JPH1083696A - Semiconductor memory test device - Google Patents
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims description 72
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 31
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 172
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリの試験
を行う半導体メモリ試験装置に関し、特に半導体メモリ
試験装置に使用される不良解析メモリに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory test apparatus for testing a semiconductor memory, and more particularly to a failure analysis memory used in a semiconductor memory test apparatus.
【0002】[0002]
(半導体メモリ試験装置)図6に半導体メモリ試験装置
全体の基本構成を示す。図6は半導体メモリ試験装置の
構成を示すブロック図である。(Semiconductor Memory Test Apparatus) FIG. 6 shows the basic configuration of the entire semiconductor memory test apparatus. FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the semiconductor memory test device.
【0003】図6において、半導体メモリ試験装置はタ
イミング発生器10、パターン発生器20、波形整形器
30、論理比較器40、及び不良解析メモリ50によっ
て構成され、波形整形器30の出力に被試験メモリ60
が接続されて試験が行われる。In FIG. 6, a semiconductor memory test apparatus comprises a timing generator 10, a pattern generator 20, a waveform shaper 30, a logic comparator 40, and a failure analysis memory 50, and the output of the waveform shaper 30 is Memory 60
Is connected and the test is performed.
【0004】タイミング発生器10はメモリ試験の試験
パターンを生成するための基準クロックを発生する回路
である。パターン発生器20はタイミング発生器10で
生成された基準クロックに従って被試験メモリ60に与
えるアドレス信号、試験データ、及びコントロール信号
を出力する。これらの信号は波形整形器30に出力され
波形整形器30でメモリ試験に必要な所定の波形に整形
されて被試験メモリ60に印加される。The timing generator 10 is a circuit for generating a reference clock for generating a test pattern for a memory test. The pattern generator 20 outputs an address signal, test data, and a control signal to be supplied to the memory under test 60 according to the reference clock generated by the timing generator 10. These signals are output to the waveform shaper 30, shaped into a predetermined waveform required for a memory test by the waveform shaper 30, and applied to the memory under test 60.
【0005】被試験メモリ60では上記コントロール信
号のタイミングでデータの書き込みと読み出しとが行わ
れる。被試験メモリ60から読み出された出力データは
論理比較器40に出力される。論理比較器40は、パタ
ーン発生器10から出力された期待値(メモリの正常時
のデータ)と被試験メモリ60から読み出された出力デ
ータとを比較し、その一致、不一致によって被試験メモ
リ60の良否判定を行う。In the memory under test 60, data writing and reading are performed at the timing of the control signal. The output data read from the memory under test 60 is output to the logical comparator 40. The logical comparator 40 compares the expected value (data in a normal state of the memory) output from the pattern generator 10 with the output data read from the memory under test 60, and determines whether the memory 60 under test agrees or disagrees. Is determined.
【0006】期待値と読み出された出力データとが不一
致のときは、以下に記載する不良解析メモリ50にフェ
イルデータとしてその内容が格納される。If the expected value and the read output data do not match, the contents are stored as fail data in a failure analysis memory 50 described below.
【0007】(不良解析メモリ)図7は図6に示した不
良解析メモリの構成を示すブロック図である。(Failure Analysis Memory) FIG. 7 is a block diagram showing the structure of the failure analysis memory shown in FIG.
【0008】図7において、不良解析メモリ50は、パ
ターン発生器20で発生したアドレス信号のうち所定の
ビットを選択して出力するアドレス選択部51と、被試
験メモリ60のフェイルデータ(不良情報)が格納され
るメモリ部53と、フェイルデータが格納されるメモリ
部53のメモリセルを指定するメモリコントロール部5
2とによって構成されている。In FIG. 7, a failure analysis memory 50 includes an address selection section 51 for selecting and outputting a predetermined bit from an address signal generated by the pattern generator 20, and fail data (failure information) of a memory under test 60. And a memory control unit 5 for specifying a memory cell of the memory unit 53 in which the fail data is stored.
And 2.
【0009】アドレス選択部51はパターン発生器20
からのアドレス信号を受けて上位アドレスをメモリコン
トロール部52へ、また下位アドレスをメモリ部53へ
それぞれ出力する。メモリコントロール部52では、ア
ドレス選択部51からの出力信号と論理比較器40から
送られたフェイルデータとによってメモリ部53のメモ
リセルを指定し、指定されたメモリ部53のメモリセル
に被試験メモリ60のフェイルデータが格納される。[0009] The address selection unit 51 is provided with the pattern generator 20.
And outputs the upper address to the memory controller 52 and the lower address to the memory unit 53, respectively. The memory control unit 52 specifies the memory cell of the memory unit 53 by the output signal from the address selection unit 51 and the fail data sent from the logical comparator 40, and assigns the memory cell under test to the specified memory cell of the memory unit 53. 60 fail data are stored.
【0010】メモリ試験が終了した後、この不良解析メ
モリ50の内容を調べることにより被試験メモリ60の
解析が行われる。After the memory test is completed, the memory under test 60 is analyzed by examining the contents of the failure analysis memory 50.
【0011】(RAMBUS DRAM)次に、被試験
メモリ60の例として高速にデータの書き込み及び読み
出しが可能なRAMBUS DRAM(以下RDRA
M)について説明する。(RAMBUS DRAM) Next, as an example of the memory under test 60, a RAMBUS DRAM (hereinafter referred to as RDRA) capable of writing and reading data at high speed.
M) will be described.
【0012】RDRAMは基準クロックに同期してパケ
ット式のデータを高速に転送することが可能なDRAM
で、最大500MB/Sまたは533MB/Sのデータ
転送レートを有している。RDRAM is a DRAM capable of transferring packet data at high speed in synchronization with a reference clock.
