JPH033283A - 光増幅器 - Google Patents
光増幅器Info
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- JPH033283A JPH033283A JP13706589A JP13706589A JPH033283A JP H033283 A JPH033283 A JP H033283A JP 13706589 A JP13706589 A JP 13706589A JP 13706589 A JP13706589 A JP 13706589A JP H033283 A JPH033283 A JP H033283A
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- Japan
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- optical
- waveguide
- excitation light
- ions
- glass substrate
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は信号光を増幅する光増幅器に関する。
近年、石英系ガラスを主成分とする高純度ガラスから成
る光ファイバにEr”イオンを溶解し、その光ファイバ
に前記Er”イオンの光吸収帯に属する波長をもつ励起
光を入射させて咳Er”イオンを励起し、該Er”イオ
ンの励起準位4■1゜7tから基底準位 ++szgへ
の電子遷移を利用し、その遷移エネルギーに相当する波
長をもつ信号光を増幅する光増幅器が盛んに検討されて
いる。
る光ファイバにEr”イオンを溶解し、その光ファイバ
に前記Er”イオンの光吸収帯に属する波長をもつ励起
光を入射させて咳Er”イオンを励起し、該Er”イオ
ンの励起準位4■1゜7tから基底準位 ++szgへ
の電子遷移を利用し、その遷移エネルギーに相当する波
長をもつ信号光を増幅する光増幅器が盛んに検討されて
いる。
(文献1 : M、C1Parries et al
Tech、digestinOFc’89、TUG 5
Huston、 1989 )、Er3+イオンは第
5図に示すような励起準位2H1/!S4 Fw/z、
’ I Q/!、 Il+/!、’ + 13/□基底
準位 r+sitを持っており、その光吸収特性は第6
図に示すように、前記それぞれの励起準位と基底準位’
I Is/2との間の遷移エネルギーに相当する波長
のところで吸収ピークを持っている。
Tech、digestinOFc’89、TUG 5
Huston、 1989 )、Er3+イオンは第
5図に示すような励起準位2H1/!S4 Fw/z、
’ I Q/!、 Il+/!、’ + 13/□基底
準位 r+sitを持っており、その光吸収特性は第6
図に示すように、前記それぞれの励起準位と基底準位’
I Is/2との間の遷移エネルギーに相当する波長
のところで吸収ピークを持っている。
励起準位’Il!/!は準安定準位であり、基底準位’
I lytとの間に反転分布を作り易い、しかもこの遷
移エネルギーは1.53〜1.56μmの波長に相当し
、通信用光ファイバの最低透過損失波長帯と一敗するた
め、前記励起準位’113/□から基底準位’ I I
s/!への電子遷移による光増幅作用は信号光を直接的
に光により増幅する光増幅器として有望である。第7図
は従来の光増幅器の1例を示す模式図である。波長1.
55μの信号光がEr1イオンを溶解した石英系の光フ
ァイバ1の一端laから入力され他端1bから出力され
ている。
I lytとの間に反転分布を作り易い、しかもこの遷
移エネルギーは1.53〜1.56μmの波長に相当し
、通信用光ファイバの最低透過損失波長帯と一敗するた
め、前記励起準位’113/□から基底準位’ I I
s/!への電子遷移による光増幅作用は信号光を直接的
に光により増幅する光増幅器として有望である。第7図
は従来の光増幅器の1例を示す模式図である。波長1.
