、レーザ媒質の沸点に近い沸点を持つCF
4等の気体状ハロゲン化物の除去も可能であり、さらに
不純化物を除去してもレーザガスのハロゲン濃度が低下
しない放電励起ガスレーザ装置を提供することを目的と
する。
The conventional discharge-excited gas laser apparatus has the above-described structure, and has a problem that the running cost is high since liquid nitrogen is used for cooling. In addition, there is a problem that the removal rate of gaseous halide having a boiling point close to the boiling point of the laser medium, such as CF 4, is poor. Also, in order to remove impurities generated as halides by laser discharge as they are,
There is a problem that the halogen concentration in the gas decreases in accordance with the amount of generated impurities. The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has a low running cost and a CF having a boiling point close to the boiling point of the laser medium.
It is an object of the present invention to provide a discharge-excited gas laser device capable of removing gaseous halides such as 4 and the like, and in which the halogen concentration of a laser gas does not decrease even if impurities are removed.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る放
電励起ガスレーザ装置は、放電管内に励起物質としての
レーザガスが封入され、この放電管内に配された第1お
よび第2の主放電電極間の放電により上記レーザガスを
励起させる放電励起ガスレーザ装置において、放電管内
のレーザガスを浄化するガス精製部を有し、このガス精
製部は負極性のコロナ放電電極および正極性の捕集電極
を備えてなり、コロナ放電電極および捕集電極の間に直
流電圧とパルス電圧を重ね合わせた電圧が印加されるも
のである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a discharge excitation gas laser apparatus in which a laser gas as an excitation substance is sealed in a discharge tube, and first and second main discharge electrodes disposed in the discharge tube. In a discharge excitation gas laser device that excites the laser gas by electric discharge during the discharge, a gas purification unit that purifies the laser gas in the discharge tube is provided, and the gas purification unit includes a negative corona discharge electrode and a positive collection electrode. That is, a voltage obtained by superimposing a DC voltage and a pulse voltage is applied between the corona discharge electrode and the collecting electrode.

【0009】請求項2の発明に係る放電励起ガスレーザ
装置は、請求項1の発明において、ガス精製部は放電管
の外部に配され、放電管内のレーザガスを放電管内から
ガス精製部に導く第1の管路と、ガス精製部で浄化され
たレーザガスを放電管内に導く第2の管路とを有するも
のである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a discharge excitation gas laser apparatus according to the first aspect, wherein the gas purifying section is disposed outside the discharge tube, and guides the laser gas in the discharge tube from the discharge tube to the gas purifying section. And a second conduit for guiding the laser gas purified by the gas purification unit into the discharge tube.

【0010】請求項3の発明に係る放電励起ガスレーザ
装置は、請求項1の発明において、ガス精製部は放電管
内に配されるものである。
[0010] According to a third aspect of the present invention, in the discharge excitation gas laser device according to the first aspect of the present invention, the gas purifying section is disposed in a discharge tube.

【0011】請求項4の発明に係る放電励起ガスレーザ
装置は、請求項1〜3のいずれかの発明において、第1
および第2の主放電電極の間に印加するパルス電圧を発
生するパルス電圧発生手段を備え、コロナ放電電極およ
び捕集電極の間に印加されるパルス電圧として上記パル
ス電圧発生手段で発生されるパルス電圧を利用するもの
である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a discharge excitation gas laser device according to any one of the first to third aspects.
And a pulse voltage generating means for generating a pulse voltage applied between the second main discharge electrode, and a pulse generated by the pulse voltage generating means as a pulse voltage applied between the corona discharge electrode and the collecting electrode. It uses voltage.

【0012】請求項5の発明に係る放電励起ガスレーザ
装置は、請求項1〜3のいずれかの発明において、放電
管内に第2の主放電電極との間でコロナ放電を発生させ
るための補助電極がさらに配され、第2の主放電電極お
よび補助電極の間に印加するパルス電圧を発生するパル
ス電圧発生手段を備え、コロナ放電電極および捕集電極
の間に印加されるパルス電圧として上記パルス電圧発生
手段で発生されるパルス電圧を利用するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a discharge excitation gas laser apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein an auxiliary electrode for generating a corona discharge between the discharge tube and the second main discharge electrode. And a pulse voltage generating means for generating a pulse voltage applied between the second main discharge electrode and the auxiliary electrode, wherein the pulse voltage is applied as a pulse voltage applied between the corona discharge electrode and the collection electrode. The pulse voltage generated by the generating means is used.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1は、この発明の実施の形態1として
の放電励起ガスレーザ装置の構成を示すブロック図であ
る。この図1において、図7と対応する部分には同一符
号を付して示している。図において、1はレーザ放電管
であり、この放電管1内にはフッ素等のハロゲンガスよ
りなるレーザガス2が封入されている。15,16はレ
ーザガス2を励起するために主放電を発生するために対
向して配された一対の主放電電極であり、放電管1内に
配されている。21a,21bはレーザ発振器を構成
し、レーザ光の反射やレーザ光の外部への取り出しを行
うために対向して配された窓であり、放電管壁に取り付
けられている。なお、この窓の代わりに反射ミラーを用
いてもよい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a discharge excitation gas laser device according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals. In the figure, reference numeral 1 denotes a laser discharge tube, in which a laser gas 2 made of a halogen gas such as fluorine is sealed. Reference numerals 15 and 16 denote a pair of main discharge electrodes disposed to face each other to generate a main discharge for exciting the laser gas 2, and are disposed in the discharge tube 1. Reference numerals 21a and 21b constitute laser oscillators. Opposite windows 21a and 21b are provided for reflecting laser light and extracting laser light to the outside, and are attached to the discharge tube wall. Note that a reflection mirror may be used instead of this window.

