JPH11100226A - ディスプレイ装置用基板ガラス - Google Patents
ディスプレイ装置用基板ガラスInfo
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- JPH11100226A JPH11100226A JP26554597A JP26554597A JPH11100226A JP H11100226 A JPH11100226 A JP H11100226A JP 26554597 A JP26554597 A JP 26554597A JP 26554597 A JP26554597 A JP 26554597A JP H11100226 A JPH11100226 A JP H11100226A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 直接通電溶融を含めた溶融、フロート法成形
に適し、適度な熱特性を有し、比較的低比重のガラスで
あって、特にＰＤＰ用として好適なディスプレイ装置用
基板ガラスを得ること。 【解決手段】 wt％で、SiO2 61〜65、Al2O3 ９〜14、
B2O3 ０〜５、SiO2＋Al 2O3 ＋B2O3 70〜76、MgO ０〜
５、CaO ４〜10、SrO ０〜５、BaO １〜８、MgO＋CaO
＋SrO ＋BaO 10〜16、Li2O ０〜３、Na2O ６〜10、K2O
１〜５、Li2O＋Na 2O＋K2O ９〜14、およびZrO2 1.0〜3.
5 の範囲で含有し、ガラス比重が 2.6以下からなるディ
スプレイ装置用基板ガラス。
に適し、適度な熱特性を有し、比較的低比重のガラスで
あって、特にＰＤＰ用として好適なディスプレイ装置用
基板ガラスを得ること。 【解決手段】 wt％で、SiO2 61〜65、Al2O3 ９〜14、
B2O3 ０〜５、SiO2＋Al 2O3 ＋B2O3 70〜76、MgO ０〜
５、CaO ４〜10、SrO ０〜５、BaO １〜８、MgO＋CaO
＋SrO ＋BaO 10〜16、Li2O ０〜３、Na2O ６〜10、K2O
１〜５、Li2O＋Na 2O＋K2O ９〜14、およびZrO2 1.0〜3.
5 の範囲で含有し、ガラス比重が 2.6以下からなるディ
スプレイ装置用基板ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種ディスプレイ
装置用基板ガラス、特にプラズマディスプレイパネル
(ＰＤＰ) 用基板ガラスとして好適なガラスであって、
電気溶融法を含めた溶融、およびフロート法による成形
(製板) が容易なディスプレイ装置用基板ガラスに関す
る。
装置用基板ガラス、特にプラズマディスプレイパネル
(ＰＤＰ) 用基板ガラスとして好適なガラスであって、
電気溶融法を含めた溶融、およびフロート法による成形
(製板) が容易なディスプレイ装置用基板ガラスに関す
る。
【０００２】
【従来技術および解決すべき課題】従来、ディスプレイ
装置用基板ガラスとしては、ソーダ石灰シリカ系ガラス
が用いられるケースが多い。一例としてＰＤＰ用ガラス
基板においては、ガラス基板にニッケルやアルミニウム
等の電極や絶縁塗膜等をスクリーン印刷などにより施
し、 500℃を越える温度での焼成を繰返してパネルを製
作する。基板ガラスは電極や塗膜との熱膨張率が異なる
とそれらの亀裂や剥離を生じ易いので、熱膨張率を整合
させる必要があり、前記ソーダ石灰シリカ系ガラスにお
いては熱膨張率が90×10-7／℃近くと、電極や塗膜との
熱膨張率に近い点において有用であるが、歪点が 510℃
近辺の温度であるため繰返し焼成に際して熱変形を生じ
易く、製作歩留りを著しく悪化させるという問題があ
る。
装置用基板ガラスとしては、ソーダ石灰シリカ系ガラス
が用いられるケースが多い。一例としてＰＤＰ用ガラス
基板においては、ガラス基板にニッケルやアルミニウム
等の電極や絶縁塗膜等をスクリーン印刷などにより施
し、 500℃を越える温度での焼成を繰返してパネルを製
作する。基板ガラスは電極や塗膜との熱膨張率が異なる
とそれらの亀裂や剥離を生じ易いので、熱膨張率を整合
させる必要があり、前記ソーダ石灰シリカ系ガラスにお
いては熱膨張率が90×10-7／℃近くと、電極や塗膜との