55μの信号光がEr1イオンを溶解した石英系の光フ
ァイバ1の一端laから入力され他端1bから出力され
ている。
その状態のところへ波長0.98μmの励起光が前記光
ファイバ1の他端1bから入射されると(laから入射
しても同様の使用を示す)前記光フアイバ1内に溶解さ
れたEr”イオンは基底準位4rts/意から励起準位
’!++zzに励起される。そして最終的に励起準位’
I Isi諺に遷移すると基底準位’ I Is/l
と励起準位’ 113/1との間で反転分布が生ずる。
ファイバ1の他端1bから入射されると(laから入射
しても同様の使用を示す)前記光フアイバ1内に溶解さ
れたEr”イオンは基底準位4rts/意から励起準位
’!++zzに励起される。そして最終的に励起準位’
I Isi諺に遷移すると基底準位’ I Is/l
と励起準位’ 113/1との間で反転分布が生ずる。
その反転分布により誘導放出が生じ、基底準位’ I
Is/lと励起準位’III/えとの間の遷移エネルギ
ーに相当する波長1.55μmをもつ信号光が増幅され
るわけである。この場合、光ファイバ1に溶解されたE
r ″*イオン濃度に対して最大の増幅効果を生ずる
光ファイバの長さが存在する。
Is/lと励起準位’III/えとの間の遷移エネルギ
ーに相当する波長1.55μmをもつ信号光が増幅され
るわけである。この場合、光ファイバ1に溶解されたE
r ″*イオン濃度に対して最大の増幅効果を生ずる
光ファイバの長さが存在する。
Er″゛イオンの濃度が高くなると最大の増幅効果を生
ずる光ファイバの長さは短くなる関係にある。
ずる光ファイバの長さは短くなる関係にある。
従来の光増幅器においてはそれを構成する光ファイバの
長さが数mから数十m必要とされていたため光増幅器の
素子化(コンパクト化)が妨げられていた。また励起光
が光ファイバの一端から入射されるため、該光ファイバ
の中で吸収されずに他端より出力される励起光の成分を
除去する必要があり、この事は光増幅器の構成を複雑に
する要因になっていた。前に説明したように光ファイバ
に溶解されるEr”イオンの濃度を高くすることにより
光ファイバの長さを短くできるが、石英等の光フアイバ
中にEr”イオンを高濃度に溶解することは難しく、E
r”イオン濃度が2〜3wt%に達すると、石英系ガラ
ス中のホストガラスの組成にもよるが、一般に結晶化を
生じ低損失の光ファイバをつくることができにくくなる
。一方ZrFa 、BaF= 、LaF3等を主成分と
する多成分系ふう化物ガラスは近年、低損失な光ファイ
バが実現され最低損失は数dB、/:kmを下回ったも
のも実現されている。このふつ化物ガラスは主成分にL
aFsを含んでいるため同じランタニドであるErはL
aと置換することによりガラス中に溶解され易く、結晶
化を生ずることな(Erを高濃度に溶解することが可能
であるが(文献2:S。
長さが数mから数十m必要とされていたため光増幅器の
素子化(コンパクト化)が妨げられていた。また励起光
が光ファイバの一端から入射されるため、該光ファイバ
の中で吸収されずに他端より出力される励起光の成分を
除去する必要があり、この事は光増幅器の構成を複雑に
する要因になっていた。前に説明したように光ファイバ
に溶解されるEr”イオンの濃度を高くすることにより
光ファイバの長さを短くできるが、石英等の光フアイバ
中にEr”イオンを高濃度に溶解することは難しく、E
r”イオン濃度が2〜3wt%に達すると、石英系ガラ
ス中のホストガラスの組成にもよるが、一般に結晶化を
生じ低損失の光ファイバをつくることができにくくなる
。一方ZrFa 、BaF= 、LaF3等を主成分と
する多成分系ふう化物ガラスは近年、低損失な光ファイ
バが実現され最低損失は数dB、/:kmを下回ったも
のも実現されている。このふつ化物ガラスは主成分にL
aFsを含んでいるため同じランタニドであるErはL
aと置換することによりガラス中に溶解され易く、結晶