And has a maximum data transfer rate of 500 MB / S or 533 MB / S.
【0013】図8はRDRAMの構成を示すブロック図
である。図8において、RDRAM70は、記憶素子で
あるDRAM部72と、バス及び制御ラインとのインタ
フェース部となるスレーブロジック部71とによって構
成される。FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of the RDRAM. 8, the RDRAM 70 includes a DRAM unit 72 as a storage element, and a slave logic unit 71 as an interface unit with a bus and a control line.
【0014】DRAM部72は従来のDRAMセルと同
様の構造を有している。スレーブロジック部71を介し
て出力されるカラムアドレス及びロウアドレスは、カラ
ムデコーダ721及びロウデコーダ722によってデコ
ードされ、カラムアドレス及びローアドレスによって指
定されたDRAMセルアレイ723にそれぞれデータが
格納される。カラムデコーダ721には信号を増幅する
ためのセンスアンプが内蔵され、このセンスアンプにラ
ッチ機能を有することが従来のDRAMセルと異なって
いる。RDRAM70はセンスアンプをキャッシュメモ
リとして使用することにより高速なデータ転送を可能に
している。The DRAM section 72 has the same structure as a conventional DRAM cell. The column address and the row address output via the slave logic unit 71 are decoded by the column decoder 721 and the row decoder 722, and the data is stored in the DRAM cell array 723 specified by the column address and the row address, respectively. The column decoder 721 has a built-in sense amplifier for amplifying a signal, which is different from a conventional DRAM cell in that the sense amplifier has a latch function. The RDRAM 70 enables high-speed data transfer by using a sense amplifier as a cache memory.
【0015】RDRAM70はバーストメモリと呼ばれ
るメモリの一種であり、書き込み及び読み出し時のデー
タをバースト状に転送する。RDRAM70のデータ転
送は8ワード単位で行われ、256ワードまでバースト
長が可変できる。また、外部からは転送単位である8ワ
ードに相当する3ビット分のアドレスを指定する必要が
ないため、これらのアドレスについても入力する必要が
ない。なお、データのバースト開始アドレスは、リード
命令、ライト命令、及びその他の複数の命令からなるリ
クエストパケットに格納される。The RDRAM 70 is a type of memory called a burst memory, and transfers data at the time of writing and reading in a burst. The data transfer of the RDRAM 70 is performed in units of 8 words, and the burst length can be varied up to 256 words. Also, since it is not necessary to externally specify addresses of 3 bits corresponding to 8 words as a transfer unit, it is not necessary to input these addresses. The data burst start address is stored in a request packet including a read command, a write command, and a plurality of other commands.
【0016】スレーブロジック部71は、これらリクエ
ストパケット中の複数の命令によって、ライトデータま
たはリードデータのバースト長の指定、あるいはビット
マスク及びバイトマスク等の制御を行う。The slave logic unit 71 designates a burst length of write data or read data, or controls a bit mask, a byte mask, and the like by using a plurality of instructions in these request packets.
【0017】ところで、複数のRDRAM70を直列に
接続して(図9に示すようにSInを前段のRDRAM
のSOutに接続し、SOutを次段のRDRAMのS
Inに接続する)1つのメモリ空間を構成するときも、
このスレーブロジック部71によって各RDRAM70
の制御が行われる。By the way, a plurality of RDRAMs 70 are connected in series (as shown in FIG.
Of the RDRAM of the next stage.
When configuring one memory space (connected to In),
Each RDRAM 70 is provided by the slave logic unit 71.
Is performed.
【0018】図9は複数のRDRAMを接続して使用す
る場合を示す回路図である。図9に示すようにスレーブ
となる複数のRDRAM0〜RDRAMnはマスター
(Master)となるマスタデバイスに直列に接続さ
れ、マスタデバイスからBusData[8:0]を介
して転送されたリクエストパケットによって各RDRA
M0〜RDRAMnの動作が制御される。FIG. 9 is a circuit diagram showing a case where a plurality of RDRAMs are connected and used. As shown in FIG. 9, a plurality of RDRAMs 0 to RDRAMn serving as slaves are connected in series to a master device serving as a master (Master), and each RDRA is transmitted by a request packet transferred from the master device via BusData [8: 0].
The operations of M0 to RDRAMn are controlled.
【0019】なお、RDRAMへの書き込み、あるいは
RDRAMからの読み出し時にはリクエストパケットの
他に、図10に示すようなライトデータパケット、リー
ドデータパケットがBusData[8:0]上に載せ
られる。また、図10に示した”Okay”信号はリク
エストパケットをRDRAMが受け取ったことを示すも
のである。At the time of writing to the RDRAM or reading from the RDRAM, a write data packet and a read data packet as shown in FIG. 10 are placed on BusData [8: 0] in addition to the request packet. The "Okay" signal shown in FIG. 10 indicates that the RDRAM has received the request packet.
【0020】また、図9に示した接続では、書き込み時
のクロックにRxCLK、読み込み時のクロックにTx
CLKを使用し、マスタデバイスとRDRAM0〜RD
RAMn間のデータスキュー及びクロックスキューを抑
制している。このことによって高速データ転送を可能に
している。In the connection shown in FIG. 9, RxCLK is used as a clock for writing and Tx is used as a clock for reading.
CLK, the master device and RDRAM0 to RDRAM
Data skew and clock skew between the RAMs n are suppressed. This enables high-speed data transfer.
