JPH037379A - Optical recording medium - Google Patents
Optical recording mediumInfo
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- JPH037379A JPH037379A JP2006752A JP675290A JPH037379A JP H037379 A JPH037379 A JP H037379A JP 2006752 A JP2006752 A JP 2006752A JP 675290 A JP675290 A JP 675290A JP H037379 A JPH037379 A JP H037379A
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- reflectance
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- recording medium
- optical recording
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は光記録媒体の記録層に係り、特に高速消去可
能で記録情報の保存性の良好な書換え型の光記録媒体に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a recording layer of an optical recording medium, and more particularly to a rewritable optical recording medium that can be erased at high speed and has good preservation of recorded information.
近年、情報記録の高密度化、大容量化に対する要求が高
まり、国内外でその研究開発が盛んに行われているが、
特にレーザを光源として用いる光ディスクは、従来の磁
気記録媒体に比べておよそ10〜100倍の記録密度を
有し、 しかも記録、再生ヘッドと記録媒体とが非接触
状態で情報の記録。In recent years, there has been an increasing demand for higher density and larger capacity information storage, and research and development has been actively conducted both domestically and internationally.
In particular, optical disks that use a laser as a light source have a recording density approximately 10 to 100 times that of conventional magnetic recording media, and can record information without contact between the recording/reproducing head and the recording medium.
再生ができるために記録媒体の損傷も少なく、長寿命で
あるなどの特徴があることから、膨大な情報量を記録、
再生する高密度、大容量の記録方式として有望である。Because it can be played back, there is little damage to the recording medium and it has a long lifespan, so it can record a huge amount of information.
It is promising as a high-density, large-capacity recording method for playback.
この光ディスクは用途に応じて再生専用型、追ン書換え
型の3種類に大別することができる。These optical discs can be roughly divided into three types, read-only type and rewritable type, depending on the purpose.
再生専用型は情報の読出しのみが可能な再生専用ディス
クであり、追記型は必要に応じて情報を記録し再生する
ことはできるが、記録した情報の消去は不可能なもので
ある。これに対して書換え型は情報の記録、再生とさら
に記録済みの情報を消去して書き換えることが可能であ
り、コンピュータ用のデータファイルとしての利用が望
まれ、最も期待の大きいものである。The read-only type is a read-only disk from which information can only be read, and the write-once type allows information to be recorded and reproduced as needed, but recorded information cannot be erased. On the other hand, the rewritable type is capable of recording and reproducing information, as well as erasing and rewriting already recorded information, and is desired and has the highest expectations for use as a data file for computers.
書換え型のディスクについては、光磁気方式と相変化方
式の2つの記録方式の開発が進められているが、いずれ
の方式も記録材料や書込み機構などの点でなお改良の余
地が残されている。これらのうち、相変化方式は一般に
レーザ光をディスクの記録面に集光して加熱し、レーザ
光のパルス出力とパルス幅とを制御することによって生
ずる記録材料の相変化、即ち結晶状態から非晶質状態へ
の移行または相転移などを起こさせ、それぞれの状態に
おける反射率の違いで情報の記録き消去を行うものであ
る。Regarding rewritable disks, two recording methods are being developed: magneto-optical and phase change, but both methods still have room for improvement in terms of recording materials, writing mechanisms, etc. . Among these, the phase change method generally focuses a laser beam on the recording surface of the disk, heats it, and controls the pulse output and pulse width of the laser beam, thereby changing the phase of the recording material, that is, from a crystalline state to a non-crystalline state. It causes a transition to a crystalline state or a phase transition, and records and erases information based on the difference in reflectance in each state.
この相変化方式の光ディスクの構造については図示を省
略するが、通常多くのトラッキング溝を設けた例えばポ
リカーボネートなどの基板表面にZ口S等のセラミック
等よりなる保護膜を形成し、その上に記録用材料即ち記
録層を設け、さらにその上にセラミック等よりなる保護
膜と有機物の表面保護膜を順次堆積した構造としである
。また、保護膜と有機物表面保護膜の間にへn等の冷却
膜を設けることも行われている。冷却膜は、結晶状態か
ら非結晶状態への変化の際の、溶融状態からの冷却速度
を上げるためのものであり、この際、セラミック膜は断
熱層として作用する。媒体の特性確保のためには、この
断熱層の厚さを最適値にすることが肝要である。レーデ
光は基板の記録層を有する側と反対の面から入射させる
のが普通である。The structure of this phase change type optical disk is omitted from illustration, but usually a protective film made of ceramic such as Z-port S is formed on the surface of a substrate made of polycarbonate or the like, which has many tracking grooves, and then recording is performed on the surface of the substrate. It has a structure in which a recording material, that is, a recording layer is provided, and a protective film made of ceramic or the like and a surface protective film of an organic substance are sequentially deposited thereon. In addition, a cooling film such as HEN is provided between the protective film and the organic substance surface protective film. The cooling film is for increasing the cooling rate from the molten state during the change from the crystalline state to the amorphous state, and in this case, the ceramic film acts as a heat insulating layer. In order to ensure the characteristics of the medium, it is important to optimize the thickness of this heat insulating layer. The radar light is normally incident on the substrate from the opposite side to the side on which the recording layer is provided.
相変化型の光記録媒体としては多くの材料が提安定性も
比較的高いことから、有望な材料と考えられている。特
に、GeTeとSb、Te、の2つの化合物を混合した
(GeTe) X (sbtTea) l−Xで表され
る組成の材料は、結晶化速度が大きく、高速消去に適し
た材料として知られている。Many materials are considered promising materials for phase change optical recording media because they have relatively high stability. In particular, a material with a composition expressed as (GeTe) There is.
通常の光ディスクでは、初期状態では光記録材料を結晶
状態とし、情報記録時には、これにレーザを照射して照
射部を溶融した後急冷して、非結十分安定であるとされ
ているが、前述のように、て結晶状態へ戻す。In a normal optical disc, the optical recording material is in a crystalline state in the initial state, and when recording information, it is irradiated with a laser to melt the irradiated area and then rapidly cooled, making it sufficiently stable without crystallization. As in, it returns to the crystalline state.
しかし、我々の検討結果によれば、この材料には以下に
述べるような問題点があった。即ち、前述のように、書
込みの際結晶状態の記録層は、し状態は、本質的に結晶
状態に比して不安定な状態であり、情報記録徒長時間保
存した際の保存寿命が問題となる。例えば、Ge5b2
Te4[= (GeTe)温度100℃、50時間で消
失した。記録媒体に書き込まれた情報が例えば50℃で
10年以上安定であるためには、100℃で300−1
000時間の寿命が必要である。また、現状の記録方式
の主流は、ビットの有無を判別するビットポジション記
録方式であるが、将来はビットのエツジを記録点に対応
させるビットエツジ記録方式が有望である。このビット
エツジ記録方式においては、ビットのを無ばかりこの発
明は上述の点に鑑みてなされ、その目的はGe −5b
−Te系材料に改良を加えることにより、情報消去時の
結晶化速度が速いうえ記録情報であ餞
る非 状態の保存性能に優れる光記録媒体を提供する
ことにある。However, according to our study results, this material had the following problems. That is, as mentioned above, the recording layer is in the crystalline state during writing, and the crystalline state is inherently more unstable than the crystalline state, and the storage life when information is stored for a long time becomes a problem. Become. For example, Ge5b2
Te4 [= (GeTe) disappeared in 50 hours at a temperature of 100°C. In order for information written on a recording medium to be stable for more than 10 years at 50℃, for example, a temperature of 300-1 at 100℃ is required.