熱膨張率に近い点において有用であるが、歪点が 510℃
近辺の温度であるため繰返し焼成に際して熱変形を生じ
易く、製作歩留りを著しく悪化させるという問題があ
る。
【０００３】特開平３−40933 号には、SiO2成分、Al2O
3 成分、CaO 成分をはじめとする２価成分酸化物、Na2O
成分等のアルカリ金属酸化物、ZrO2成分等よりなる基板
用ガラス組成物であって、600 ℃付近の熱処理において
も殆ど変形せず、また熱膨張率もソーダ石灰シリカ系ガ
ラスと殆ど変わらないガラスが開示されている。概して
この成分系では２価成分酸化物が過多で、ガラスの比重
を増大させる上に、ガラス融液の高温粘度を上昇し、均
質化、清澄性を悪化し、また、成形性も難化するという
危惧がある。均質化、清澄性を改善するためには媒溶・
清澄剤としてのSO3 、Sb2O3 、またはAs2O3 を過剰に添
加する必要があるが、例えば直接通電溶融の場合におい
てはそれらが電極と反応して電極を変質劣化させたり、
ガラスに着色を与えたりするという危惧がある。
3 成分、CaO 成分をはじめとする２価成分酸化物、Na2O
成分等のアルカリ金属酸化物、ZrO2成分等よりなる基板
用ガラス組成物であって、600 ℃付近の熱処理において
も殆ど変形せず、また熱膨張率もソーダ石灰シリカ系ガ
ラスと殆ど変わらないガラスが開示されている。概して
この成分系では２価成分酸化物が過多で、ガラスの比重
を増大させる上に、ガラス融液の高温粘度を上昇し、均
質化、清澄性を悪化し、また、成形性も難化するという
危惧がある。均質化、清澄性を改善するためには媒溶・
清澄剤としてのSO3 、Sb2O3 、またはAs2O3 を過剰に添
加する必要があるが、例えば直接通電溶融の場合におい
てはそれらが電極と反応して電極を変質劣化させたり、
ガラスに着色を与えたりするという危惧がある。
【０００４】特開平８−133778号には、SiO2成分、２価
成分酸化物、アルカリ金属酸化物等を含み、ZrO2成分を
含まないガラス組成物をＰＤＰ用基板として採用するこ
とが開示されている。しかし、ZrO2成分は、少量の存在
でガラスの歪点を所望の高い温度に維持でき、失透の発
生を抑制でき、ガラスの耐水性や耐薬品性を具備するう
えで必須とすべきものである。
成分酸化物、アルカリ金属酸化物等を含み、ZrO2成分を
含まないガラス組成物をＰＤＰ用基板として採用するこ
とが開示されている。しかし、ZrO2成分は、少量の存在
でガラスの歪点を所望の高い温度に維持でき、失透の発
生を抑制でき、ガラスの耐水性や耐薬品性を具備するう
えで必須とすべきものである。
【０００５】特開平７−257937号には、SiO2成分、Al2O
3 成分、CaO 成分をはじめとする２価成分属酸化物、K2
O 成分等アルカリ金属酸化物、ZrO2成分等よりなり、Ｐ
ＤＰ用基板に適用するガラス組成物が開示されている。
しかし、ネットワークフォーマーとしてのSiO2成分が低
く、その分ガラス形成が不安定で、失透が生じ易く、ま
た比重を増大し易いという危惧がある。
3 成分、CaO 成分をはじめとする２価成分属酸化物、K2
O 成分等アルカリ金属酸化物、ZrO2成分等よりなり、Ｐ
ＤＰ用基板に適用するガラス組成物が開示されている。
しかし、ネットワークフォーマーとしてのSiO2成分が低
く、その分ガラス形成が不安定で、失透が生じ易く、ま
た比重を増大し易いという危惧がある。
【０００６】本発明はそれら従来技術における問題点に
鑑みて種々検討の末、完成に達したものであり、直接通
電溶融を含めた溶融、フロート法成形に適し、適度な熱
特性を有し、比較的低比重のガラスであって、特にＰＤ
Ｐ用として好適なディスプレイ装置用基板ガラスを提供
するものである。
鑑みて種々検討の末、完成に達したものであり、直接通
電溶融を含めた溶融、フロート法成形に適し、適度な熱
特性を有し、比較的低比重のガラスであって、特にＰＤ
Ｐ用として好適なディスプレイ装置用基板ガラスを提供
するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、wt％で、SiO2
61〜65、Al2O3 ９〜14、B2O3 ０〜５、SiO2＋Al2O 3
＋B2O3 70〜76、MgO ０〜５、CaO ４〜10、SrO ０〜
