JPH11106043A - Wafer transfer device - Google Patents
Wafer transfer deviceInfo
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- JPH11106043A JPH11106043A JP27585097A JP27585097A JPH11106043A JP H11106043 A JPH11106043 A JP H11106043A JP 27585097 A JP27585097 A JP 27585097A JP 27585097 A JP27585097 A JP 27585097A JP H11106043 A JPH11106043 A JP H11106043A
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- wafer
- optical sensor
- cassette
- light
- sensor
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】カセット内のウエハ位置を光センサを用いて検
出している場合には、平均寿命以外の要因で光センサの
動作保証期間以内に光量低下が生じウエハの位置検出が
できなくなることがある。
【解決手段】センサ機構の上昇経路途中、かつセンサに
よるウエハ検出前の位置に、光センサの光軸を遮断する
減光フィルタを設け、減光フィルタを通過する光センサ
の光量に基づき光センサの消耗(劣化)度合を判断す
る。消耗(劣化)度合に応じて交換時期を判断する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] When a wafer position in a cassette is detected using an optical sensor, a light quantity decreases within an operation guarantee period of the optical sensor due to factors other than the average life, and the wafer position is detected. May not be possible. A light-reducing filter that interrupts the optical axis of the optical sensor is provided in the middle of the ascending path of the sensor mechanism and before the wafer is detected by the sensor. The degree of wear (deterioration) is determined. The replacement time is determined according to the degree of wear (deterioration).
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造設備の
ウエハ搬送装置に係わり、特にウエハを収納する収納容
器内のウエハの位置やウエハの有無を検出するウエハ検
出装置を備えたウエハ搬送装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transfer device of a semiconductor manufacturing facility, and more particularly to a wafer transfer device provided with a wafer detection device for detecting the position of a wafer in a storage container for storing the wafer and the presence or absence of the wafer. .
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造設備においては、本来の処理
を行う処理装置(例えばウエハにプラズマエッチング等
の処理を行う基板処理装置)の外部にウエハの搬出入を
行う搬出入部が設けてある。図5に搬出入部の概略レイ
アウトを示す。2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing facility, a carry-in / out section for carrying in / out a wafer is provided outside a processing apparatus for performing an essential process (for example, a substrate processing apparatus for performing a process such as plasma etching on a wafer). FIG. 5 shows a schematic layout of the carry-in / out section.
【0003】図5に示すように、基板処理装置1の外部
にウエハ搬送部2が設けてある。ウエハ搬送部2は、ウ
エハ3を収納するカセット4(収納容器)を載置する複
数のカセット載置台5と、ウエハ3の偏心量を検出し位
置合わせを行うセンタリングユニット6を設けたウエハ
待機部2aと、ウエハ3を搬送する搬送ロボット8が移
動する中継部2bとを含む。カセット載置台5が位置す
るウエハ待機部2aにはセンサ昇降孔7a,7bが設け
てある。中継部2bは、基板処理装置1とウエハ待機部
2aとの間にある。中継部2bに位置する搬送ロボット
8は、各カセット載置台5とセンタリングユニット6と
の間を横方向に移動可能であり、またカセット4内の最
下部から最上部まで上下動可能な構造を有している。搬
送ロボット8の動作はコントローラ9により制御されて
いる。As shown in FIG. 5, a wafer transfer section 2 is provided outside a substrate processing apparatus 1. The wafer transfer unit 2 includes a plurality of cassette mounting tables 5 on which a cassette 4 (storage container) storing the wafer 3 is mounted, and a centering unit 6 provided with a centering unit 6 for detecting an eccentric amount of the wafer 3 and performing alignment. 2a and a relay unit 2b on which a transfer robot 8 for transferring the wafer 3 moves. In the wafer standby section 2a where the cassette mounting table 5 is located, sensor elevating holes 7a and 7b are provided. The relay unit 2b is between the substrate processing apparatus 1 and the wafer standby unit 2a. The transfer robot 8 located at the relay section 2b has a structure capable of moving horizontally between each cassette mounting table 5 and the centering unit 6 and moving up and down from the lowermost part to the uppermost part in the cassette 4. doing. The operation of the transfer robot 8 is controlled by the controller 9.
【0004】搬送ロボット8は基板処理装置1に面した
カセット4の前面に移動してウエハ3を取り出し、セン
タリングユニット6に搬送する。センタリングユニット
6で中心位置合せを行ったウエハ3は、再び搬送ロボッ
ト8が取り出し搬入口1aから基板処理装置1内に搬送
する。また、基板処理装置1において処理が終了したウ
エハ3は搬出口1bから搬送ロボット8が取り出し、カ
セット内の元の位置に収納する。The transfer robot 8 moves to the front of the cassette 4 facing the substrate processing apparatus 1, takes out the wafer 3, and transfers it to the centering unit 6. The transfer robot 8 takes out the wafer 3 whose center has been aligned by the centering unit 6 again, and transfers it to the substrate processing apparatus 1 from the loading port 1a. Further, the transfer robot 8 takes out the processed wafer 3 from the carry-out port 1b in the substrate processing apparatus 1 and stores it at the original position in the cassette.