【0014】17は主放電電極15,16の間に印加す
るパルス電圧を発生するパルス電圧発生手段としてのパ
ルス発生用4端子回路であり、この4端子回路17には
電源端子19より電源が供給される。18は4端子回路
17よりパルス電圧を発生させるときにオンとするスイ
ッチである。3Aは放電管1内のレーザガス2を浄化す
るためのガス精製部である。このガス精製部3A内に
は、コロナ放電を発生させるための棒状のコロナ放電電
極8および不純物を除去するための円筒状の捕集電極9
が配されている。ここで、放電管1内からのレーザガス
2は第1の管路としての管路11を通じてガス精製部1
0に取り込まれると共に、このガス精製部10を通過し
たレーザガス2は第2の管路としての管路12を通じて
放電管1内に戻される。
Reference numeral 17 denotes a four-terminal circuit for pulse generation as a pulse voltage generating means for generating a pulse voltage applied between the main discharge electrodes 15 and 16, and power is supplied to the four-terminal circuit 17 from a power supply terminal 19. Is done. A switch 18 is turned on when a pulse voltage is generated from the four-terminal circuit 17. 3A is a gas purifier for purifying the laser gas 2 in the discharge tube 1. Inside the gas purifying section 3A, a rod-shaped corona discharge electrode 8 for generating corona discharge and a cylindrical collecting electrode 9 for removing impurities are provided.
Is arranged. Here, the laser gas 2 from inside the discharge tube 1 passes through a pipe 11 serving as a first pipe, and the gas purification unit 1
The laser gas 2 which has been taken into 0 and passed through the gas purification unit 10 is returned into the discharge tube 1 through a pipe 12 as a second pipe.

【0015】30はコロナ放電電極8および捕集電極9
の間に印加するためのパルス電圧Vpを発生するパルス
電源である。このパルス電源30で発生されるパルス電
圧Vpはフィルタ回路25のコンデンサ25aを介して
コロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加される。
24はコロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加す
るための直流電圧Vdを発生する直流高圧電源である。
この直流高圧電源24で発生される直流電圧Vdはフィ
ルタ回路25のコイル25bを介してコロナ放電電極8
および捕集電極9の間に印加される。この場合、コロナ
放電電極8および捕集電極9の間には、パルス電圧Vp
と直流電圧Vdとを重ね合わせ電圧が印加されることと
なり、極性はコロナ放電電極8の方が負とされる。
Reference numeral 30 denotes a corona discharge electrode 8 and a collection electrode 9
This is a pulse power supply that generates a pulse voltage Vp to be applied during the period. The pulse voltage Vp generated by the pulse power supply 30 is applied between the corona discharge electrode 8 and the collection electrode 9 via the capacitor 25a of the filter circuit 25.
Reference numeral 24 denotes a DC high-voltage power supply that generates a DC voltage Vd to be applied between the corona discharge electrode 8 and the collection electrode 9.
The DC voltage Vd generated by the DC high-voltage power supply 24 is applied to the corona discharge electrode 8 through the coil 25b of the filter circuit 25.
And between the collecting electrode 9. In this case, a pulse voltage Vp is applied between the corona discharge electrode 8 and the collection electrode 9.
And the DC voltage Vd, and a voltage is applied, and the polarity of the corona discharge electrode 8 is negative.