A lifespan of 1,000 hours is required. Furthermore, the current mainstream recording method is a bit position recording method that determines the presence or absence of a bit, but a bit edge recording method that makes the edge of a bit correspond to a recording point is promising in the future. In this bit edge recording method, the number of bits is reduced.This invention was made in view of the above points, and its purpose is to
The object of the present invention is to provide an optical recording medium that has a high crystallization speed when erasing information and has excellent non-state storage performance that is filled with recorded information by improving -Te-based materials.
上述の目的はこの発明によれば基板上の記録層を光照射
して、その変化により情報の記録、再生。According to the present invention, the above-mentioned object is to irradiate a recording layer on a substrate with light and record and reproduce information based on changes in the light.
消去を行う光記録媒体において、ZをAu、 Cu、
Co。In optical recording media for erasing, Z is Au, Cu,
Co.
Niのうちのいずれか1つとしたときに一般式%式%(
1)
で表される組成の記録層を備えること、その際2) Z
がCuであり、yが次式
%式%(2)
を満足すること、
3)基板上の記録層を光照射して、その変化により情報
の記録、再生、消去を行う光記録媒体にふいて、Gef
alTe〜1sblclの組成が三角座標で表したとき
に点A (Ge、、Sb、Te、。)、点B (GeS
b2Tess) 1点C(Ge2Sb2Teaa) 1
点D (Ge4oSb@Tll!s、*)で囲まれる領
域内にあり、W(モル%)が次式
9式%(3)
を満足するときに一般式[Ge+a+Tecb+Sb+
c+]、o、−。When any one of Ni is used, the general formula % formula % (
1) A recording layer having a composition represented by: 2) Z
is Cu, and y satisfies the following formula % formula % (2). 3) The recording layer on the substrate is irradiated with light, and the changes in the optical recording medium are used to record, reproduce, and erase information. Te, Gef
When the composition of alTe~1sblcl is expressed in triangular coordinates, point A (Ge,,Sb,Te,.), point B (GeS
b2Tess) 1 point C (Ge2Sb2Teaa) 1
Point D is in the area surrounded by (Ge4oSb@Tll!s, *), and when W (mol%) satisfies the following formula 9% (3), the general formula [Ge+a+Tecb+Sb+
c+], o, -.
[Cu]、で表される組成の記録層を備えることにより
達成される。This is achieved by providing a recording layer having a composition represented by [Cu].
Ge −3b−Te系材料にAu、 Cu、 Coまた
はN1を添加すると結晶化温度が高(なる。When Au, Cu, Co, or N1 is added to Ge-3b-Te-based materials, the crystallization temperature becomes high.
次にこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described based on the drawings.
(実施例1)
本発明の光記録媒体の薄膜は、通常のRFマグネトロン
スパッタにより容易に作製できる。(Example 1) The thin film of the optical recording medium of the present invention can be easily produced by ordinary RF magnetron sputtering.
ポリカーボネート製のディスク基板に、ZnS。ZnS on a polycarbonate disk substrate.
(Ge2St12↑as)s4Au、、 ZnS、
klの順にスパー/9膜を形成した。各膜の膜厚はそれ
ぞれ12Or++n、 60%m。(Ge2St12↑as)s4Au,, ZnS,
A Spar/9 film was formed in the order of kl. The thickness of each film is 12Or++n, 60%m.
170n111.1100nとした。ディスク直径は1
30mmである。Ge2SJTesは(GeTe) 2
(Sb2Tea)に相当する。170n111.1100n. The disk diameter is 1
It is 30mm. Ge2SJTes (GeTe) 2
(Sb2Tea).
このディスクを周速11m/sで回転させながら、波長
380n+e、出力8a+Ilのレーザ光を照射した。While rotating this disk at a circumferential speed of 11 m/s, a laser beam having a wavelength of 380n+e and an output of 8a+Il was irradiated.
ディスク面でのレーザスポット径は約1μ…であった。The laser spot diameter on the disk surface was approximately 1 μm.
スパッタ直後の光記録材料膜は非晶質状態であり、その
光反射率は約15%であったが上記のレーザ照射により
光反射率は約38%にまで上昇した。The optical recording material film immediately after sputtering was in an amorphous state and had a light reflectance of about 15%, but the light reflectance increased to about 38% by the above laser irradiation.
ディスクの同じ場所を同様の条件で再度レーザ照射した
場合、反射率は38%から変化は認められなかった。反
射率が15%から38%へ変化したのは、光記録膜が非
晶質状態から結晶状態へ変化したためであり、再度のレ
ーザ照射で反射率が変化しなかったのは最初のレーデ照
射により結晶化が十分に行われたことを示している。When the same location on the disk was irradiated with the laser again under the same conditions, no change was observed in the reflectance from 38%. The reason why the reflectance changed from 15% to 38% is because the optical recording film changed from an amorphous state to a crystalline state, and the reason why the reflectance did not change after the second laser irradiation was due to the first laser irradiation. This indicates that crystallization was sufficient.
以上の事実を確認するため、同様の記録層をガラス基板
上に形成し、10℃/win、で昇温しながら反射率の
変化を測定した。その結果を第2図に示す。反射率は1
85℃付近で上昇していた。この前後での記録層の結晶
形態をX線回折により調べた所、反射率の上昇後で、記
録層は結晶化しており、結晶としては主としてGe2S
b2Te、が観測された。In order to confirm the above fact, a similar recording layer was formed on a glass substrate, and changes in reflectance were measured while increasing the temperature at 10° C./win. The results are shown in FIG. Reflectance is 1
The temperature was rising around 85℃. When the crystal morphology of the recording layer was examined by X-ray diffraction before and after this, the recording layer was crystallized after the reflectance increased, and the crystal was mainly Ge2S.
b2Te was observed.
反射率の値は、上記の光ディスクでの値にほぼ対応して
おり、光ディスクでの反射率変化が、記録層の結晶化に
よるものであることが確認できた。The reflectance values almost corresponded to the values for the optical discs described above, and it was confirmed that the reflectance changes in the optical discs were due to crystallization of the recording layer.
情報の書込みを行った後での消去についても、上記と同
様、周速11n/sでの消去が可能であった。Regarding erasing after writing information, it was possible to erase at a circumferential speed of 11 n/s as described above.
即ち、上記の光ディスクを十分に結晶化した後、レーザ
出力15mWで周波数3.7MHzのパルス人力を書き
込んだ時、光ディスクの再生出力としてCN比で47d
Bの値が得られたが、これを上記の条件で消去するとC
N比は約15datで低下し、はぼ完全に消去できた。That is, after the above optical disc has been sufficiently crystallized, when writing is performed using pulsed power with a laser output of 15 mW and a frequency of 3.7 MHz, the playback output of the optical disc is 47 d in CN ratio.
The value of B was obtained, but if this is erased under the above conditions, it becomes C
The N ratio decreased at about 15 dat and was almost completely eliminated.
