JPH03272810A - ダイヤモンドの研磨方法及び装置並びにそれを利用したダイヤモンド製品 - Google Patents
ダイヤモンドの研磨方法及び装置並びにそれを利用したダイヤモンド製品Info
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- JPH03272810A JPH03272810A JP2072692A JP7269290A JPH03272810A JP H03272810 A JPH03272810 A JP H03272810A JP 2072692 A JP2072692 A JP 2072692A JP 7269290 A JP7269290 A JP 7269290A JP H03272810 A JPH03272810 A JP H03272810A
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、切削上具、メス、ヒートシンク7電了−基
板材料などに用いられるダイヤモンド(乃研磨方法及び
その方法を利用り1、たダイ・ヤモンド製品に関するも
のである、 従来の扶術 ダイヤモンドは優れた硬さ、熱伝導性、電気絶縁性を廟
するため、切削工具、メス、ヒー1=シンク、電子基板
材料等に用いられている。
板材料などに用いられるダイヤモンド(乃研磨方法及び
その方法を利用り1、たダイ・ヤモンド製品に関するも
のである、 従来の扶術 ダイヤモンドは優れた硬さ、熱伝導性、電気絶縁性を廟
するため、切削工具、メス、ヒー1=シンク、電子基板
材料等に用いられている。
従来のダイヤモンド切削工具には、焼結体切削7具や単
もダイヤモンド切削工具やCV D法C1′″′よるり
゛イヤモン′ドコーデン′グ切削]二具がある。し5か
し、前記各掻工具は、次のような問題がある。
もダイヤモンド切削工具やCV D法C1′″′よるり
゛イヤモン′ドコーデン′グ切削]二具がある。し5か
し、前記各掻工具は、次のような問題がある。
炉、87i体切削工具(J、ボンデング材が用いられで
いるのて゛、ダイヤモンド(のらのよりも111t摩耗
性熱1云動串か低く釘(天性において劣−)′i″いる
。ス、即行ダイヤ切削工具は、天然、人工を問わず大き
なイ)が追・要となるので高111IiΔもσ)となっ
でし、マう。史に、CV l)によるダイヤセン)・、
j−・−′7〜″/グ切削工具は、基板となる超硬合金
との密着力が弱も\ため切断時に剥離することかある。
いるのて゛、ダイヤモンド(のらのよりも111t摩耗
性熱1云動串か低く釘(天性において劣−)′i″いる
。ス、即行ダイヤ切削工具は、天然、人工を問わず大き
なイ)が追・要となるので高111IiΔもσ)となっ
でし、マう。史に、CV l)によるダイヤセン)・、
j−・−′7〜″/グ切削工具は、基板となる超硬合金
との密着力が弱も\ため切断時に剥離することかある。
そこて、気相合成法ζ′形形成たダイヤモンド膜を所定
形状に切断し、切削ゴニ具に固着くづることが考えられ
る。
形状に切断し、切削ゴニ具に固着くづることが考えられ
る。
しかし、気相合成法て゛形成したダイヤセン1′:膜は
表面の凹凸がはげしく、それを平坦化する加エフ即ち研
磨が必要となる。この研磨方法として、ダイヤモンド粒
子を用いる所謂「ども擦り法」が利用される。
表面の凹凸がはげしく、それを平坦化する加エフ即ち研
磨が必要となる。この研磨方法として、ダイヤモンド粒
子を用いる所謂「ども擦り法」が利用される。
発明が解決しようとす゛る課題
従来例のダイヤモン)ごの研磨法て゛は、研磨速庇が0
. L μm n1i n 、 \0.1 μm 、
、、/” Hと遅いので小さなグイ1(”センドの研磨
に長時間を要[。
. L μm n1i n 、 \0.1 μm 、
、、/” Hと遅いので小さなグイ1(”センドの研磨
に長時間を要[。
又いる。そのため、1171磨費用がかさみ、このダイ
ヤモンドを用いたダ・イヤセンド製品か高価なものとな
っ〔しまう。
ヤモンドを用いたダ・イヤセンド製品か高価なものとな
っ〔しまう。
この発明は前記事情に鑑み、効率良・くダイヤモンドを
研磨て・きるようにすることを目的と一4゛る。又、池
の目的は安価なダイヤモンド製品を得ること(°ある。
研磨て・きるようにすることを目的と一4゛る。又、池
の目的は安価なダイヤモンド製品を得ること(°ある。
課題全解決するための1−段
この発明は、ダイヤモンドの表面にレー・ザビームの側
面を当接ぜしめる丁程;該レーザじ一ムを前記表面に沿
−〕で相対的に移動せし1、める1程;を備jるこεに
j、す、また、レーザビームの発生装置:!5レーザビ
ームの軸方向に対し/(略直角方向に相対的に変移ず〜
るデープル;からなるダイヤぞンドの研磨装置を用いる
ことにより更には、前記方法及び装置”ぐ研磨!、、、
f、ダイヤ七〉・トをダイヤモンド製品C1”用いる
ことにより、前記[1的を達成1.ようkするものて′
1))る、f1用 ダイヤモンドの表向にレーザビームの側面を当接すると
、該表向は同時(,5−広い範囲に■Jリト−ザビーム