５、BaO １〜８、MgO ＋CaO ＋SrO ＋BaO 10〜16、Li2O
０〜３、Na2O ６〜10、K2O １〜５、Li2O＋Na2O＋K2O
９〜14、およびZrO2 1.0〜3.5 の範囲で含有し、ガラス
比重が 2.6以下からなるディスプレイ装置用基板ガラス
である。上記において、ガラスの歪点が 580℃以上、室
温から 300℃における熱膨張率が80×10-7／℃以上であ
ることが好ましい。
61〜65、Al2O3 ９〜14、B2O3 ０〜５、SiO2＋Al2O 3
＋B2O3 70〜76、MgO ０〜５、CaO ４〜10、SrO ０〜
５、BaO １〜８、MgO ＋CaO ＋SrO ＋BaO 10〜16、Li2O
０〜３、Na2O ６〜10、K2O １〜５、Li2O＋Na2O＋K2O
９〜14、およびZrO2 1.0〜3.5 の範囲で含有し、ガラス
比重が 2.6以下からなるディスプレイ装置用基板ガラス
である。上記において、ガラスの歪点が 580℃以上、室
温から 300℃における熱膨張率が80×10-7／℃以上であ
ることが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の成分系において、SiO2は
ガラスのネットワークフォーマーとして作用する主成分
であり、wt％において61％未満ではガラスを安定して形
成し難く、失透を生じさせ易く、またガラスの歪点が低
下し、耐水性、耐薬品性を悪化させ、ガラス比重を増大
する傾向にある。他方65％を越えるとガラス融液の高温
粘度が高くなり、フロート法成形が困難になる。従って
61〜65％の範囲とする。
ガラスのネットワークフォーマーとして作用する主成分
であり、wt％において61％未満ではガラスを安定して形
成し難く、失透を生じさせ易く、またガラスの歪点が低
下し、耐水性、耐薬品性を悪化させ、ガラス比重を増大
する傾向にある。他方65％を越えるとガラス融液の高温
粘度が高くなり、フロート法成形が困難になる。従って
61〜65％の範囲とする。
【０００９】Al2O3 は９％未満であるとガラスの歪点が
低下し、他方14％を超えるとガラス融液の高温粘度が高
くなり、失透傾向が増大し、フロート法成形が困難にな
る。従って９〜14％の範囲とする。
低下し、他方14％を超えるとガラス融液の高温粘度が高
くなり、失透傾向が増大し、フロート法成形が困難にな
る。従って９〜14％の範囲とする。
【００１０】B2O3は必須成分ではないが、高温粘度を下
げてガラス溶融を容易にするために適宜導入する。ただ
し歪点と熱膨張率を低下する傾向にあり、５％を越えて
導入すべきではない。
げてガラス溶融を容易にするために適宜導入する。ただ
し歪点と熱膨張率を低下する傾向にあり、５％を越えて
導入すべきではない。
【００１１】なお、SiO2＋Al2O3 ＋B2O3を69％未満と
し、相対的に２価成分酸化物やアルカリ金属酸化物を過
量含ませると、ガラス比重が増大するので好ましくな
い。またSiO2＋Al2O3 ＋B2O3を76％を越えて含有する
と、熱膨張率が低下する上に、ガラス融液の高温粘度が
高くなり、フロート法成形が困難になる。
し、相対的に２価成分酸化物やアルカリ金属酸化物を過
量含ませると、ガラス比重が増大するので好ましくな
い。またSiO2＋Al2O3 ＋B2O3を76％を越えて含有する
と、熱膨張率が低下する上に、ガラス融液の高温粘度が
高くなり、フロート法成形が困難になる。
【００１２】ZrO2はガラスの耐水性、耐薬品性を向上す
る。またガラスの歪点を上昇させ、失透の発生を抑える
作用を有するので 1.0％以上含有させるのがよく、他方
3.5％を超えると逆に失透傾向が増大し、ガラスの溶融
およびフロート法成形を困難とする。
る。またガラスの歪点を上昇させ、失透の発生を抑える
作用を有するので 1.0％以上含有させるのがよく、他方
3.5％を超えると逆に失透傾向が増大し、ガラスの溶融
およびフロート法成形を困難とする。
【００１３】MgO は少量の導入で失透温度を低下させ、
また他の二価成分酸化物に比べガラスの歪点を上昇さ
せ、調整するうえで有用であり、適宜導入するものであ
るが、５％を越えて含有すると、ガラスの熱膨張率を低
下させ、失透傾向が大きくなる。従って５％以下の範囲
