JPH034228A - 光重合可能の層転移材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は水性の鍍金浴及びエツチング浴中に?いて改善
さ°れた接着性を示す光重合可能の感光柱層転移材料、
ことにプリント回路板製造用の、ことにアルカリ水溶液
で現像可能の7オトレジストフイルムに関するものであ
る。
さ°れた接着性を示す光重合可能の感光柱層転移材料、
ことにプリント回路板製造用の、ことにアルカリ水溶液
で現像可能の7オトレジストフイルムに関するものであ
る。
プリント回路板は、温度及び圧力を使用して、感光柱層
転移材料χ暫定的担体から金属製基板、ことに銅被覆エ
ボギシド材料基板上に転移させて作製されろ。感光性層
を画像形成露光して、ネガテブレジストの場合には、非
露元部分乞現像液で洗除する。アルカリ水溶液で現像可
能の層転移材料の場合には、現像液として一般にソーダ
水溶液が使用される。露出された金属表面は、次いで例
えば電気鍍金法により恒久的に変性されろ。この層転移
材料と金属表面との間の接着性が悪い場合には、鍍金浴
により層転移材料の滲透及びこの個所における金属剥離
ンもたら丁。これにより稜縁は鈍化し、極端な場合には
隣接導線間の短絡χもたら丁。
転移材料χ暫定的担体から金属製基板、ことに銅被覆エ
ボギシド材料基板上に転移させて作製されろ。感光性層
を画像形成露光して、ネガテブレジストの場合には、非
露元部分乞現像液で洗除する。アルカリ水溶液で現像可
能の層転移材料の場合には、現像液として一般にソーダ
水溶液が使用される。露出された金属表面は、次いで例
えば電気鍍金法により恒久的に変性されろ。この層転移
材料と金属表面との間の接着性が悪い場合には、鍍金浴
により層転移材料の滲透及びこの個所における金属剥離
ンもたら丁。これにより稜縁は鈍化し、極端な場合には
隣接導線間の短絡χもたら丁。
(従来技術〕
上記諸問題乞解決するため、層転移材料に適当な接着性
改善剤を添那することが提案されている。
改善剤を添那することが提案されている。
このような接着性改善剤として、例えばベンズトリアゾ
ール(西独出願公開2063571号公報、米国特許3
645772号明細書参照〕及びその一連の誘導体(西
独出願公開3600442号、ヨーロッパ出願公開24
7549号、日本国出願公開61−223836号、同
62−278541号各公報、米国特許4680249
号、同4710262定記明ll1I111F参照)が
提案されている。
ール(西独出願公開2063571号公報、米国特許3
645772号明細書参照〕及びその一連の誘導体(西
独出願公開3600442号、ヨーロッパ出願公開24
7549号、日本国出願公開61−223836号、同
62−278541号各公報、米国特許4680249
号、同4710262定記明ll1I111F参照)が
提案されている。
しかしながら、多くの場合、このような化合物で舎工十
分の接着性改善はもたらされない。
分の接着性改善はもたらされない。
さらに接着性改善剤としてメルカプト化合物の添辺が提
案されている。一定のへテロ環式メルカプト化合物7党
重合可能材料に使用することは、丁でに米国特許277
3822号明細書に記載されているが、この場合のメル
カプト化合物は光重合の増感剤として使用されている。
案されている。一定のへテロ環式メルカプト化合物7党
重合可能材料に使用することは、丁でに米国特許277
3822号明細書に記載されているが、この場合のメル
カプト化合物は光重合の増感剤として使用されている。
この増感剤としては、ことにメルカプトベンズイミダゾ
ール、メルカプトベンズオキサゾール及びメルカプトベ
ンゾチアゾールが特に重要である。これら化合物乞光重
合可能材料に添加Tろことは、その後の特許出願(西独
出願公開2602409号)にもあらためて記載されて
おり、この場合には接着性改善効果及び同時に光重合の
促進効果が中心点とr(っている。さらに層転移材料の
ための接着性改善剤として挙げられている他のメルカプ
ト化合物は、例えばオメガ−メルカプトカルボン酸のエ
ステル(西独出願公開2448850号)及びアミド(
同2448821号)ならびにアリールメルカブトテト
2ゾール(同3446920号)である。
ール、メルカプトベンズオキサゾール及びメルカプトベ
ンゾチアゾールが特に重要である。これら化合物乞光重
合可能材料に添加Tろことは、その後の特許出願(西独
出願公開2602409号)にもあらためて記載されて
おり、この場合には接着性改善効果及び同時に光重合の
促進効果が中心点とr(っている。さらに層転移材料の
ための接着性改善剤として挙げられている他のメルカプ
ト化合物は、例えばオメガ−メルカプトカルボン酸のエ
ステル(西独出願公開2448850号)及びアミド(
同2448821号)ならびにアリールメルカブトテト
2ゾール(同3446920号)である。
感光性層転移材料の金属担体との接着性ン改善するべぎ
硫黄化合物としては、例えばチオカルボン酸アミド及び
チオヒドラジド誘導体(西独公開3346034号公報
)、2− (4’−チアゾリルクーベンズイミダゾール
−ベンゾオキサゾール及び−ベンゾチアゾール(ヨー
ロッパ公開206030号公報)、チオ尿素(米国特許
3769023号及び3820993号明、細書〕、チ
オアニリド(米国特許3769023号明細書J、テオ
ア七ドアミド(米国特許3820993号明細書)及び
ジスルフィド(米国特許3769023号及び3820
993号明細書〕が挙げられる。
硫黄化合物としては、例えばチオカルボン酸アミド及び
チオヒドラジド誘導体(西独公開3346034号公報
)、2− (4’−チアゾリルクーベンズイミダゾール
−ベンゾオキサゾール及び−ベンゾチアゾール(ヨー
ロッパ公開206030号公報)、チオ尿素(米国特許
3769023号及び3820993号明、細書〕、チ
オアニリド(米国特許3769023号明細書J、テオ
ア七ドアミド(米国特許3820993号明細書)及び
ジスルフィド(米国特許3769023号及び3820
993号明細書〕が挙げられる。
しかしながら、これらメルカプト化合物及び慣用の硫黄
化合物によっても、多くの場合好ましい接着注改@は達
成されず、従って0れら化合物の雄側にかかわらず、電
気鍍金により層転移材料の滲透が依然としてもたらされ
る。そこで層転移材料のそのほかの特性に彰響乞及ぼ丁
ことなく、感光性層転移材料と金属担体との間の接着注
乞改善する他の化合物を見出丁ことが必要とされる。
化合物によっても、多くの場合好ましい接着注改@は達
成されず、従って0れら化合物の雄側にかかわらず、電
気鍍金により層転移材料の滲透が依然としてもたらされ
る。そこで層転移材料のそのほかの特性に彰響乞及ぼ丁
ことなく、感光性層転移材料と金属担体との間の接着注
乞改善する他の化合物を見出丁ことが必要とされる。
(発明の要約)
しかるに金属と層転移材料との間の接着性が、接着改善
剤としてジテオカルバミナート乞使用Tることにより、
著しく改善されることが本発明者らにより見出された。
剤としてジテオカルバミナート乞使用Tることにより、
著しく改善されることが本発明者らにより見出された。
本発明の対象は、
(&)結合材として少くとも1種類のフィルム形成重合
体、 (b)付加重合ン可能ならしめる少くとも2個の二重結
合乞有し、上記結合剤と相容性の少くとも1種類の有機
化合物、 (Q)光重合開始剤或は光重合開始剤組成物、(d)接
着改善剤及び (6)場合により慣用の添加剤及び助剤を含有する光重