の熟、1:ネルギかり7jらハ、該表向の開門部分が除
去される。
面を当接ぜしめる丁程;該レーザじ一ムを前記表面に沿
−〕で相対的に移動せし1、める1程;を備jるこεに
j、す、また、レーザビームの発生装置:!5レーザビ
ームの軸方向に対し/(略直角方向に相対的に変移ず〜
るデープル;からなるダイヤぞンドの研磨装置を用いる
ことにより更には、前記方法及び装置”ぐ研磨!、、、
f、ダイヤ七〉・トをダイヤモンド製品C1”用いる
ことにより、前記[1的を達成1.ようkするものて′
1))る、f1用 ダイヤモンドの表向にレーザビームの側面を当接すると
、該表向は同時(,5−広い範囲に■Jリト−ザビーム
の熟、1:ネルギかり7jらハ、該表向の開門部分が除
去される。
史に、このレーザビームの側面を前記表面に沿っ又移動
さぜるとし〜fl:”−ムの移動軌跡か面状となり、カ
ンナで削られるJ、づにしながら表面の開門部分が除去
される。
さぜるとし〜fl:”−ムの移動軌跡か面状となり、カ
ンナで削られるJ、づにしながら表面の開門部分が除去
される。
このようにしで研磨したダイヤ七゛/ドを切削工具、メ
ス、ヒートタンクなどに利用L ”Cダイヤモンド製品
を形成゛する。
ス、ヒートタンクなどに利用L ”Cダイヤモンド製品
を形成゛する。
実施的
この発明の実施的を添付1.A而により説明1゛るが、
同一図面符号はくの名称も機能も同一”ζ′1t)る。
同一図面符号はくの名称も機能も同一”ζ′1t)る。
第1実施例を第1図、第2図、第23図により説り]す
゛るが、この実施例は研磨する面が秋い場合の例7′あ
る。
゛るが、この実施例は研磨する面が秋い場合の例7′あ
る。
メタンガスと水素カスを原f4としてり−り放電プラズ
マシ゛エッl−CV L′)法にユリダイヤセンド1ざ
=合成11、’l’ A G ’I−−ザ装置を用いて
所定形状に1JJitliする、第:!3しjに示゛ツ
様に1.二のダイヤモンド1の表面1;1に1.−ヂ発
生装置、[0j)L if YAGレーザ装置3の1
.・−ガビー=ム、4を照射する。 この時の間開角度
θは、設計研磨面、 I’JIち、研磨完了時のダイヤ
モンド表面21b I::、対して15度にし、レーザ
ビーム4の■り而4aか前記設計研磨面11)と平行に
なるようにする。このY A Gレーザ装置3のレーザ
ビーム4は焦点距離50 m mのし〉・ズ5にJり集
束さ1する。 X〜)゛テーブル2を矢印2Y方向に移
動して、ダイヤモンドの表面〕aをレーザビーム4の側
面4aに当接させると、第1図、第2図に示”を様にレ
ーザビーム4の側面4aはダイヤモンドの全表面1aに
接触して熱エネルギーを写える。そのため、ダイヤモン
ドの表面1aの凹凸部分は除去され平担な面となる。
マシ゛エッl−CV L′)法にユリダイヤセンド1ざ
=合成11、’l’ A G ’I−−ザ装置を用いて
所定形状に1JJitliする、第:!3しjに示゛ツ
様に1.二のダイヤモンド1の表面1;1に1.−ヂ発
生装置、[0j)L if YAGレーザ装置3の1
.・−ガビー=ム、4を照射する。 この時の間開角度
θは、設計研磨面、 I’JIち、研磨完了時のダイヤ
モンド表面21b I::、対して15度にし、レーザ
ビーム4の■り而4aか前記設計研磨面11)と平行に
なるようにする。このY A Gレーザ装置3のレーザ
ビーム4は焦点距離50 m mのし〉・ズ5にJり集
束さ1する。 X〜)゛テーブル2を矢印2Y方向に移
動して、ダイヤモンドの表面〕aをレーザビーム4の側
面4aに当接させると、第1図、第2図に示”を様にレ
ーザビーム4の側面4aはダイヤモンドの全表面1aに
接触して熱エネルギーを写える。そのため、ダイヤモン
ドの表面1aの凹凸部分は除去され平担な面となる。
第2実施例を第3図、第4図により説明するf))2こ
の実施例は研磨する而か11fB長い場合の削°こ゛あ
る。前記第〕実施例のようにしマ、l7−II“ヒ′−
ム4の側面4aをダイヤ% >l〜1の表向1a i、
T、、、当接さぜた後、デーブノ;2を矢印五1力向、
即ち、ダイヤモンド]1′7)長手方向に移動するど2
該fセ面1,1は前記側面・421からの戸ユ不ルギを
吸収し、て第5図に示ず様(:、四部部分h1除去され
、泪らかな研磨面となる。
の実施例は研磨する而か11fB長い場合の削°こ゛あ
る。前記第〕実施例のようにしマ、l7−II“ヒ′−
ム4の側面4aをダイヤ% >l〜1の表向1a i、
T、、、当接さぜた後、デーブノ;2を矢印五1力向、
即ち、ダイヤモンド]1′7)長手方向に移動するど2
該fセ面1,1は前記側面・421からの戸ユ不ルギを
吸収し、て第5図に示ず様(:、四部部分h1除去され
、泪らかな研磨面となる。
この研磨面は、酌記設31研麿面];)ヒ一致[でいる
ことは勿論で゛ある。。
ことは勿論で゛ある。。
第3実施例を第b V、第7図により説明−するが、こ
の実施例は第2実施例ζ(二i−3IIる研磨する而が
粗い場合の例°Cある。
の実施例は第2実施例ζ(二i−3IIる研磨する而が
粗い場合の例°Cある。
第2実施□□□jの要領(′、ます7初めに、第1次の