で導入する。
また他の二価成分酸化物に比べガラスの歪点を上昇さ
せ、調整するうえで有用であり、適宜導入するものであ
るが、５％を越えて含有すると、ガラスの熱膨張率を低
下させ、失透傾向が大きくなる。従って５％以下の範囲
で導入する。
【００１４】CaO はBaO との共存下でガラス融液の高温
粘度を下げる作用を有するが、４％未満ではその作用が
不充分であり、他方10％を超えると失透傾向が大きくな
り、ガラス比重を増大する。従って４〜10％の範囲とす
る。
粘度を下げる作用を有するが、４％未満ではその作用が
不充分であり、他方10％を超えると失透傾向が大きくな
り、ガラス比重を増大する。従って４〜10％の範囲とす
る。
【００１５】BaO は前記のごとくCaO との共存下でガラ
ス融液の高温粘度を下げ失透の発生を抑制する作用を有
するが、１％未満では失透を抑制する作用が不充分であ
り、他方８％を超えるとガラスの歪点が低下し過ぎ、ガ
ラスの比重を増大する。従って１〜８％の範囲とする。
ス融液の高温粘度を下げ失透の発生を抑制する作用を有
するが、１％未満では失透を抑制する作用が不充分であ
り、他方８％を超えるとガラスの歪点が低下し過ぎ、ガ
ラスの比重を増大する。従って１〜８％の範囲とする。
【００１６】SrO は溶融ガラスの粘度や、ガラスの熱膨
張率、歪点を調整するうえで適宜導入するものである
が、５％を越えて導入すると比重が増大するので好まし
くない。
張率、歪点を調整するうえで適宜導入するものである
が、５％を越えて導入すると比重が増大するので好まし
くない。
【００１７】さらに、上記組成範囲内において、２価成
分酸化物 (CaO 、MgO 、BaO 、SrO)の合計を10〜16％の
範囲とすることによって、ガラスの溶融性を良好な範囲
に維持しつつ、粘度−温度勾配を適度として成形性を良
好とし、耐熱性、化学的耐久性等に優れ、適切な範囲の
熱膨張率を有するガラスを得ることができる。２価成分
酸化物の合計が16％を越えると特にガラスの熱膨張率が
上昇するとともに失透傾向が増大し、化学的耐久性が低
下し、またガラス比重が増大する。10％未満では、高温
粘度が上昇して溶融および成形を困難とし、熱膨張率が
低下する。
分酸化物 (CaO 、MgO 、BaO 、SrO)の合計を10〜16％の
範囲とすることによって、ガラスの溶融性を良好な範囲
に維持しつつ、粘度−温度勾配を適度として成形性を良
好とし、耐熱性、化学的耐久性等に優れ、適切な範囲の
熱膨張率を有するガラスを得ることができる。２価成分
酸化物の合計が16％を越えると特にガラスの熱膨張率が
上昇するとともに失透傾向が増大し、化学的耐久性が低
下し、またガラス比重が増大する。10％未満では、高温
粘度が上昇して溶融および成形を困難とし、熱膨張率が
低下する。
【００１８】Li2Oは強力なガラス溶融剤として作用する
が、ガラスの熱膨張率を低下させ、また歪点も低下させ
るので、３％以下の範囲で適宜導入するものである。
が、ガラスの熱膨張率を低下させ、また歪点も低下させ
るので、３％以下の範囲で適宜導入するものである。
【００１９】Na2OはK2O とともにガラス溶融剤として作
用し、またガラスの熱膨張率を適度な大きさに維持する
うえで不可欠である。Na2Oが６％未満であると、ガラス
溶融が不充分となり、均質性、清澄性も損なう。他方10
％を超えるとガラスの歪点が低下し過ぎ、耐水性、耐薬
品性も劣化する。従って６〜10％の範囲で導入する。
用し、またガラスの熱膨張率を適度な大きさに維持する
うえで不可欠である。Na2Oが６％未満であると、ガラス
溶融が不充分となり、均質性、清澄性も損なう。他方10
％を超えるとガラスの歪点が低下し過ぎ、耐水性、耐薬
品性も劣化する。従って６〜10％の範囲で導入する。
【００２０】K2O は上記理由、およびNa2Oとの混合アル
カリ効果によりアルカリイオンのガラス中での移動を抑
制し、ガラスの体積抵抗率を高める。１％未満であると
それら作用が不充分であり、５％を超えると熱膨張率が
過大となり、また歪点も低下し過ぎるため、１〜５％の
範囲とする。また、ガラス比重をより低くするうえで
は、１〜４％の範囲とするのがよい。
カリ効果によりアルカリイオンのガラス中での移動を抑
制し、ガラスの体積抵抗率を高める。１％未満であると