合可能の層転移材料において、上記接着改善剤として以
下の一般式CI)(式中、R′及びfは互に同じでも異
なってもよく、それぞれ水素、アルキル、アルアルキル
、アリール或はハロゲン、ON、アルキル、アシル、ニ
トロ アミノもしくはカルボキシルで置換されているア
リールを意味し、或&X R’及びtはに原子の置換基
としてこれと合体し、場合により置換きれている環を形
成し、 $)f@ 1 価ノ金Ji (、t 7ikS NR’
R”R”R””l[味し、R’ R’ R’及びR
4は互に同じでも異なってもよく、それぞれ水素、アル
キル、アルアルキル、了り−ルi+Xハロゲン、ON、
アルキル、アシル、ニトロもしくにアミンで置換されて
いるアリールン意味する〕で表わされる化合物が使用さ
れること乞特徴とTる材料である。
体、 (b)付加重合ン可能ならしめる少くとも2個の二重結
合乞有し、上記結合剤と相容性の少くとも1種類の有機
化合物、 (Q)光重合開始剤或は光重合開始剤組成物、(d)接
着改善剤及び (6)場合により慣用の添加剤及び助剤を含有する光重
合可能の層転移材料において、上記接着改善剤として以
下の一般式CI)(式中、R′及びfは互に同じでも異
なってもよく、それぞれ水素、アルキル、アルアルキル
、アリール或はハロゲン、ON、アルキル、アシル、ニ
トロ アミノもしくはカルボキシルで置換されているア
リールを意味し、或&X R’及びtはに原子の置換基
としてこれと合体し、場合により置換きれている環を形
成し、 $)f@ 1 価ノ金Ji (、t 7ikS NR’
R”R”R””l[味し、R’ R’ R’及びR
4は互に同じでも異なってもよく、それぞれ水素、アル
キル、アルアルキル、了り−ルi+Xハロゲン、ON、
アルキル、アシル、ニトロもしくにアミンで置換されて
いるアリールン意味する〕で表わされる化合物が使用さ
れること乞特徴とTる材料である。
アルカリ水+flf、例えは炭酸ナトリウム水fggで
現像され得ろ層転移材料がことに重要である。
現像され得ろ層転移材料がことに重要である。
(発明の構成)
結合剤(a)としては、少くともls類の酸モノマー
ことにアクリル酸もしくはメタクリル酸と、アクリラー
ト、メタクリラート及びスチレンより成る群から選択さ
れろ、少くとも1種類の疎水性七ツマ−とから構成され
る共重合体が好ましい。
ことにアクリル酸もしくはメタクリル酸と、アクリラー
ト、メタクリラート及びスチレンより成る群から選択さ
れろ、少くとも1種類の疎水性七ツマ−とから構成され
る共重合体が好ましい。
本発明の本質的特徴ケな丁接着改善剤、丁なゎち式(I
)の化合物として特に適当であるのは、式中M■がアル
カリ金v4陽イオン、ことに例えば■ ■ Na もしくはK である場合である。
)の化合物として特に適当であるのは、式中M■がアル
カリ金v4陽イオン、ことに例えば■ ■ Na もしくはK である場合である。
また式(I)の化合物であって、互に同じであっても異
ってもよいR′及びy′が。C1−a、アルキル、こと
にメチル、エチル、イングロビル及びt−ブテルY意味
する場合の化合物も好ましい。
ってもよいR′及びy′が。C1−a、アルキル、こと
にメチル、エチル、イングロビル及びt−ブテルY意味
する場合の化合物も好ましい。
さらに式(I)の化合物であって、R′とlとが以下の
一般式CU) で表わされるヘテロ環乞形成Tろものも好ましい。
一般式CU) で表わされるヘテロ環乞形成Tろものも好ましい。
ただし、n及びmは1もしくは2を、又は。或はNi/
/ Y意味し、y″は水素、アルキル、例えば炭素原子
1から6個、ことに1から4個を有Tるもの、アルアル
キル、例えは炭素原子7かう12個ン有するもの、こと
にベンジルもしく(エフェニルエチル、アリール、例え
はフェニルもしくはナフチル、或は01モしくはBrの
ようなハロゲン、ON 。
/ Y意味し、y″は水素、アルキル、例えば炭素原子
1から6個、ことに1から4個を有Tるもの、アルアル
キル、例えは炭素原子7かう12個ン有するもの、こと
にベンジルもしく(エフェニルエチル、アリール、例え
はフェニルもしくはナフチル、或は01モしくはBrの
ようなハロゲン、ON 。
アルキル、ことに’l −011アルキル、アシル、例
えばアセチルもしくtエペンゾイル、ニトロ アミノも
しくはカルボキシルで1i!換された了り−ルY意味す
る。ことにピペラジン及びモルホリンの誘導体が好まし
い。
えばアセチルもしくtエペンゾイル、ニトロ アミノも
しくはカルボキシルで1i!換された了り−ルY意味す
る。ことにピペラジン及びモルホリンの誘導体が好まし
い。
接珊改善剤(d)として本発明に工ろ層転移材料にSい
て使用される上述の始ぎ一般式<I)の化合物は、一般
に感光柱層転移材料全量に対して0.01から5重′i
k%、好ましくは0.1から2重量%、ことに0.2か
ら1重f%の割合で使用される。上記式KFJAT7)
n教化合物の混合物?使用することもでさ、若干の場合
にはこれが有利であることもある0 本発明による感光柱層転移材料のその他の組成分につき
逐次詳述する。
て使用される上述の始ぎ一般式<I)の化合物は、一般
に感光柱層転移材料全量に対して0.01から5重′i
k%、好ましくは0.1から2重量%、ことに0.2か
ら1重f%の割合で使用される。上記式KFJAT7)
n教化合物の混合物?使用することもでさ、若干の場合
にはこれが有利であることもある0 本発明による感光柱層転移材料のその他の組成分につき
逐次詳述する。
(&〕結合剤として適当なフィルム形成重合体(a)と
しては、水に不溶性であるが、アルカリ水溶液には可溶
性であり、或は少くとも分散可能である重合体結合剤、
ことにカルボキシル基含有もしくはカルボン酸アンヒド
リド基含有共重合体、例えばスチレン/マレイン酸アン
ヒドリド共重合体、スチレン/マレイン酸半エステル共
重合体、アルキル(メタ)アクリラート/(メタンアク
リル酸共重合体、スチレン、アルキル(メタノアクリラ
ート及び(メタ)アクリル酸、場合によりさらに他のモ
ノマー(ことに西独出願公告2027467号、同公開
2205146号、同公開2736058号或はヨーロ
ッパ特許出願公開49504定記公報参照)から成る共
重合体、或(工西独出願公開3447356号公報に記
載されているような、アクリル酸及び/或はメタクリル
酸、疎水性コモノマー及びN−ビニルアミドから成る共
重合体が挙げられろ。このような共重合体は、例えばN
−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−
ビニル−N−メチルアセトアミドのようなビニルアミド
、もしくはN−ビニルピロリドン及び/或Its N−
ビニルカプロラクタムのようなN−ビニルラクタム父1
0から50重量%、アクリル酸及び/或にメタクリル酸
を5から30重t%、ならびに水及びアルカリ水溶液に
不fg注の少くとも1f′11類の疎水性コモノマー3
0から80宵t%を重合含有することかでざる。
しては、水に不溶性であるが、アルカリ水溶液には可溶
性であり、或は少くとも分散可能である重合体結合剤、
ことにカルボキシル基含有もしくはカルボン酸アンヒド
リド基含有共重合体、例えばスチレン/マレイン酸アン
ヒドリド共重合体、スチレン/マレイン酸半エステル共
重合体、アルキル(メタ)アクリラート/(メタンアク
リル酸共重合体、スチレン、アルキル(メタノアクリラ
ート及び(メタ)アクリル酸、場合によりさらに他のモ