研磨を(]って、第1次研磨面](゛を形成する。
研磨を(]って、第1次研磨面](゛を形成する。
次にテーブル2を矢印2Y方向に所定型、例えば、30
I)m移動させてレーザビーム4の側面4aを第1次研
磨面ICに当接させ、ン”−プル2を第4(71に小す
様に、矢印X1方向に移動さぜて第2次のliR麿や行
い、設計研磨面1bが表面となるようにする。なお、研
磨する面が更に粗い場合に(J、前記要領で複数回の研
磨をイ■い設計研磨面]bが表面になるよつにする。
I)m移動させてレーザビーム4の側面4aを第1次研
磨面ICに当接させ、ン”−プル2を第4(71に小す
様に、矢印X1方向に移動さぜて第2次のliR麿や行
い、設計研磨面1bが表面となるようにする。なお、研
磨する面が更に粗い場合に(J、前記要領で複数回の研
磨をイ■い設計研磨面]bが表面になるよつにする。
第4実施例を第8図−第11図により説明するが、この
実施例は研磨する面が広い場合の例である。 第2実絶
例の要領で第8図、第91Aに不づ様に、第1分割面D
Iを研磨した後テーブル24矢印2X方向(:所定量、
例えば、300 )、f ta 移動し1、レーザビー
ムの側面4aを第2力割面I−)2に当接せしめる。そ
して、チー・プル2を矢印X2方向に移動させて第2分
割面132を研磨する。 この様な工程を繰り返して各
分割面り、 −D、の研磨を行い、ダイヤモ〉・ドの表
面1aの全面が設計研磨面1bと一致するようにする。
実施例は研磨する面が広い場合の例である。 第2実絶
例の要領で第8図、第91Aに不づ様に、第1分割面D
Iを研磨した後テーブル24矢印2X方向(:所定量、
例えば、300 )、f ta 移動し1、レーザビー
ムの側面4aを第2力割面I−)2に当接せしめる。そ
して、チー・プル2を矢印X2方向に移動させて第2分
割面132を研磨する。 この様な工程を繰り返して各
分割面り、 −D、の研磨を行い、ダイヤモ〉・ドの表
面1aの全面が設計研磨面1bと一致するようにする。
第5実施PAei12図〜第15図により説明するが、
この実施例は第4実施例における研磨する面が粗い場合
の例である。
この実施例は第4実施例における研磨する面が粗い場合
の例である。
第4実施例の要領で、まず初めに第1次の研磨を行な・
)で第1次研磨面を形成する。
)で第1次研磨面を形成する。
そして、テーブル2ケ矢印2Y方向に所定量、%1えは
、30μ諧移動させてレーザビームの側面4aを第1次
研磨面に当接させ、テーブル2を矢印X2方向に移動さ
せる、 そして、第4実施 的の要領で各分割面り、−+、:)
aの研磨を行い、ダイヤモンドの表面1aの全面が設計
研磨面1bと一致するようにする。
、30μ諧移動させてレーザビームの側面4aを第1次
研磨面に当接させ、テーブル2を矢印X2方向に移動さ
せる、 そして、第4実施 的の要領で各分割面り、−+、:)
aの研磨を行い、ダイヤモンドの表面1aの全面が設計
研磨面1bと一致するようにする。
第0実施例を第16図−第19図により説明するが、こ
の実施例は設M1研磨面が曲面の酬である。 方形状の
ダイヤモンド1の表面1aにレーザビーム4の側面4a
を当接せしめたf&、Y A、 Gレーザ装置3の位置
制御装置10を操作してレーザビームの側面4aを矢印
A1方向に移動させ、該側面の移動軌跡を曲面状にする
。
の実施例は設M1研磨面が曲面の酬である。 方形状の
ダイヤモンド1の表面1aにレーザビーム4の側面4a
を当接せしめたf&、Y A、 Gレーザ装置3の位置
制御装置10を操作してレーザビームの側面4aを矢印
A1方向に移動させ、該側面の移動軌跡を曲面状にする
。
そうすると、第16図に示すように、前記移動軌跡に沿
ってダイヤモンドの表面1aが研磨され第1次研磨面I
Cが形成される。
ってダイヤモンドの表面1aが研磨され第1次研磨面I
Cが形成される。
次に、YAGレーザ装置3の位置制御装置10を操作し
てレーザビームの側面4aを前記第1次研磨面ICに3
接せしめた後該四面−4aを矢印A2力向に移動させ、
該側面の移動軌跡を曲面状にする、 そうすると、第17iAに示すよう(こ2酌記科動軌跡
に沿−)で第2次研磨面1dが形成さノ1−る6更に)
“AGレーサ′装置3の位置制御装置10操作し〔レー
ザビームの側11j4aを前記第2、欠所磨面1dに当
接せしめた後該側面4aを矢印A3方向に移動させ、該
側面の移動軌跡を曲面状に−する、そう4ると、第18
図に示すように、前記科動勅跡に沿って設計?ilT磨
面1 bが形成される。
てレーザビームの側面4aを前記第1次研磨面ICに3
接せしめた後該四面−4aを矢印A2力向に移動させ、
該側面の移動軌跡を曲面状にする、 そうすると、第17iAに示すよう(こ2酌記科動軌跡
に沿−)で第2次研磨面1dが形成さノ1−る6更に)
“AGレーサ′装置3の位置制御装置10操作し〔レー
ザビームの側11j4aを前記第2、欠所磨面1dに当
接せしめた後該側面4aを矢印A3方向に移動させ、該
側面の移動軌跡を曲面状に−する、そう4ると、第18
図に示すように、前記科動勅跡に沿って設計?ilT磨
面1 bが形成される。