【0005】カセット4は内側周縁に設けた溝によりウ
エハ径に応じた所定の上下方向間隔でウエハ3を水平に
収納している。搬送ロボット8は例えばU字型のハンド
先端部をカセット4内のウエハ間に挿入し、ハンド上に
ウエハ3を保持してカセット4内から取り出す。カセッ
ト4の内側に設けた溝は周縁部に若干ゆとりを持ってウ
エハ3を収納するように設けられているため、ウエハ3
は厳密に水平に収納されているとはいえず、前工程での
収納状態によってはカセット前面(搬送ロボット8に対
向する側)から見て若干斜めに収納されているものもあ
る。すなわち、ウエハ同士の間隔は厳密に一定ではな
い。搬送ロボット8がウエハ3を破損することなくウエ
ハ間にハンドを挿入するためには、個々のカセット4に
おけるウエハ3の収納位置を検出する必要がある。カセ
ット4内のウエハ位置を検出するウエハ検出装置の概略
を以下説明する。The cassette 4 horizontally stores the wafers 3 at predetermined vertical intervals according to the diameter of the wafers by grooves provided on the inner peripheral edge. The transfer robot 8 inserts, for example, a U-shaped hand tip between the wafers in the cassette 4, holds the wafer 3 on the hand, and removes the wafer 3 from the cassette 4. Since the groove provided inside the cassette 4 is provided so as to accommodate the wafer 3 with a margin in the peripheral portion, the wafer 3
Are not strictly stored horizontally, and may be stored slightly obliquely when viewed from the front of the cassette (the side facing the transfer robot 8) depending on the storage state in the previous process. That is, the interval between the wafers is not strictly constant. In order for the transfer robot 8 to insert the hand between the wafers 3 without damaging the wafers 3, it is necessary to detect the storage positions of the wafers 3 in the individual cassettes 4. An outline of a wafer detection device for detecting a wafer position in the cassette 4 will be described below.
【0006】図6はカセット載置台下部に設けたウエハ
検出装置の概略図である。図6に示すように、カセット
載置台5はウエハ待機部2aの底部11a及び壁部11
bにより固定して保持されている。底部11aにはボー
ルネジ12が設けてある。ボールネジ12の下端に設け
たプーリ13はベルト14によってプーリ15,16と
連動している。プーリ15,16にはそれぞれエンコー
ダ17、モータ18が設けてある。ウエハ待機部2aの
壁部11bにはガイドレール19が垂直方向に設けてあ
り、ガイドレール19には上下移動可能なガイド20が
結合されている。ガイド20の他端にはプレート21が
固定してある。ガイド20をボールネジ12が貫通して
いる。プレート21の端にはプレート22,23が固定
して設けてあり、プレート22とプレート23の上端に
はそれぞれ発光側素子24と受光側素子25が対向して
設けてある。以下、発光側素子24と受光側素子25を
合わせて光センサと呼ぶ。FIG. 6 is a schematic view of a wafer detecting device provided below the cassette mounting table. As shown in FIG. 6, the cassette mounting table 5 has a bottom portion 11a and a wall portion 11 of the wafer standby portion 2a.
It is fixed and held by b. A ball screw 12 is provided on the bottom 11a. A pulley 13 provided at a lower end of the ball screw 12 is linked with pulleys 15 and 16 by a belt 14. The pulleys 15 and 16 are provided with an encoder 17 and a motor 18, respectively. A guide rail 19 is provided on the wall 11b of the wafer standby section 2a in a vertical direction, and a guide 20 that can move up and down is connected to the guide rail 19. A plate 21 is fixed to the other end of the guide 20. The ball screw 12 passes through the guide 20. Plates 22 and 23 are fixedly provided at an end of the plate 21, and a light-emitting element 24 and a light-receiving element 25 are provided at upper ends of the plates 22 and 23 so as to face each other. Hereinafter, the light emitting side element 24 and the light receiving side element 25 are collectively called an optical sensor.
【0007】図5に示すコントローラ9によりモータ1
8を駆動すると、プーリ16とベルト14を介してボー
ルネジ12が回転し、ガイド20がガイドレール19に
沿って上下動する。すると、ガイド20により固定保持
されているプレート21,22,23(以下、センサ保
持機構とする)が上下動する。センサ保持機構が上昇す
るとプレート22に設けた発光側素子24はセンサ昇降
孔7a(図5)からウエハ待機部2a上面に突出する。
プレート23に設けた受光側素子25も同様にセンサ昇
降孔7bからウエハ待機部2a上面に突出する。プレー
ト22,23に設けた光センサの光軸のカセット載置台
5に対する位置(高さ)はエンコーダ17からの出力信
号により算出することができる。光センサとセンサ保持
機構とを併せてセンサ機構と呼ぶ。The motor 1 is controlled by the controller 9 shown in FIG.
When the drive 8 is driven, the ball screw 12 rotates via the pulley 16 and the belt 14, and the guide 20 moves up and down along the guide rail 19. Then, the plates 21, 22, and 23 (hereinafter, referred to as a sensor holding mechanism) fixed and held by the guide 20 move up and down. When the sensor holding mechanism rises, the light emitting side element 24 provided on the plate 22 projects from the sensor elevating hole 7a (FIG. 5) to the upper surface of the wafer standby part 2a.
Similarly, the light receiving side element 25 provided on the plate 23 projects from the sensor elevating hole 7b to the upper surface of the wafer standby unit 2a. The position (height) of the optical axis of the optical sensor provided on the plates 22 and 23 with respect to the cassette mounting table 5 can be calculated from an output signal from the encoder 17. The optical sensor and the sensor holding mechanism are collectively called a sensor mechanism.
【0008】図7は図5及び図6に示す従来例における
ウエハ検出装置において、センサ機構の出力信号に基づ
いてウエハ位置を検出するための各部の信号波形図であ
る。なお、図6においては光センサを複数(2組)設け
ており光軸も2本となっているが、説明の便宜上、光軸
を1本として説明を簡略化する。FIG. 7 is a signal waveform diagram of each section for detecting a wafer position based on an output signal of a sensor mechanism in the conventional wafer detecting device shown in FIGS. 5 and 6. In FIG. 6, a plurality (two sets) of optical sensors are provided and the number of optical axes is also two. However, for convenience of explanation, the description will be simplified by using one optical axis.
【0009】図7に示すように、センサ保持機構の上昇
基準位置をモータ18の駆動原点とし、モータ18の駆
動に応じて得られるエンコーダの出力信号(ON,OF
F)から、上昇基準位置に対するセンサ保持機構の位置
を得ることができる。また、センサ機構の光センサ出力
信号は、受光及び遮光の状態を示す。光センサ出力信号
からカセット載置台5の下面及び上面位置とカセット4
に保持したウエハ位置を知ることができる。図では、光
センサ出力信号を反転してウエハ位置信号を得ている。
従ってコントローラ9においては、ウエハ位置信号を用
いてウエハ位置検出や、ウエハ枚数、ウエハの有無の検
出等を行うことができる。[0009] As shown in FIG. 7, the reference position of the sensor holding mechanism is set as the drive origin of the motor 18, and the output signals (ON, OF) of the encoder obtained according to the drive of the motor 18 are obtained.