ノマー(ことに西独出願公告2027467号、同公開
2205146号、同公開2736058号或はヨーロ
ッパ特許出願公開49504定記公報参照)から成る共
重合体、或(工西独出願公開3447356号公報に記
載されているような、アクリル酸及び/或はメタクリル
酸、疎水性コモノマー及びN−ビニルアミドから成る共
重合体が挙げられろ。このような共重合体は、例えばN
−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−
ビニル−N−メチルアセトアミドのようなビニルアミド
、もしくはN−ビニルピロリドン及び/或Its N−
ビニルカプロラクタムのようなN−ビニルラクタム父1
0から50重量%、アクリル酸及び/或にメタクリル酸
を5から30重t%、ならびに水及びアルカリ水溶液に
不fg注の少くとも1f′11類の疎水性コモノマー3
0から80宵t%を重合含有することかでざる。
この疎水性コモノマーの例としては、ビニル芳香族化合
物、例えばスチレン、側鎖もしくに核に?いて例えばア
ルキルもしくはハロゲンにより置換されているスチレン
、例えばα−メチルスチレン、p−メチルスチレン、及
びとニルアセタートならびにアクリル酸及びメタクリル
酸のエステル、ことに直11工分校モノアルカノール
ことに炭素原子1かも4個を宵Tろもののアクリル酸及
びメタクリル酸エステルが挙げられ、ことにメチルメタ
クリラートが好ましい。共重合体は1種類或は複数種類
の疎水性コモノマーy!−重合金有でざるが、このフモ
ノマー単位は共重合体全量に対して30から80重量%
、ことに40から70軍t%の割合で重合含有されるの
が好ましい。
物、例えばスチレン、側鎖もしくに核に?いて例えばア
ルキルもしくはハロゲンにより置換されているスチレン
、例えばα−メチルスチレン、p−メチルスチレン、及
びとニルアセタートならびにアクリル酸及びメタクリル
酸のエステル、ことに直11工分校モノアルカノール
ことに炭素原子1かも4個を宵Tろもののアクリル酸及
びメタクリル酸エステルが挙げられ、ことにメチルメタ
クリラートが好ましい。共重合体は1種類或は複数種類
の疎水性コモノマーy!−重合金有でざるが、このフモ
ノマー単位は共重合体全量に対して30から80重量%
、ことに40から70軍t%の割合で重合含有されるの
が好ましい。
重合体結合剤として感光性層転移材料中に添加されろ共
重合としては、ことにN−ビニルラクタム/(メタ)ア
クリル酸/メチルメタクリラート共重合体或fX N−
ビニルラクタム/(メタノアクリル酸/スチレン共重合
体が好ましい。典型的実施例に8いてこれら共重合体は
、その全量に対してN−ビニルカプロラクタム及び/或
tX N−ビニルピロリドン乞25から35重!t%、
(メタフアクリル酸ン5から15賞量%、疎水性コモノ
マ−ヲ55から60重f%重合金有する。
重合としては、ことにN−ビニルラクタム/(メタ)ア
クリル酸/メチルメタクリラート共重合体或fX N−
ビニルラクタム/(メタノアクリル酸/スチレン共重合
体が好ましい。典型的実施例に8いてこれら共重合体は
、その全量に対してN−ビニルカプロラクタム及び/或
tX N−ビニルピロリドン乞25から35重!t%、
(メタフアクリル酸ン5から15賞量%、疎水性コモノ
マ−ヲ55から60重f%重合金有する。
その他の好ましい重合体結合剤(IL)としては、スチ
レン/(メタノアクリル酸/メチルメタクリラート/エ
チルアクリラすト井1合体が挙げられ、これは例えばス
チレン1oから40%、メタクリル酸20かも30%、
メチルメタクリラート5かも50%及びエチルアクリラ
ート0から50%乞車合金有Tる。
レン/(メタノアクリル酸/メチルメタクリラート/エ
チルアクリラすト井1合体が挙げられ、これは例えばス
チレン1oから40%、メタクリル酸20かも30%、
メチルメタクリラート5かも50%及びエチルアクリラ
ート0から50%乞車合金有Tる。
共重合体(a) Y構成するためのコモノマーの種類及
びtは、上述した一般的枠内ににいて、生成共重合体が
フィルム形成能乞有し、その溶解性乃至分散性に関Tる
上述要件ゲ充足Tるように選足される。
びtは、上述した一般的枠内ににいて、生成共重合体が
フィルム形成能乞有し、その溶解性乃至分散性に関Tる
上述要件ゲ充足Tるように選足される。
重合体結合剤として使用されろべさ共重合体は、例えば
溶液中において各フモノマーンそれ自体公知で慣用の方
法で共重合させることにより製造され得る。この溶WI
X合のため、溶媒として低級アルカノール ケトン、エ
ステルなど、例えはメタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、エチルアセタートが使用される。重合開始剤
としては慣用のラジカル開始剤、例えばアゾビスイソブ
テ)v= ) IJル、ベンゾイルペルオキシドなどが
使用される。
溶液中において各フモノマーンそれ自体公知で慣用の方
法で共重合させることにより製造され得る。この溶WI
X合のため、溶媒として低級アルカノール ケトン、エ
ステルなど、例えはメタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、エチルアセタートが使用される。重合開始剤
としては慣用のラジカル開始剤、例えばアゾビスイソブ
テ)v= ) IJル、ベンゾイルペルオキシドなどが
使用される。
結合剤として使用されるフィルム形成性重合体(&)は
、−船釣に感光柱層転移材料全量に対して、40から9
0重景%、好ましくは50から70重量%含有される。
、−船釣に感光柱層転移材料全量に対して、40から9
0重景%、好ましくは50から70重量%含有される。
(b)付塀重合ン可能ならしめる少くとも2個の二重結
合を有する有機化合物(1))としてを工、沸点が10
0℃より暮く、分子量が1000より小さい、慣用の光
重合可能のモノマーを使用することができる。
合を有する有機化合物(1))としてを工、沸点が10
0℃より暮く、分子量が1000より小さい、慣用の光
重合可能のモノマーを使用することができる。
このモノマーの典型的例としては、ことに(メタ)アク
リル醒誘導体、特に(メタ)アクリル酸エステルが挙げ
られる。さらに具体的には、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール或は分子i
:500−Jでのポリエチレングリフール、1.2−プ
ロパンジオール、1.3−プロパンジオール、分子量5
00までのポリプロピレングリコール、1.4−7”タ
ンジオール、 1,1゜1−トリメチロールプロパン
、2.2−ジメチルプロパンジオール グリセリンのジ
及びトリ(メタフアクリル酸エステル、或をエベンタエ
リトリット、ペンタエリトリット−テトラ(メタ)アク
リラート、テトラ−(メタ)アクリラート或にグルツー
ストリ−(メタ)アクリラート、さらに上述したジオー
ル及びポリオールのモノアクリラート及びモノメタクリ
ラート、例えばエチレングリコールジー トリー或はテ
トラエチレングリコールモノ(メタ)アクリラート、ク
ロバンジオールーモ/(メタファクリラート及びブタン
ジオール−モノ(メタ)アクリラート、及びモノアルカ
ノール、ことに炭素原子1かも20個のモノアルカノー
ルの(メタ)アクリラートである。上述したアクリラー
ト及びメタクリラートのほかに、元1合可能の七ツマ−
として、アリル化合物及びその他のビニル化合物、例え