【0021】(不良解析メモリのフェイルデータ取り込
み方法)次に、RDRAMのようなバーストメモリを試
験する場合を例にして、不良解析メモリにフェイルデー
タを取込む従来の方法について説明する。(Method of Loading Fail Data in Failure Analysis Memory) Next, a conventional method of loading fail data into a failure analysis memory will be described by taking as an example the case of testing a burst memory such as an RDRAM.
【0022】図11は従来の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取り込み方法を示す図で
あり、同図(a)は回路図、同図(b)は格納フォーマ
ットを示す図である。なお、図11では4ビット幅の被
試験メモリ(MUT)を例示している。FIGS. 11A and 11B are diagrams showing a method for taking in fail data of a failure analysis memory of a conventional semiconductor memory test apparatus. FIG. 11A is a circuit diagram, and FIG. 11B is a diagram showing a storage format. FIG. 11 illustrates a memory under test (MUT) having a 4-bit width.
【0023】図11(a)に示すように、従来の不良解
析メモリでは、メモリ部として被試験メモリ(MUT)
のビット幅に対応した1ビット幅のSRAM(以下x1
SRAM)を被試験メモリのビット幅分用意している
(図11(a)では4個)。このような状態で任意のビ
ットで不良が発生した場合、EXNOR回路からなる論
理比較器の出力によって各ビットに対応したx1SRA
Mの/CS端子がイネーブル”L”に設定される。この
時、各x1SRAMの入力データは常に”H”に設定さ
れているため、被試験メモリと同じアドレスに不良を示
す”1”が書き込まれる。As shown in FIG. 11A, in a conventional failure analysis memory, a memory under test (MUT) is used as a memory unit.
1 bit SRAM corresponding to the bit width of
SRAMs are prepared for the bit width of the memory under test (four in FIG. 11A). When a failure occurs in an arbitrary bit in such a state, the x1SRA corresponding to each bit is output by the output of the logical comparator including the EXNOR circuit.
The / CS terminal of M is set to enable “L”. At this time, since the input data of each x1 SRAM is always set to “H”, “1” indicating a failure is written at the same address as the memory under test.
【0024】ところで、図11(a)に示したメモリ部
には高速なSRAMを使用しているが、被試験メモリが
不良解析メモリのSRAMよりも高速に動作する場合は
図12に示すようなインターリーブ方式を用いてフェイ
ルデータの取込みを行う。Although a high-speed SRAM is used for the memory section shown in FIG. 11A, when the memory under test operates at a higher speed than the SRAM of the failure analysis memory, the memory shown in FIG. Fail data is taken in using an interleave method.
【0025】図12はインターリーブ方式の不良解析メ
モリの構成を説明する図である。インタリーブとはメモ
リを交互に配置して切り替えながらデータを読み書きす
ることであり、例えばアクセスタイム100nsの複数
のメモリを、それぞれ50nsずつずらしてデータを読
み出せば実質的に50nsのアクセスタイムでデータを
得ることができる。図12では8つのメモリによるイン
ターリーブ動作(8ウェイと呼ぶ。なお、各々のメモリ
はバンクと呼ばれる。)を示しており、データD1〜D
8、D9〜D16、…がそれぞれバンク#1〜#8に格
納される。FIG. 12 is a diagram for explaining the configuration of an interleaved failure analysis memory. Interleaving refers to reading and writing data while alternately arranging and switching memories. For example, if data is read from a plurality of memories with an access time of 100 ns while being shifted by 50 ns, data can be read with an access time of substantially 50 ns. Obtainable. FIG. 12 shows an interleave operation by eight memories (referred to as eight ways; each memory is referred to as a bank), and includes data D1 to D1.
8, D9 to D16,... Are stored in banks # 1 to # 8, respectively.
【0026】ここで、図11(a)、(b)に示した不
良解析メモリの場合、インターリーブ動作で使用するメ
モリ(図11(a)のFD0〜FD3が1バンクに相当
する)は全てアクセスタイムを高速化するために使用さ
れるため、フェイルデータの取込みを行うメモリ容量は
バンク1つ分の容量である。Here, in the case of the failure analysis memory shown in FIGS. 11A and 11B, all memories used in the interleave operation (FD0 to FD3 in FIG. 11A correspond to one bank) are accessed. Since it is used to speed up the time, the memory capacity for taking in the fail data is the capacity of one bank.
【0027】[0027]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
ような従来の半導体メモリ試験装置は、高速動作するR
DRAM等のバーストメモリのフェイルデータを不良解
析メモリに取り込もうとする場合に、メモリ部に高速な
SRAMを使用しても、RDRAMはSRAMに比較し
て非常に高速に動作するため、多数のSRAMを使用し
てインターリーブ動作させなければならなかった。However, the conventional semiconductor memory test apparatus as described above has a high operating speed of R.
Even if a high-speed SRAM is used for the memory section when fail data of a burst memory such as a DRAM is taken into the failure analysis memory, the RDRAM operates at a much higher speed than the SRAM. Using interleave had to work.
【0028】インターリーブ動作させると多数のSRA
Mを使用してもそれに比例した記憶容量を得ることがで
きないため、大容量のRDRAMのフェイルデータを取
り込む場合は高価なSRAMを多数使用しなければなら
なかった。したがって、不良解析メモリの部品コストが
高くなり、不良解析メモリの実装面積も大きくなってし
まう問題があった。When the interleave operation is performed, a large number of SRA
Even if M is used, it is not possible to obtain a storage capacity in proportion thereto, so that a large number of expensive SRAMs have to be used when taking in fail data of a large-capacity RDRAM. Accordingly, there has been a problem that the component cost of the failure analysis memory increases and the mounting area of the failure analysis memory also increases.