この消去時間と記録層中のAu含有量の関係は第1図に
示す通りであり、^1の添加量が10%以下では消去時
間はほとんど変化していないが、10%以上になると増
加し、15%では100nsを超え、周速1111/S
での記録消去が困難となる。l1m八は、直径1301
11mのディスクで回転数1800rpa+とじた時の
外周部での周速であり、この条件で消去ができないと、
実用上問題となるものである。一方、前述の10℃7m
i n、 での昇温過程の反射率変化で測定される
結晶化温度は下記のように^U含有量の増加とともに上
昇し、^U含有118%では約187℃となる。The relationship between the erasing time and the Au content in the recording layer is shown in Figure 1. When the amount of ^1 added is less than 10%, the erasing time hardly changes, but when it becomes more than 10%, it increases. , exceeds 100ns at 15%, peripheral speed 1111/S
It becomes difficult to erase records. l1m8 has a diameter of 1301
This is the circumferential speed at the outer periphery when an 11m disc is rotated at 1800rpa + closed, and if erasing cannot be done under these conditions,
This poses a practical problem. On the other hand, the above-mentioned 10℃ 7m
The crystallization temperature measured by the change in reflectance during the heating process at in, increases as the ^U content increases, as shown below, and reaches approximately 187°C at a ^U content of 118%.
この結晶化温度が高いことは、光ディスクに書き込まれ
た非晶質のスポットの熱的安定性が高いことを意味する
。また、書込み、消去の繰り返し回数については3%の
添加で増加が認められるが、12%以上でかえって減少
する傾向があり、15%より添加量が多いと繰り返し回
数が実用上問題となる程小さくなる。これは、記録材料
組成が化合物組成から大きくずれるため、繰り返しを重
ねるうちに局所的な偏析が生じるためと推察される。This high crystallization temperature means that the amorphous spot written on the optical disc has high thermal stability. In addition, the number of repetitions of writing and erasing is observed to increase when 3% is added, but it tends to decrease when the amount exceeds 12%, and when the amount added is more than 15%, the number of repetitions becomes so small that it becomes a practical problem. Become. This is presumed to be because the recording material composition deviates greatly from the compound composition, resulting in local segregation as the process is repeated.
第 1 表
第1表には、示差熱分析の昇温速度を変えて、キラシン
ジャプロット(にissinger plot)法によ
り求めた結晶化言渡の活性化エネルギ(Ea)も示した
。 EaはAuの添加により著しく増加している。Table 1 Table 1 also shows the activation energy (Ea) for crystallization, which was determined by the Kirasinger plot method while changing the heating rate in differential thermal analysis. Ea increases significantly with the addition of Au.
Eaが大きいことは、高速消去と、記録情報のアモルフ
ァススポットの室温での安定性を両立させる要因となっ
ている。 EaはAui加量が8%で最大となり、それ
以上では、若干減少している。A large Ea is a factor in achieving both high-speed erasing and stability of an amorphous spot of recorded information at room temperature. Ea reaches its maximum when the Aui addition is 8%, and decreases slightly above that.
第3図は、(GeTe) X (Sb2Te3) l−
K (曲線31 A) と、それに^Uを5%添加し
た場合(曲線32A)の結晶化温度の組成(X値)依存
性を示している。^U添加により、結晶化温度が上昇し
安定性が改善されていることがわかる。Figure 3 shows (GeTe) X (Sb2Te3) l-
K (Curve 31A) and the composition (X value) dependence of the crystallization temperature when 5% of ^U is added thereto (Curve 32A). It can be seen that the addition of ^U increases the crystallization temperature and improves the stability.
室温付近での安定性を確認するため80℃、 1000
時間放置により加速試験を行った結果を第4図に示す。80℃, 1000℃ to confirm stability near room temperature
Figure 4 shows the results of an accelerated test by standing for a certain period of time.
^Uを添加しないGe5b2Te4(曲線41A)を使
用した光デイスク媒体のCN比は500時間放置後約4
dBの低下を示したが、(GeSb2Te4) 94^
us(曲線42A)を使用した光デイスク媒体のCN比
は1000時間放置後もほとんど低下しておらず、良好
な特性を示した。^The CN ratio of the optical disk medium using Ge5b2Te4 without U addition (curve 41A) is approximately 4 after being left for 500 hours.
Although it showed a decrease in dB, (GeSb2Te4) 94^
The CN ratio of the optical disk medium using US (curve 42A) hardly decreased even after being left for 1000 hours, showing good characteristics.
(実施例2)
本発明の光記録媒体の薄膜は、通常のRFマグネトロン
スパッタにより容易に作製できる。(Example 2) The thin film of the optical recording medium of the present invention can be easily produced by ordinary RF magnetron sputtering.
ポリカーボネート製のディスク基板に、ZnS 。ZnS on a polycarbonate disk substrate.
(Ge2Sb2Tes)s*cu@、 ZnS、 A
j’の順にスパッタ膜を形成した。各膜の膜厚はそれぞ
れ120nm、 60nm。(Ge2Sb2Tes)s*cu@, ZnS, A
Sputtered films were formed in the order of j'. The thickness of each film is 120 nm and 60 nm, respectively.
17Or+11+、 1100nとした。ディスク直径
は13001111である。[Ge2Sb、Te、 =
(GeTe) 2(Sb2Te、)]このディスクを
周速11+n/sで回転させながら、波長830r+m
、出力811111のレーザ光を照射した。ディスク面
でのレーデスポット径は約1μmであった。スパッタ直
後の光記録材料膜は非晶質状態であり、その光反射率は
約17%であったが、上記のレーザ照射により光反射率
は約38%にまで上昇した。ディスクの同じ場所を同様
の条件で再度レーザ照射した場合、反射率は38%から
変化は認められなかった。反射率が17%から38%へ
変化したのは、光記録膜が非晶質状態から結晶状態へ変
化したためであり、再度のレーザ照射で反射率が変化し
なかったのは、最初のレーザ照射により、結晶化が十分
に行われたことを示している。17Or+11+, 1100n. The disk diameter is 13001111. [Ge2Sb, Te, =
(GeTe) 2(Sb2Te, )] While rotating this disk at a circumferential speed of 11+n/s, a wavelength of 830r+m
, a laser beam with an output of 811111 was irradiated. The diameter of the Radespot on the disk surface was approximately 1 μm. The optical recording material film immediately after sputtering was in an amorphous state and had a light reflectance of about 17%, but the light reflectance increased to about 38% by the above laser irradiation. When the same location on the disk was irradiated with the laser again under the same conditions, no change was observed in the reflectance from 38%. The reason why the reflectance changed from 17% to 38% is because the optical recording film changed from an amorphous state to a crystalline state.The reason why the reflectance did not change after the second laser irradiation was because the first laser irradiation This indicates that crystallization was sufficiently performed.
以上の事実を確認するため、同様の記録層をガラス基板
上に形成し、10℃/m i n、で昇温しながら、反
射率の変化を測定した。その結果を第6図に示す。反射
率は192℃付近で上昇していた。この前後での記録層
の結晶形態をX線回折により調べた所、反射率の上昇後
で、記録層は結晶化しており、結晶としては主としてG
e2Sb2Te、が観測された。In order to confirm the above fact, a similar recording layer was formed on a glass substrate, and the change in reflectance was measured while increasing the temperature at 10° C./min. The results are shown in FIG. The reflectance increased around 192°C. When the crystal morphology of the recording layer was examined by X-ray diffraction before and after this, it was found that the recording layer was crystallized after the reflectance increased, and the crystal was mainly composed of G.
e2Sb2Te was observed.
反射率の値は、上記の光ディスクでの値にほぼ対応して
ふり、光ディスクでの反射率変化が、記録層の結晶化に
よるものであることが確認できた。The reflectance values almost corresponded to the values for the optical disc, and it was confirmed that the change in reflectance on the optical disc was due to crystallization of the recording layer.