【0016】次に、図1に示す放電励起ガスレーザ装置
の動作を説明する。スイッチ18をオンとすることで、
4端子回路17よりパルス電圧が発生し、このパルス電
圧が主放電電極15,16間に印加される。これによ
り、主放電電極15,16間に放電20が発生し、この
放電20によってレーザガス2が励起され、レーザ発振
が始まり、窓21a,21bの一方あるいは双方より外
部にレーザ光が取り出される。
Next, the operation of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 1 will be described. By turning on the switch 18,
A pulse voltage is generated from the four-terminal circuit 17, and the pulse voltage is applied between the main discharge electrodes 15 and 16. As a result, a discharge 20 is generated between the main discharge electrodes 15 and 16, the laser gas 2 is excited by the discharge 20, laser oscillation starts, and a laser beam is taken out from one or both of the windows 21 a and 21 b.

【0017】ここで、放電の結果、主放電電極15,1
6がスパッタされて電極を構成する材料の微粒子23お
よび気体状ハロゲン化物22がレーザガス2中に浮遊す
るとともに、放射される紫外線によって放電管壁および
絶縁物から構成材料および吸着物質のハロゲン化物が気
体状ハロゲン化物22または微粒子23としで放出され
る。これら気体状ハロゲン化物22および微粒子23
は、レーザの発振過程の妨げとなりレーザの発振効率を
下げ、レーザガス2の寿命を短くする。またこの微粒子
23が窓21a,21bに付着すると、この窓21a,
21bの透過率が低下し、レーザ発振効率が低下する。
Here, as a result of the discharge, the main discharge electrodes 15, 1
6 are sputtered to cause the fine particles 23 and the gaseous halide 22 of the material constituting the electrode to float in the laser gas 2, and the emitted ultraviolet light causes the halide of the constituent material and the adsorbed material to be converted into gas from the discharge tube wall and the insulator. It is released as halides 22 or fine particles 23. These gaseous halides 22 and fine particles 23
This hinders the laser oscillation process, lowers the laser oscillation efficiency, and shortens the life of the laser gas 2. When the particles 23 adhere to the windows 21a and 21b, the windows 21a and 21b
The transmittance of 21b decreases, and the laser oscillation efficiency decreases.

【0018】そこで、図1に示す放電励起ガスレーザ装
置においては、放電管1中に発生する気体状ハロゲン化
物22および微粒子23が、レーザガス2と共に管路1
1を通してガス精製部3Aに導かれる。捕集電極9が接
地されているためコロナ放電電極8には負のパルス電圧
Vpが印加され、図2に示すように、コロナ放電電極8
より多数の高エネルギー電子31が発生する。この高エ
ネルギー電子31は、コロナ放電電極8と捕集電極9と
の間の直流電界により捕集電極9にドリフトを開始す
る。
Therefore, in the discharge excitation gas laser apparatus shown in FIG. 1, gaseous halides 22 and fine particles 23 generated in the discharge tube 1
1 to the gas purification unit 3A. Since the collecting electrode 9 is grounded, a negative pulse voltage Vp is applied to the corona discharge electrode 8, and as shown in FIG.
More high energy electrons 31 are generated. The high-energy electrons 31 start drifting on the collecting electrode 9 due to the DC electric field between the corona discharge electrode 8 and the collecting electrode 9.

【0019】高エネルギー電子31がコロナ放電電極8
より捕集電極9に移動する間に、この高エネルギー電子
31はレーザガス2中の気体状ハロゲン化物22である
気体フッ化物と衝突する。高エネルギー電子31と衝突
した気体フッ化物は、エネルギーを高エネルギー電子3
1からもらい、例えば(1)式に示すように、不純物
(C)32とハロゲンガス(2F2)33に解離する。
The high energy electrons 31 are supplied to the corona discharge electrode 8
While moving to the collecting electrode 9, the high-energy electrons 31 collide with gaseous fluoride, which is the gaseous halide 22 in the laser gas 2. The gaseous fluoride colliding with the high-energy electrons 31 converts the energy to the high-energy electrons 3
For example, as shown in the equation (1), the impurities (C) 32 and the halogen gas (2F 2 ) 33 are dissociated.

【0020】 CF4+e-→C+4F* ・・・(1)CF 4 + e → C + 4F * (1)

【0021】なお、上記(1)式において、*は分子の
励起状態を表す。このように解離した不純物32の一部
はまた元の気体フッ化物へと再結合するが、衝突確率に
よって元の分子に戻る確率が決まっているため、一部は
元の状態には戻らずそのまま存在する。解離した不純物
32は単体では微粒子として存在するため電子31によ
って帯電する。そのため、この不純物32は、直流電界
によって捕集電極9にドリフトを開始し、捕集電極9に
到着して沈着除去される。なお、レーザガス2中の微粒
子23も、電子31によって帯電し、上述した不純物3
2と同様に捕集電極9に到着して沈着除去される。そし
て、ガス精製部3Aで浄化されたレーザガス2は管路1
2を通じて放電管1内に戻される。
In the above formula (1), * represents the excited state of the molecule. Some of the impurities 32 dissociated in this way are recombined into the original gaseous fluoride, but the probability of returning to the original molecule is determined by the collision probability. Exists. Since the dissociated impurities 32 exist as fine particles by themselves, they are charged by the electrons 31. Therefore, the impurity 32 starts drifting on the collecting electrode 9 due to the DC electric field, reaches the collecting electrode 9 and is deposited and removed. The fine particles 23 in the laser gas 2 are also charged by the electrons 31, and the impurities 3
As in the case of 2, the particles arrive at the collection electrode 9 and are deposited and removed. The laser gas 2 purified by the gas purification unit 3A is supplied to the pipeline 1
2 and is returned into the discharge tube 1.