それら作用が不充分であり、５％を超えると熱膨張率が
過大となり、また歪点も低下し過ぎるため、１〜５％の
範囲とする。また、ガラス比重をより低くするうえで
は、１〜４％の範囲とするのがよい。
【００２１】前記アルカリ金属酸化物 (Li2O、Na2O、K2
O ) の量に関し、その合計量を９〜14％とすることによ
り、ガラスの歪点、熱膨張率、高温粘度および失透温度
を適切な範囲に維することができる。アルカリ金属酸化
物の合計量が９％未満では熱膨張率が低下し、失透傾向
が増大する。14％を越えるとガラスの歪点が低下し過ぎ
るうえに、比重を増大し、体積抵抗率が低下する。従っ
て９〜14％の範囲とするものであるが、特にガラスの易
溶融性を考慮すれば、12〜14％の範囲がよい。
O ) の量に関し、その合計量を９〜14％とすることによ
り、ガラスの歪点、熱膨張率、高温粘度および失透温度
を適切な範囲に維することができる。アルカリ金属酸化
物の合計量が９％未満では熱膨張率が低下し、失透傾向
が増大する。14％を越えるとガラスの歪点が低下し過ぎ
るうえに、比重を増大し、体積抵抗率が低下する。従っ
て９〜14％の範囲とするものであるが、特にガラスの易
溶融性を考慮すれば、12〜14％の範囲がよい。
【００２２】本発明において、原料バッチ中に塩化物、
フッ化物を導入するのが望ましく、例えばCaF2、MgF2、
NaCl、CaCl2 等の金属フッ化物、塩化物を導入すること
により、ガラス融液の粘度、表面張力を降下させ溶融、
清澄性を向上し、かつ電気溶融法を採用した場合におい
ては電極を変質劣化させないうえで有効であるが、フッ
素、または塩素分として原料バッチのガラス換算量 (酸
化物)100重量％に対して0.5 重量％以下外挿添加するの
が肝要であり、0.5 重量％を超えると炉材の侵食等が激
しくなる傾向があるうえに、ガラスの歪点を低下させ
る。
フッ化物を導入するのが望ましく、例えばCaF2、MgF2、
NaCl、CaCl2 等の金属フッ化物、塩化物を導入すること
により、ガラス融液の粘度、表面張力を降下させ溶融、
清澄性を向上し、かつ電気溶融法を採用した場合におい
ては電極を変質劣化させないうえで有効であるが、フッ
素、または塩素分として原料バッチのガラス換算量 (酸
化物)100重量％に対して0.5 重量％以下外挿添加するの
が肝要であり、0.5 重量％を超えると炉材の侵食等が激
しくなる傾向があるうえに、ガラスの歪点を低下させ
る。
【００２３】さらにガラスの溶融、清澄性を向上させる
原料としては硝酸塩の導入が好ましい。すなわち例えば
硝酸バリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の原料
形態で原料バッチ中に導入するが、硝酸塩の殆どはガラ
スの初期溶融の過程で酸素を発生し、S 、FeおよびTiの
ようなガラス中の微量還元成分を酸化状態に維持するた
め、これら還元成分がモリブデン等の電極と反応して電
極が損耗するような弊害を抑制する。
原料としては硝酸塩の導入が好ましい。すなわち例えば
硝酸バリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の原料
形態で原料バッチ中に導入するが、硝酸塩の殆どはガラ
スの初期溶融の過程で酸素を発生し、S 、FeおよびTiの
ようなガラス中の微量還元成分を酸化状態に維持するた
め、これら還元成分がモリブデン等の電極と反応して電
極が損耗するような弊害を抑制する。
【００２４】硝酸塩はNO3 として原料バッチのガラス換
算量 (酸化物)100重量％に対して４重量％以下、さらに
望ましくは 1〜 4重量％の範囲で外挿添加するのが好ま
しい。 4重量％を超えると原料バッチの溶解速度が過大
となり、安定した溶融状態を得るのが困難となる。前記
塩化物、フッ化物または硝酸塩は必要に応じ適宜導入す
るもので、両者を併存させてもよい。
算量 (酸化物)100重量％に対して４重量％以下、さらに
望ましくは 1〜 4重量％の範囲で外挿添加するのが好ま
しい。 4重量％を超えると原料バッチの溶解速度が過大
となり、安定した溶融状態を得るのが困難となる。前記
塩化物、フッ化物または硝酸塩は必要に応じ適宜導入す
るもので、両者を併存させてもよい。