ばN−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、
ビニルアセタート、ビニルピロビオナート、(メタフア
クリルアミド、N−メチロール−(メタ)アクリルアミ
ド、エチレングリコールのビスエーテル、N−メタノー
ル−(メタ)アクリルアミド、ビニルカルバマート及び
ビスアクリルアミド醋酸が挙げられる。
リル醒誘導体、特に(メタ)アクリル酸エステルが挙げ
られる。さらに具体的には、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール或は分子i
:500−Jでのポリエチレングリフール、1.2−プ
ロパンジオール、1.3−プロパンジオール、分子量5
00までのポリプロピレングリコール、1.4−7”タ
ンジオール、 1,1゜1−トリメチロールプロパン
、2.2−ジメチルプロパンジオール グリセリンのジ
及びトリ(メタフアクリル酸エステル、或をエベンタエ
リトリット、ペンタエリトリット−テトラ(メタ)アク
リラート、テトラ−(メタ)アクリラート或にグルツー
ストリ−(メタ)アクリラート、さらに上述したジオー
ル及びポリオールのモノアクリラート及びモノメタクリ
ラート、例えばエチレングリコールジー トリー或はテ
トラエチレングリコールモノ(メタ)アクリラート、ク
ロバンジオールーモ/(メタファクリラート及びブタン
ジオール−モノ(メタ)アクリラート、及びモノアルカ
ノール、ことに炭素原子1かも20個のモノアルカノー
ルの(メタ)アクリラートである。上述したアクリラー
ト及びメタクリラートのほかに、元1合可能の七ツマ−
として、アリル化合物及びその他のビニル化合物、例え
ばN−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、
ビニルアセタート、ビニルピロビオナート、(メタフア
クリルアミド、N−メチロール−(メタ)アクリルアミ
ド、エチレングリコールのビスエーテル、N−メタノー
ル−(メタ)アクリルアミド、ビニルカルバマート及び
ビスアクリルアミド醋酸が挙げられる。
本発明による光重合可能層転移材料のための適当なエチ
レン注不飽和元東合性化合物は2個以上のアクリロイル
及び/或はメタクリロイル基ン有するウレタンアクリラ
ートもしくはウレタンメタクリラートである。このよう
なウレタン(メタ)アクリラートモノマーは1例えは脂
肪族ジオール或はポリオールな約1:2のOH: Ne
o当量割合の有機ジイソシアナートと反応させ、得られ
た反応生成物の遊離インシアナート基を適当なアクリロ
イル及び/或はメタクリロイル化合物、例えばヒドロキ
シアルキル−(メタノアクリラートと反応させることに
より得られる。脂肪族のジオール或はポリオールとして
(工、ことに上述のジ及びトリ(メタファクリラートと
関連して述べたジ及びポリヒドロキシ化合物が挙げられ
る。有機ジイソシアナートとじてをエヘキサメテレンジ
イソシアナート、トルイレンジイソシアナート、イソホ
ロンジイソシアナートなどが挙げられる。ヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリラートとして(工、とドロキシエ
チル−(メタ)アクリラート、プロパンジオール−モノ
(メタノアクリラート或はブタンジオール−モノ(メタ
)アクリラートが挙げられる。
レン注不飽和元東合性化合物は2個以上のアクリロイル
及び/或はメタクリロイル基ン有するウレタンアクリラ
ートもしくはウレタンメタクリラートである。このよう
なウレタン(メタ)アクリラートモノマーは1例えは脂
肪族ジオール或はポリオールな約1:2のOH: Ne
o当量割合の有機ジイソシアナートと反応させ、得られ
た反応生成物の遊離インシアナート基を適当なアクリロ
イル及び/或はメタクリロイル化合物、例えばヒドロキ
シアルキル−(メタノアクリラートと反応させることに
より得られる。脂肪族のジオール或はポリオールとして
(工、ことに上述のジ及びトリ(メタファクリラートと
関連して述べたジ及びポリヒドロキシ化合物が挙げられ
る。有機ジイソシアナートとじてをエヘキサメテレンジ
イソシアナート、トルイレンジイソシアナート、イソホ
ロンジイソシアナートなどが挙げられる。ヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリラートとして(工、とドロキシエ
チル−(メタ)アクリラート、プロパンジオール−モノ
(メタノアクリラート或はブタンジオール−モノ(メタ
)アクリラートが挙げられる。
同様に2個以上のアクリロイル及び/或ハメタクリロイ
ル基乞有するモノマーも適当であって、ジもしくはポリ
グリシジル化合物乞アクリル酸及び/或はメタクリル酸
と反応させて得られる。このジ及びポリグリシジル化合
物としては、ことにジ及びポリグリシジルエーテル多価
フェノール、例えばビスフェノールAwi、はその置換
生成物が挙げられる。このアクリロイル及び/或はメタ
クリロイル基含有モノマーは、例えばビスフェノールA
グリシジルエーテルとアクリル酸及び/或はメタクリル
酸と乞約1:2のモル割合で反応させることにより得ら
れる。
ル基乞有するモノマーも適当であって、ジもしくはポリ
グリシジル化合物乞アクリル酸及び/或はメタクリル酸
と反応させて得られる。このジ及びポリグリシジル化合
物としては、ことにジ及びポリグリシジルエーテル多価
フェノール、例えばビスフェノールAwi、はその置換
生成物が挙げられる。このアクリロイル及び/或はメタ
クリロイル基含有モノマーは、例えばビスフェノールA
グリシジルエーテルとアクリル酸及び/或はメタクリル
酸と乞約1:2のモル割合で反応させることにより得ら
れる。
付加重合Y可能ならしめる少くとも2個の二重結合χ有
する化合物(1))のはかに、光1合可能層転移材料は
エチレン性不飽和二重結合をただ1個だけ有する1種類
或はvI数種類の元重合可能モノマ−乞含有することか
でざる。このような単官能性モノマーの例として、1個
のアクリルもしくはメタクリル末端基を有し、その他の
連鎖末端が例えは炭素原子1から4個のアルキル或はフ
ェニルのようなアリールにより置換されていることがで
きるポリエチレンオキシド或はポリグレンオキシド、な
らびにアクリルグリシジルエーテルアクリラートもしく
はメタクリラート或はブタンジオールモノアクリラート
もしくはメタクリラートが挙げられる。
する化合物(1))のはかに、光1合可能層転移材料は
エチレン性不飽和二重結合をただ1個だけ有する1種類
或はvI数種類の元重合可能モノマ−乞含有することか
でざる。このような単官能性モノマーの例として、1個
のアクリルもしくはメタクリル末端基を有し、その他の
連鎖末端が例えは炭素原子1から4個のアルキル或はフ
ェニルのようなアリールにより置換されていることがで
きるポリエチレンオキシド或はポリグレンオキシド、な
らびにアクリルグリシジルエーテルアクリラートもしく
はメタクリラート或はブタンジオールモノアクリラート
もしくはメタクリラートが挙げられる。
付加重合ン可能ならしめる少くとも2偕の二重結合乞有
する化合物(1))は、結合剤として使用されるフィル
ム形成性重合体と相容性のあるものが選ばれる。この光
重合注モノマーは、一般的に光重合性層転移材料全量に
対して10から60重量%、ことに20から40 B
6%の割合で使用される。
する化合物(1))は、結合剤として使用されるフィル
ム形成性重合体と相容性のあるものが選ばれる。この光
重合注モノマーは、一般的に光重合性層転移材料全量に