【0029】本発明は上記したような従来の技術が有す
る問題点を解決するためになされたものであり、高速動
作を維持しつつ、不良解析メモリに要するメモリ容量及
びメモリ数を減らして部品コストを低減させた半導体メ
モリ試験装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and reduces the memory capacity and the number of memories required for a failure analysis memory while maintaining high-speed operation. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory test device in which the number is reduced.
【0030】[0030]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の半導体メモリ試験装置は、被試験メモリの良否
判定を行うために、前記被試験メモリの試験結果のうち
不良情報であるフェイルデータを格納する不良解析メモ
リを備えた半導体メモリ試験装置において、前記不良解
析メモリに、前記被試験メモリのアドレス順に出力され
るシリアルデータ形式の前記フェイルデータを逐次格納
し、パラレルデータとして出力するシフトレジスタと、
前記シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一
斉に読み込み、一時的に保持する第1のホールドレジス
タと、前記被試験メモリのアドレスに対応するフェイル
データを、各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部
と、前記第1のホールドレジスタに保持されたパラレル
データを前記メモリ部に転送するためのイネーブル信号
を出力するCS信号発生部と、前記メモリ部に前記フェ
イルデータを転送する間、前記フェイルデータに対応す
る前記アドレスデータを保持する第2のホールドレジス
タとを有することを特徴とする。In order to achieve the above object, a semiconductor memory test apparatus according to the present invention includes a fail data which is failure information among test results of the memory under test in order to judge pass / fail of the memory under test. A semiconductor memory test apparatus provided with a failure analysis memory for storing the fail data in serial data format output in the order of addresses of the memory under test in the failure analysis memory, and outputting the data as parallel data. When,
A first hold register that simultaneously reads and temporarily holds parallel data output from the shift register, and a memory unit that holds fail data corresponding to an address of the memory under test in each memory bit, A CS signal generator for outputting an enable signal for transferring the parallel data held in the first hold register to the memory unit; and a fail signal corresponding to the fail data while transferring the fail data to the memory unit. A second hold register for holding the address data.
【0031】上記のように構成された半導体メモリ試験
装置は、シリアルデータ形式のフェイルデータがシフト
レジスタによってパラレルデータに変換され、第1のホ
ールドレジスタを介してメモリ部に所定のビット数で一
斉に転送される。したがって、フェイルデータを被試験
メモリの各ビットに対応して1ビットずつメモリ部に転
送する従来の方法に比べて高速にフェイルデータをメモ
リ部に転送することができる。In the semiconductor memory test apparatus configured as described above, serial data format fail data is converted into parallel data by the shift register, and is simultaneously transferred to the memory unit via the first hold register with a predetermined number of bits. Will be transferred. Therefore, the fail data can be transferred to the memory unit at a higher speed than the conventional method of transferring the fail data to the memory unit one bit at a time corresponding to each bit of the memory under test.
【0032】[0032]
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
【0033】本発明の半導体メモリ試験装置は不良解析
メモリのフェイルデータの取込みフォーマット及びフェ
イルデータの取込み方法が従来の半導体メモリ試験装置
と異なっている。その他の構成は従来と同様であるた
め、その説明は省略する。The semiconductor memory test apparatus of the present invention is different from the conventional semiconductor memory test apparatus in the format of fail data fetching of the failure analysis memory and the method of fetching fail data. The other configuration is the same as the conventional configuration, and the description thereof will be omitted.
【0034】なお、以下ではバーストメモリであるRD
RAMの試験を行う場合を例にして説明する。In the following, a burst memory RD
A case where a test of the RAM is performed will be described as an example.
【0035】まず、本発明の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取込みフォーマットにつ
いて説明する。図1は本発明の半導体メモリ試験装置の
不良解析メモリのフェイルデータ取込みフォーマットを
示す図である。First, a description will be given of a fail data fetch format of the failure analysis memory of the semiconductor memory test apparatus of the present invention. FIG. 1 is a diagram showing a fail data fetch format of a failure analysis memory of the semiconductor memory test device of the present invention.
【0036】従来のフェイルデータ取込みフォーマット
は図11(b)に示したように被試験メモリの各ビット
に不良解析メモリの各ビットがそれぞれ対応して配置さ
れていた。本発明の半導体メモリ試験装置では、任意の
ビット数で構成される不良解析メモリを1ビットメモリ
のように使用して(図1では16ビットの不良解析メモ
リを1ビットメモリのように使用している)、例えば1
6個のメモリFD0〜FD15をアドレス#0〜#Fに
割り付ける。そして、これらのメモリFD0〜FD15
を被試験メモリのビット数(BusData0〜8)分
用意した構成にする。なお、上述したようにRDRAM
は8ワード単位でバースト転送を行うため、読み出し時
のフェイルデータは8ワード単位で不良解析メモリに出
力される。In the conventional fail data fetching format, as shown in FIG. 11B, each bit of the failure analysis memory is arranged corresponding to each bit of the memory under test. In the semiconductor memory test apparatus of the present invention, a failure analysis memory composed of an arbitrary number of bits is used like a 1-bit memory (in FIG. 1, a 16-bit failure analysis memory is used like a 1-bit memory). Yes), for example 1
Six memories FD0 to FD15 are allocated to addresses # 0 to #F. Then, these memories FD0 to FD15
Are prepared for the number of bits (BusData 0 to 8) of the memory under test. Note that, as described above, RDRAM
Performs burst transfer in units of eight words, so that fail data at the time of reading is output to the failure analysis memory in units of eight words.