【００２５】本発明において、直接通電による電気溶融
法を採用する場合は、汎用されるモリブデン等の電極と
反応して合金を形成したりするようなことは避けねばな
らず、従って原料バッチ中に清澄剤としてのAs2O3 、Sb
2O3 およびＳ分、硫酸塩（ガラス中に一部SO3 として残
留する) は少量(0.3％以下）に留めるべきである。ま
た、反応性を有するZnO 原料の混入は避けた方がよい。
法を採用する場合は、汎用されるモリブデン等の電極と
反応して合金を形成したりするようなことは避けねばな
らず、従って原料バッチ中に清澄剤としてのAs2O3 、Sb
2O3 およびＳ分、硫酸塩（ガラス中に一部SO3 として残
留する) は少量(0.3％以下）に留めるべきである。ま
た、反応性を有するZnO 原料の混入は避けた方がよい。
【００２６】さらにフロート法成形による量産を容易と
し、成形時の窒素および水素等の還元雰囲気下で揮発し
たり、ガラスに着色を与えないようにするために、PbO
、ZnO 等の揮発成分の混入も避けるべきである。
し、成形時の窒素および水素等の還元雰囲気下で揮発し
たり、ガラスに着色を与えないようにするために、PbO
、ZnO 等の揮発成分の混入も避けるべきである。
【００２７】本発明においては、ガラス比重を 2.6以
下、好ましくは2.58以下としたことにより、大サイズ化
しつつあるＰＤＰ等の表示装置の軽量化、取扱容易性を
高め、ガラスの歪点を 580℃以上としたことにより、50
0 ℃を越える各種繰返し熱処理に対しても基板ガラスが
歪んだりすることがなく、また熱膨張率 (室温〜300
℃) を80×10-7／℃以上としたことにより、厚膜等との
熱膨張率差を僅少、又はなくし、それらとの密着性を良
好としたガラスが得られ、特にＰＤＰ用基板として好適
である。
下、好ましくは2.58以下としたことにより、大サイズ化
しつつあるＰＤＰ等の表示装置の軽量化、取扱容易性を
高め、ガラスの歪点を 580℃以上としたことにより、50
0 ℃を越える各種繰返し熱処理に対しても基板ガラスが
歪んだりすることがなく、また熱膨張率 (室温〜300
℃) を80×10-7／℃以上としたことにより、厚膜等との
熱膨張率差を僅少、又はなくし、それらとの密着性を良
好としたガラスが得られ、特にＰＤＰ用基板として好適
である。
【００２８】
【実施例】珪砂、水酸化アルミニウム、無水硼酸、炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸ス
トロンチウム、ジルコン砂、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、フッ化カルシウムおよび硝酸バリ
ウムよりなる調合原料を白金製耐火坩堝に充填し電気炉
内で1500℃、約 4時間加熱溶融した。次に溶融ガラスを
鋳型に流し込み、約 200mm□×35mm厚の大きさのガラス
ブロックとし、 630℃に保持した電気炉に移入して該炉
内で徐冷した。
マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸ス
トロンチウム、ジルコン砂、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、フッ化カルシウムおよび硝酸バリ
ウムよりなる調合原料を白金製耐火坩堝に充填し電気炉
内で1500℃、約 4時間加熱溶融した。次に溶融ガラスを
鋳型に流し込み、約 200mm□×35mm厚の大きさのガラス
ブロックとし、 630℃に保持した電気炉に移入して該炉
内で徐冷した。
【００２９】原料調合に基づくガラス (酸化物) 組成を
表１、表２に示す。なおいずれのケースにおいても、Ca
F2のかたちで導入されるF 分、Ba(NO3)2のかたちで導入
されるNO3 分についてはガラス酸化物組成計100 wt％に
対する外挿添加・導入量 (wt％) としてF 0.2 ％、NO3
0.3 ％と共通とした。
表１、表２に示す。なおいずれのケースにおいても、Ca
F2のかたちで導入されるF 分、Ba(NO3)2のかたちで導入
されるNO3 分についてはガラス酸化物組成計100 wt％に
対する外挿添加・導入量 (wt％) としてF 0.2 ％、NO3
0.3 ％と共通とした。
【００３０】これらのガラス試料について、室温〜 300