化を生ずることな(Erを高濃度に溶解することが可能
であるが(文献2:S。
A、Po1lack at al Electron
Lett 24 p320+1988)、まだ信号光
の波長1.55μmでのぶつ化物ガラスの単一モード光
ファイバは実現されていない、光ファイバが信号光の波
長1.55μmで単一モード光ファイバになっているこ
とは高効率な光増幅を実現するために必要なことである
。
Lett 24 p320+1988)、まだ信号光
の波長1.55μmでのぶつ化物ガラスの単一モード光
ファイバは実現されていない、光ファイバが信号光の波
長1.55μmで単一モード光ファイバになっているこ
とは高効率な光増幅を実現するために必要なことである
。
本発明の目的は従来の光増幅器の性能を変えることなく
素子化されたコンパクトな光増幅器を提供することにあ
る。
素子化されたコンパクトな光増幅器を提供することにあ
る。
本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、
Er1イオンを3wt%以上溶解したガラス基板に、前
記Er”イオンの励起準位 113/Zをに相当する光
吸収帯に属する波長をもつ信号光で単一モード条件を満
足する少なくとも1つ以上の先導波路が形成され、その
先導波路の長手方向を挟む前記ガラス基板の両側面のう
ち少なくとも一方の側面に前記Er’°イオンの光吸収
帯に属する励起光を発する光源が配置されているととも
に、少なくとも他方の側面に前記励起光を反射させる反
射ミラーが配置され、前記先導波路の一端から入射され
た前記信号光が前記導波路内で増幅されて他端から出力
されるように構成されていることを特徴とするものであ
る。
Er1イオンを3wt%以上溶解したガラス基板に、前
記Er”イオンの励起準位 113/Zをに相当する光
吸収帯に属する波長をもつ信号光で単一モード条件を満
足する少なくとも1つ以上の先導波路が形成され、その
先導波路の長手方向を挟む前記ガラス基板の両側面のう
ち少なくとも一方の側面に前記Er’°イオンの光吸収
帯に属する励起光を発する光源が配置されているととも
に、少なくとも他方の側面に前記励起光を反射させる反
射ミラーが配置され、前記先導波路の一端から入射され
た前記信号光が前記導波路内で増幅されて他端から出力
されるように構成されていることを特徴とするものであ
る。
励起光の入射方向と信号光の入射方向とが異なるため、
先導波路内に残留する励起光の除去が容易になる。また
先導波路の長手方向を挟むガラス基板の両側面に前記励
起光を反射させる反射ミラーが配置されているため、前
記励起光を反射させることができ、該励起光を効率良く
光導波路内に照射させることができる。この励起光によ
り光導波路内のEr3°イオンの励起がより活発に起り
、信号光の増幅度が向上する。
先導波路内に残留する励起光の除去が容易になる。また
先導波路の長手方向を挟むガラス基板の両側面に前記励
起光を反射させる反射ミラーが配置されているため、前
記励起光を反射させることができ、該励起光を効率良く
光導波路内に照射させることができる。この励起光によ
り光導波路内のEr3°イオンの励起がより活発に起り
、信号光の増幅度が向上する。
以下本発明の実施例を第1図ないし第4図に基づいて詳
細に説明する。第1図は本発明の光増幅器の一実施例を
示す斜視図である1図中1はガラス基板、2は先導波路
、3は反射ミラー、4は励起用光源、5は台、6は裏面
反射ミラーである。
細に説明する。第1図は本発明の光増幅器の一実施例を
示す斜視図である1図中1はガラス基板、2は先導波路
、3は反射ミラー、4は励起用光源、5は台、6は裏面
反射ミラーである。
ガラス基板2は直方体の形をしており、その上面長手方
向はぼ中央に光導波路2が形成されている。
向はぼ中央に光導波路2が形成されている。
その光導波路2の長手方向を挟むガラス基板10両側面
のうち1方の側面に励起用光源4が配置されているとと