From F), the position of the sensor holding mechanism with respect to the ascending reference position can be obtained. The optical sensor output signal of the sensor mechanism indicates the state of light reception and light shielding. The lower and upper positions of the cassette mounting table 5 and the cassette 4
The position of the wafer held in the memory can be known. In the figure, the wafer position signal is obtained by inverting the optical sensor output signal.
Therefore, the controller 9 can detect the wafer position, the number of wafers, and the presence / absence of wafers by using the wafer position signal.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】上記のような透過式光
センサを用いてウエハ位置を検出する場合には、光セン
サの光軸のウエハによる物理的な遮断状況を受光側素子
の出力により判断する。反射式を用いた場合でも、やは
りウエハにより反射した光を受光側素子により検出す
る。光センサの種類に関らず発光側素子、受光側素子が
正常に動作することがウエハ位置検出のためには必要不
可欠である。しかしながら、光センサ、特に発光側素子
は何らかの原因によってその性質が低下することがあ
る。When the position of a wafer is detected by using the above-mentioned transmission type optical sensor, the physical interruption of the optical axis of the optical sensor by the wafer is determined by the output of the light receiving element. I do. Even when the reflection type is used, the light reflected by the wafer is detected by the light receiving element. It is indispensable for the light emitting side element and the light receiving side element to operate normally regardless of the type of the optical sensor in order to detect the wafer position. However, the properties of the optical sensor, particularly the light emitting element, may be degraded for some reason.
【0011】たとえば、発光側素子の光量低下により光
センサが正常に動作せずウエハの位置検出ができない場
合がある。この場合搬送ロボットは停止せざるを得ず、
基板処理装置へのウエハの搬入が停止するため工程が中
断してしまう。平均寿命による光量不足に対しては定期
的に光センサを交換することにより対応可能である。し
かし、電気的過負荷や静電気、温度、湿度、機械的なス
トレス等がある場合、光センサの性質がこれらにより平
均寿命より早期に劣化する。光センサの使用環境によっ
ては寿命期間内(動作保証期限内)であっても光量低下
が生じることがある。For example, there is a case where the optical sensor does not operate normally and the position of the wafer cannot be detected due to a decrease in the light quantity of the light emitting side element. In this case, the transfer robot has to stop,
Since the loading of the wafer into the substrate processing apparatus is stopped, the process is interrupted. The light quantity shortage due to the average life can be dealt with by periodically replacing the optical sensor. However, when there is an electrical overload, static electricity, temperature, humidity, mechanical stress, or the like, the properties of the optical sensor deteriorate earlier than the average life. Depending on the environment in which the optical sensor is used, the amount of light may be reduced even within the life period (within the operation guarantee period).
【0012】本発明の目的は、カセット等の収納容器に
収納されたウエハの位置検出や、ウエハ枚数あるいはウ
エハの有無の検出を行う光センサの故障(異常)を自動
的に検出することができるウエハ搬送装置を提供するこ
とにある。An object of the present invention is to automatically detect a failure (abnormality) of an optical sensor that detects the position of a wafer stored in a storage container such as a cassette or the number of wafers or the presence or absence of a wafer. An object of the present invention is to provide a wafer transfer device.
【0013】本発明の他の目的は、光センサの消耗(劣
化)度合に応じて交換時期を判断する制御手段を備えた
ウエハ搬送装置を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a wafer transfer apparatus provided with a control means for judging replacement time according to the degree of wear (deterioration) of the optical sensor.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の特徴とするところは、ウエハを収納する収納
容器を上部に載置する載置台と、該収納容器からウエハ
を搬出入するロボットハンドと、該収納容器内のウエハ
を検出するための光センサを有するセンサ機構と、載置
台の下方から収納容器の上面までセンサ機構を上下動す
る駆動機構とを有し、センサ機構の上下動により光セン
サが上下動し収納容器内のウエハ位置を検出するウエハ
検出手段とを有しているウエハ搬送装置において、該セ
ンサ機構の上昇途中ウエハ検出前の位置に、該光センサ
の光軸を遮断する箇所に設けた減光フィルタと、該減光
フィルタを通過した光の光センサ出力に基づき光センサ
の消耗(劣化)度合を判断し、消耗(劣化)度合に応じ
て交換時期を判断する機能を有する制御手段とを設けた
ことにある。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention is characterized by a mounting table on which a storage container for storing a wafer is mounted, and a loading / unloading of the wafer from the storage container. A robot hand, a sensor mechanism having an optical sensor for detecting a wafer in the storage container, and a drive mechanism for vertically moving the sensor mechanism from below the mounting table to the upper surface of the storage container; A wafer detecting means for detecting the position of a wafer in the storage container by moving the optical sensor up and down by the movement of the optical sensor. A light-reducing filter provided at a location where light is blocked, and the degree of wear (deterioration) of the optical sensor is determined based on the output of the light sensor of the light passing through the light-reducing filter, and the replacement time is determined according to the degree of wear (deterioration). In providing the control unit with that function.
【0015】本発明の他の特徴とするところは、上記制
御手段が、減光フィルタを通過した光の光センサ出力に
基づき収納容器に収納したウエハ全数を検出可能か否か
判断するとともに、ウエハ全数を検出できない場合に光
センサの交換を判断する機能を有することにある。Another feature of the present invention is that the control means determines whether or not the total number of wafers stored in the storage container can be detected based on the optical sensor output of the light passing through the neutral density filter, and Another object of the present invention is to have a function of determining replacement of an optical sensor when the total number cannot be detected.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】図1乃至図4を用いて本発明の一
実施形態によるウエハ搬送装置を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A wafer transfer apparatus according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
【0017】図1は本実施例におけるウエハ搬送装置の
カセット載置台下部の一例を示す図であり、図6に示す
従来例と同一部分には同一符号を付け説明は省略する。FIG. 1 is a view showing an example of a lower portion of a cassette mounting table of a wafer transfer apparatus according to the present embodiment, and the same parts as those of the conventional example shown in FIG.