【0022】図1に示す放電励起ガスレーザ装置によれ
ば、ガス精製部3Aでは、コロナ放電によってガス精製
を行うものであって、従来のように液体窒素6による冷
却を行う必要がなくランニングコストが安くなると共
に、レーザ媒質の沸点に近い沸点を持つCF4等の気体
状ハロゲン化物の除去も容易に可能である。また、コロ
ナ放電により発生した高エネルギー電子31を気体状ハ
ロゲン化物22である気体フッ化物に衝突させてハロゲ
ンガス33と不純物32とに解離させ、元のハロゲン化
物に戻らずそのまま存在する不純物32を捕集電極9に
より沈着除去するものである。したがって、浄化によっ
て気体状ハロゲン化物22をそのままの形で取り除くも
のでなく、ガス精製によってレーザガス2のハロゲン濃
度が低下するということがない。
According to the discharge-excited gas laser apparatus shown in FIG. 1, the gas purifying section 3A purifies the gas by corona discharge. At the same time, gas halides such as CF 4 having a boiling point close to the boiling point of the laser medium can be easily removed. Further, the high-energy electrons 31 generated by the corona discharge collide with the gaseous fluoride, which is the gaseous halide 22, and dissociate into the halogen gas 33 and the impurity 32. It is to be deposited and removed by the collecting electrode 9. Therefore, the gaseous halide 22 is not removed as it is by the purification, and the halogen concentration of the laser gas 2 is not reduced by the gas purification.

【0023】実施の形態2.図3は、この発明の実施の
形態2としての放電励起ガスレーザ装置の構成を示すブ
ロック図である。この図3において、図1と対応する部
分には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。図3
に示す放電励起ガスレーザ装置はガス精製部3Aが放電
管1内に収容されたものであり、その他の構成は図1に
示す放電励起ガスレーザ装置と同様に構成される。この
場合、ガス精製部3Aに放電管1内よりレーザガス2を
取り込むための管路や、ガス精製部3Aで精製されたレ
ーザガス2を放電管1内に戻すための管路は不要とな
る。この図3に示す放電励起ガスレーザ装置において
も、図1に示す放電励起ガスレーザ装置と同様に動作
し、同様の作用効果を得ることができる。また、ガス精
製部3Aが放電管1内に収容されるものであり、放電管
1とガス精製部3Aとを接続するための管路が不要とな
り、構成が簡単となると共に安価に構成できる。
Embodiment 2 FIG. FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a discharge excitation gas laser device according to Embodiment 2 of the present invention. 3, parts corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. FIG.
1 has a gas purifying section 3A housed in a discharge tube 1, and the other configuration is the same as that of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. In this case, a pipe for taking in the laser gas 2 from the inside of the discharge tube 1 into the gas purifying section 3A and a pipe for returning the laser gas 2 purified by the gas purifying section 3A to the inside of the discharge tube 1 become unnecessary. The discharge-excited gas laser device shown in FIG. 3 operates in the same manner as the discharge-excited gas laser device shown in FIG. Further, since the gas purifying section 3A is accommodated in the discharge tube 1, a conduit for connecting the discharge tube 1 and the gas purifying section 3A is not required, so that the configuration can be simplified and the cost can be reduced.

【0024】実施の形態3.図4は、この発明の実施の
形態3としての放電励起ガスレーザ装置の構成を示すブ
ロック図である。この図4において、図1と対応する部
分には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。図4
に示す放電励起ガスレーザ装置は、ガス精製部3Aを構
成するコロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加す
るパルス電圧Vpを、図1に示す放電励起ガスレーザ装
置のように専用のパルス電源30より得るのではなく、
主放電電極15,16の間に印加するためのパルス電圧
を発生するパルス発生用4端子回路17より得るように
したものである。つまり、4端子回路17より出力され
るパルス電圧は、主放電電極15,16の間に印加され
ると共に、ガス精製部3Aを構成するコロナ放電電極8
および捕集電極9の間にも印加される。
Embodiment 3 FIG. FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a discharge excitation gas laser device according to Embodiment 3 of the present invention. In FIG. 4, portions corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. FIG.
1 discharges a pulse voltage Vp applied between a corona discharge electrode 8 and a collection electrode 9 constituting a gas purifying section 3A into a dedicated pulse power supply 30 like the discharge excitation gas laser device shown in FIG. Rather than gaining
A pulse generating four-terminal circuit 17 for generating a pulse voltage to be applied between the main discharge electrodes 15 and 16 is obtained. That is, the pulse voltage output from the four-terminal circuit 17 is applied between the main discharge electrodes 15 and 16 and the corona discharge electrodes 8 constituting the gas purifying section 3A.
And between the collecting electrodes 9.