もに、他方の側面に反射ミラー3が配置されている。ま
た励起用光源4のガラス基板1と向い合う面と反対の面
には裏面反射ミラーが設置されている。ガラス基板1は
第1表に示す組成をもつふう化物中のLaFsのLaを
Erに置換する方法(文献2 : S、 A、 Po1
lack et alElectron Lett 2
4 p320. 198 B )によりEr3゛イオ
ンを3wt%溶解したぶつ化物ガラスである。
のうち1方の側面に励起用光源4が配置されているとと
もに、他方の側面に反射ミラー3が配置されている。ま
た励起用光源4のガラス基板1と向い合う面と反対の面
には裏面反射ミラーが設置されている。ガラス基板1は
第1表に示す組成をもつふう化物中のLaFsのLaを
Erに置換する方法(文献2 : S、 A、 Po1
lack et alElectron Lett 2
4 p320. 198 B )によりEr3゛イオ
ンを3wt%溶解したぶつ化物ガラスである。
先導波路2は前記ガラス基板1上にイオン交換法(文献
3 + H,Hashizume et al、 Te
chnicalDigest in OFC’89WM
l、Huston、 1989)により作製することが
できる。−例を紹介するとガラス基板1の上面長手方向
の一部(チャンネル部に相当)を除き、5iftのマス
クを施し、Pb塩のバス中に浴してPbイオンを拡散さ
せる。
3 + H,Hashizume et al、 Te
chnicalDigest in OFC’89WM
l、Huston、 1989)により作製することが
できる。−例を紹介するとガラス基板1の上面長手方向
の一部(チャンネル部に相当)を除き、5iftのマス
クを施し、Pb塩のバス中に浴してPbイオンを拡散さ
せる。
拡散部は屈折率が周囲よりも高くなり、第1図に示すよ
うな半円形の断面形状を持つ光導波路2を作製すること
ができる。またこの光導波路2は少なくとも1.53μ
m以上の波長で単一モード条件を満足するように形成さ
れている。また光導波路2の長さはガラス基板l中のE
r”イオン濃度に依存する。第4図はEr”イオン濃度
に対する最適光導波路長の関係を示した実験結果である
。先導波路は円形導波路でコア(導波部)径は30μm
である。最適長は、増幅特性の長さ依存性を調べ、最も
増幅度が高いときの長さを取った。励起用光源の強度に
より第4図に示、すように最適光導波路長は変化する。
うな半円形の断面形状を持つ光導波路2を作製すること
ができる。またこの光導波路2は少なくとも1.53μ
m以上の波長で単一モード条件を満足するように形成さ
れている。また光導波路2の長さはガラス基板l中のE
r”イオン濃度に依存する。第4図はEr”イオン濃度
に対する最適光導波路長の関係を示した実験結果である
。先導波路は円形導波路でコア(導波部)径は30μm
である。最適長は、増幅特性の長さ依存性を調べ、最も
増幅度が高いときの長さを取った。励起用光源の強度に
より第4図に示、すように最適光導波路長は変化する。
このときの励起波長は802nmである0図中の2本の
実線は別途吸収特性から測定した8 02 nmの吸収
断面積とコア径30μmを用いて求めた理論式である。
実線は別途吸収特性から測定した8 02 nmの吸収
断面積とコア径30μmを用いて求めた理論式である。
コア径30μmがマルチモード領域であるのと、導波路
長が短いとこでは長さの誤差を生じやすい等の理由でデ
ータにはバラツキがあるが、はぼ理論に近い反比例の関
係を示している。この図から励起光が500mW程度で
も光導波路長を10cm以下の長さとするためには3w
t%以上のEr”イオン濃度が必要である。そしてこの
ような高濃度のドーピングは従来の石英径ガラスでは困
難である。この実験では励起光源にArレーザ励起のチ
タン・サファイアレーザを用いたが、実用的な観点から
は半導体レーザを励起光源に使用したい、半導体レーザ
の場合には高出力なレーザが得にくくまた先導波路内へ