情報の書込みを行った後での消去についても、上記と同
様、周速11m/sでの消去が可能であった。Regarding erasing after writing information, it was possible to erase at a circumferential speed of 11 m/s, similar to the above.
即ち、上記の光ディスクを十分に結晶化した後、レーザ
出力15al−で周波数3.7MHzのパルス入力を書
き込んだ時、光ディスクの再生出力としてCN比で48
dBの値が得られたが、これを上記の条件で消去すると
CN比は約17dBまで低下し、はぼ完全に消去できた
。That is, after the above-mentioned optical disc has been sufficiently crystallized, when a pulse input with a frequency of 3.7 MHz is written with a laser output of 15al-, the reproduction output of the optical disc has a CN ratio of 48
A value of dB was obtained, but when this was erased under the above conditions, the CN ratio decreased to about 17 dB, and it was almost completely erased.
この消去時間と記録層中のCu含有量の関係は第5図に
示す通りであり、Cuの添加量が15%以下では消去時
間はほとんど変化していないが、15%以上になると増
加し、20%では1oonsを超え、周速If/sでの
記録消去が困難となる。lbn/sは、直径130mm
のディスクで回転数1800rpmとした時の外周部で
の周速であり、この条件で消去ができないと、実用上問
題となるものである。一方で前述の10℃/m i n
、での昇温過程の反射率変化で測定される結晶化温度は
下記のようにCu含有量の増加とともに上昇し、Cu含
有量10%では約197℃となる。The relationship between the erasing time and the Cu content in the recording layer is as shown in Figure 5. When the amount of Cu added is less than 15%, the erasing time hardly changes, but when it exceeds 15%, it increases. At 20%, it exceeds 1 oons, making it difficult to erase records at the circumferential speed If/s. lbn/s is 130mm in diameter
This is the circumferential speed at the outer periphery when the disk is rotated at 1800 rpm, and if erasing cannot be performed under these conditions, it will be a problem in practice. On the other hand, the aforementioned 10°C/min
The crystallization temperature measured by the change in reflectance during the heating process increases as the Cu content increases, as shown below, and reaches about 197°C at a Cu content of 10%.
この結晶化温度が高いことは、光ディスクに書き込まれ
た非晶質のスポットの熱的安定性が高いことを意味する
。また、書込み、消去の繰り返し回数については3%の
添加で増加が認められるが、15%以上でかえって減少
する傾向があり、20%より添加量が多いと繰り返し回
数が実用上問題となる程小さくなる。これは、記録材料
組成が化合物組成から大きくずれるため、繰り返しを重
ねるうちに局所的な偏析が生じるためと推察される。This high crystallization temperature means that the amorphous spot written on the optical disc has high thermal stability. In addition, the number of repetitions of writing and erasing is observed to increase when 3% is added, but it tends to decrease when the amount is more than 15%, and when the amount added is more than 20%, the number of repetitions becomes so small that it becomes a practical problem. Become. This is presumed to be because the recording material composition deviates greatly from the compound composition, resulting in local segregation as the process is repeated.
第 2
表
第2表には、示差熱分析の昇温速度を変えて、キッシン
ジャプ07ト(Kissinger plot)法によ
り求めた結晶化tElcの活性化エネルギ(Ea)
も示した。 EaはCuの添加により著しく増加してい
る。Table 2 Table 2 shows the activation energy (Ea) of crystallized tElc determined by the Kissinger plot method by changing the heating rate of differential thermal analysis.
was also shown. Ea increases significantly with the addition of Cu.
Eaが大きいことは、高速消去と、記録情報のアモルフ
ァススポットの室温での安定性を両立させる要因となっ
ている。EaはCu添加量が10%で最大となり、それ
以上では、若干減少している。A large Ea is a factor in achieving both high-speed erasing and stability of an amorphous spot of recorded information at room temperature. Ea reaches a maximum when the amount of Cu added is 10%, and decreases slightly above that amount.
第7図は、(GeTe) x (Sb2Tes) l−
X (曲線31 B)と、それにCuを5%添加した場
合(曲線32B)の結晶化温度の組成(X値)依存性を
示している。Cu添加により、結晶化温度が上昇し安定
性が改善されていることがわかる。FIG. 7 shows (GeTe) x (Sb2Tes) l-
It shows the composition (X value) dependence of the crystallization temperature on X (curve 31B) and when 5% of Cu is added thereto (curve 32B). It can be seen that the addition of Cu increases the crystallization temperature and improves the stability.
室温付近での安定性を確認するため8()’tl’、
1000時間放置により加速試験を行った結果を第8図
に示す。Cuを添加しないGeSb2Te* (曲線4
1B)を使用した光デイスク媒体のCN比は500時間
放置後約4dBの低下を示したが、(GeSbaTea
) 94CLI8(曲線42B) を使用した光デイ
スク媒体のCN比は1000時間放置後もほとんど低下
しておらず、良好な特性を示した。8()'tl' to confirm stability near room temperature.
FIG. 8 shows the results of an accelerated test conducted by leaving the sample for 1000 hours. GeSb2Te* without adding Cu (curve 4
The CN ratio of the optical disk medium using (GeSbaTea) showed a decrease of about 4 dB after being left for 500 hours.
) 94CLI8 (Curve 42B) The CN ratio of the optical disk medium using 94CLI8 (curve 42B) hardly decreased even after being left for 1000 hours, showing good characteristics.
[(GeTe)x(SbzTes) l−Xlからの組
成ずれは第17図に示す三角図で点A、B、C,Dで示
される領域の内部が許容される。ここで点A、B、C,
DそれぞれはGe4H5b@Te5o、 Ge4Sb
@Te5a、 Ge@Sb3゜Te@4. Ge4
oSb@Te5aの組成を示す。第18図はAB線上、
第19図はCD線上でCu添加IWを3.10゜15.
20%にした場合の結晶化温度が示される。Cuを添加
すると、結晶化温度が上昇することがわかる。第20図
はΔB縁線上。21図はCD線上でCu添加量Wを3.
10.15.20%にしたときの消去時間を示す線図で
ある。15%以下では消去時間はほとんど変化しないが
Wが20%になると約150nsとなる。点A、B、C
,Dにかこまれる領域においても記録スポット消去の高
速性を維持しつつ室温における非晶質状態の安定性が改
善できる。The compositional deviation from [(GeTe) Here points A, B, C,
D each is Ge4H5b@Te5o, Ge4Sb
@Te5a, Ge@Sb3°Te@4. Ge4
The composition of oSb@Te5a is shown. Figure 18 is on line AB,
Figure 19 shows Cu-doped IW on the CD line at 3.10°15.
The crystallization temperature at 20% is shown. It can be seen that adding Cu increases the crystallization temperature. Figure 20 is on the ΔB edge line. Figure 21 shows the Cu addition amount W on the CD line of 3.
10 is a diagram showing erasing time when the ratio is set to 10%, 15%, and 20%. When W is 15% or less, the erasing time hardly changes, but when W becomes 20%, it becomes about 150 ns. Points A, B, C
, D, the stability of the amorphous state at room temperature can be improved while maintaining the high speed of recording spot erasing.
(実施例3)
本発明の光記録媒体の薄膜は、通常のRFマグネトロン
スパッタにより容易に作製で、きる。(Example 3) The thin film of the optical recording medium of the present invention can be easily produced by ordinary RF magnetron sputtering.