【0037】次に、本発明の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取込み方法について説明
する。図2は本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析
メモリへのフェイルデータ書き込み方法を説明する回路
図である。また、図3は図2に示した第1の/CS発生
部の構成を示す回路図である。なお、図2は被試験メモ
リの1ビット分(BusData0)の回路を示してい
る。BusData1〜BusData8についてはB
usData0と同様な回路構成であるため、その説明
は省略する。Next, a description will be given of a method for taking in fail data of the failure analysis memory of the semiconductor memory test apparatus of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a method of writing fail data to a failure analysis memory of the semiconductor memory test device of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of the first / CS generator shown in FIG. FIG. 2 shows a circuit for one bit (BusData0) of the memory under test. B for BusData1 to BusData8
Since the circuit configuration is similar to usData0, the description thereof is omitted.
【0038】図2において、メモリ部1は複数(16ビ
ット分)のメモリFD0〜FD15によって構成され、
例えばフェイルデータを保持するためのSRAMであ
る。シフトレジスタ2は複数のフィリップフロップFL
0〜FL15によって構成され、シリアル信号として送
られたフェイルデータをパラレル信号に変換する。In FIG. 2, the memory unit 1 is constituted by a plurality of (16 bits) memories FD0 to FD15.
For example, an SRAM for holding fail data. The shift register 2 includes a plurality of flip-flops FL.
0 to FL15, and converts fail data sent as a serial signal to a parallel signal.
【0039】パラレル信号に変換されたフェイルデータ
は、後述するバーストアドレス#7または#Fに同期し
て出力される第1の格納信号または第2の格納信号によ
って第1のホールドレジスタ3に転送される。The fail data converted into the parallel signal is transferred to the first hold register 3 by a first storage signal or a second storage signal output in synchronization with a burst address # 7 or #F described later. You.
【0040】第1のホールドレジスタ3は複数のフィリ
ップフロップFF0〜FF15によって構成され、アド
レス#0〜#Fに対応するフェイルデータを一時的に保
持する。第1のホールドレジスタ3に保持されたフェイ
ルデータは第1の/CS発生部4及び第2の/CS発生
部5から出力されるイネーブル信号によって、その内容
がメモリ部1の各メモリFD0〜FD15に転送され
る。The first hold register 3 is composed of a plurality of flip-flops FF0 to FF15, and temporarily stores fail data corresponding to addresses # 0 to #F. The contents of the fail data held in the first hold register 3 are stored in the memories FD0 to FD15 of the memory unit 1 by the enable signals output from the first / CS generating unit 4 and the second / CS generating unit 5. Is forwarded to
【0041】第2のホールドレジスタは2つのレジスタ
FFAD1、FFAD2から構成され、フェイルデータ
に対応するアドレスを一時的に保持する回路である。The second hold register comprises two registers FFAD1 and FFAD2, and is a circuit for temporarily holding an address corresponding to fail data.
【0042】パターン発生器(図6参照)によってバー
スト開始アドレスとバーストアドレスとが生成される
と、不良解析メモリにはこれら2つのアドレスを加算し
た信号が印加される。バーストアドレスはパターン発生
器から出力されるアドレス信号の下位4ビットからなる
下位アドレス#0〜#Fを示し、アドレス選択部(図6
参照)によって供給される。したがって図2に示すアド
レスとは、パターン発生器のアドレス信号から下位4ビ
ットを切り取った上位アドレスを示している。When the burst start address and the burst address are generated by the pattern generator (see FIG. 6), a signal obtained by adding these two addresses is applied to the failure analysis memory. The burst address indicates lower addresses # 0 to #F made up of lower 4 bits of an address signal output from the pattern generator, and an address selector (FIG. 6).
). Therefore, the address shown in FIG. 2 indicates the upper address obtained by cutting out the lower 4 bits from the address signal of the pattern generator.
【0043】図3において、第1の/CS発生部4は、
シフトレジスタとして動作する複数のフィリップフロッ
プとフェイルデータ及びバーストアドレスの上位(#8
〜#F)または下位(#0〜#7)を表す信号FA0の
論理積をとることで検出したフェイルフラグを保持する
JKフィリップフロップとによって構成され、バースト
アドレスが#7になった次のクロック(基準クロック)
で第1の/CSイネーブル信号を発生する。そして第1
の/CSイネーブル信号発生直後にフェイルフラグをリ
セットする。なお、第2の/CS発生部5の構成及び動
作については第1の/CS発生部4と同様であるため、
その説明は省略する。In FIG. 3, the first / CS generation unit 4
A plurality of flip-flops operating as a shift register, fail data, and a higher address (# 8) of a burst address
To #F) or a JK flip-flop holding a fail flag detected by taking the logical product of the signals FA0 representing the lower order (# 0 to # 7), and the next clock after the burst address becomes # 7. (Reference clock)
Generates a first / CS enable signal. And the first
Immediately after the / CS enable signal is generated. Since the configuration and operation of the second / CS generator 5 are the same as those of the first / CS generator 4,
The description is omitted.
【0044】このような構成において、被試験メモリで
あるRDRAMからバースト状のデータを読み出す場合
の動作について説明する。The operation of reading out burst data from the RDRAM as the memory under test in such a configuration will be described.
【0045】まず、バースト長が8ワードの場合、バー
ストアドレス#0〜#7が送られてくると、シリアル信
号であるフェイルデータはシフトレジスタ2のフィリッ
プフロップFL0〜FL7にそれぞれ1ビットずつ格納
される。そして、バーストアドレスが#7の時、アドレ
ス選択部(図6参照)から第1の格納信号が出力され、
フィリップフロップFL0〜FL7に格納されているフ
ェイルデータが第1のホールドレジスタ3の各フィリッ
プフロップFF0〜FF7にそれぞれ転送される。First, when the burst length is 8 words, when burst addresses # 0 to # 7 are sent, fail data as a serial signal is stored in the flip-flops FL0 to FL7 of the shift register 2 one bit at a time. You. When the burst address is # 7, a first storage signal is output from the address selection unit (see FIG. 6),
Fail data stored in the flip-flops FL0 to FL7 is transferred to the flip-flops FF0 to FF7 of the first hold register 3, respectively.