の結合も悪いので、500mWもの光パワーを導波路内
に結合させることはむずかしい。
長が短いとこでは長さの誤差を生じやすい等の理由でデ
ータにはバラツキがあるが、はぼ理論に近い反比例の関
係を示している。この図から励起光が500mW程度で
も光導波路長を10cm以下の長さとするためには3w
t%以上のEr”イオン濃度が必要である。そしてこの
ような高濃度のドーピングは従来の石英径ガラスでは困
難である。この実験では励起光源にArレーザ励起のチ
タン・サファイアレーザを用いたが、実用的な観点から
は半導体レーザを励起光源に使用したい、半導体レーザ
の場合には高出力なレーザが得にくくまた先導波路内へ
の結合も悪いので、500mWもの光パワーを導波路内
に結合させることはむずかしい。
しかしながら第4図の結果はコア径30μmでの値であ
り、実際の通信用光ファイバのコア径7.5〜8μmで
は、必要な励起光は近位的にコア面積に比例するため第
4図の結果から3wt%の濃度では30mW以下の光励
起強度で良いことになる。
り、実際の通信用光ファイバのコア径7.5〜8μmで
は、必要な励起光は近位的にコア面積に比例するため第
4図の結果から3wt%の濃度では30mW以下の光励
起強度で良いことになる。
この値ならば通常の半導体レーザの使用が充分に可能な
レベルである。第1図において反射ミラー3はガラス基
板1の先導波路2と平行な一方の側面にアルミ、金など
をコーティングして作製することができる。励起用光源
4は、波長0.98μmの半導体レーザが用いられ、光
導波路2をはさんで前記反射ミラー3と反対側の側面に
配置されている。この半導体レーザには活性層の横幅の
広い高出力のものが望ましい、11面反射ミラー6は励
起用光源4の励起光が出射する面と反対側の面にアルミ
、金などをコーティングして作製することができる。台
5は励起用光源4からの励起光を光導波路2に一敗させ
るために励起用光源4の高さ調整をするためのものであ
るが励起用光源のサイズによっては不要である。励起用
光源4から光導波路2に直角に波長0.98μmの励起
光が入射されると、先導波路2内のEr”°、イオンが
励起準位111/lに励起される。即ちEr1イオンは
0.98μm近似に吸収帯を持っている。その後励起さ
れたEr”イオンは励起準位 113/!に遷移し、基
底準′位’ I 1m/!との間で反転分布を生じ、誘
導放出が生ずることにより、基底準位’ I Is/!
と励起準位’113/!との間の遷移エネルギーに相当
する波長1.55 #の光を発生する。従ってこの状態
で波長1.55μを持つ信号光を先導波路2の一端から
入射してやればこの信号光を増幅することができる。励
起用光源4から出射された励起光は反射ミラー3及び裏
面反射ミラー6との間で共振し効率よく光導波路2内の
Er”イオンを励起することができる。
レベルである。第1図において反射ミラー3はガラス基
板1の先導波路2と平行な一方の側面にアルミ、金など
をコーティングして作製することができる。励起用光源
4は、波長0.98μmの半導体レーザが用いられ、光
導波路2をはさんで前記反射ミラー3と反対側の側面に
配置されている。この半導体レーザには活性層の横幅の
広い高出力のものが望ましい、11面反射ミラー6は励
起用光源4の励起光が出射する面と反対側の面にアルミ
、金などをコーティングして作製することができる。台
5は励起用光源4からの励起光を光導波路2に一敗させ
るために励起用光源4の高さ調整をするためのものであ
るが励起用光源のサイズによっては不要である。励起用
光源4から光導波路2に直角に波長0.98μmの励起
光が入射されると、先導波路2内のEr”°、イオンが
励起準位111/lに励起される。即ちEr1イオンは
0.98μm近似に吸収帯を持っている。その後励起さ
れたEr”イオンは励起準位 113/!に遷移し、基
底準′位’ I 1m/!との間で反転分布を生じ、誘
導放出が生ずることにより、基底準位’ I Is/!