【0025】図4に示す放電励起ガスレーザ装置のその
他の構成は図1に示す放電励起ガスレーザ装置と同様と
される。この図4に示す放電励起ガスレーザ装置におい
ては、4端子回路17からのパルス電圧Vpがガス精製
部3Aのコロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加
され、ガス精製部3Aでは図1に示す放電励起ガスレー
ザ装置におけると同様に、レーザガス2の浄化動作が行
われる。従って、図4に示す放電励起ガスレーザ装置に
おいても、図1に示す放電励起ガスレーザ装置と同様の
作用効果を得ることができる。また、ガス精製部3Aを
構成するコロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加
するパルス電圧Vpとして、主放電電極15,16の間
に印加するためにパルス発生用4端子回路17より出力
されるパルス電圧を利用するものであり、専用のパルス
電源を設けない分、安価に構成できる。
Other configurations of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 4 are the same as those of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. In the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 4, the pulse voltage Vp from the four-terminal circuit 17 is applied between the corona discharge electrode 8 and the collecting electrode 9 of the gas purification unit 3A. The operation of purifying the laser gas 2 is performed in the same manner as in the discharge excitation gas laser device shown. Therefore, the same effects as those of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 1 can be obtained also in the discharge excitation gas laser device shown in FIG. Also, as a pulse voltage Vp applied between the corona discharge electrode 8 and the collection electrode 9 constituting the gas purification section 3A, the pulse voltage Vp is output from the pulse generating four-terminal circuit 17 to be applied between the main discharge electrodes 15 and 16. Since a pulse voltage is used, a dedicated pulse power supply is not provided, so that the configuration can be made at low cost.

【0026】実施の形態4.図5は、この発明の実施の
形態4としての放電励起ガスレーザ装置の構成を示すブ
ロック図である。この図5において、図4と対応する部
分には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。図5
に示す放電励起ガスレーザ装置はガス精製部3Aが放電
管1内に収容されたものであり、その他の構成は図4に
示す放電励起ガスレーザ装置と同様に構成される。この
場合、ガス精製部3Aに放電管1内よりレーザガス2を
取り込むための管路や、ガス精製部3Aで精製されたレ
ーザガス2を放電管1内に戻すための管路は不要とな
る。
Embodiment 4 FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a discharge excitation gas laser device according to Embodiment 4 of the present invention. In FIG. 5, portions corresponding to those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. FIG.
The discharge excitation gas laser device shown in FIG. 1 has a gas purification unit 3A housed in a discharge tube 1, and the other configuration is the same as that of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. In this case, a pipe for taking in the laser gas 2 from the inside of the discharge tube 1 into the gas purifying section 3A and a pipe for returning the laser gas 2 purified by the gas purifying section 3A to the inside of the discharge tube 1 become unnecessary.

【0027】この図5に示す放電励起ガスレーザ装置に
おいても、図4に示す放電励起ガスレーザ装置と同様に
動作し、同様の作用効果を得ることができる。また、ガ
ス精製部3Aが放電管1内に収容されるものであり、放
電管1とガス精製部3Aとを接続するための管路が不要
となり、構成が簡単となると共に安価に構成できる。
The operation of the discharge excitation gas laser apparatus shown in FIG. 5 is similar to that of the discharge excitation gas laser apparatus shown in FIG. Further, since the gas purifying section 3A is accommodated in the discharge tube 1, a conduit for connecting the discharge tube 1 and the gas purifying section 3A is not required, so that the configuration can be simplified and the cost can be reduced.

【0028】実施の形態5.図6は、この発明の実施の
形態5としての放電励起ガスレーザ装置の構成を示すブ
ロック図である。この図6において、図1と対応する部
分には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。26
は補助電極であり、放電管1内に主放電電極16に近接
して配されている。27は主放電電極16と補助電極2
6の間に印加するパルス電圧を発生するパルス電圧発生
手段としてのパルス発生用4端子回路であり、電源端子
19より電源が供給されている。この4端子回路27
も、上述した4端子回路17と同様に、スイッチ18を
オンとすることによってパルス電圧を発生するようにな
っている。
Embodiment 5 FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a discharge excitation gas laser device according to Embodiment 5 of the present invention. 6, parts corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. 26
Is an auxiliary electrode, which is arranged in the discharge tube 1 in the vicinity of the main discharge electrode 16. 27 is a main discharge electrode 16 and an auxiliary electrode 2
This is a pulse generating four-terminal circuit as a pulse voltage generating means for generating a pulse voltage to be applied during the period 6, and power is supplied from a power terminal 19. This four-terminal circuit 27
Also, similarly to the four-terminal circuit 17, the pulse voltage is generated by turning on the switch 18.