【0018】図2は本実施形態における各部の信号波形
図である。従来例と同様に図1においては光センサを複
数(2組)設けて光軸も2本となっているが、説明の便
宜上、光軸を1本として説明を簡略化する。FIG. 2 is a signal waveform diagram of each part in the present embodiment. As in the conventional example, in FIG. 1, a plurality of (two sets) optical sensors are provided and the number of optical axes is also two. However, for convenience of explanation, the description is simplified by using one optical axis.
【0019】図1に示すように、カセット載置台5の下
部であって光センサの上下動開始位置より上方に減光フ
ィルタ30がセンサ機構の移動経路に沿って数種類設け
てある。本実施例では、例えば、減光率60%,40
%,20%のフィルタ31,32,33を縦方向に設け
ている。減光フィルタ30における数値はフィルタ通過
後の光量の減少率を示しており、減光率60%のフィル
タ31を通過すると光量が60%減少し、フィルタ通過
前の光量を100とした場合には通過後の光量が40に
なることを示している。減光率の数値が大きいほどフィ
ルタ通過後の光量が減少する。As shown in FIG. 1, several types of neutral density filters 30 are provided below the cassette mounting table 5 and above the vertical movement start position of the optical sensor along the movement path of the sensor mechanism. In this embodiment, for example, the dimming rate is 60%,
%, 20% filters 31, 32, 33 are provided in the vertical direction. The numerical value in the neutral density filter 30 indicates the rate of decrease in the amount of light after passing through the filter. The amount of light decreases by 60% when the light passes through the filter 31 with the neutral density of 60%. This shows that the light amount after passing is 40. The larger the numerical value of the extinction ratio, the smaller the amount of light after passing through the filter.
【0020】従来例と同様に上昇基準位置を駆動原点と
してセンサ保持機構(プレート21,22,23)が上
昇すると、プレート22,23に設けた光センサの光軸
が、まず減光率60%のフィルタ31を通過し、次いで
減光率40%のフィルタ32,減光率20%のフィルタ
33の順に通過する。更に、センサ保持機構が上昇する
と、カセット載置台5の端面により光軸が遮断された
後、カセット載置台5上方において図示を省略したカセ
ット4内のウエハ位置を検出する。図1はカセット載置
台5上方までセンサ保持機構が上昇した状態を示してい
る。When the sensor holding mechanism (plates 21, 22, 23) ascends with the ascending reference position as the drive origin, as in the conventional example, the optical axes of the optical sensors provided on the plates 22, 23 first cause the dimming rate to be 60%. Then, the light passes through a filter 32 having a light reduction rate of 40% and a filter 33 having a light reduction rate of 20% in this order. Further, when the sensor holding mechanism is raised, the optical axis is blocked by the end face of the cassette mounting table 5, and then the wafer position in the cassette 4 (not shown) is detected above the cassette mounting table 5. FIG. 1 shows a state in which the sensor holding mechanism has risen to above the cassette mounting table 5.
【0021】以下、最も性能劣化が生じ易い発光側素子
の性能を確認しつつ、ウエハの位置検出を行う手順を説
明する。光センサは受光側素子の出力信号が閾値より上
であればON、下であればOFFの2値信号を出力する
ものとする。発光側素子24の発光量が正常である場
合、光軸がフィルタ30を通過していてもカセット載置
台5端面により遮光されるまでの光センサ出力信号は常
時ONである。しかし、発光側素子24の発光量が何ら
かの原因で低下していると、例えば図2に示すように、
光センサ出力信号が減光率60%のフィルタ31通過時
にOFFとなる。若干の発光量低下であれば減光率40
%のフィルタ32と減光率20%のフィルタ33通過時
には光センサ出力信号はONとなる。すなわち、受光側
素子25により受光はできるが発光側素子24の発光量
が低下していることがわかる。Hereinafter, a procedure for detecting the position of the wafer while confirming the performance of the light emitting side element where the performance is most likely to deteriorate will be described. It is assumed that the optical sensor outputs a binary signal of ON when the output signal of the light receiving side element is above the threshold value and OFF when the output signal is below the threshold value. When the light emission amount of the light emitting side element 24 is normal, the optical sensor output signal is always ON until the light is shielded by the end surface of the cassette mounting table 5 even if the optical axis passes through the filter 30. However, if the light emission amount of the light emitting side element 24 is reduced for some reason, for example, as shown in FIG.
It is turned off when the output signal of the optical sensor passes through the filter 31 having the dimming rate of 60%. If the amount of light emission is slightly reduced, the dimming rate is 40
The optical sensor output signal is turned on when the light passes through the% filter 32 and the filter 33 with the extinction ratio of 20%. That is, it can be seen that light can be received by the light receiving side element 25, but the light emission amount of the light emitting side element 24 is reduced.
【0022】図3及び図4を用いて図1及び図2に示す
実施形態におけるコントローラにおける制御内容を説明
する。The control contents of the controller in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIGS. 3 and 4.
【0023】あらかじめカセット載置台5にはカセット
載置台5の個数(ここでは3ケ)に応じて番地番号を1
から付与してあり、コントローラは個々のカセット載置
台5に応じて以下の処理を並行して行う。説明の便宜
上、カセット載置台5の番地番号1を例に取り説明す
る。また、図中の符号Sはステップの略であり符号「S
1」はステップ1を示している。An address number of 1 is set in advance on the cassette mounting table 5 in accordance with the number of the cassette mounting tables 5 (here, three).
The controller performs the following processes in parallel according to the individual cassette mounting tables 5. For convenience of explanation, an explanation will be given taking the address number 1 of the cassette mounting table 5 as an example. In addition, the symbol S in the figure is an abbreviation of a step, and the symbol “S
"1" indicates step 1.