℃における平均熱膨張率（ X10-7／℃) 、歪点 (ガラス
が粘度1014.5ポイズを示す温度) 、転移点（熱膨張率測
定に際する温度−膨張量勾配の変化 <転移> 点）、成形
温度 (ガラスが粘度104 ポイズを示す温度）、およびガ
ラス比重を測定した。それらの結果を表１（実施例）、
表２（実施例、比較例）に示す。
℃における平均熱膨張率（ X10-7／℃) 、歪点 (ガラス
が粘度1014.5ポイズを示す温度) 、転移点（熱膨張率測
定に際する温度−膨張量勾配の変化 <転移> 点）、成形
温度 (ガラスが粘度104 ポイズを示す温度）、およびガ
ラス比重を測定した。それらの結果を表１（実施例）、
表２（実施例、比較例）に示す。
【００３１】 〔表１・実施例〕 実 施 例 (wt%) １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ SiO2 61.0 62.0 61.4 63.3 63.0 61.2 61.5 61.3 Al2O3 12.5 13.0 10.1 10.3 10.5 11.2 9.5 9.7B2O3 0 0 0 0 0 0 0 1.3 小計 73.5 75 71.5 73.6 73.5 72.4 71.0 72.3 Li2O 0 0 0 0 0 0 0 0 Na2O 8.2 8.0 7.2 8.8 7.2 8.1 8.0 7.6K2O 4.6 4.0 3.8 2.7 4.3 4.4 4.5 4.5 小計 12.8 12 11 11.5 11.5 12.5 12.5 12.3 MgO 2.5 2.0 1.5 0 1 2.2 2.0 2.2 CaO 6.8 7.0 7.0 8.0 6.6 7.6 7.5 8.0 SrO 0 0 0 0 0 0 0 0 BaO 2.0 2.0 6.0 5.4 6.0 4.3 4.5 3.0 小計 11.3 11 14.5 13.4 13.6 14.1 14.0 13.2 ZrO2 2.4 2 3.0 1.5 1.4 1.0 2.5 2.2 熱膨張率 84 81 80 80 81 84 83 81 歪点 592 602 591 596 601 595 598 591 転移点 627 632 635 627 632 628 623 625 成形温度 1172 1196 1196 1159 1161 1148 1135 1137 比重 2.57 2.55 2.58 2.58 2.57 2.57 2.59 2.59
【００３２】 〔表２・実施例、比較例〕 実 施 例 比 較 例 (wt%) ９ 10 11 12 １ ２ ３ ４ SiO2 62.8 62.2 63.5 62.1 65.0 61.5 54.0 57.7 Al2O3 9.7 9.6 10.5 9.6 12.0 16.8 9.0 6.5 B2O3 0 0 0 0 0 0 0 0 小計 72.5 71.8 74.0 71.7 77 78.3 63 64.2 Li2O 1.0 0.6 0 0 0 0 0 0 Na2O 8.2 8.2 8.7 8.1 7.0 12.4 4.0 4.5 K2O 1.6 3.0 4.8 4.5 2.0 3.5 9.0 6.6 小計 10.8 11.8 13.5 12.6 9.0 15.9 13 11.1 MgO 2.0 2.0 1.7 2.0 4.0 3.4 3.0 1.8 CaO 7.7 7.5 6.1 7.6 8.0 0.4 7.7 5.1 SrO 0 0 2.0 1.6 0 0 0 7.0 BaO 4.5 4.5 1.5 2.1 0 2.0 9.6 7.8 小計 14.2 14.0 11.3 13.3 12 5.8 20.3 21.7 ZrO2 2.5 2.4 1.2 2.5 2.0 0 3.7 3.0 熱膨張率 80 81 84 83 72 88 85 81 歪点 600 593 588 585 631 576 603 581 転移点 632 628 621 626 670 616 637 627 成形温度1155 1150 1160 1140 1225 1260 1129 1135 比重 2.58 2.58 2.57 2.58 2.52 2.46 2.74 2.77
【００３３】表１、表２中実施例NO.1〜NO.12 は本発明
におけるガラスであり、製作過程における溶融、清澄性