と励起準位’113/!との間の遷移エネルギーに相当
する波長1.55 #の光を発生する。従ってこの状態
で波長1.55μを持つ信号光を先導波路2の一端から
入射してやればこの信号光を増幅することができる。励
起用光源4から出射された励起光は反射ミラー3及び裏
面反射ミラー6との間で共振し効率よく光導波路2内の
Er”イオンを励起することができる。
以上の説明では励起光の波長として0.98μmを選ん
だが、その他Er”イオンは励起準位tH+I/ms
’F 4/!s ’ I *yz、’I+sz□のそれ
ぞれに相当する波長0.52μm、0.67μm、0.
8μm。
だが、その他Er”イオンは励起準位tH+I/ms
’F 4/!s ’ I *yz、’I+sz□のそれ
ぞれに相当する波長0.52μm、0.67μm、0.
8μm。
1.5μm付近に吸収帯をもっているのでそれらの波長
をもつ光も励起光として利用できる。
をもつ光も励起光として利用できる。
また前記光導波路2の断面形状は半円形をしているが前
記光導波路2の形成プロセスにおいてNaイオン、IF
イオン、AIイオン等の屈折率を低下させる効果を持つ
イオンを用いて複数回イオン拡散を行なうことにより前
記光導波路2の断面形状を第3図に示すように円形また
は楕円形にすることも可能である0円形または楕円形の
方が後段の光ファイバとの結合効率を改善することがで
きるからである。また先導波路2の本数は1本に限られ
ず第2図に示すように複数本にすることができ、その場
合は複数の信号光を同時に増幅させることが可能である
。またガラス基板lの原料としてはふつ化物ガラスのほ
かにりん・けい酸系ガラスもEr”イオンを高濃度に溶
解でき有効であった。
記光導波路2の形成プロセスにおいてNaイオン、IF
イオン、AIイオン等の屈折率を低下させる効果を持つ
イオンを用いて複数回イオン拡散を行なうことにより前
記光導波路2の断面形状を第3図に示すように円形また
は楕円形にすることも可能である0円形または楕円形の
方が後段の光ファイバとの結合効率を改善することがで
きるからである。また先導波路2の本数は1本に限られ
ず第2図に示すように複数本にすることができ、その場
合は複数の信号光を同時に増幅させることが可能である
。またガラス基板lの原料としてはふつ化物ガラスのほ
かにりん・けい酸系ガラスもEr”イオンを高濃度に溶
解でき有効であった。
さらに反射ミラー3はガラス基板1の一側面だけでなく
第3図に示すように先導波路2の一端及び他端との励起
用光源4から励起光が入射される部分を除く、全面に施
されるのも有効である。
第3図に示すように先導波路2の一端及び他端との励起
用光源4から励起光が入射される部分を除く、全面に施
されるのも有効である。
以上説明したように本発明の光増幅器はEr”イオンが
溶解された光導波路内に、その先導波路の側面から前記
Er”イオンの光吸収帯に属する励起光を照射している
ので、従来のように先導波路内に残留する励起光を除去
する必要がなくなり、従って従来先導波路の一端または
他端に設けられていた複雑な励起光除去装置が省略でき
、素子化されたコンパクトな光増幅器を得ることができ
た。
溶解された光導波路内に、その先導波路の側面から前記
Er”イオンの光吸収帯に属する励起光を照射している
ので、従来のように先導波路内に残留する励起光を除去
する必要がなくなり、従って従来先導波路の一端または
他端に設けられていた複雑な励起光除去装置が省略でき
、素子化されたコンパクトな光増幅器を得ることができ
た。
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び第
3図は本発明の他の実施例を示す斜視図、第4図はEr
”イオンの濃度と最適光導波路長との関係を示すグラフ
、第5図はErのエネルギー準位を示すグラフ、第6図
はErの光吸収特性図、第7図は従来の光増幅器の模式
図である。 1〜ガラス基板、 2〜先導波路、 3〜反射ミラー 4〜励起用光源、 5〜台、 6〜裏 面反射ミラー
3図は本発明の他の実施例を示す斜視図、第4図はEr
”イオンの濃度と最適光導波路長との関係を示すグラフ
、第5図はErのエネルギー準位を示すグラフ、第6図
はErの光吸収特性図、第7図は従来の光増幅器の模式
図である。 1〜ガラス基板、 2〜先導波路、 3〜反射ミラー 4〜励起用光源、 5〜台、 6〜裏 面反射ミラー
Claims (2)
- (1)Er^3^+イオンを3wt%以上溶解したガラ
ス基板に、前記Er^3^+イオンの励起準位^4I_
1_3_/_2に相当する光吸収帯に属する波長をもつ
信号光で単一モード条件を満足する少なくとも1つ以上
の光導波路が形成され、その光導波路の長手方向を挟む
前記ガラス基板の両側面のうち少なくとも一方の側面に
前記Er^3^+イオンの光吸収帯に属する励起光を発
する光源が配置されているとともに、少なくとも他方の
側面に前記励起光を反射させる反射ミラーが配置され、
前記光導波路の一端から入射された前記信号光が前記導
波路内で増幅されて他端から出力されるように構成され
ていることを特徴とする光増幅器。 - (2)ガラス基板は、ZrF_4及びBaF_2を主成
分とするふっ化物ガラス、またはりん・けい酸系ガラス