対して10から60重量%、ことに20から40 B
6%の割合で使用される。
(C)光重合性層転移材料のための光重合開始剤W、は
その組成物としては、感光性、51e重合可能記録材料
に対して慣用の、公知開始剤もしくは開始剤組成物が使
用される。その例として(エペンゾイン、ベンゾインエ
ーテル、ことにベンゾインアルキルエーテル、置換ベン
ゾイン、ftPJベンゾインのアルキルエーテル、例え
ばα−メチルベンゾインアルキルエーテルもしくはα−
ヒドロキシメチルベンゾインアルキルエーテル、ベンジ
ル、ベンジルケタール、ことにベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメチルエチルケタールもしくはベンジルメ
チルベンジルケタール、光重合開始剤として公知有効な
アシルホスフィンオキシト化合物、例えば2,4.6−
)ジメチルベンゾイルジアリールホスフインオキシド、
ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、 4.4’
−ジメチルアミノベンゾフェノン、ミシュラーケトン誘
導体、アントラキノン、置換アントラキノン、アリール
置換イミダゾール、その誘導体、例えば2,4.5−)
リアリールイミダゾールニ量体、チオキサントン誘導体
及び、光重合開始剤として有効なアクリジンもしくはフ
ェナジンの誘導体が挙げられる。開始剤組成物として(
工、上述した開始剤と、増e!剤或は活性化剤、ことに
3級アミンとの混合物が挙げられる。
その組成物としては、感光性、51e重合可能記録材料
に対して慣用の、公知開始剤もしくは開始剤組成物が使
用される。その例として(エペンゾイン、ベンゾインエ
ーテル、ことにベンゾインアルキルエーテル、置換ベン
ゾイン、ftPJベンゾインのアルキルエーテル、例え
ばα−メチルベンゾインアルキルエーテルもしくはα−
ヒドロキシメチルベンゾインアルキルエーテル、ベンジ
ル、ベンジルケタール、ことにベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメチルエチルケタールもしくはベンジルメ
チルベンジルケタール、光重合開始剤として公知有効な
アシルホスフィンオキシト化合物、例えば2,4.6−
)ジメチルベンゾイルジアリールホスフインオキシド、
ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、 4.4’
−ジメチルアミノベンゾフェノン、ミシュラーケトン誘
導体、アントラキノン、置換アントラキノン、アリール
置換イミダゾール、その誘導体、例えば2,4.5−)
リアリールイミダゾールニ量体、チオキサントン誘導体
及び、光重合開始剤として有効なアクリジンもしくはフ
ェナジンの誘導体が挙げられる。開始剤組成物として(
工、上述した開始剤と、増e!剤或は活性化剤、ことに
3級アミンとの混合物が挙げられる。
このような開始剤組成物の具体例としては、ベンゾフェ
ノンもしくはベンゾフェノン誘導体と3級アミン、例え
はミシュラーケトン、トリエタノールアミンもしくはジ
メチルアミ7安息香酸エテルエステルの組合わせ、或は
チオキサントン誘導体、3級アミン或ハヘキサアリール
ビスイミダゾール誘導体の混合物が挙げられる。元1合
開始剤もしくはその組成物を工、光重合可能層転移材料
中に0.01から10重量%、ことに0.5から5重t
%の割合で含有される。
ノンもしくはベンゾフェノン誘導体と3級アミン、例え
はミシュラーケトン、トリエタノールアミンもしくはジ
メチルアミ7安息香酸エテルエステルの組合わせ、或は
チオキサントン誘導体、3級アミン或ハヘキサアリール
ビスイミダゾール誘導体の混合物が挙げられる。元1合
開始剤もしくはその組成物を工、光重合可能層転移材料
中に0.01から10重量%、ことに0.5から5重t
%の割合で含有される。
(11)さらに必要に応じて本発明による光重合性層転
移材料中に使用される添卯剤及び助剤(e〕としては、
例えば熱重合禁止剤、染料及び/或は顔料、フォトクロ
ム化合物もしくはこれを含有する組成物、感光測定制御
剤、可塑剤、原動助剤、つや消し剤もしくは光沢剤など
が挙げられる。適当な熱重合禁止剤は、例えばヒドロキ
ノン、ヒドロキノン誘導体、2.6−ジーt−ブチル−
p−クレゾール、ニトロフェノール、N−ニトロンアミ
ン、例工ばN−ニトロソジフェニルアミンに&sw−二
トロンシクロヘキシルアミンの塩である。コントラスト
剤及び硬化剤としても作用し得る染料及び/或は顔料と
しては、ことにブリリアントグリーン染料(C8工、
42040 )、ビクトリアピュアブルー FGA 、
ビクトリアピュアブルーBO(c,1,42595
)、ビクトリアブルーB (c,工、 44045 )
、ローダミン5 G (c,1,45160)、トリフ
ェニルメタン染料、ナフタルイミド染料及び3′−フェ
ニル−7−シメチルアミンー2,2′−スピロ−ジー(
2H−1−ベンゾビラン)が挙げられる。化学線照射に
より光が可逆的に或を工非可逆的に変化し、しかも光重
合過程ン損なわないフォトクロム剤は、例えばロイコ染
料と適当な活性化剤との組合わせである。このロイコ染
料の例としてを工、トリフェニルメタンのロイコ塩基、
例えはクリスタルバイオレットロイコ塩基及びマラカイ
トグリーンロイコ塩基、ロイコ塩基ブルー ロイフパラ
ローズア= IJン、ロイコパテントブルーAもしくは
Bが挙げられる。さらにローダミンB塩基も使用され得
る。このようなフォトクロム化合物の活性化剤としては
、ことに化学線照射によりハロゲン基が分解する有機ハ
ロゲン化合物取ハヘキサアリールビスイミダゾールが挙
げられる。感度計測制御剤としては、例えば9−ニトロ
アントラセ/、10.10’−ビスアントロン、ツェナ
ジニウム染料、フェノキサジニウム染料、アクリジニウ
ム染料或はフェノテアジニウム染料、ことに穏和な還元
剤、l、3−ジニトロベンゼン及び類似化合物との組合
わせが使用される。可塑剤としては、それ自体公知慣用
の低分子量もしくは高分子量エステル、例えばフタラー
ド、アジパート、トルエンスルホンアミド或はトリクレ
シルホスファートが使用される。
移材料中に使用される添卯剤及び助剤(e〕としては、
例えば熱重合禁止剤、染料及び/或は顔料、フォトクロ
ム化合物もしくはこれを含有する組成物、感光測定制御
剤、可塑剤、原動助剤、つや消し剤もしくは光沢剤など
が挙げられる。適当な熱重合禁止剤は、例えばヒドロキ
ノン、ヒドロキノン誘導体、2.6−ジーt−ブチル−
p−クレゾール、ニトロフェノール、N−ニトロンアミ
ン、例工ばN−ニトロソジフェニルアミンに&sw−二
トロンシクロヘキシルアミンの塩である。コントラスト
剤及び硬化剤としても作用し得る染料及び/或は顔料と
しては、ことにブリリアントグリーン染料(C8工、
42040 )、ビクトリアピュアブルー FGA 、
ビクトリアピュアブルーBO(c,1,42595
)、ビクトリアブルーB (c,工、 44045 )
、ローダミン5 G (c,1,45160)、トリフ
ェニルメタン染料、ナフタルイミド染料及び3′−フェ
ニル−7−シメチルアミンー2,2′−スピロ−ジー(
2H−1−ベンゾビラン)が挙げられる。化学線照射に
より光が可逆的に或を工非可逆的に変化し、しかも光重
合過程ン損なわないフォトクロム剤は、例えばロイコ染
料と適当な活性化剤との組合わせである。このロイコ染
料の例としてを工、トリフェニルメタンのロイコ塩基、
例えはクリスタルバイオレットロイコ塩基及びマラカイ