【0046】ここで、バーストアドレス#0〜#7のい
ずれかで不良が発生した場合、第1の格納信号に同期し
て第1の/CS発生部4から第1の/CSイネーブル信
号が出力される。このとき、第1のホールドレジスタ3
では、不良が発生したアドレスに対応するフィリップフ
ロップFL0〜FL7のいずれかに不良を表す”1”が
格納され、そのフィリップフロップの出力につながるメ
モリFD0〜FD7のいずれかの/CS端子が”L”に
なる。メモリ部1の各メモリFD0〜FD7のデータD
端子には常に”H”が印加されているため、不良が発生
したアドレスに対応するメモリに”1”が格納され、フ
ェイルデータとしてメモリ部1に取り込まれる。Here, when a failure occurs in any of burst addresses # 0 to # 7, the first / CS generation unit 4 outputs the first / CS enable signal in synchronization with the first storage signal. Is done. At this time, the first hold register 3
In this case, "1" indicating a failure is stored in one of the flip-flops FL0 to FL7 corresponding to the address where the failure has occurred, and the / CS terminal of one of the memories FD0 to FD7 connected to the output of the flip-flop is "L". "become. Data D of each memory FD0 to FD7 of the memory unit 1
Since “H” is always applied to the terminal, “1” is stored in the memory corresponding to the address where the failure has occurred, and is taken into the memory unit 1 as fail data.
【0047】一方、バースト長が16ワードの場合、す
なわちバーストアドレスが#0〜#Fまで出力される場
合、まずバーストアドレス#0〜#7までのフェイルデ
ータ取込み動作が上記8ワードの場合と同様に行われ
る。On the other hand, when the burst length is 16 words, that is, when the burst address is output from # 0 to #F, the fail data fetch operation for the burst addresses # 0 to # 7 is performed in the same manner as in the case of 8 words. Done in
【0048】次に、バーストアドレス#8〜#Fが送ら
れてくると、バーストアドレス#0〜#7と同様にフェ
イルデータがシフトレジスタ2のフィリップフロップF
L8〜FL15にそれぞれ格納される。そしてバースト
アドレス#Fの時、第2の格納信号が出力され、シフト
レジスタ2に格納されているフェイルデータが第1のホ
ールドレジスタのフィリプフロップFF8〜FF15に
転送される。Next, when the burst addresses # 8 to #F are sent, the fail data is stored in the flip-flop F of the shift register 2 as in the burst addresses # 0 to # 7.
These are stored in L8 to FL15, respectively. Then, at the time of the burst address #F, the second storage signal is output, and the fail data stored in the shift register 2 is transferred to the flip-flops FF8 to FF15 of the first hold register.
【0049】ここで、バーストアドレス#8〜#Fのい
ずれかで不良が発生した場合、第2の格納信号に同期し
て第2の/CS発生部5から第2の/CSイネーブル信
号が発生する。このとき、第1のホールドレジスタ3で
は、不良が発生したアドレスに対応するフィリップフロ
ップFF8〜FF15のいずれかに不良を表す”1”が
格納され、フィリップフロップFF8〜FF15の出力
につながるメモリFD8〜FD15のいずれかの/CS
端子が”L”になる、メモリ部1の各メモリFD8〜F
D15のデータD端子には常に”H”が印加されている
ため、不良が発生したアドレスに対応するメモリに”
1”が格納され、フェイルデータとしてメモリ部1に取
り込まれる。Here, if a failure occurs in any of burst addresses # 8 to #F, a second / CS generation signal is generated from second / CS generation section 5 in synchronization with the second storage signal. I do. At this time, in the first hold register 3, "1" indicating a failure is stored in one of the flip-flops FF8 to FF15 corresponding to the address where the failure has occurred, and the memories FD8 to FD8 connected to the outputs of the flip-flops FF8 to FF15. Any of / FD15 / CS
Each of the memories FD8 to FD of the memory unit 1 is set to the “L” level.
Since “H” is always applied to the data D terminal of D15, “H” is applied to the memory corresponding to the address where the failure has occurred.
1 "is stored in the memory unit 1 as fail data.
【0050】また、パターン発生器から出力されるアド
レスは、フェイルデータの格納開始時に第2のホールド
レジスタ6のレジスタFFAD1またはレジスタFFA
D2に取り込まれ、上記フェイルデータの取込み動作中
はそのアドレスのデータを保持している。The address output from the pattern generator is the same as the register FFAD1 or the register FFA of the second hold register 6 at the start of the storage of the fail data.
The data at that address is held during the fail data fetch operation.
【0051】以上の動作はバースト長が変わっても同様
に繰り返され、より長いバースト長を有するフェイルデ
ータが転送される場合にも対応することができる。The above operation is repeated even when the burst length changes, and it is possible to cope with a case where fail data having a longer burst length is transferred.
【0052】図4は本発明の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取込み動作を示すタイミ
ングチャートである。FIG. 4 is a timing chart showing the fail data fetch operation of the failure analysis memory of the semiconductor memory test apparatus of the present invention.