【0024】まず、「START」で番地番号1を選択
し、ステップ1で次カセット情報「NEXT」に1を代
入する。次カセット情報「NEXT」が1の場合はカセ
ット載置台5にカセット4が載置可能なことを示してい
る。ステップ2において「NEXT=1」、すなわち次
カセット載置可能かどうか判別し、可能であればステッ
プ3に進む。First, address number 1 is selected in "START", and 1 is substituted in next cassette information "NEXT" in step 1. When the next cassette information “NEXT” is 1, it indicates that the cassette 4 can be mounted on the cassette mounting table 5. In step 2, it is determined whether “NEXT = 1”, that is, whether or not the next cassette can be placed.
【0025】ステップ3において、作業対象とするカセ
ット載置台5の番地番号1を格納し、該当する番地番号
のモータ18つまり作業対象のカセット載置台5のモー
タ18を駆動する。モータ18の駆動により駆動原点で
ある上昇基準位置からセンサ機構が上昇する。ステップ
4で光センサがカセット載置台5下面まで上昇する。こ
の間に光センサの光ビームは減光フィルタを通過する。
ステップ5において減光率60%のフィルタ31通過時
の光センサ出力信号がONかどうか判別する。通過後の
光量が最も少ないフィルタ31通過時点でONだった場
合には、光センサは正常に動作していると判断し、Yの
矢印に従ってステップ6に進み次カセット情報「NEX
T」に1を代入する。In step 3, the address number 1 of the cassette mounting table 5 to be worked is stored, and the motor 18 of the corresponding address number, that is, the motor 18 of the cassette mounting table 5 to be worked is driven. The driving of the motor 18 causes the sensor mechanism to move up from the ascending reference position which is the driving origin. In step 4, the optical sensor moves up to the lower surface of the cassette mounting table 5. During this time, the light beam of the optical sensor passes through the neutral density filter.
In step 5, it is determined whether or not the optical sensor output signal at the time of passing through the filter 31 having the dimming rate of 60% is ON. If the optical sensor is ON at the time of passing through the filter 31 having the smallest light amount after passing, it is determined that the optical sensor is operating normally, and the process proceeds to step 6 according to the arrow Y, and the next cassette information “NEX”
Substitute 1 for "T".
【0026】次いでステップ7に進み、カセットを作業
対象のカセット載置台に載せ、ステップ8に進む。ステ
ップ8では、更にモータ18を駆動してカセット載置台
5下面及び上面位置、続いて下段から1枚目、2枚目の
順にウエハ3の位置を検出する。センサ機構は載置した
カセット4の最上段まで上昇してカセット4に収納した
全てのウエハ位置を検出した後で、駆動原点である上昇
基準位置まで下降する。センサ機構が駆動原点に戻ると
ステップ9において搬送ロボット8の動作制御を行う。
ステップ9における搬送ロボット8の動作制御は従来例
と同様であり本発明とは直接関係が無いため詳細な説明
は省略する。ステップ10においてカセット4に収納さ
れたウエハ全ての処理が終了すると、カセット単位の処
理が終了したと判断してステップ11において図示しな
い前工程からの処理待ち、つまり未作業のカセットが待
機しているか判別する。未作業のカセットが無ければ一
連の処理を終了する(「END」に進む)。未作業のカ
セットがある場合にはステップ2に戻る。Next, the process proceeds to step 7, where the cassette is placed on the cassette mounting table to be worked, and then to step 8. In step 8, the motor 18 is further driven to detect the positions of the lower surface and the upper surface of the cassette mounting table 5, and subsequently, the positions of the first and second wafers 3 from the bottom. The sensor mechanism moves up to the uppermost stage of the loaded cassette 4 and detects all the wafer positions stored in the cassette 4, and then moves down to the ascending reference position which is the driving origin. When the sensor mechanism returns to the driving origin, the operation of the transfer robot 8 is controlled in step 9.
The operation control of the transfer robot 8 in the step 9 is the same as that of the conventional example, and has no direct relation to the present invention, so that the detailed description is omitted. When the processing of all the wafers stored in the cassette 4 is completed in step 10, it is determined that the processing in units of cassettes has been completed, and in step 11, processing from a previous process (not shown) is awaited. Determine. If there are no unprocessed cassettes, a series of processing ends (proceeding to "END"). If there is an unprocessed cassette, the process returns to step 2.
【0027】未作業のカセットがあった場合、ステップ
2からステップ5まで進む。発光側素子24の光量があ
る程度以上低下している場合には、ステップ5において
減光率60%のフィルタ31通過時の出力がOFFにな
り「A」に進む。If there is an unprocessed cassette, the process proceeds from step 2 to step 5. If the light quantity of the light emitting side element 24 has decreased to some extent or more, in step 5, the output when passing through the filter 31 having the dimming rate of 60% is turned off, and the process proceeds to "A".
【0028】「A」以下の内容を図4に示す。ステップ
20において減光率40%のフィルタ32通過時の出力
を判別する。出力がONだった場合には、Yの矢印に従
ってステップ21に進み、減光率20%のフィルタ33
通過時の出力を判別する。ステップ21においても出力
がONだった場合には、発光側素子24の出力が若干低
下しているがウエハ位置検出には影響無い程度の出力低
下であるため、Yの矢印に従ってステップ22で「要交
換」の表示を行いオペレータ(作業者)へ計画点検・保
守の時期を促すと共に、ステップ23で次カセット情報
「NEXT」に1を代入し、次カセット載置が可能であ
る旨を表し「B」すなわち、図3に示すステップ7に戻
る。ステップ11まで進み未作業のカセットが有る場合
には再度ステップ2に戻る。次カセット情報「NEX
T」が1のため、「要交換」の表示はされているが、カ
セットを載置してウエハの処理を行うことはできる。"A" The following contents are shown in FIG. In step 20, the output at the time of passing through the filter 32 having a light reduction rate of 40% is determined. If the output is ON, the process proceeds to step 21 according to the arrow of Y, and the filter 33 having the dimming rate of 20% is used.