トグリーンロイコ塩基、ロイコ塩基ブルー ロイフパラ
ローズア= IJン、ロイコパテントブルーAもしくは
Bが挙げられる。さらにローダミンB塩基も使用され得
る。このようなフォトクロム化合物の活性化剤としては
、ことに化学線照射によりハロゲン基が分解する有機ハ
ロゲン化合物取ハヘキサアリールビスイミダゾールが挙
げられる。感度計測制御剤としては、例えば9−ニトロ
アントラセ/、10.10’−ビスアントロン、ツェナ
ジニウム染料、フェノキサジニウム染料、アクリジニウ
ム染料或はフェノテアジニウム染料、ことに穏和な還元
剤、l、3−ジニトロベンゼン及び類似化合物との組合
わせが使用される。可塑剤としては、それ自体公知慣用
の低分子量もしくは高分子量エステル、例えばフタラー
ド、アジパート、トルエンスルホンアミド或はトリクレ
シルホスファートが使用される。
これらの添加剤及び/或は助剤は、光重合可能の層転移
材料に慣用の有効量、丁なわちこの層転移材料の総量(
対して30 N量%、ことに20重i#%のfヶ上廻ら
ない量で使用される。
材料に慣用の有効量、丁なわちこの層転移材料の総量(
対して30 N量%、ことに20重i#%のfヶ上廻ら
ない量で使用される。
光重合可能層転移材料中の各組成分の含有量割合は、一
般的にこの層転移材料がアルカリ水溶液により現像可能
であるのみならず、室温において固体状であってしかも
粘着性ではなく、良好なフィルム形成特性ン示すように
選択される。フォトレジストフィルムとして本発明によ
る感光柱層転移材料を使用するためには、さらにこの層
転移材料が良好な積層性を有し、圧力及び場合により熱
の使用下に基板に転移され得るように各MJ成分の選択
乞行なう必要がある。レジストパターン炸裂のための感
光柱層転移材料の層厚さ&工lから50μmに調整され
る。
般的にこの層転移材料がアルカリ水溶液により現像可能
であるのみならず、室温において固体状であってしかも
粘着性ではなく、良好なフィルム形成特性ン示すように
選択される。フォトレジストフィルムとして本発明によ
る感光柱層転移材料を使用するためには、さらにこの層
転移材料が良好な積層性を有し、圧力及び場合により熱
の使用下に基板に転移され得るように各MJ成分の選択
乞行なう必要がある。レジストパターン炸裂のための感
光柱層転移材料の層厚さ&工lから50μmに調整され
る。
このよう7層転移材料のための暫定的担体材料としては
合成樹脂フィルム或はシート、ことにポリエステルシー
トが好ましい。これは感光性配分材料に対して適当な接
着カケ有し、しかも光重合性記録層上に必要な積層乃至
鍍金乞行なった後、化学線露光の前に2いても後におい
ても恒久的基板上への転移のために剥離され得る。
合成樹脂フィルム或はシート、ことにポリエステルシー
トが好ましい。これは感光性配分材料に対して適当な接
着カケ有し、しかも光重合性記録層上に必要な積層乃至
鍍金乞行なった後、化学線露光の前に2いても後におい
ても恒久的基板上への転移のために剥離され得る。
本発明による光重合可能層転移材料の担体と接着されて
いる面と反対側の面には、被覆シート、例えばポリオレ
フィン、ことにポリエチレンもしくはポリプロピレンの
シートで被覆すれる。
いる面と反対側の面には、被覆シート、例えばポリオレ
フィン、ことにポリエチレンもしくはポリプロピレンの
シートで被覆すれる。
本発明による光重合性層転移材料の作製を工、それ自体
公知慣用の方法で、まず該材料乞形成する各組成分の均
質混合物を調製し、この混合物を、場合により中間層ン
設けて、上記暫定担体上に塗布することにより行なわれ
る。さらに具体的に説明丁れば、上記光重合性層転移材
料の各組成分t、適当な混合装置、例えば混合機もしく
は押出機に8いて均質に混合し、この混合物を例えば押
出し、カレンダー処理もしくは押圧処理し、所望の厚さ
としてから担体シート上に積層することができる。
公知慣用の方法で、まず該材料乞形成する各組成分の均
質混合物を調製し、この混合物を、場合により中間層ン
設けて、上記暫定担体上に塗布することにより行なわれ
る。さらに具体的に説明丁れば、上記光重合性層転移材
料の各組成分t、適当な混合装置、例えば混合機もしく
は押出機に8いて均質に混合し、この混合物を例えば押
出し、カレンダー処理もしくは押圧処理し、所望の厚さ
としてから担体シート上に積層することができる。
しかしながら、さらに好ましい方法は、この層転移材料
の各組底分ン適当な溶媒もしく舎工溶媒混合液に溶解さ
せ、このffjg’a’担体シート上に押出成形、注下
、I!Ilaその他の公知塗布方法で所望の厚さに層形
成することである。その後、この溶媒を公知慣用の方法
で除去し、層転移材料の層を乾燥する。この組成分ン混
合し、暫定担体シート上に施こすための適当な溶媒を工
、低級アルコール、ケトン或はエステル、例えはメタノ
ール、アセトン、メチルエチルケトン、エチルアセター
トなどと、これらの混合液である。次いで光重合性転移
材料の層に必要に応じて保護層を形成し或は保護ジ−ト
ン被覆する。
の各組底分ン適当な溶媒もしく舎工溶媒混合液に溶解さ
せ、このffjg’a’担体シート上に押出成形、注下
、I!Ilaその他の公知塗布方法で所望の厚さに層形
成することである。その後、この溶媒を公知慣用の方法
で除去し、層転移材料の層を乾燥する。この組成分ン混
合し、暫定担体シート上に施こすための適当な溶媒を工
、低級アルコール、ケトン或はエステル、例えはメタノ
ール、アセトン、メチルエチルケトン、エチルアセター
トなどと、これらの混合液である。次いで光重合性転移
材料の層に必要に応じて保護層を形成し或は保護ジ−ト
ン被覆する。
このようにして形成された本発明による光重合性層転移
材料は、ことにそれ自体公知慣用の方法でレジストパタ
ーン乞形成するのに適当である。
材料は、ことにそれ自体公知慣用の方法でレジストパタ
ーン乞形成するのに適当である。
このために本発明による光重合性層転移材料は、保護さ
れるべき基板上に転移された後、化学線光源、例えば紫
外線レーザ、低圧、中圧或は高圧水銀灯、超化学線螢光
灯、キセノyインノくラスランプ、或(工さらに紫外線
レーザ、アルゴンレーザなどにより画像形成m元される
。光源からもたらされる放射線を工、一般に230から
450nm、ことに300から420 nmの波長乞有
し、ことに光重合性層転移材料に含有されている光重合
開始剤の自己吸収に適合する。
れるべき基板上に転移された後、化学線光源、例えば紫
外線レーザ、低圧、中圧或は高圧水銀灯、超化学線螢光
灯、キセノyインノくラスランプ、或(工さらに紫外線
レーザ、アルゴンレーザなどにより画像形成m元される
。光源からもたらされる放射線を工、一般に230から
450nm、ことに300から420 nmの波長乞有
し、ことに光重合性層転移材料に含有されている光重合
開始剤の自己吸収に適合する。
化学線による画像形成露光に工り層転移材料中の露光帯
域にSいて光重合がもたらされ、露光帯域及び非露光帯
域の間に溶解性の差違が生ずる。
域にSいて光重合がもたらされ、露光帯域及び非露光帯
域の間に溶解性の差違が生ずる。
この画像形成8党後、層転移材料の非11元、非架橋帯
域がアルカリ水溶液により洗除され、現像される。現像
は洗浄、噴霧、塗擦、ブラッシングなどにより行なわれ
る。現像液としては、最適のpH値、一般に8から14
、ことに9から13の範囲に調整されたアルカリ性物質
、例えばボラツクス、燐酸水素ジナトリウム、ソーダ、
アルカリ金属ヒドロキシド或は有機塩基、例えばジもし