ポリカーボネート製のディスク基板に、ZnS 。ZnS on a polycarbonate disk substrate.
(Ge、Sb2Te、)、、Co4. ZnS、 M
の順にスパッタ膜を形成した。各膜の膜厚はそれぞれ1
20nm、 60%m。(Ge, Sb2Te, ), Co4. ZnS, M
A sputtered film was formed in this order. The thickness of each film is 1
20nm, 60%m.
170ns、 1100nとした。ディスク直径は13
0mmである。[Ge、Sb、Tea = (GeTe
) z (Sb2Tes) ]このディスクを周速1I
III/Sで回転させながら、波長830no+、出力
81のレーず光を照射した。ディスク面でのレーデスポ
ット径は約1μmであった。スパッタ直後の光記録材料
膜は非晶質状態であり、その光反射率は約16%であっ
たが、上記のレーザ照射により光反射率は約38%にま
で上昇した。ディスクの同じ場所を同様の条件で再度レ
ーザ照射した場合、反射率は38%から変化は認められ
なかった。反射率が16%から38%へ変化したのは、
光記録膜が非晶質状態から結晶状態へ変化したためであ
り、再度のレーザ照射で反射率が変化しなかったのは、
最初のレーザ照射により、結晶化が十分に行われたこと
を示している。170ns and 1100n. The disc diameter is 13
It is 0mm. [Ge, Sb, Tea = (GeTe
) z (Sb2Tes) ] This disk has a circumferential speed of 1I
While rotating at III/S, laser light with a wavelength of 830no+ and an output of 81 was irradiated. The diameter of the Radespot on the disk surface was approximately 1 μm. The optical recording material film immediately after sputtering was in an amorphous state and had a light reflectance of about 16%, but the light reflectance increased to about 38% by the above laser irradiation. When the same location on the disk was irradiated with the laser again under the same conditions, no change was observed in the reflectance from 38%. The reflectance changed from 16% to 38% because
This is because the optical recording film changed from an amorphous state to a crystalline state, and the reflectance did not change after laser irradiation again.
It is shown that crystallization was sufficiently performed by the first laser irradiation.
これを確認するため、同様の記録層をガラス基板上に形
成し、lθ℃/akin、で昇温しながら、反射率の変
化を測定した。その結果を第1O図に示す。To confirm this, a similar recording layer was formed on a glass substrate, and the change in reflectance was measured while increasing the temperature at lθ°C/akin. The results are shown in Figure 1O.
反射率は187℃付近で上昇していた。 この前後での
記録層の結晶形態をX線回折により調べた所、反射率の
上昇後で、記録層は結晶化しており、結晶としては主と
してGa2SbzTε、がn、11された。反射率の値
は、上記の光ディスクでの値にほぼ対応しており、光デ
ィスクでの反射率変化が、記録層の結晶化によるもので
あることが確認できた。情報の書込みを行った後での消
去についても、上記と同様、周速11a+/sでの消去
が可能であった。即ち、上記の光ディスクを十分に結晶
化した後、レーザ出力15I1wで周波数3.7MHz
のパルス入力を書き込んだ時、光ディスクの再生出力と
してCN比で48dBの値が得られたが、これを上記の
条件で消去するとCN比は約13dBまで低下し、はぼ
完全に消去できた。The reflectance increased around 187°C. Examination of the crystal morphology of the recording layer before and after this by X-ray diffraction revealed that the recording layer was crystallized after the reflectance increased, and the crystals were mainly Ga2SbzTε. The reflectance values almost corresponded to the values for the optical discs described above, and it was confirmed that the reflectance changes in the optical discs were due to crystallization of the recording layer. Regarding erasing after writing information, it was possible to erase at a circumferential speed of 11a+/s as described above. That is, after sufficiently crystallizing the above optical disk, the laser output is 15I1w and the frequency is 3.7MHz.
When writing the pulse input, a CN ratio of 48 dB was obtained as the reproduction output of the optical disc, but when this was erased under the above conditions, the CN ratio decreased to about 13 dB, and it was almost completely erased.
この消去時間と記録層中のCO含有量の関係は第9図に
示す通りであり、COの添加量が8%以下では消去時間
はほとんど変化していないが、8%以上になると増加し
、10%では100nsを超え、周速11m/sでの記
録消去が困難となる。l1m/sは、直径130mmの
ディスクで回転数180Orpmとした時の外周部での
周速であり、この条件で消去ができないと、実用上問題
となるものである。一方で前述の】0℃/akin、で
の昇温過程の反射率変化で測定される結晶化温度は下記
のようにCO含有量の増加とともに上昇し、CO含有量
5%では約190℃となる。The relationship between the erasing time and the CO content in the recording layer is as shown in Figure 9. When the amount of CO added is less than 8%, the erasing time hardly changes, but when it becomes more than 8%, it increases. At 10%, the time exceeds 100 ns, making it difficult to erase records at a circumferential speed of 11 m/s. l1m/s is the circumferential speed at the outer periphery of a disk with a diameter of 130 mm and a rotational speed of 180 rpm, and if erasing cannot be performed under this condition, it will be a problem in practice. On the other hand, the crystallization temperature measured by the change in reflectance during the heating process at 0°C/akin, as described above, increases as the CO content increases, and reaches approximately 190°C at a CO content of 5%. Become.
この結晶化温度が高いことは、光ディスクに書き込まれ
た非晶質のスポットの熱的安定性が高いことを意味する
。また、書込み、消去の繰り返し回数については2%の
添加で増加が認められるが、8%以上でかえって減少す
る傾向があり、10%より添加量が多いと繰り返し回数
が実用上問題となる程小さくなる。これは、記録材料組
成が化合物組成から大きくずれるため、繰り返しを重ね
るうちに局所的な偏析が生じるためと推察される。This high crystallization temperature means that the amorphous spot written on the optical disc has high thermal stability. In addition, the number of repetitions of writing and erasing is observed to increase when 2% is added, but it tends to decrease when it is more than 8%, and when the amount added is more than 10%, the number of repetitions becomes so small that it becomes a practical problem. Become. This is presumed to be because the recording material composition deviates greatly from the compound composition, resulting in local segregation as the process is repeated.
第 3 表
第3表には、示差熱分析の昇温速度を変えて、キッシン
ジャブo、7ト(Kissinger plot)法1
ごより求めた結晶化itの活性化エネルギ(Ea)
も示した。 EaはCOの添加により著しく増加してい
る。Table 3 Table 3 shows the Kissinger plot method 1 by changing the heating rate of differential thermal analysis.
Activation energy (Ea) of crystallization IT obtained from customer
was also shown. Ea increases significantly with the addition of CO.
Eaが大きいことは、高速消去と、記録情報のアモルフ
ァススポットの室温での安定性を両立させる要因となっ
ている。 EaはCO添加量が5%で最大となり、それ
以上では、若干減少している。A large Ea is a factor in achieving both high-speed erasing and stability of an amorphous spot of recorded information at room temperature. Ea reaches a maximum when the amount of CO added is 5%, and decreases slightly above that amount.
第11図は、(GeTe) x (Sb2Tei) l
−X (曲線31C)と、それにCOを5%添加した場
合(曲線32C)の結晶化温度の組成(X値)依存性を
示している。Co添加により、結晶化温度が上昇し安定
性が改善されていることがわかる。Figure 11 shows (GeTe) x (Sb2Tei) l
-X (curve 31C) and the composition (X value) dependence of crystallization temperature when 5% of CO is added thereto (curve 32C). It can be seen that the addition of Co increases the crystallization temperature and improves the stability.