【0029】また、図6に示す放電励起ガスレーザ装置
は、ガス精製部3Aを構成するコロナ放電電極8および
捕集電極9の間に印加するパルス電圧Vpを、図1に示
す放電励起ガスレーザ装置のように専用のパルス電源3
0より得るのではなく、4端子回路27より得るように
している。つまり、4端子回路27より出力されるパル
ス電圧は、主放電電極16および補助電極26の間に印
加されると共に、ガス精製部3Aを構成するコロナ放電
電極8および捕集電極9の間にも印加される。図6に示
す放電励起ガスレーザ装置のその他の構成は、図1に示
す放電励起ガスレーザ装置と同様とされる。
Further, in the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 6, the pulse voltage Vp applied between the corona discharge electrode 8 and the collection electrode 9 constituting the gas purification section 3A is changed to the pulse voltage Vp of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. Dedicated pulse power source 3
Instead of being obtained from 0, it is obtained from the 4-terminal circuit 27. That is, the pulse voltage output from the four-terminal circuit 27 is applied between the main discharge electrode 16 and the auxiliary electrode 26, and also between the corona discharge electrode 8 and the collection electrode 9 constituting the gas purification unit 3A. Applied. Other configurations of the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 6 are the same as those of the discharge excitation gas laser device shown in FIG.

【0030】この図6に示す放電励起ガスレーザ装置に
おいては、スイッチ18をオンとすることで、4端子回
路17よりパルス電圧が発生し、このパルス電圧が主放
電電極15,16間に印加されて放電20が発生する。
同様に、スイッチ18をオンとすることで、4端子回路
27よりパルス電圧が発生し、このパルス電圧が主放電
電極16と補助電極17の間に印加されてコロナ放電が
発生する。そして、これら放電によってレーザガス2が
励起され、レーザ発振が始まり、窓21a,21bの一
方あるいは双方より外部にレーザ光が取り出される。ま
た、4端子回路27からのパルス電圧Vpがガス精製部
3Aのコロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加さ
れ、ガス精製部3Aでは図1に示す放電励起ガスレーザ
装置におけると同様に、レーザガス2の浄化動作が行わ
れる。
In the discharge excitation gas laser device shown in FIG. 6, a pulse voltage is generated from the four-terminal circuit 17 by turning on the switch 18, and this pulse voltage is applied between the main discharge electrodes 15 and 16. Discharge 20 occurs.
Similarly, when the switch 18 is turned on, a pulse voltage is generated from the four-terminal circuit 27, and the pulse voltage is applied between the main discharge electrode 16 and the auxiliary electrode 17 to generate corona discharge. Then, the laser gas 2 is excited by these discharges, laser oscillation starts, and laser light is extracted outside from one or both of the windows 21a and 21b. Further, the pulse voltage Vp from the four-terminal circuit 27 is applied between the corona discharge electrode 8 and the collecting electrode 9 of the gas purifying unit 3A, and in the gas purifying unit 3A, as in the discharge excitation gas laser device shown in FIG. The operation of purifying the laser gas 2 is performed.

【0031】この図6に示す放電励起ガスレーザ装置に
よれば、図1に示す放電励起ガスレーザ装置と同様の作
用効果を得ることができる他に、ガス精製部3Aを構成
するコロナ放電電極8および捕集電極9の間に印加する
パルス電圧Vpとして、主放電電極16と補助電極17
の間に印加するためにパルス発生用4端子回路27より
出力されるパルス電圧を利用するものであり、専用のパ
ルス電源を設けない分、安価に構成できる。なお、図6
に示す放電励起ガスレーザ装置において、ガス精製部3
Aを放電管1内に配するようにしてもよい。それによれ
ば、放電管1とガス精製部3Aとを接続するための管路
が不要となり、構成が簡単となると共にさらに安価に構
成できる。
According to the discharge-excited gas laser device shown in FIG. 6, the same operation and effects as those of the discharge-excited gas laser device shown in FIG. 1 can be obtained, and the corona discharge electrode 8 and the trapping electrode constituting the gas purifying section 3A can be obtained. The main discharge electrode 16 and the auxiliary electrode 17 are used as a pulse voltage Vp applied between the collector electrodes 9.
Since the pulse voltage output from the pulse generating four-terminal circuit 27 is used to apply the pulse voltage during this period, the configuration can be made inexpensively because no dedicated pulse power supply is provided. FIG.
In the discharge excitation gas laser device shown in FIG.
A may be arranged in the discharge tube 1. This eliminates the need for a conduit for connecting the discharge tube 1 and the gas purification unit 3A, thereby simplifying the configuration and making it more inexpensive.