くをニトリエタノールアミン水fg液が挙げられる。こ
の現像用アルカリ水溶液を工、さらに緩衝塩、例えば水
浴性のアルカリ金属ホスファート、シリカート、ボラー
ト、アセタート或はベンゾアートY含有することができ
る。現像液の他の組成分として、架橋剤、ことに陰イオ
ン性架橋剤及び場合によりさらに可溶性重合体、例えば
ナトリウムカルボキシメチルセルロース ポリビニルア
ルコール、ポリナトリウムアクリラー) 7CどY含有
し得る。本発明による層転移材料は、一般に純アルカリ
水溶液現像剤により洗除可能であるが、必須ではないに
しても少量の水浴性有機溶媒、例えば脂肪族アルコール
、アセトン或はテトラヒドロフランχ含有し得ることは
云うまでもない。
域がアルカリ水溶液により洗除され、現像される。現像
は洗浄、噴霧、塗擦、ブラッシングなどにより行なわれ
る。現像液としては、最適のpH値、一般に8から14
、ことに9から13の範囲に調整されたアルカリ性物質
、例えばボラツクス、燐酸水素ジナトリウム、ソーダ、
アルカリ金属ヒドロキシド或は有機塩基、例えばジもし
くをニトリエタノールアミン水fg液が挙げられる。こ
の現像用アルカリ水溶液を工、さらに緩衝塩、例えば水
浴性のアルカリ金属ホスファート、シリカート、ボラー
ト、アセタート或はベンゾアートY含有することができ
る。現像液の他の組成分として、架橋剤、ことに陰イオ
ン性架橋剤及び場合によりさらに可溶性重合体、例えば
ナトリウムカルボキシメチルセルロース ポリビニルア
ルコール、ポリナトリウムアクリラー) 7CどY含有
し得る。本発明による層転移材料は、一般に純アルカリ
水溶液現像剤により洗除可能であるが、必須ではないに
しても少量の水浴性有機溶媒、例えば脂肪族アルコール
、アセトン或はテトラヒドロフランχ含有し得ることは
云うまでもない。
本発明による光重合可能層転移材料に、金属表面に対す
る秀れた接着性を示す。この高い接着性能は水性処理浴
、ことにプリント回路板作製用の鍍金洛中にKいても維
持される。これにより微細な画素も著しく忠実に再現可
能である。
る秀れた接着性を示す。この高い接着性能は水性処理浴
、ことにプリント回路板作製用の鍍金洛中にKいても維
持される。これにより微細な画素も著しく忠実に再現可
能である。
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが
、ここで使用される部及びパーセントは特に明示されな
い限り丁べてNtに関するものである。
、ここで使用される部及びパーセントは特に明示されな
い限り丁べてNtに関するものである。
実施例 1
フォトレジストフィルム作製用の塗布浴ff’&以下の
組成分を混合することにより調製した。
組成分を混合することにより調製した。
(13スチレン(23%〕、メチルメタクリラート(3
5%)、ブチルアクリラート(11%]及びメタクリル
酸(30%]から構成される、フイケンテヤーによるに
値51の共重合体の37%溶液(1:1のメチルエチル
ケトン/イソプロパツール混合溶媒中)を149.80
f。
5%)、ブチルアクリラート(11%]及びメタクリル
酸(30%]から構成される、フイケンテヤーによるに
値51の共重合体の37%溶液(1:1のメチルエチル
ケトン/イソプロパツール混合溶媒中)を149.80
f。
(2)トリメチロールプロパントリアクリラートY 3
8.0Of、 ■ (3) Siaomet パテントブルー80113
170.05(4)エチル−(p−ジメチルアミノ)安
息香酸ya/3.oor、 (5)イソプロビルテオキサントンン0.50f、(6
)ナトリウムージエチルジチオカルバミナートを0.5
0f。
8.0Of、 ■ (3) Siaomet パテントブルー80113
170.05(4)エチル−(p−ジメチルアミノ)安
息香酸ya/3.oor、 (5)イソプロビルテオキサントンン0.50f、(6
)ナトリウムージエチルジチオカルバミナートを0.5
0f。
この塗布浴液乞23μm厚さのポリエチレン、テレフタ
ラートシートに施こして、蒸散、乾燥(90℃、5分間
)の結果乾燥厚さを38μmとした。この光重合可能層
ya′30μm厚さのポリエチレンシートで被覆した。
ラートシートに施こして、蒸散、乾燥(90℃、5分間
)の結果乾燥厚さを38μmとした。この光重合可能層
ya′30μm厚さのポリエチレンシートで被覆した。
次いでこのポリエステルシート、xi合可能層及びポリ
エチレンシートから成る積層テープ乞ロールに捲回した
。試験のためポリエチレン被覆を剥離し、感光性層χ有
するレジストフィルムをプリント回路基板の表面に被覆
された銅面上に接着した(105℃、1.5 m 7分
(速度)。
エチレンシートから成る積層テープ乞ロールに捲回した
。試験のためポリエチレン被覆を剥離し、感光性層χ有
するレジストフィルムをプリント回路基板の表面に被覆
された銅面上に接着した(105℃、1.5 m 7分
(速度)。
■
次いでこのレジスト層ン市販のR15ton PO7
’)ンタでテストネガチプを介して画像形成露光した。
’)ンタでテストネガチプを介して画像形成露光した。
露光後、ポリエステルシートY剥離し、レジスト乞1%
ソーダ溶液で30秒間現像した。
ソーダ溶液で30秒間現像した。
プリント回路基板ン恒久化するため、慣用の前処理、丁
なわち洗浄及びエツチング処理を行ない、レジストの施
こされていない部分に38μm厚さの錫をt鍍被覆した
。次いで露光レジストを50°Cにおいて3%KOH溶
液で洗除した。レジストの完全洗除に45秒間を要した
。次いで電鍍回路稜縁の鮮鋭度を顕微鐘検査し、以下の
尺度で評価した。
なわち洗浄及びエツチング処理を行ない、レジストの施
こされていない部分に38μm厚さの錫をt鍍被覆した
。次いで露光レジストを50°Cにおいて3%KOH溶
液で洗除した。レジストの完全洗除に45秒間を要した
。次いで電鍍回路稜縁の鮮鋭度を顕微鐘検査し、以下の
尺度で評価した。
1、稜縁鮮鋭
2、若干個所で5μmまでレジストが滲透して稜縁不鮮
明 3、回路板全体にわたり5μmまでレジストが滲透して
稜縁不鮮明 4、滲透5μm以上 5、 @接口路間短絡 本実施例の場合評価は1であった。
明 3、回路板全体にわたり5μmまでレジストが滲透して
稜縁不鮮明 4、滲透5μm以上 5、 @接口路間短絡 本実施例の場合評価は1であった。
対比例 1
実施例1と同様にして、ただしナトリウムージエチルジ
テオカルバミナートを淡側しないで処理した。実施例1
と同様に検査評価して結果は5であった。
テオカルバミナートを淡側しないで処理した。実施例1
と同様に検査評価して結果は5であった。
実施例 2
実施例1と同様に、ただしナトリウムージエチルジチオ
カルバミナートの代りに0.52のナトリウム−モルホ
リン−カルボジチオラートを使用して処理した。
カルバミナートの代りに0.52のナトリウム−モルホ
リン−カルボジチオラートを使用して処理した。
実施例3及び対比例2
フォトレジストフィルム作製のための塗布溶液を以下の
組成分の混合物により調時した。
組成分の混合物により調時した。
(1)メチルメタクリラー) (57%)、エチルアク
リラート(20%)及びメタクリル酸(23%)から構
成される、フイケンチャーに値44の共重合体の30%
溶g(2:1のアセトン/メタノール混合洛媒)を17
4.30 f 。
リラート(20%)及びメタクリル酸(23%)から構
成される、フイケンチャーに値44の共重合体の30%
溶g(2:1のアセトン/メタノール混合洛媒)を17