室温付近での安定性を確認するため80℃、 1000
時間放置により加速試験を行った結果を第12図に示す
。Coを添加しないGe5b2Te4(曲線41C)を
使用した光デイスク媒体のCN比は500時間放置後約
4d[]の低下を示したが、(GaSbzTε*) 5
−Co5 (曲線42C)を使用した光デイスク媒体の
CN比は100i)時間放置後もほとんど低下しておら
ず、良好な特性を示した。80℃, 1000℃ to confirm stability near room temperature
Figure 12 shows the results of an accelerated test by standing for a period of time. The CN ratio of the optical disk medium using Ge5b2Te4 (curve 41C) without added Co showed a decrease of about 4d[] after being left for 500 hours, but (GaSbzTε*) 5
The CN ratio of the optical disk medium using -Co5 (curve 42C) hardly decreased even after standing for 100 i) hours, showing good characteristics.
(実施例4)
本発明の光記録媒体の薄膜は、通常のRFマグネトロン
スパッタにより容易に作製できる。(Example 4) The thin film of the optical recording medium of the present invention can be easily produced by ordinary RF magnetron sputtering.
ポリカーボネート製のディスク基板に、ZnS。ZnS on a polycarbonate disk substrate.
(Ge2Sb2TeS)s@Ni4. ZnS、^l
の順にスパッタ膜を形成した。警護の膜厚はそれぞれ1
20nn、 60no+。(Ge2Sb2TeS)s@Ni4. ZnS, ^l
A sputtered film was formed in this order. The thickness of each guard is 1
20nn, 60no+.
17Qnm、 1100nとした。ディスク直径は1
30ml11テある。cce2sb2Tes = (G
eTe) 2 (Sb2Tes) ]このディスクを周
速11m/sで回転させながら、波長830nm 、出
力8++Jのレーデ光を照射した。ディスク面でのレー
ザスポット径は約1μmであった。スパッタ直後の光記
録材料膜は非晶質状態であり、その光反射率は約16%
であったが、上記のレーザ照射により光反射率は約38
%にまで上昇した。ディスクの同じ場所を同様の条件で
再度レーザ照射した場合、反射率は38%から変化は認
められなかった。反射率が16%から38%へ変化した
のは、光記録膜が非晶質状態から結晶状態へ変化したた
めであり、再度のレーザ照射で反射率が変化しなかった
のは、最初のレーザ照射により、結晶化が十分に行われ
たことを示している。It was set to 17Qnm and 1100n. The disk diameter is 1
There are 11 30ml bottles. cce2sb2Tes = (G
eTe) 2 (Sb2Tes) ] This disk was irradiated with Raded light having a wavelength of 830 nm and an output of 8++J while rotating at a circumferential speed of 11 m/s. The laser spot diameter on the disk surface was approximately 1 μm. The optical recording material film immediately after sputtering is in an amorphous state, and its light reflectance is approximately 16%.
However, due to the above laser irradiation, the light reflectance was approximately 38
It rose to %. When the same location on the disk was irradiated with the laser again under the same conditions, no change was observed in the reflectance from 38%. The reason why the reflectance changed from 16% to 38% is because the optical recording film changed from an amorphous state to a crystalline state.The reason why the reflectance did not change after the second laser irradiation was because the optical recording film changed from an amorphous state to a crystalline state. This indicates that crystallization was sufficiently performed.
これを確認するため、同様の記録層をガラス基板上に形
成し、10℃/sin、で昇温しながら、反射率の変化
を測定した。その結果を第14図に示す。In order to confirm this, a similar recording layer was formed on a glass substrate, and the change in reflectance was measured while increasing the temperature at 10° C./sin. The results are shown in FIG.
反射率は184℃付近で上昇していた。この前後での記
録層の結晶形態をX線回折により調べた所、反射率の上
昇後で、記録層は結晶化しており、結晶としては主とし
てGeaSbzTesが観測された。反射率の値は、上
記の光ディスクでの値にほぼ対応しており、光ディスク
での反射率変化が、記録層の結晶化によるものであるこ
とが確認できた。情報の書込みを行った後での消去につ
いても、上記と同様、周速11m八での消去が可能であ
った。即ち、上記の光ディスクを十分に結晶化した後、
レーザ出力15a+Wで周波数3.7MHzのパルス入
力を書き込んだ時、光ディスクの再生出力としてCN比
で48dBの値が得られたが、これを上記の条件で消去
するとCN比は約13dBまで低下し、はぼ完全に消去
できた。The reflectance increased around 184°C. When the crystal morphology of the recording layer was examined by X-ray diffraction before and after this, it was found that the recording layer was crystallized after the reflectance increased, and GeaSbzTes was mainly observed as the crystal. The reflectance values almost corresponded to the values for the optical discs described above, and it was confirmed that the reflectance changes in the optical discs were due to crystallization of the recording layer. As for erasing information after writing, it was possible to erase the information at a circumferential speed of 11m8, similar to the above. That is, after sufficiently crystallizing the above optical disc,
When a pulse input with a frequency of 3.7 MHz was written with a laser output of 15a+W, a CN ratio of 48 dB was obtained as the playback output of the optical disc, but when this was erased under the above conditions, the CN ratio decreased to about 13 dB. I was able to completely erase it.
この消去時間と記録層中のNi含有量の関係は第13図
に示す通りであり、Niの添加量が6%以下では消去時
間はほとんど変化していないが、6%以上になると増加
し、10%では100nsを超え、周速11++/sで
の記録消去が困難となる。l1m/sは、直径130+
u+のディスクで回転数1800rpI11とした時の
外周部での周速であり、この条件で消去ができないと、
実用上問題となるものである。一方で前述の10℃7m
i n、での昇温過程の反射率変化で測定される結晶
化温度は下記のようにNi含有量の増加とともに上昇し
、Ni含有量5%では約188℃となる。The relationship between the erasing time and the Ni content in the recording layer is as shown in FIG. At 10%, the time exceeds 100 ns, making it difficult to erase records at a circumferential speed of 11++/s. l1m/s is diameter 130+
This is the circumferential speed at the outer periphery when the rotation speed is 1800 rpm I11 with a u+ disk, and if erasing cannot be done under these conditions,
This poses a practical problem. On the other hand, the aforementioned 10℃7m
The crystallization temperature measured by the change in reflectance during the heating process at i.
この結晶化温度が高いことは、光ディスクに書き込まれ
た非晶質のスポットの熱的安定性が高いことを意味する
。また、書込み、消去の繰り返し回数については2%の
添加で増加が認められるが、8%以上でかえって減少す
る傾向があり、10%より添加量が多いと繰り返し回数
が実用上問題となる程小さくなる。これは、記録材料組
成が化合物組成から大きくずれるため、繰り返しを重ね
るうちに局所的な偏析が生じるためと推察される。This high crystallization temperature means that the amorphous spot written on the optical disc has high thermal stability. In addition, the number of repetitions of writing and erasing is observed to increase when 2% is added, but it tends to decrease when it is more than 8%, and when the amount added is more than 10%, the number of repetitions becomes so small that it becomes a practical problem. Become. This is presumed to be because the recording material composition deviates greatly from the compound composition, resulting in local segregation as the process is repeated.