であることを特徴とする請求項1記載の光増幅器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13706589A JPH033283A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 光増幅器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13706589A JPH033283A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 光増幅器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH033283A true JPH033283A (ja) | 1991-01-09 |
Family
ID=15190074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13706589A Pending JPH033283A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 光増幅器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH033283A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000072478A3 (en) * | 1999-05-24 | 2001-07-26 | Molecular Optoelectronics Corp | Compact optical amplifier package with integrated optical channel waveguide amplifier and pump source |
| WO2001067561A3 (en) * | 2000-03-03 | 2002-01-31 | Molecular Optoelectronics Corp | Optical waveguide amplifier |
| US6438304B1 (en) | 1998-07-23 | 2002-08-20 | Molecular Optoelectronics Corporation | Optical waveguide with dissimilar core and cladding materials, and light emitting device employing the same |
| US6511571B2 (en) | 1998-07-23 | 2003-01-28 | Molecular Optoelectronics Corporation | Method for fabricating an optical waveguide |
| JPWO2005091447A1 (ja) * | 2004-03-24 | 2008-02-07 | 独立行政法人科学技術振興機構 | レーザー装置 |
-
1989
- 1989-05-30 JP JP13706589A patent/JPH033283A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6438304B1 (en) | 1998-07-23 | 2002-08-20 | Molecular Optoelectronics Corporation | Optical waveguide with dissimilar core and cladding materials, and light emitting device employing the same |
| US6511571B2 (en) | 1998-07-23 | 2003-01-28 | Molecular Optoelectronics Corporation | Method for fabricating an optical waveguide |
| WO2000072478A3 (en) * | 1999-05-24 | 2001-07-26 | Molecular Optoelectronics Corp | Compact optical amplifier package with integrated optical channel waveguide amplifier and pump source |
| US6384961B2 (en) | 1999-05-24 | 2002-05-07 | Molecular Optoelectronics Corporation | Compact optical amplifier with integrated optical waveguide and pump source |
| WO2001067561A3 (en) * | 2000-03-03 | 2002-01-31 | Molecular Optoelectronics Corp | Optical waveguide amplifier |
| JPWO2005091447A1 (ja) * | 2004-03-24 | 2008-02-07 | 独立行政法人科学技術振興機構 | レーザー装置 |
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