4.30 f 。
(2) )リメチロールプロパントリアクリラートを1
7.00 P、 (a) 7’ ) ラエテレングリコールジメタクリラ
ートを12.00 r、 (4)ジブチルフタラードを2.70F。
7.00 P、 (a) 7’ ) ラエテレングリコールジメタクリラ
ートを12.00 r、 (4)ジブチルフタラードを2.70F。
(5)マラカイトグリーンを0.07F。
(6)エチル−(p−ジメチルアミノ’) f 息香&
エステルを3.00 r、 (7)イングロビルテオキサントンを0.504゜実施
例1と同様にして溶液を塗布し、レジストフィルムを形
成した(一対比例2)。
エステルを3.00 r、 (7)イングロビルテオキサントンを0.504゜実施
例1と同様にして溶液を塗布し、レジストフィルムを形
成した(一対比例2)。
さらに0.4 fのナトリウム−モルホリノ−カルボジ
チオラートを添加して同様の処理を反覆した(一実施例
3)。同様の検査を行rxつた結果、対比例の評価が4
であったのに対して、実施例3のそれは1であった。
チオラートを添加して同様の処理を反覆した(一実施例
3)。同様の検査を行rxつた結果、対比例の評価が4
であったのに対して、実施例3のそれは1であった。
Claims (8)
- (1)(a)結合材として少くとも1種類のフィルム形
成重合体、 (b)付加重合を可能ならしめる少くとも2個の二重結
合を有し、上記結合剤と相容性の少くとも1種類の有機
化合物、 (c)光重合開始剤或は光重合開始剤組成物、 (d)接着改善剤及び (e)場合により慣用の添加剤及び助剤を含有する光重
合可能の層転移材料において、 上記接着改善剤として以下の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R′及びR″は互に同じでも異なつてもよく、
それぞれ水素、アルキル、アルアルキル、アリール或は
ハロゲン、CN、アルキル、アシル、ニトロ、アミノも
しくはカルボキシルで置換されているアリールを意味し
、或はR′及びR″はN原子の置換基としてこれと合体
し、場合により置換されている環を形成し、 M^■は1価の金属イオン或はNR^1R^2R^3R
^4^■を意味し、R^1、R^2、R^3及びR^4
は互に同じでも異なつてもよく、それぞれ水素、アルキ
ル、アルアルキル、アリール或はハロゲン、CN、アル
キル、アシル、ニトロもしくはアミノで置換されている
アリールを意味する)で表わされる化合物が使用される
ことを特徴とする材料。 - (2)アルカリ水溶液で現像され得ることを特徴とする
、請求項(1)による層転移材料。 - (3)一般式( I )の化合物においてM^■がアルカ
リ金属イオンを意味することを特徴とする、請求項(1
)或は(2)による層転移材料。 - (4)一般式( I )の化合物においてR′及びR″が
互に無関係に。C_1−C_4アルキルを意味すること
を特徴とする、上記請求項のいずれかによる層転移材料
。 - (5)一般式( I )の化合物においてR′及びR″が
N原子と合体して以下の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、nは1もしくは2を、mは1もしくは2を、X
は0もしくはNR′″を意味し、R′″は水素、アルキ
ル、アルアルキル、アリール或はハロゲン、CN、アル
キル、アシル、ニトロ、アミノもしくはカルボキシルで
置換されているアリールを意味する)を形成しているこ
とを特徴とする、請求項(1)から(9)のいずれかに
よる層転移材料。 - (6)結合材料として少くとも1種類の酸モノマーと、
少くとも1種類の疎水性モノマーとから成る共重合体が
使用されることを特徴とする、上記請求項のいずれかに
よる層転移材料。 - (7)酸モノマーとしてアクリル酸或はメタクリル酸が
使用されることを特徴とする、請求項(6)による層転
移材料。 - (8)疎水性モノマーがアクリラート、メタクリラート
及びスチレンより成る群から選ばれることを特徴とする
、請求項(6)による層転移材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19893914408 DE3914408A1 (de) | 1989-04-29 | 1989-04-29 | Photopolymerisierbares schichtuebertragungsmaterial |
| DE3914408.9 | 1989-04-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH034228A true JPH034228A (ja) | 1991-01-10 |
Family
ID=6379892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10056290A Pending JPH034228A (ja) | 1989-04-29 | 1990-04-18 | 光重合可能の層転移材料 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0395983A3 (ja) |
| JP (1) | JPH034228A (ja) |
| DE (1) | DE3914408A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2488583B1 (en) | 2009-10-13 | 2014-01-15 | Basell Poliolefine Italia S.r.l. | Propylene polymer compositions |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3932346A (en) * | 1974-03-18 | 1976-01-13 | Continental Can Company, Inc. | Pigmented photopolymerizable compounds stabilized against premature gelation with thiocarbamates |
| GB2135326B (en) * | 1982-12-20 | 1986-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable compositions having improved adhesive to metal surfaces |
-
1989
- 1989-04-29 DE DE19893914408 patent/DE3914408A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10056290A patent/JPH034228A/ja active Pending
- 1990-04-24 EP EP19900107706 patent/EP0395983A3/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3914408A1 (de) | 1990-10-31 |
| EP0395983A3 (de) | 1991-06-26 |
| EP0395983A2 (de) | 1990-11-07 |
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