第2実施例〜第5実施例においては、)′A0レーザ装
置3を固定しダイA−モ〉′ド1を移動しながら研磨す
る方法につい〔述べたが、その逆即ち、前者3を移動し
後打1を固定しでも良いことは勿論である。
置3を固定しダイA−モ〉′ド1を移動しながら研磨す
る方法につい〔述べたが、その逆即ち、前者3を移動し
後打1を固定しでも良いことは勿論である。
また、前述のようにしてダイヤモンドを研磨した後、心
で来の1とも擦り法」により更に研磨して(+良いにの
ように〕゛ると、研磨時間を短縮て゛きると共に研磨面
がより滑らかなしのたなる。 史に、デープル2上のダ
イヤモン11をチャンバ1】内に入れ、該チャンバ内を
真空に1、たり、または、酸素、空気、アルゴンのいず
れかの雰囲気カスafチャンバ〕1内に、供給して雰囲
気を形成しなから研磨作業を行っても良い。本発明のタ
イヤセンドの研磨方法に」、り研磨さ?Cたダイヤモン
ドは、切削用バイト、フラ・イス(フライカッタ)、平
面切削用力/夕、メス、t: −1−シンク、篭手基板
材料などへ利用される。第20図は、第゛7実施例を示
す図で、この′に旋削は、研磨ダイヤモンドを直方体形
ヒ1−シシク20に用いた場合の関である。
で来の1とも擦り法」により更に研磨して(+良いにの
ように〕゛ると、研磨時間を短縮て゛きると共に研磨面
がより滑らかなしのたなる。 史に、デープル2上のダ
イヤモン11をチャンバ1】内に入れ、該チャンバ内を
真空に1、たり、または、酸素、空気、アルゴンのいず
れかの雰囲気カスafチャンバ〕1内に、供給して雰囲
気を形成しなから研磨作業を行っても良い。本発明のタ
イヤセンドの研磨方法に」、り研磨さ?Cたダイヤモン
ドは、切削用バイト、フラ・イス(フライカッタ)、平
面切削用力/夕、メス、t: −1−シンク、篭手基板
材料などへ利用される。第20図は、第゛7実施例を示
す図で、この′に旋削は、研磨ダイヤモンドを直方体形
ヒ1−シシク20に用いた場合の関である。
ヒー1へシンク20のダイヤモンド】の下面は接着層]
、 e+ aを介して銅部材]5に固定され、まノ、二
、その上向は接着層]、 6 bを介して熱発生源17
に固定されている。】Sは接尋線、19は接触子、をそ
ノ1ぞれ示ず。
、 e+ aを介して銅部材]5に固定され、まノ、二
、その上向は接着層]、 6 bを介して熱発生源17
に固定されている。】Sは接尋線、19は接触子、をそ
ノ1ぞれ示ず。
第24図に示す第8実施例は、前記方法及び装置により
研磨したダイヤモンドをフライスに用いた場合の例て′
ある。研磨されたダイヤ尤ンドチ・ノブ42+、′1、
フライスの刃40の刃先41に固着されている。
研磨したダイヤモンドをフライスに用いた場合の例て′
ある。研磨されたダイヤ尤ンドチ・ノブ42+、′1、
フライスの刃40の刃先41に固着されている。
第9実施例を第21LA、第22図(、゛より説明する
が、この実施例はダイヤモンドの研磨置方により研磨I
7プ、こダイヤモンドを切削用パイ(・に用いた場六の
酎て′ある。
が、この実施例はダイヤモンドの研磨置方により研磨I
7プ、こダイヤモンドを切削用パイ(・に用いた場六の
酎て′ある。
アーク放電〕′ラズマ三、゛エッl−CvD fにより
厚さ300μ国のダイヤモンド薄板Bを形成L7、該薄
板8をデープル2に載置し、た後バイブF)により吸引
し、て該薄板Bをテーブル2に吸塵さぜる。(して、Y
IIilボールわじ30を回転させてテーブル2を矢印
2)′ブJ向に移動させるとともにプリズム3]を調整
して5レーザビームの照射角度θを設計研磨面かt、1
5度にし、て、その側面4aをダイヤモンドの表面に当
接させる、ぞしζ、し、−ザビームの焦点距離を変えな
がら照射し、X軸ボールねじ32を回転さゼでデープル
2を矢印X1方向に移動させ、ダイヤモンド薄板Bを照
射方商に対し、で直角に、表面と平行に移動さゼる。こ
のとき、図示しない調節手段によりレーザビーム4の側
面4dと設g1研磨面とは、常に当接°4るように調節
される。
厚さ300μ国のダイヤモンド薄板Bを形成L7、該薄
板8をデープル2に載置し、た後バイブF)により吸引
し、て該薄板Bをテーブル2に吸塵さぜる。(して、Y
IIilボールわじ30を回転させてテーブル2を矢印
2)′ブJ向に移動させるとともにプリズム3]を調整
して5レーザビームの照射角度θを設計研磨面かt、1
5度にし、て、その側面4aをダイヤモンドの表面に当
接させる、ぞしζ、し、−ザビームの焦点距離を変えな
がら照射し、X軸ボールねじ32を回転さゼでデープル
2を矢印X1方向に移動させ、ダイヤモンド薄板Bを照
射方商に対し、で直角に、表面と平行に移動さゼる。こ
のとき、図示しない調節手段によりレーザビーム4の側
面4dと設g1研磨面とは、常に当接°4るように調節
される。
このようにして、ダイヤモンドBの表面は、設計研磨面
となり、 #l”、+かなずくい面20が形成されるi
i欠i”、X1111ボー)Lねし、32.33.Y軸
木−/11−wじ30を駆動し、てテーブル2の位置を
調節すると共にプリズム31の角度の調整を行いレーザ