Determine the output when passing. If the output is also ON in step 21, the output of the light emitting side element 24 is slightly reduced but the output is low enough not to affect the wafer position detection. "Replacement" is displayed to prompt the operator (operator) for scheduled inspection and maintenance, and "1" is substituted into the next cassette information "NEXT" in step 23 to indicate that the next cassette can be placed. That is, the process returns to step 7 shown in FIG. Proceed to step 11 and return to step 2 again if there is an unprocessed cassette. Next cassette information "NEX
Since "T" is 1, "replacement required" is displayed, but wafers can be processed by mounting a cassette.
【0029】更に発光側素子の発光量低下が進むと、ス
テップ20において減光率40%のフィルタ32通過時
の出力がOFFになり、Nの矢印に従ってステップ31
に進む。ステップ31で「警告:要交換」の表示を行う
と共に警告のためのアラームをならし、ステップ32で
減光率20%のフィルタ33通過時の出力を判別する。
出力がONであった場合には、発光側素子の出力が相当
低下しており1カセット分のウエハ位置検出には影響無
いが、次のカセット分のウエハ位置検出への影響が生じ
る可能性が有ると判断し、Yの矢印に従ってステップ3
3に進み、次カセット情報「NEXT」に0を代入し、
次カセットの載置は不可の旨を表す。その後、「B」す
なわち図3に示すステップ7に戻る。ステップ7乃至ス
テップ11でウエハ位置の検出を行い、現在作業中のカ
セットに収納したウエハに対しては処理を完了するが、
ステップ2に戻った時は次カセット情報「NEXT」が
0のためステップ12に進む。ステップ12では光セン
サを交換済みかどうか判別し、光センサの交換を行って
いなければステップ13に進み、番地番号1のカセット
載置台を作業対象からはずし、番地番号が1以外(ここ
では2及び3)のカセット載置台で処理を行う。光セン
サの交換が終了した場合には番地番号1のカセット載置
台を作業対象に戻してステップ3に戻る。When the light emission amount of the light emitting side element further decreases, the output of the light passing through the filter 32 having the light reduction rate of 40% is turned off in step 20, and according to the arrow N, step 31 is performed.
Proceed to. At step 31, "Warning: Replacement required" is displayed and an alarm for warning is given. At step 32, the output when passing through the filter 33 having a dimming rate of 20% is determined.
When the output is ON, the output of the light emitting side element is considerably reduced and does not affect the wafer position detection for one cassette, but may affect the wafer position detection for the next cassette. It is determined that there is, and step 3 is performed according to the arrow of Y.
Go to 3 and substitute 0 for the next cassette information “NEXT”
This indicates that the next cassette cannot be placed. Thereafter, the process returns to "B", that is, step 7 shown in FIG. In steps 7 to 11, the position of the wafer is detected, and the processing is completed for the wafer stored in the currently working cassette.
When the process returns to step 2, the next cassette information "NEXT" is 0, and the process proceeds to step 12. In step 12, it is determined whether or not the optical sensor has been replaced. If the optical sensor has not been replaced, the process proceeds to step 13, in which the cassette mounting table of address number 1 is removed from the work target, and the address number is other than 1 (here, 2 and 2). The processing is performed on the cassette mounting table of 3). When the replacement of the optical sensor is completed, the cassette mounting table of the address number 1 is returned to the work target, and the process returns to step S3.
【0030】図4に戻る。ステップ32で判別した減光
率20%のフィルタ33通過時の出力がOFFだった場
合にはステップ33に進み、光センサの交換が終了して
いるかどうかを判別する。光センサが交換済みであれば
ステップ23に進み、次カセット情報「NEXT」に1
を代入して図3に示すステップ7に戻る。光センサの交
換が終了していなければ次カセットの載置不可と判断し
てステップ34で次カセット情報「NEXT」に0を代
入し、ウエハの位置は検出せずに「C」すなわち、ステ
ップ2に戻る。Referring back to FIG. If the output at the time of passing through the filter 33 having the dimming rate of 20% determined in step 32 is OFF, the process proceeds to step 33 to determine whether or not the replacement of the optical sensor has been completed. If the optical sensor has been replaced, the process proceeds to step 23, and the next cassette information “NEXT” is set to 1
And returns to step 7 shown in FIG. If the replacement of the optical sensor has not been completed, it is determined that the next cassette cannot be placed, and in step 34, 0 is substituted for the next cassette information "NEXT". Return to
【0031】ステップ2で判別をした結果ステップ12
に進むが、光センサの交換を行っていなければステップ
13に進んで番地番号1のカセット載置台を作業対象か
らはずし、番地番号1以外(ここでは2及び3)のカセ
ット載置台を利用してウエハの搬送処理を行う。As a result of the determination in step 2, step 12
If the optical sensor has not been replaced, the process proceeds to step 13 to remove the cassette mounting table of the address number 1 from the work target and use the cassette mounting tables other than the address number 1 (here, 2 and 3). A wafer transfer process is performed.
【0032】なお、ステップ20において減光率40%
のフィルタ32通過時の出力がONであれば通常はステ
ップ21で減光率20%のフィルタ33の通過後の出力
がOFFになることは無いが、万一出力がOFFであっ
た場合には減光フィルタに何らかの異常が生じていると
判断し、ステップ24でフィルタエラーとしてステップ
25に進む。In step 20, the extinction ratio is 40%.
If the output after passing through the filter 32 is ON, the output after passing through the filter 33 having a dimming rate of 20% will not normally be OFF in step 21, but if the output is OFF, It is determined that some abnormality has occurred in the neutral density filter, and the process proceeds to step 25 as a filter error in step 24.
【0033】ステップ25でフィルタの交換を行ってい
るかどうか判別し、交換済みであればステップ23に進
む。ステップ25でフィルタの交換を行っていなければ
ステップ26で次カセット情報「NEXT」に0を代入
し、ステップCすなわち図3に示すステップ2に戻る。In step 25, it is determined whether or not the filter has been replaced. If the filter has been replaced, the process proceeds to step 23. If the filter has not been replaced in step 25, 0 is substituted for the next cassette information "NEXT" in step 26, and the process returns to step C, that is, step 2 shown in FIG.