【0032】[0032]

【発明の効果】請求項1および請求項2の発明によれ
ば、ガス精製部ではコロナ放電によってガス精製を行う
ものであって、従来のように液体窒素による冷却を行う
必要がなくランニングコストが安くなると共に、レーザ
媒質の沸点に近い沸点を持つCF4等の気体状ハロゲン
化物の除去も容易に可能となる。また、コロナ放電によ
り発生した高エネルギー電子を気体状ハロゲン化物に衝
突させてハロゲンガスと不純物とに解離させ、元のハロ
ゲン化物に戻らずそのまま存在する不純物を捕集電極に
より沈着除去してガス精製を行うものであり、ガス精製
によって気体状ハロゲン化物をそのままの形で取り除く
ものでなく、ガス精製によってレーザガスのハロゲン濃
度が低下するということがない。
According to the first and second aspects of the present invention, gas purification is performed by corona discharge in the gas purification section, which eliminates the need for cooling with liquid nitrogen as in the prior art, and reduces running costs. At the same time, gas halides such as CF 4 having a boiling point close to the boiling point of the laser medium can be easily removed. Also, high-energy electrons generated by corona discharge collide with gaseous halides to dissociate them into halogen gas and impurities, and impurities that do not return to the original halides are deposited and removed by the collecting electrode, and gas purification is performed. The gas purification does not remove the gaseous halide as it is, and the gas purification does not lower the halogen concentration of the laser gas.

【0033】請求項3の発明によれば、請求項1の発明
において、ガス精製部が放電管内に配されるものであ
り、放電管とガス精製部とを接続するための管路が不要
となり、構成が簡単となると共に安価に構成できる。
According to the third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the gas purifying section is provided in the discharge tube, and a conduit for connecting the discharge tube and the gas purifying section becomes unnecessary. In addition, the configuration becomes simple and the configuration can be made inexpensively.

【0034】請求項4の発明によれば、請求項1〜3の
いずれかの発明において、ガス精製部を構成するコロナ
放電電極および捕集電極の間に印加するパルス電圧とし
て、第1および第2の主放電電極の間に印加するパルス
電圧を発生するパルス電圧発生手段より出力されるパル
ス電圧を利用するものであり、専用のパルス電源を設け
ない分、安価に構成できる。
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the present invention, the first and second pulse voltages applied between the corona discharge electrode and the collection electrode constituting the gas purifying section are used. It utilizes a pulse voltage output from a pulse voltage generating means for generating a pulse voltage applied between the two main discharge electrodes, and can be configured at low cost because no dedicated pulse power supply is provided.

【0035】請求項5の発明によれば、請求項1〜3の
いずれかの発明において、ガス精製部を構成するコロナ
放電電極および捕集電極の間に印加するパルス電圧とし
て、第2の主放電電極および補助電極の間に印加するパ
ルス電圧を発生するパルス電圧発生手段より出力される
パルス電圧を利用するものであり、専用のパルス電源を
設けない分、安価に構成できる。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the present invention, the pulse voltage applied between the corona discharge electrode and the collection electrode constituting the gas purifying section is the second main voltage. It utilizes a pulse voltage output from a pulse voltage generating means for generating a pulse voltage applied between a discharge electrode and an auxiliary electrode, and can be configured at a low cost because a dedicated pulse power supply is not provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1としての放電励起ガ
スレーザ装置の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a discharge excitation gas laser device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 ガス精製部の精製動作を説明するための図で
ある。
FIG. 2 is a diagram for explaining a purification operation of a gas purification unit.