ビーム4をダイ−・1−ンドの表面に垂直に間開する。
となり、 #l”、+かなずくい面20が形成されるi
i欠i”、X1111ボー)Lねし、32.33.Y軸
木−/11−wじ30を駆動し、てテーブル2の位置を
調節すると共にプリズム31の角度の調整を行いレーザ
ビーム4をダイ−・1−ンドの表面に垂直に間開する。
このようにすると、垂直面から7度の傾きを持つように
l;IJ 14+7されるので1.二の性質を利用し、
てレーザビームの垂直度を調節I2ながら刃先の先端角
、逃げ角か所定角度となるように焦点距離を変i−f
Iこレーザビームを複数回走査し、て切断し、この切曲
面を逃げ面z1にする。レーザ加工後ダイヤモンド薄板
〈パイトチリブ)Bを超硬合金て′形成した支持角24
に、 A4−Cu−Ti合金などのろう祠を用いてろう
r・1け23し、切削用バイトを形成づる。このパイト
チシブBをイ・1けた超精密研削加]−機によりTルミ
ニr7ム台金の切削実験を行ったところ、ろうftH2
3の剥離も生ぜず、刃先の欠損も観察されlかった。こ
れは、ダイヤモンドの厚さはろう付け23部分の厚さに
比べてかなりηくな−)ていて、切削時のろう付は部分
の変形がダイヤモンドに及は゛す影響も小さく、かつ、
ダイ八・センドの結晶粒界も強く結合し、ていて刃先か
砿壊さh惰くなっているた約と考えらノlる。
l;IJ 14+7されるので1.二の性質を利用し、
てレーザビームの垂直度を調節I2ながら刃先の先端角
、逃げ角か所定角度となるように焦点距離を変i−f
Iこレーザビームを複数回走査し、て切断し、この切曲
面を逃げ面z1にする。レーザ加工後ダイヤモンド薄板
〈パイトチリブ)Bを超硬合金て′形成した支持角24
に、 A4−Cu−Ti合金などのろう祠を用いてろう
r・1け23し、切削用バイトを形成づる。このパイト
チシブBをイ・1けた超精密研削加]−機によりTルミ
ニr7ム台金の切削実験を行ったところ、ろうftH2
3の剥離も生ぜず、刃先の欠損も観察されlかった。こ
れは、ダイヤモンドの厚さはろう付け23部分の厚さに
比べてかなりηくな−)ていて、切削時のろう付は部分
の変形がダイヤモンドに及は゛す影響も小さく、かつ、
ダイ八・センドの結晶粒界も強く結合し、ていて刃先か
砿壊さh惰くなっているた約と考えらノlる。
また、刃先22のすくい面20、逃げ而2】のどちら(
こついても摩耗は認y)られなか゛>フご6なお、上記
実施例て′は支持角24に超硬合金を用いたが支持角の
材質はこれに限定されるものではなく2例jば、他の一
金属を用いて(、良い。 また、気相合成ダイヤモンド
の合成には、前記CVD法のはか5副h−子穴プラズマ
発生装置(特願平1−67999号参照)などが用いら
れる。
こついても摩耗は認y)られなか゛>フご6なお、上記
実施例て′は支持角24に超硬合金を用いたが支持角の
材質はこれに限定されるものではなく2例jば、他の一
金属を用いて(、良い。 また、気相合成ダイヤモンド
の合成には、前記CVD法のはか5副h−子穴プラズマ
発生装置(特願平1−67999号参照)などが用いら
れる。
発明の効果
この発明に係るダイヤモンドの研磨方法は、以上のよう
に樽成巳たので、レーザビームの側面がダイヤモンドの
表面と広い範囲にt)f:す、固結に接触し、て熱エネ
ルギをりズーるとともにその熱エネルギが与えられる部
分が移動し、該部分の移動軌跡が面状どなる。従って、
効率良くダイA“モ〉ドの研磨作業を行′)、7とが出
来る。
に樽成巳たので、レーザビームの側面がダイヤモンドの
表面と広い範囲にt)f:す、固結に接触し、て熱エネ
ルギをりズーるとともにその熱エネルギが与えられる部
分が移動し、該部分の移動軌跡が面状どなる。従って、
効率良くダイA“モ〉ドの研磨作業を行′)、7とが出
来る。
そのため、この研磨方法枝ひ装置にJり研磨すると、切
削バイトなとのダイヤモ〉l−製品を安価にジーること
かできる。
削バイトなとのダイヤモ〉l−製品を安価にジーること
かできる。
第】同−第2図C」この発明の第1実施列分示4゛L/
?Iテ、第1図は正面V、第2図ハ平11ji 14、
第3図−1第5図はこの発明の第′::実施例を示す図
て゛、第3図は正面図、第・4図は平面図、第5図は第
3図のv−v線縦断面図、第6図〜第7faはこの発明
の第3実施例を示す図ζ′、第6UAは正面図、第7図
は第6図の池の状態を示す正面図、第8171〜第11
図はこの発明の第4実施例を示す図で、第8図は正面図
、第9図は平面図、第10図は第8図の池の状態をi)
\ず正面図、第11図は第9図の他の状態を示す平面図
、第12図−へ−第15図はこの発明の第5実施例を示
す図で、第に2図は正面図、第13図は平111K、第
14図は第12図の他釣状態を示す正面図第】5図は第
13図の他の状態P示づ正面図、16間〜第19UAは
この発明の第6実施例!−η、ず図で、第16UAは正
面図、第17図、第】8図はそれぞれ第1()図の池の
状態を示す正面図第19図は平面図、第20UAは第7
実施例を示′を縦断面図、第21図、第22図は第9実
施岡を示′1′図C1第21UAはダイヤモンド切削バ