【0034】フィルタの交換を行っていなければステッ
プ13で番地番号1のカセット載置台を作業対象からは
ずし、番地番号1以外(ここでは2及び3)のカセット
載置台を利用してウエハの搬送処理を行う。If the filter has not been replaced, the cassette mounting table having the address number 1 is removed from the work in step 13, and the wafer transfer processing is performed using the cassette mounting tables other than the address number 1 (here, 2 and 3). I do.
【0035】ちなみに、本実施形態では、減光フィルタ
を三種類設けて、光センサの光軸が減光率60%のフィ
ルタ31通過時にOFFになった時点で、コントローラ
5が光センサ交換の表示のみを行い、減光率40%のフ
ィルタ32通過時にOFFになった時点で光センサ交換
の表示は行うが1カセットのみ処理を行うものとし、更
に減光率20%のフィルタ33通過時にOFFになった
時点では、カセットを載置せず作業対象からはずすもの
としたが、使用する光センサの種類や耐久度などに応じ
て上記減光率以外のフィルタを用いてもよく、フィルタ
の種類が1種類であっても、更に多くの種類であっても
構わない。In the present embodiment, three types of light-reducing filters are provided, and when the optical axis of the optical sensor is turned off when passing through the filter 31 having a light-reducing rate of 60%, the controller 5 displays the light sensor replacement display. Only when the optical sensor is turned off when passing through the filter 32 with a dimming rate of 40%, the display of the optical sensor replacement is performed, but only one cassette is processed. At that point, the cassette was removed from the work target without placing it.However, a filter other than the above-described light attenuation rate may be used depending on the type and durability of the optical sensor to be used. One type or more types may be used.
【0036】また、減光率60%のフィルタ31通過時
に出力信号がOFFの場合には以下のステップで「要交
換」または「警告:要交換」の表示を行うが、減光率4
0%のフィルタ32通過時に出力信号がOFFの場合
(発光側素子の出力が相当低下しており1カセット分の
ウエハ検出には影響無いが、次のカセット分のウエハ検
出への影響が生じる可能性が有る場合)には、上述した
ようにアラーム(警告音)を発する他に表示を点滅させ
たり、減光率40%のフィルタ33通過時の出力信号が
ONの場合(発光側素子の出力が若干低下しているがウ
エハ検出には影響無い程度の出力低下である場合)に比
べてオペレータ(作業者)の注意を引くようにしてもよ
い。If the output signal is OFF when the light passes through the filter 31 having a light reduction rate of 60%, "replacement required" or "warning: replacement required" is displayed in the following steps.
When the output signal is OFF when passing through the 0% filter 32 (the output of the light emitting side element is considerably reduced and does not affect the wafer detection for one cassette, but may affect the wafer detection for the next cassette. As described above, in addition to generating an alarm (warning sound) as described above, the display is made to blink, or when the output signal when the light passes through the filter 33 with the dimming rate of 40% is ON (the output of the light emitting side element). Is slightly reduced, but the output is reduced so as not to affect the wafer detection).
【0037】また、本実施形態では、減光フィルタをセ
ンサ保持機構の上昇により減光率の高い順に光センサの
光軸が通過するように設けたが、この順番を変えてもよ
い。この場合、必要に応じて図3及び図4に示すステッ
プの順序を適宜変更してもよい。Further, in the present embodiment, the dimming filter is provided so that the optical axis of the optical sensor passes in descending order of the dimming rate due to the elevation of the sensor holding mechanism. However, the order may be changed. In this case, the order of the steps shown in FIGS. 3 and 4 may be changed as needed.
【0038】光センサの出力がON/OFFの2値であ
る場合を説明したが、連続的アナログ出力を発生する光
センサを用いることもできる。この場合は、光センサの
出力をコントローラで適当な閾値と比較し、上述のO
N、OFFに対応する信号を形成すればよい。Although the case where the output of the optical sensor is ON / OFF binary has been described, an optical sensor that generates a continuous analog output may be used. In this case, the output of the optical sensor is compared with an appropriate threshold value by the controller, and the above-described O
Signals corresponding to N and OFF may be formed.
【0039】以上述べたように、本実施形態によれば、
減光フィルタを設けたことによりウエハ位置を検出する
前にカセット載置台に設けた光センサの光量低下を把握
することができるため、光センサの交換表示が出たカセ
ット載置台にはカセットを載置せず、それ以外のカセッ
ト載置台を利用してウエハの搬送処理を行うことができ
る。また、光量低下の度合に応じて光センサの交換表示
が出るため光センサの交換を計画的に行うことができる
とともに、光量低下の度合に応じてカセットに収納した
ウエハの位置検出を行うか否か決定することができるた
め、一つのカセットに収納したウエハの位置検出中に作
業が停止することを防止できる。従って、一つのカセッ
ト単位で処理を終了させることができる。As described above, according to the present embodiment,
The provision of the neutral density filter allows the light amount of the optical sensor provided on the cassette mounting table to be detected before the wafer position is detected. The wafer transfer process can be performed using another cassette mounting table without mounting the cassette. In addition, since the replacement of the optical sensor is displayed according to the degree of decrease in the amount of light, the replacement of the optical sensor can be performed systematically, and whether or not to detect the position of the wafer stored in the cassette in accordance with the degree of decrease in the amount of light. Therefore, it is possible to prevent the operation from being stopped during the position detection of the wafer stored in one cassette. Therefore, the processing can be terminated in units of one cassette.
【0040】[0040]
【発明の効果】本発明によれば、センサ機構の上昇途中
かつカセットより下の位置で光センサの光軸が減光フィ
ルタを通り、減光フィルタを通過する光ビームの光量に
基づき光センサの消耗(劣化)度合を判断するととも
に、消耗(劣化)度合に応じて交換時期を判断すること
により、収納容器内のウエハを検出する前に光センサの
故障(異常)を検知して光センサを交換することがで
き、ウエハ搬送ロボット自体の動作や基板処理装置の処
理までも停止することが無いウエハ搬送装置を得ること
ができる。According to the present invention, the optical axis of the optical sensor passes through the neutral density filter while the sensor mechanism is being raised and is located below the cassette, and the optical sensor of the optical sensor is based on the light amount of the light beam passing through the neutral density filter. By judging the degree of wear (deterioration) and determining the replacement time according to the degree of wear (deterioration), a failure (abnormality) of the optical sensor is detected and the optical sensor is detected before detecting a wafer in the storage container. It is possible to obtain a wafer transfer device that can be replaced and does not stop the operation of the wafer transfer robot itself or the processing of the substrate processing apparatus.