第 4 表
第4表には、示差熱分析の昇温速度を変えて、キラシン
ジャプロット(にissinger plot)法によ
り求めた結晶化口の活性化エネルギ(Ea) も示し
た。 EaはNiの添加により著しく増加している。Table 4 Table 4 also shows the activation energy (Ea) of the crystallization port, which was determined by the Kirasinger plot method while changing the heating rate of the differential thermal analysis. Ea increases significantly with the addition of Ni.
Eaが大きいことは、高速消去と、記録情報のアモルフ
ァススポットの室温での安定性を両立させる要因となっ
ている。 EaはNil加量が5%で最大となり、それ
以上では、若干減少している。A large Ea is a factor in achieving both high-speed erasing and stability of an amorphous spot of recorded information at room temperature. Ea reaches its maximum when the Nil content is 5%, and decreases slightly above that level.
第15図は、(GeTe) w (Sb2Tes) l
−X (曲線31D)と、それにNiを5%添加した場
合(曲線32D)の結晶化温度の組成(X値)依存性を
示している。Nil加により、結晶化温度が上昇し安定
性が改善されていることがわかる。Figure 15 shows (GeTe) w (Sb2Tes) l
-X (curve 31D) and the composition (X value) dependence of the crystallization temperature when 5% Ni is added thereto (curve 32D). It can be seen that the addition of Nil increases the crystallization temperature and improves the stability.
室温付近での安定性を確認するた、め80℃、 100
0時間放置により加速試験を行った結果を116図に示
す。Niを添加しなイGe5b、Te、 (曲線41D
)を使用した光デイスク媒体のCN比は500時間放冒
後約4dBの低下を示したが、(GeSb2Te4)s
4N+6(曲線42D) を使用した光デイスク媒体の
CN比は1000時間放置後もほとんど低下しておらず
、良好な特性を示した。To confirm stability near room temperature, the temperature was 80℃ and 100℃.
Figure 116 shows the results of an accelerated test conducted by allowing the sample to stand for 0 hours. Ge5b, Te, without adding Ni (curve 41D
) The CN ratio of the optical disk medium using (GeSb2Te4)s showed a decrease of about 4dB after 500 hours of exposure.
The CN ratio of the optical disk medium using 4N+6 (curve 42D) hardly decreased even after being left for 1000 hours, indicating good characteristics.
この発明によれば
1)基板上の記録層を光照射して、その変化により情報
の記録、再生、消去を行う光記録媒体において、2をA
u、 Cu、 CoまたはN1とするときに一般式%式
%(1)
で表される組成の記録層を備え、その際(式(1)中X
はモル分率、yはモル%を表す。)−W[Cu]Wであ
り、yが次式
%式%(2)
を満足し
3)基板上の記録層を光照射して、その変化により情報
の記録、再生、消去を行う光記録媒体において、 Ge
talTe (blsb ta+の組成が三角座標で
表したときに点A (Gem+5l)sTeso) 1
点B (GesSb、1aTes3)1点C(Ge、S
b、、Te@、)、点D(Ge4oSb@Te54)で
囲まれる領域内にあり、W(モル%)が次式
0式%(3)
を満足するときに一般式[Ge talTe (bls
b fell+oo−w[Cu]wで表される組成の記
録層を備えるので結晶化温度が高くなり、消去時の結晶
化速度が速くかつ、記録情報である非晶質状態の保存性
能にも優れる光記録媒体が得られる。According to the present invention, 1) in an optical recording medium in which a recording layer on a substrate is irradiated with light and information is recorded, reproduced, and erased by changes in the light, 2 is A;
A recording layer having a composition represented by the general formula % formula % (1) when u, Cu, Co or N1 is provided, in which case (X in formula (1)
represents the mole fraction, and y represents the mol%. )-W[Cu]W, and y satisfies the following formula % formula % (2) 3) Optical recording that records, reproduces, and erases information by irradiating the recording layer on the substrate with light and changing the light. In the medium, Ge
talTe (When the composition of blsb ta+ is expressed in triangular coordinates, point A (Gem+5l)sTeso) 1
Point B (GesSb, 1aTes3) 1 point C (Ge, S
b,,Te@, ), is in the region surrounded by point D (Ge4oSb@Te54), and when W (mol%) satisfies the following formula 0% (3), the general formula [Ge talTe (bls
b Fell+oo-w [Cu]w Since the recording layer has a composition expressed by w, the crystallization temperature is high, the crystallization speed during erasing is fast, and the storage performance of the amorphous state that is recorded information is also excellent. An optical recording medium is obtained.
第1図は、(GeiSbzTei) l 011−yA
u、の組成(y値)と消去時間の関係を示す線図、第2
図は、(Ge。
5b2Tes) as^u6を10℃/+in、 で
昇温した場合の反射率変化を示す線図、第3図は、[(
GeTe) x (Sb、Tea)1−0] 5sAI
Isにおける組成(X値)と結晶化温度との関係を従来
のものと比較して示す線図、第4図は、(GeSbaT
e、)s、Au、を使用した光記録媒体の、温度80℃
での高温放置試験の結果を従来のものと比較シテ示す線
図、第5図は、((+e2Sb2Tes) l oo−
yCu、の組成(y値)と消去時間の関係を示す線図、
第6図は、(GeiSbzTei) 52cusを10
℃/m i n、 で昇温した場合の反射率変化を示
す線図、第7図は、[(GeTe) x (Sb2Te
、) +−xlsscusにおける組成(X値)と結晶
化温度との関係を従来のものと比較して示す線図、第8
図は、(GeSb2Te4) 54Cu@を使用した光
記録媒体の、温度80℃での高温放置試験の結果を従来
のものと比較して示す線図、第9図は、(GeSbTe
4) l oll−、Co、の組成(y値)と消去時間
の関係を示す線図、第10図は、(Ge2SbzTes
) 5icOaを10℃/m i n、 で昇温した
場合の反射率変化を示す線図、第11図は、[(GeT
fりi+(SbzTe*) +−x]5scOsにおけ
る組成(X値)と結晶化温度との関係を従来のものと比
較して示す線図、第12図は、(Ge5bTe*) 5
sCotを使用した光記録媒体の、温度80℃での高温
放置試験の結果を従来のものと比較して示す線図、第1
3図は、(Ge2Sb、Te5) +oo−yNiyの
組成(y値)と消去時間の関係を示す線図、第14図は
、(Ge2Sb。
Tea)sJlaを10℃7m1n、で昇温した場合ノ
反射率変化を示す線図、第15図は、[(GeTe)
x (SbaTes) +−x]@@H7sにおける組
成(X値) と結晶化温度との関係を従来のものと比較
して示す線図、第16図は、(GeSb2Te4) 5
aNi*を使用した光記録媒体の、温度80℃での高温
放置試験の結果を従来のものと比較して示す線図、第1
7図はこの発明の、光記ツ媒体のCu添加組成領域を示
すGe −8b−Teの三角図、第18図は三角図のA
B組成線上のGe5bTeにCuを添加するときの結晶
化温度の組成依存性を示す線図、第19図は三角図のC
DM成線上線上e5bTeにCuを添加するときの結晶
化温度の組成依存性を示す線図、第20図は三角図のA
B組成線上のGe5bTeにCuを添加するときの消去
時間の組成依存性を示す線図、第21図は三角図のCD
組成線上のGe5bTeにCuを添加するときの消去時
間の組成依存性を示す線図でy値
第
図
00
50
00
温度(”C)
第
区
y値
第
図
温度(”C)
第
図
(Sb2Te3)
第
X値
ヌ
(GeTe)
第
区
(Sb2Tes)
X値
(GeTe)
第
図
時間(h)
第
区
第
y値
区
温度(”C)
第
0
図
y値
0
第
3
Σ
温度(”C)
第
]4
図
(Sb2Te3) X値
第11
〆
(GeTe)
第
時間(h)
12 図
(SbzTes) X値
第15
ヌ
(GeTe)
00
時間(i)
第16
区
+000
第
1ア
図
第
8
図
第
9
ヌ
第
0
区Figure 1 shows (GeiSbzTei) l 011-yA
Diagram showing the relationship between the composition (y value) of u and erasing time, second
The figure is a diagram showing the change in reflectance when (Ge. 5b2Tes) as^u6 is heated at 10°C/+in.