【図3】 この発明の実施の形態2としての放電励起ガ
スレーザ装置の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a discharge excitation gas laser device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態3としての放電励起ガ
スレーザ装置の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a discharge excitation gas laser device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態4としての放電励起ガ
スレーザ装置の構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a discharge excitation gas laser device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】 この発明の実施の形態5としての放電励起ガ
スレーザ装置の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a discharge excitation gas laser device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】 従来の放電励起ガスレーザ装置の構成図であ
る。
FIG. 7 is a configuration diagram of a conventional discharge excitation gas laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ放電管、2 レーザガス、3A ガス精製
部、8 コロナ放電電極、9 捕集電極、11,12
管路、15,16 主放電電極、17,27 パルス発
生用4端子回路、18 スイッチ、19 電源端子、2
1a,21b 窓、22 気体状ハロゲン化物、23
微粒子、24 直流高圧電源、25 フィルタ回路、2
6 補助電極、30 パルス電源、31 高エネルギー
電子、32不純物、33 ハロゲンガス。
REFERENCE SIGNS LIST 1 laser discharge tube, 2 laser gas, 3 A gas purification section, 8 corona discharge electrode, 9 collection electrode, 11 and 12
Conduit, 15, 16 main discharge electrode, 17, 27 4-terminal circuit for pulse generation, 18 switch, 19 power supply terminal, 2
1a, 21b window, 22 gaseous halide, 23
Fine particles, 24 DC high voltage power supply, 25 filter circuit, 2
6 auxiliary electrode, 30 pulse power supply, 31 high energy electron, 32 impurity, 33 halogen gas.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 放電管内に励起物質としてのレーザガス
が封入され、上記放電管内に配された第1および第2の
主放電電極間の放電により上記レーザガスを励起させる
放電励起ガスレーザ装置において、 上記放電管内の上記レーザガスを浄化するガス精製部を
有し、 上記ガス精製部は負極性のコロナ放電電極および正極性
の捕集電極を備えてなり、上記コロナ放電電極および捕
集電極の間に直流電圧とパルス電圧を重ね合わせた電圧
が印加されることを特徴とする放電励起ガスレーザ装
置。
1. A discharge-excited gas laser device in which a laser gas as an excitation substance is sealed in a discharge tube and which excites the laser gas by a discharge between first and second main discharge electrodes arranged in the discharge tube, A gas purifier for purifying the laser gas in the tube, the gas purifier comprising a negative corona discharge electrode and a positive collector electrode, and a DC voltage applied between the corona discharge electrode and the collector electrode. A discharge excitation gas laser apparatus, wherein a voltage obtained by superposing a pulse voltage and a pulse voltage is applied.
【請求項2】 上記ガス精製部は上記放電管の外部に配
され、上記放電管内の上記レーザガスを上記放電管内か
ら上記ガス精製部に導く第1の管路と、 上記ガス精製部で浄化された上記レーザガスを上記放電
管内に導く第2の管路とを有することを特徴とする請求
項1に記載の放電励起ガスレーザ装置。
2. The gas purifying section is disposed outside the discharge tube, and a first conduit for guiding the laser gas in the discharge tube from inside the discharge tube to the gas purifying section; The discharge-excited gas laser device according to claim 1, further comprising a second conduit for guiding the laser gas into the discharge tube.
【請求項3】 上記ガス精製部は上記放電管内に配され
ることを特徴とする請求項1に記載の放電励起ガスレー
ザ装置。
3. The discharge-excited gas laser device according to claim 1, wherein said gas purifier is disposed in said discharge tube.
【請求項4】 上記第1および第2の主放電電極の間に
印加するパルス電圧を発生するパルス電圧発生手段を備
え、 上記コロナ放電電極および捕集電極の間に印加されるパ
ルス電圧として上記パルス電圧発生手段で発生されるパ
ルス電圧を利用することを特徴とする請求項1〜3のい
ずれかに記載の放電励起ガスレーザ装置。
4. A pulse voltage generating means for generating a pulse voltage applied between the first and second main discharge electrodes, wherein the pulse voltage applied between the corona discharge electrode and the collection electrode is The discharge-excited gas laser device according to any one of claims 1 to 3, wherein a pulse voltage generated by the pulse voltage generating means is used.
【請求項5】 上記放電管内に上記第2の主放電電極と
の間でコロナ放電を発生させるための補助電極がさらに
配され、 上記第2の主放電電極および上記補助電極の間に印加す
るパルス電圧を発生するパルス電圧発生手段を備え、上
記コロナ放電電極および捕集電極の間に印加されるパル
ス電圧として上記パルス電圧発生手段で発生されるパル
ス電圧を利用することを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の放電励起ガスレーザ装置。
5. An auxiliary electrode for generating a corona discharge between the second main discharge electrode and the second main discharge electrode in the discharge tube, and the auxiliary electrode is applied between the second main discharge electrode and the auxiliary electrode. A pulse voltage generating means for generating a pulse voltage, wherein a pulse voltage generated by the pulse voltage generating means is used as a pulse voltage applied between the corona discharge electrode and the collecting electrode. The discharge-excited gas laser device according to any one of claims 1 to 3.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018195713A (en) * 2017-05-17 2018-12-06 日本エア・リキード株式会社 Excimer laser oscillator with gas recycling function

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JP2018195713A (en) * 2017-05-17 2018-12-06 日本エア・リキード株式会社 Excimer laser oscillator with gas recycling function

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