【図1】本発明の一実施形態におけるウエハ位置検出装
置の概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a wafer position detecting device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1に示す一実施形態における各部の信号波形
図である。FIG. 2 is a signal waveform diagram of each part in the embodiment shown in FIG.
【図3】図1乃至図2に示す一実施形態におけるコント
ローラの制御内容を示すフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart showing control contents of a controller in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2;
【図4】図1乃至図2に示す一実施形態におけるコント
ローラの制御内容を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart showing control contents of a controller in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2;
【図5】従来の基板処理装置の概略レイアウトを示す図
である。FIG. 5 is a diagram showing a schematic layout of a conventional substrate processing apparatus.
【図6】図5に示す基板処理装置におけるウエハ位置検
出手段を示す図である。6 is a diagram showing a wafer position detecting means in the substrate processing apparatus shown in FIG.
【図7】図5及び図6に示す従来例におけるウエハ検出
装置各部の信号波形図である。FIG. 7 is a signal waveform diagram of each part of the wafer detection device in the conventional example shown in FIGS. 5 and 6.
1…基板処理装置 1a…搬入口 1
b…搬出口 2…ウエハ搬送部 2a…ウエハ待機部 2
b…中継部 3…ウエハ 4…カセット 5…カセット載置台 6…センタリングユニット 7a,7b…センサ昇降孔 8…搬送ロボット 9…
コントローラ 11a…底部 11b…壁部 12…ボールネジ 13,15,16…プーリ 14…ベルト 17…エンコーダ
18…モータ 19…ガイドレール 20…ガイド 21,22,23…プレート 24…発光側素子 25…受光側素子 30…減光フィルタ 31…減光率60%のフィ
ルタ 32…減光率40%のフィルタ 33…減光率2
0%のフィルタ1. substrate processing apparatus 1a.
b ... Unloading port 2 ... Wafer transfer unit 2a ... Wafer standby unit 2
b relay unit 3 wafer 4 cassette 5 cassette mounting table 6 centering unit 7a, 7b sensor elevating hole 8 transport robot 9
Controller 11a Bottom 11b Wall 12 Ball screw 13, 15, 16 Pulley 14 Belt 17 Encoder
DESCRIPTION OF SYMBOLS 18 ... Motor 19 ... Guide rail 20 ... Guide 21, 22, 23 ... Plate 24 ... Light emitting side element 25 ... Light receiving side element 30 ... Dimming filter 31 ... Filter with 60% dimming rate 32 ... Filter with 40% dimming rate 33 ... Dimming rate 2
0% filter
Claims (2)
る載置台と、 該収納容器からウエハを搬出入するロボットハンドと、
該収納容器内のウエハを検出するための光センサを有す
るセンサ機構と、載置台の下方から収納容器の上面まで
センサ機構を上下動する駆動機構とを有し、センサ機構
の上下動により光センサが上下動し収納容器内のウエハ
位置を検出するウエハ検出手段とを有しているウエハ搬
送装置において、 該センサ機構の上昇途中ウエハ検出前の位置に、該光セ
ンサの光軸を遮断する箇所に設けた減光フィルタと、 該減光フィルタを通過した光の光センサ出力に基づき光
センサの消耗(劣化)度合を判断し、消耗(劣化)度合
に応じて交換時期を判断する機能を有する制御手段とを
設けたことを特徴とするウエハ搬送装置。A mounting table for mounting a storage container for storing a wafer thereon, a robot hand for loading and unloading a wafer from the storage container,
A sensor mechanism having an optical sensor for detecting a wafer in the storage container, and a drive mechanism for vertically moving the sensor mechanism from below the mounting table to the upper surface of the storage container, and the optical sensor A wafer detecting device for detecting the position of a wafer in a storage container by moving up and down, wherein the optical axis of the optical sensor is blocked at a position before the wafer is detected while the sensor mechanism is being lifted. And a function of judging the degree of wear (deterioration) of the optical sensor based on the output of the optical sensor of the light that has passed through the filter, and judging the replacement time according to the degree of wear (deterioration). A wafer transfer device provided with control means.
て、該制御手段が、減光フィルタを通過した光の光セン
サ出力に基づき収納容器に収納したウエハ全数を検出可
能か否か判断するとともに、ウエハ全数を検出できない
場合に光センサの交換を判断する機能を有することを特
徴とするウエハ搬送装置。2. The wafer transfer device according to claim 1, wherein the control means determines whether or not the total number of wafers stored in the storage container can be detected based on an optical sensor output of light passing through the neutral density filter. And a function of determining whether to replace the optical sensor when the total number of wafers cannot be detected.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27585097A JPH11106043A (en) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | Wafer transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27585097A JPH11106043A (en) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | Wafer transfer device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11106043A true JPH11106043A (en) | 1999-04-20 |
Family
ID=17561314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27585097A Withdrawn JPH11106043A (en) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | Wafer transfer device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11106043A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100689838B1 (en) * | 2005-08-08 | 2007-03-08 | 삼성전자주식회사 | Wafer cassette elevator system |
| CN101728292B (en) | 2008-10-31 | 2011-06-01 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | Wafer inspection device |
| JP2014197713A (en) * | 2014-07-16 | 2014-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate transfer device, substrate transfer method, and storage medium |
| JP2019212908A (en) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | バット ホールディング アーゲー | Wafer transfer unit and wafer transfer system |
| JP2023109276A (en) * | 2022-01-27 | 2023-08-08 | 株式会社ディスコ | Machining device and proximity sensor abnormality detection method |
-
1997
- 1997-10-08 JP JP27585097A patent/JPH11106043A/en not_active Withdrawn
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