【0053】従来のフェイルデータ取込み方法では、不
良解析メモリに対するフェイルデータ格納周期がx1S
RAMに対するフェイルデータ格納周期と同一であっ
た。このため、高速なバーストメモリのフェイルデータ
を格納する際には、格納周期を短くするために複数のメ
モリをインターリーブ動作させ、同時にバンク数(メモ
リの数)を増やして対応していた。In the conventional fail data fetching method, the fail data storage period in the failure analysis memory is x1S
It was the same as the cycle of storing the fail data in the RAM. For this reason, when fail data of a high-speed burst memory is stored, a plurality of memories are interleaved and the number of banks (the number of memories) is increased at the same time in order to shorten the storage cycle.
【0054】しかしながら本発明では不良解析メモリに
対するフェイルデータ格納周期とx1SRAMに対する
フェイルデータ格納周期が異なっている。すなわち、個
々のx1SRAMに対するフェイルデータの格納周期は
従来と同じであるが、不良解析メモリに対するフェイル
データ格納周期が従来のフェイルデータ格納周期の16
倍になる。However, in the present invention, the fail data storage cycle for the failure analysis memory and the fail data storage cycle for the x1 SRAM are different. That is, the storage cycle of the fail data in each x1 SRAM is the same as the conventional one, but the storage cycle of the failure data in the failure analysis memory is 16 times the conventional storage cycle of the fail data.
Double.
【0055】したがって、従来よりも高速にフェイルデ
ータを取込むことが可能になりインターリーブ動作させ
る必要がなくなるためメモリ容量が少なくて済む。Therefore, fail data can be fetched at a higher speed than in the prior art, and there is no need to perform an interleave operation, so that the memory capacity can be reduced.
【0056】よって、大容量のRDRAM等のバースト
メモリのフェイルデータを取り込むときでも高価な高速
SRAMを多数使用しなくても済むため不良解析メモリ
を製造するための部品コストが低減され不良解析メモリ
の実装面積も低減される。Accordingly, even when fail data of a burst memory such as a large-capacity RDRAM is taken in, it is not necessary to use a large number of expensive high-speed SRAMs. The mounting area is also reduced.
【0057】ところで、図5は本発明の不良解析メモリ
のフェイルデータ取込み方法がどの程度の効果があるか
を示している。図5では18M(2M×9)ビットRD
RAMのフェイルデータを取込む場合を示し、RDAM
のフェイルデータの取込みに必要な格納周期は2ns、
またx1SRAMのデータ取込み周期は32nsとす
る。FIG. 5 shows the effect of the failure data fetching method of the failure analysis memory according to the present invention. In FIG. 5, 18M (2M × 9) bits RD
RDAM indicates the case where the fail data of the RAM is fetched.
The storage cycle required to capture the fail data is 2 ns,
Further, the data fetch cycle of the x1 SRAM is 32 ns.
【0058】図5に示すように、従来のフェイルデータ
取込み方法では、アクセスタイム32nsのx1SRA
Mで2ns毎にデータを取り込むために16ウェイ(3
2ns/2ns=16)のインターリーブを行ってい
る。ここで、18Mビットのフェイルデータを格納する
ために必要なメモリ数は、1Mビットのx1SRAMで
18個となる。これを16ウェイ分用意するため不良解
析メモリとして必要なx1SRAMの数は全部で18×
16=288個となる。As shown in FIG. 5, in the conventional fail data fetching method, x1 SRA having an access time of 32 ns is used.
To acquire data every 2 ns at M, 16 ways (3
(2 ns / 2 ns = 16). Here, the number of memories required to store the fail data of 18 M bits is 18 in a 1 M bit x1 SRAM. In order to prepare this for 16 ways, the number of x1 SRAMs required as a failure analysis memory is 18 × in total.
16 = 288.
【0059】一方、本発明のフェイルデータ取込み方法
では、フェイルデータ取込み周期が32ns/16=2
nsとなるためインターリーブを行う必要がない。また
1ビット分の容量は2Mとなるため256kwx1(実
際の深さは128kwまでしか必要ない)のメモリを1
6個使用すればよい。これを被試験メモリのビット数分
用意するため不良解析メモリとして必要なx1SRAM
の数は全部で16×9=144個となる。On the other hand, in the fail data capturing method of the present invention, the fail data capturing cycle is 32 ns / 16 = 2.
ns, so there is no need to perform interleaving. In addition, since the capacity for one bit is 2M, a memory of 256 kw × 1 (the actual depth only needs to be up to 128 kW) is one memory.
You only have to use six. X1 SRAM required as a failure analysis memory to prepare the same number of bits as the memory under test
Is 16 × 9 = 144 in total.
【0060】したがって、本発明の半導体メモリ試験装
置の不良解析メモリは、使用メモリ容量が従来の1/8
で済み、メモリ数も半分になった。Therefore, the failure analysis memory of the semiconductor memory test device of the present invention has a memory capacity of 1/8 of the conventional memory capacity.
And half the number of memories.
【0061】[0061]
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載する効果を奏する。Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained.