とも良好であり、ガラスの歪点は580 ℃以上で耐熱性が
良好である。熱膨張率も80×10-7／℃以上で電極や厚膜
との熱膨張率に近似している。またガラス比重を 2.6以
下としたことにより、大サイズ化しつつあるＰＤＰ等の
表示装置の軽量化、取扱容易性を高めることができる。
更に、表示しないが体積抵抗率も109 Ω.cm 以上で電気
絶縁性に優れ、表示装置用基板ガラス、殊にＰＤＰ用の
基板ガラスとして好適である。
におけるガラスであり、製作過程における溶融、清澄性
とも良好であり、ガラスの歪点は580 ℃以上で耐熱性が
良好である。熱膨張率も80×10-7／℃以上で電極や厚膜
との熱膨張率に近似している。またガラス比重を 2.6以
下としたことにより、大サイズ化しつつあるＰＤＰ等の
表示装置の軽量化、取扱容易性を高めることができる。
更に、表示しないが体積抵抗率も109 Ω.cm 以上で電気
絶縁性に優れ、表示装置用基板ガラス、殊にＰＤＰ用の
基板ガラスとして好適である。
【００３４】
【発明の効果】本発明のガラスは、ガラスの熱膨張率、
歪点、ガラス比重等の点で表示装置用基板ガラス、特に
ＰＤＰ用の基板ガラスとして好適であり、またガラスの
溶融性も良好で、直接通電法による溶融性およびフロー
ト法による成形性に適し、均質なガラスを連続的に低い
コストで製造することができ、量産に適するという効果
を奏する。
歪点、ガラス比重等の点で表示装置用基板ガラス、特に
ＰＤＰ用の基板ガラスとして好適であり、またガラスの
溶融性も良好で、直接通電法による溶融性およびフロー
ト法による成形性に適し、均質なガラスを連続的に低い
コストで製造することができ、量産に適するという効果
を奏する。
Claims (2)
- 【請求項１】wt％で、SiO2 61〜65、Al2O3 ９〜14、B2
O3 ０〜５、SiO2＋Al2O3＋B2O370〜76、MgO ０〜５、C
aO ４〜10、SrO ０〜５、BaO １〜８、MgO ＋CaO ＋Sr0
＋BaO 10〜16、Li2O ０〜３、Na2O ６〜10、K2O １〜
５、Li2O＋Na2O＋K2O９〜14、およびZrO2 1.0〜3.5 の
範囲で含有し、ガラス比重が 2.6以下であることを特徴
とするディスプレイ装置用基板ガラス。 - 【請求項２】ガラスの歪点が 580℃以上、室温から 300
℃における熱膨張率が80×10-7／℃以上であることを特
徴とする請求項１記載のディスプレイ装置用基板ガラ
ス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26554597A JP3741526B2 (ja) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | ディスプレイ装置用基板ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26554597A JP3741526B2 (ja) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | ディスプレイ装置用基板ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11100226A true JPH11100226A (ja) | 1999-04-13 |
| JP3741526B2 JP3741526B2 (ja) | 2006-02-01 |
Family
ID=17418614
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26554597A Expired - Fee Related JP3741526B2 (ja) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | ディスプレイ装置用基板ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3741526B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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