イl−の斜視図 第22図はダイヤモンド研磨装置の斜
視図、第23図は池の実施例を示す図、第24[Aは第
8実施例を示す要部平面図、である。 ダイヤモンド ダイヤモンドの表面 設計研磨面 )”AGレーザ装置 1、−ザビーム レーザビー人の側面 第1図 第5図 第7図 第16図 第17図 第21図 第2図 第6図 第24図 第18図 第19図 第20図 第22図 第23図 ダイヤモンド 一]− x ・に 続 ネ南 jl−二 芸す 平成2年 3月28E1 特許局−長官 吉 1’tl 文 毅 殿 平成2年3月2211提出の特許願 発明の名称 ダイヤモンドの研磨方法及び装置 並びに(ノーを利用し、たダイヤモンド製品補正をする
台 事件との関f系 特許出願人 山[」県中野田11’i大字小野[B 6276番地(
024)小野IIIセメント株式会t1人 東京都中央国11本橋2−6−3齋KM特許ヒル置
(271>448764840485f王所 名村、 代 理 住所 図m1 補正の内容 別紙の通り
?Iテ、第1図は正面V、第2図ハ平11ji 14、
第3図−1第5図はこの発明の第′::実施例を示す図
て゛、第3図は正面図、第・4図は平面図、第5図は第
3図のv−v線縦断面図、第6図〜第7faはこの発明
の第3実施例を示す図ζ′、第6UAは正面図、第7図
は第6図の池の状態を示す正面図、第8171〜第11
図はこの発明の第4実施例を示す図で、第8図は正面図
、第9図は平面図、第10図は第8図の池の状態をi)
\ず正面図、第11図は第9図の他の状態を示す平面図
、第12図−へ−第15図はこの発明の第5実施例を示
す図で、第に2図は正面図、第13図は平111K、第
14図は第12図の他釣状態を示す正面図第】5図は第
13図の他の状態P示づ正面図、16間〜第19UAは
この発明の第6実施例!−η、ず図で、第16UAは正
面図、第17図、第】8図はそれぞれ第1()図の池の
状態を示す正面図第19図は平面図、第20UAは第7
実施例を示′を縦断面図、第21図、第22図は第9実
施岡を示′1′図C1第21UAはダイヤモンド切削バ
イl−の斜視図 第22図はダイヤモンド研磨装置の斜
視図、第23図は池の実施例を示す図、第24[Aは第
8実施例を示す要部平面図、である。 ダイヤモンド ダイヤモンドの表面 設計研磨面 )”AGレーザ装置 1、−ザビーム レーザビー人の側面 第1図 第5図 第7図 第16図 第17図 第21図 第2図 第6図 第24図 第18図 第19図 第20図 第22図 第23図 ダイヤモンド 一]− x ・に 続 ネ南 jl−二 芸す 平成2年 3月28E1 特許局−長官 吉 1’tl 文 毅 殿 平成2年3月2211提出の特許願 発明の名称 ダイヤモンドの研磨方法及び装置 並びに(ノーを利用し、たダイヤモンド製品補正をする
台 事件との関f系 特許出願人 山[」県中野田11’i大字小野[B 6276番地(
024)小野IIIセメント株式会t1人 東京都中央国11本橋2−6−3齋KM特許ヒル置
(271>448764840485f王所 名村、 代 理 住所 図m1 補正の内容 別紙の通り
Claims (19)
- (1)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当接
せしめる工程;該側面を設計研磨面に沿って相対的に移
動せしめる工程;からなることを特徴とするダイヤモン
ドの研磨方法 - (2)設計研磨面が、平面である事を特徴とする請求項
第1記載のダイヤモンドの研磨方法 - (3)設計研磨面が、曲面である事を特徴とする請求項
第1記載のダイヤモンドの研磨方法 - (4)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当接
せしめ、該側面を設計研磨面に沿って相対的に移動せし
める第1次研磨工程;前記レーザビームの側面を肉厚方
向に移動して研磨面に当接せしめ、該レーザビームの側
面を設計研磨面に沿って相対的に移動せしめる第2次研
磨工程;とからなることを特徴とするダイヤモンドの研
磨方法 - (5)第2次研磨工程が、複数回繰り返されることを特
徴とする請求項第4記載のダイヤモンドの研磨方法 - (6)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当接
せしめ、該側面を設計研磨面に沿って相対的に移動せし
める第1分割研磨工程;前記レーザビームの側面を水平
方向に移動して残余の表面に当接せしめ、該側面を設計
研磨面に沿って相対的に移動せしめる第2分割研磨工程
;とからなることを特徴とするダイヤモンドの研磨方法 - (7)第2分割研磨工程が、複数回繰り返されることを
特徴とする請求項第6記載のダイヤモンドの研磨方法 - (8)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当接
せしめ、該側面を設計研磨面に沿って相対的に移動せし
める研磨工程と、前記レーザビームの側面を水平方向に
移動して残余の表面に当接せしめ、該側面を設計研磨面
に沿つて相対的に移動せしめる研磨工程、とからなる第