【0062】不良解析メモリに、被試験メモリのアドレ
ス順に出力されるシリアルデータ形式のフェイルデータ
を逐次格納しパラレルデータとして出力するシフトレジ
スタと、シフトレジスタから出力されるパラレルデータ
を一斉に読み込み一時的に保持する第1のホールドレジ
スタと、被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデ
ータを各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、
第1のホールドレジスタに保持されたパラレルデータを
メモリ部に転送するためのイネーブル信号を出力するC
S信号発生部と、メモリ部にフェイルデータを転送する
間フェイルデータに対応するアドレスデータを保持する
第2のホールドレジスタとを有することで、フェイルデ
ータを被試験メモリの各ビットに対応して1ビットずつ
メモリ部に転送する従来の方法に比べて高速にフェイル
データをメモリ部に転送することが可能になり、インタ
ーリーブ動作させる必要がなくなるためメモリ容量が少
なくて済む。A shift register for serially storing fail data in the serial data format outputted in the order of addresses of the memory under test and outputting the same as parallel data is stored in the failure analysis memory, and parallel data outputted from the shift register are simultaneously read and temporarily stored. A first hold register for holding a fail data corresponding to an address of a memory under test in each memory bit;
C that outputs an enable signal for transferring the parallel data held in the first hold register to the memory unit
By providing an S signal generating unit and a second hold register for holding address data corresponding to the fail data while transferring the fail data to the memory unit, the fail data is stored in one bit corresponding to each bit of the memory under test. Fail data can be transferred to the memory unit at a higher speed than in the conventional method of transferring data to the memory unit bit by bit, and there is no need to perform an interleaving operation, so that the memory capacity can be reduced.
【0063】よって、大容量のRDRAM等のバースト
メモリのフェイルデータを取り込むときでも高価な高速
SRAMを多数使用しなくても済むため、不良解析メモ
リを製造するための部品コストが低減され、不良解析メ
モリの実装面積が大きくなることがない。Therefore, even when fail data of a burst memory such as a large-capacity RDRAM is taken in, it is not necessary to use many expensive high-speed SRAMs, so that the cost of parts for manufacturing a failure analysis memory is reduced, and failure analysis is performed. The mounting area of the memory does not increase.
【図1】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取込みフォーマットを示す図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a fail data fetch format of a failure analysis memory of a semiconductor memory test device of the present invention.
【図2】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リへのフェイルデータ書き込み方法を説明する回路図で
ある。FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a method of writing fail data to a failure analysis memory of the semiconductor memory test device of the present invention.
【図3】図2に示した第1の/CS発生部の構成を示す
回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a first / CS generation unit shown in FIG. 2;
【図4】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取込み動作を示すタイミングチャー
トである。FIG. 4 is a timing chart showing a fail data fetch operation of the failure analysis memory of the semiconductor memory test device of the present invention.
【図5】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取込み方法がどの程度の効果がある
かを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the effect of the fail data fetching method of the failure analysis memory of the semiconductor memory test device of the present invention.
【図6】半導体メモリ試験装置の構成を示すブロック図
である。FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory test device.
【図7】図6に示した不良解析メモリの構成を示すブロ
ック図である。FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a failure analysis memory shown in FIG. 6;
【図8】RDRAMの構成を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of an RDRAM.
【図9】複数のRDRAMを接続して使用する場合を示
す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a case where a plurality of RDRAMs are connected and used.
【図10】RDRAMの転送データの構成を示すフォー
マット図である。FIG. 10 is a format diagram showing a configuration of transfer data of the RDRAM.
【図11】従来の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取り込み方法を示す図であり、同図
(a)は回路図、同図(b)は格納フォーマットを示す
図である。11A and 11B are diagrams showing a method of capturing fail data in a failure analysis memory of a conventional semiconductor memory test device, wherein FIG. 11A is a circuit diagram and FIG. 11B is a diagram showing a storage format.
【図12】インターリーブ方式の不良解析メモリの構成
を説明する図である。FIG. 12 is a diagram illustrating the configuration of an interleaved failure analysis memory.
1 メモリ部 2 シフトレジスタ 3 第1のホールドレジスタ 4 第1の/CS発生部 5 第2の/CS発生部 6 第2のホールドレジスタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Memory part 2 Shift register 3 1st hold register 4 1st / CS generation part 5 2nd / CS generation part 6 2nd hold register
Claims (1)
前記被試験メモリの試験結果のうち不良情報であるフェ
イルデータを格納する不良解析メモリを備えた半導体メ
モリ試験装置において、 前記不良解析メモリに、 前記被試験メモリのアドレス順に出力されるシリアルデ
ータ形式の前記フェイルデータを逐次格納し、パラレル
データとして出力するシフトレジスタと、 前記シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一
斉に読み込み、一時的に保持する第1のホールドレジス
タと、 前記被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデータ
を、各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、 前記第1のホールドレジスタに保持されたパラレルデー
タを前記メモリ部に転送するためのイネーブル信号を出
力するCS信号発生部と、 前記メモリ部に前記フェイルデータを転送する間、前記
フェイルデータに対応する前記アドレスデータを保持す
る第2のホールドレジスタと、を有することを特徴とす
る半導体メモリ試験装置。In order to determine the quality of a memory under test,
In a semiconductor memory test device including a failure analysis memory for storing fail data that is failure information among test results of the memory under test, a serial data format output to the failure analysis memory in the order of addresses of the memory under test. A shift register that sequentially stores the fail data and outputs the data as parallel data; a first hold register that simultaneously reads and temporarily holds the parallel data output from the shift register; A memory section for holding corresponding fail data in each memory bit, a CS signal generating section for outputting an enable signal for transferring the parallel data held in the first hold register to the memory section, During the transfer of the fail data to the memory unit, A second holding register for holding the address data corresponding to the yl data, a semiconductor memory testing device characterized in that it comprises a.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8237849A JPH1083696A (en) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | Semiconductor memory test device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8237849A JPH1083696A (en) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | Semiconductor memory test device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1083696A true JPH1083696A (en) | 1998-03-31 |
Family
ID=17021329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8237849A Pending JPH1083696A (en) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | Semiconductor memory test device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1083696A (en) |
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1996
- 1996-09-09 JP JP8237849A patent/JPH1083696A/en active Pending
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Date | Code | Title | Description |
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