GeTe) x (Sb, Tea)1-0] 5sAI
Figure 4 is a diagram showing the relationship between the composition (X value) and crystallization temperature in Is in comparison with the conventional one.
Temperature of optical recording medium using e,)s, Au, 80℃
Figure 5 is a diagram comparing the results of the high temperature storage test with the conventional one.
A diagram showing the relationship between the composition (y value) of yCu and erasing time,
Figure 6 shows (GeiSbzTei) 52cus as 10
Figure 7 is a diagram showing the change in reflectance when the temperature is raised at °C/min, [(GeTe) x (Sb2Te
,) Diagram showing the relationship between the composition (X value) and crystallization temperature in +-xlsscus in comparison with the conventional one, No. 8
The figure is a diagram showing the results of a high-temperature storage test at a temperature of 80°C for an optical recording medium using (GeSb2Te4) 54Cu@ in comparison with a conventional one.
4) Figure 10 is a diagram showing the relationship between the composition (y value) of l oll-, Co, and erasing time.
) Figure 11 is a diagram showing the change in reflectance when the temperature of 5icOa is raised at 10°C/min.
Fig. 12 is a diagram showing the relationship between the composition (X value) and crystallization temperature in (Ge5bTe*)5scOs in comparison with the conventional one.
Diagram 1 showing the results of a high temperature storage test at a temperature of 80°C for an optical recording medium using sCot in comparison with a conventional one.
Figure 3 is a diagram showing the relationship between the composition (y value) of (Ge2Sb, Te5) +oo-yNiy and erasing time, and Figure 14 is a diagram showing the relationship between the composition (y value) of (Ge2Sb, Te5) +oo-yNiy and erasure time, and Figure 14 is a diagram showing the relationship between the composition (y value) of (Ge2Sb, Te5) + oo-yNiy and erasure time. A diagram showing changes in reflectance, FIG. 15, shows [(GeTe)
x (SbaTes) +-x]@@H7s Figure 16 is a diagram showing the relationship between the composition (X value) and crystallization temperature in comparison with the conventional one, (GeSb2Te4) 5
Diagram 1 showing the results of a high-temperature storage test at a temperature of 80°C for an optical recording medium using aNi* compared with a conventional one.
Fig. 7 is a triangular diagram of Ge-8b-Te showing the Cu-added composition region of the optical recording medium of this invention, and Fig. 18 is A of the triangular diagram.
A diagram showing the composition dependence of the crystallization temperature when Cu is added to Ge5bTe on the B composition line.
A diagram showing the composition dependence of crystallization temperature when Cu is added to e5bTe on the DM line, Figure 20 is A of the triangular diagram.
A diagram showing the composition dependence of erasing time when Cu is added to Ge5bTe on the B composition line. Figure 21 is a triangular diagram CD
A diagram showing the composition dependence of erasing time when Cu is added to Ge5bTe on the composition line. Y value: 00 50 00 Temperature ("C) Xth value nu (GeTe) Section (Sb2Tes) 4 Figure (Sb2Te3) X value 11th (GeTe) Time (h) 12 Figure (SbzTes) Ward 0
Claims (1)
の記録、再生、消去を行う光記録媒体において、ZをA
u、Cu、CoまたはNiとするときに一般式[(Ge
Te)_x(Sb_2Te_3)_1_−_x]_1_
0_0_−_y[Z]_y・・・(1)で表される組成
の記録層を備えることを特徴とする光記録媒体。 (式(1)中xはモル倍率、yはモル%を表す。)2)
ZがCuであり、yが次式 0<y≦20・・・(2) を満足することを特徴とする請求項第1記載の光記録媒
体。 3)基板上の記録層を光照射して、その変化により情報
の記録、再生、消去を行う光記録媒体において、Ge(
a)Te(b)Sb(c)の組成が三角座標で表したと
きに点A(Ge_4_1Sb_9Te_5_0)、点B
(Ge_9Sb_3_6Te_5_3)、点C(Ge_
6Sb_3_0Te_6_4)、点D(Ge_4_0S
b_6Te_5_4)で囲まれる領域内にあり、W(モ
ル%)が次式 0<w≦20・・・(3) を満足するときに一般式[Ge(a)Te(b)Sb(
c)]_1_0_0_−_W[Cu]_Wで表される組
成の記録層を備えることを特徴とする光記録媒体。[Claims] 1) In an optical recording medium in which a recording layer on a substrate is irradiated with light and information is recorded, reproduced, and erased by changes in the light, Z is changed to A.
u, Cu, Co or Ni, the general formula [(Ge
Te)_x(Sb_2Te_3)_1_-_x]_1_
An optical recording medium comprising a recording layer having a composition represented by 0_0_-_y[Z]_y (1). (In formula (1), x represents the molar magnification and y represents the mol%.)2)
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein Z is Cu and y satisfies the following formula: 0<y≦20 (2). 3) In optical recording media in which the recording layer on the substrate is irradiated with light and information is recorded, reproduced, and erased by the changes in the light, Ge(
When the composition of a) Te (b) Sb (c) is expressed in triangular coordinates, point A (Ge_4_1Sb_9Te_5_0), point B
(Ge_9Sb_3_6Te_5_3), point C (Ge_
6Sb_3_0Te_6_4), point D(Ge_4_0S
b_6Te_5_4), and when W (mol%) satisfies the following formula 0<w≦20...(3), the general formula [Ge(a)Te(b)Sb(
c)]_1_0_0_-_W[Cu]_W An optical recording medium characterized by comprising a recording layer having a composition represented by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006752A JPH037379A (en) | 1989-03-01 | 1990-01-16 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-49489 | 1989-03-01 | ||
| JP4948989 | 1989-03-01 | ||
| JP2006752A JPH037379A (en) | 1989-03-01 | 1990-01-16 | Optical recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH037379A true JPH037379A (en) | 1991-01-14 |
Family
ID=26340954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006752A Pending JPH037379A (en) | 1989-03-01 | 1990-01-16 | Optical recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH037379A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0661699A3 (en) * | 1993-12-27 | 1997-02-05 | Nec Corp | Information recording medium. |
| WO1999006220A1 (en) * | 1997-08-01 | 1999-02-11 | Hitachi, Ltd. | Information recording medium |
-
1990
- 1990-01-16 JP JP2006752A patent/JPH037379A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0661699A3 (en) * | 1993-12-27 | 1997-02-05 | Nec Corp | Information recording medium. |
| WO1999006220A1 (en) * | 1997-08-01 | 1999-02-11 | Hitachi, Ltd. | Information recording medium |
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