1次研磨面形成工程;前記レーザビームの側面を肉厚方
向に移動して前記第1研磨面に当接せしめ、該側面を設
計研磨面に沿って相対的に移動せしめる研磨工程と、前
記レーザビームの側面を水平方向に移動して残余の研磨
面に当接せしめ、該側面を設計研磨面に沿って相対的に
移動せしめる研磨工程と、からなる第2次研磨面形成工
程;からなることを特徴とするダイヤモンドの研磨方法 - (9)第2次研磨面形成工程が、複数回繰り返されるこ
とを特徴とする請求項第8記載のダイヤモンドの研磨方
法 - (10)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当
接せしめながら、該側面を相対的に円弧状に移動せしめ
る仮研磨工程;該レーザビームの側面を肉厚方向に移動
して研磨面に当接させ、該側面を相対的に円弧状に移動
せしめる本研磨工程;とからなるダイヤモンドの研磨方
法 - (11)本研磨工程が、複数回繰り返されることを特徴
とするダイヤモンドの研磨方法 - (12)レーザビームの発生装置;該レーザビームの軸
方向に対して略直角方向に相対的に変位するテーブル;
からなるダイヤモンドの研磨装置 - (13)レーザビームの発生装置;該レーザビームの軸
方向に対して略直角方向に相対的に変位するテーブル;
該レーザビームの軸方向とテーブルの移動方向との間隔
を調整する手段;とからなるダイヤモンドの研磨装置 - (14)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当
接せしめ、該側面を前記表面に沿って相対的に移動せし
めて形成された研磨ダイヤモンド;該研磨ダイヤモンド
を切削工具に用いたダイヤモンド製品 - (15)ダイヤモンドの表面にレーザビームの側面を当
接せしめ、該側面を前記表面に沿って相対的に移動せし
めて形成された研磨ダイヤモンド;該研磨ダイヤモンド
をヒートシンクに用いたダイヤモンド製品 - (16)切削工具が、切削バイトであることを特徴とす
る請求項第14記載のダイヤモンド製品 - (17)切削工具が、フライスであることを特徴とする
請求項第14記載のダイヤモンド製品 - (18)切削バイトのダイヤモンドチップが、超硬合金
にろう付けされていることを特徴とする請求項第16記
載のダイヤモンド製品 - (19)切削バイトのダイヤモンドチップが、すくい面
と逃げ面とを備えていることを特徴とする請求項第16
記載のダイヤモンド製品
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2072692A JPH03272810A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | ダイヤモンドの研磨方法及び装置並びにそれを利用したダイヤモンド製品 |
| EP91103604A EP0446811A1 (en) | 1990-03-10 | 1991-03-08 | Method and apparatus for grinding diamond and diamond product using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2072692A JPH03272810A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | ダイヤモンドの研磨方法及び装置並びにそれを利用したダイヤモンド製品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03272810A true JPH03272810A (ja) | 1991-12-04 |
Family
ID=13496673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2072692A Pending JPH03272810A (ja) | 1990-03-10 | 1990-03-22 | ダイヤモンドの研磨方法及び装置並びにそれを利用したダイヤモンド製品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03272810A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09225659A (ja) * | 1996-01-05 | 1997-09-02 | Lazare Kaplan Internatl Inc | レーザによるマーク形成のシステム |
| WO1998015380A1 (en) * | 1996-10-08 | 1998-04-16 | The University Of Arkansas | Process and apparatus for sequential multi-beam laser processing of materials |
| CN1302890C (zh) * | 2005-03-18 | 2007-03-07 | 北京工业大学 | 一种球面高质量大面积金刚石厚膜的抛光方法及装置 |
| JP2012148398A (ja) * | 2010-12-26 | 2012-08-09 | Mitsubishi Materials Corp | 炭素膜被覆エンドミルおよびその製造方法 |
| JP2013202657A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Mitsubishi Materials Corp | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
| JP2013220525A (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-28 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 切削工具およびその製造方法 |
| WO2021199220A1 (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 刃先加工装置および切削装置 |
| JP2022069523A (ja) * | 2020-03-30 | 2022-05-11 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 切削装置 |
| JP2022128523A (ja) * | 2020-03-30 | 2022-09-01 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 切削装置 |
| JP2023056035A (ja) * | 2021-09-27 | 2023-04-18 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 加工装置 |
-
1990
- 1990-03-22 JP JP2072692A patent/JPH03272810A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09225659A (ja) * | 1996-01-05 | 1997-09-02 | Lazare Kaplan Internatl Inc | レーザによるマーク形成のシステム |
| WO1998015380A1 (en) * | 1996-10-08 | 1998-04-16 | The University Of Arkansas | Process and apparatus for sequential multi-beam laser processing of materials |
| CN1302890C (zh) * | 2005-03-18 | 2007-03-07 | 北京工业大学 | 一种球面高质量大面积金刚石厚膜的抛光方法及装置 |
| JP2012148398A (ja) * | 2010-12-26 | 2012-08-09 | Mitsubishi Materials Corp | 炭素膜被覆エンドミルおよびその製造方法 |
| JP2013202657A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Mitsubishi Materials Corp | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
| JP2013220525A (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-28 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 切削工具およびその製造方法 |
| WO2021199220A1 (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 刃先加工装置および切削装置 |
| JPWO2021199220A1 (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-07 | ||
| JP2022069523A (ja) * | 2020-03-30 | 2022-05-11 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 切削装置 |
| JP2022128523A (ja) * | 2020-03-30 | 2022-09-01 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 切削装置 |
| JP2023056035A (ja) * | 2021-09-27 | 2023-04-18 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 加工装置 |
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