JPH0321901A - レンズアレイの製造方法 - Google Patents
レンズアレイの製造方法Info
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- JPH0321901A JPH0321901A JP15643789A JP15643789A JPH0321901A JP H0321901 A JPH0321901 A JP H0321901A JP 15643789 A JP15643789 A JP 15643789A JP 15643789 A JP15643789 A JP 15643789A JP H0321901 A JPH0321901 A JP H0321901A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、微小なレンズ体が規則的に配列して成るレン
ズアレイ体の製造方法に関する。
ズアレイ体の製造方法に関する。
１０〜数１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレ
ンズ、あるいはそれらのマイクロレンズを規則的に配列
して構成したレンズアレイは、ファクシミリや電子複写
機等の結像光学系に、あるいは光ファイバコネクタの光
学系などに応用されている。前記レンズ径を有するマイ
クロレンズ（マイクロレンズアレイ）のうち、実用化に
到っているものは大別して２種あり、一つは分布屈折率
型平板マイクロレンズであり、一つは凸もしくは凹形状
レンズである。上記マイクロレンズに関する参考文献と
しては、 ■電気学会誌１０３ ［２］ ｐｌ２７ （１９８３）
、■Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ（アブライドオプ
ティクス）誌 ２７ ［７］ ｐ１２８１（１９８８）
等がある。このうち形状レンズは製造方法が簡便であり
、したがって製造コストが安く、また、レンズの製造段
階で他の部品と一体化させることが出来るという利点を
有している。形状レンズの作製法としてはいくつかのも
のが提案されているが、中でも前記参考文献■、特開昭
６０−６０７５６等にみられる、熱変形性樹脂の加熱変
形を利用する方法（以下、熱変形法とする）は、通常の
フォトリソグラフィーの手法を利用した極めて量産性に
優れた方法である。
ンズ、あるいはそれらのマイクロレンズを規則的に配列
して構成したレンズアレイは、ファクシミリや電子複写
機等の結像光学系に、あるいは光ファイバコネクタの光
学系などに応用されている。前記レンズ径を有するマイ
クロレンズ（マイクロレンズアレイ）のうち、実用化に
到っているものは大別して２種あり、一つは分布屈折率
型平板マイクロレンズであり、一つは凸もしくは凹形状
レンズである。上記マイクロレンズに関する参考文献と
しては、 ■電気学会誌１０３ ［２］ ｐｌ２７ （１９８３）
、■Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ（アブライドオプ
ティクス）誌 ２７ ［７］ ｐ１２８１（１９８８）
等がある。このうち形状レンズは製造方法が簡便であり
、したがって製造コストが安く、また、レンズの製造段
階で他の部品と一体化させることが出来るという利点を
有している。形状レンズの作製法としてはいくつかのも
のが提案されているが、中でも前記参考文献■、特開昭
６０−６０７５６等にみられる、熱変形性樹脂の加熱変
形を利用する方法（以下、熱変形法とする）は、通常の
フォトリソグラフィーの手法を利用した極めて量産性に
優れた方法である。
しかしこの方法は、熱変形性樹脂が感光性樹脂であるた
めに、樹脂の透過率番二制約がある、厚膜化するとバタ
ーニング精度が落ちるという課題を有していた。そこで
本発明は以上のような課題を解決するもので、その目的
とするところは感光性樹脂を用いない熱変形法を提供す
ることにある．〔課題を解決するための手段〕 上記課題を解決するために本発明のレンズアレイの製造
方法は、あらかじめ作製された熱変形性樹脂パターンを
加熱し、前記熱変形性樹脂パターンを変形することによ
り個々のマイクロレンズを作製するレンズアレイの製造
方法に於て、前記熱変形性樹脂パターンを、熱変形性樹
脂をマスクを介してエッチングすることにより得ること
を特徴とする。また、前記マスクを、金属薄膜のバター
ニングにより得ることを特徴とする。
めに、樹脂の透過率番二制約がある、厚膜化するとバタ
ーニング精度が落ちるという課題を有していた。そこで
本発明は以上のような課題を解決するもので、その目的
とするところは感光性樹脂を用いない熱変形法を提供す
ることにある．〔課題を解決するための手段〕 上記課題を解決するために本発明のレンズアレイの製造
方法は、あらかじめ作製された熱変形性樹脂パターンを
加熱し、前記熱変形性樹脂パターンを変形することによ
り個々のマイクロレンズを作製するレンズアレイの製造
方法に於て、前記熱変形性樹脂パターンを、熱変形性樹
脂をマスクを介してエッチングすることにより得ること
を特徴とする。また、前記マスクを、金属薄膜のバター
ニングにより得ることを特徴とする。
上記の手段によれば、熱変形性樹脂は感光性を持ってい
る必要が無いため、光学的に透明な材料を選ぶことがで
きる。又、光反応を利用してパターンを作製するのでは
ないので、厚膜化しても精度のよいパターンを作製する
ことができる。
る必要が無いため、光学的に透明な材料を選ぶことがで
きる。又、光反応を利用してパターンを作製するのでは
ないので、厚膜化しても精度のよいパターンを作製する
ことができる。
以下、実施例に基付き本発明を詳細に説明する。
但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない
。
。
［実施例］
第１図に基づき実施例を説明する。まず、 （ａ）に示
すように、パイレヅクス基板１０１上にＰＭＭＡ薄膜１
０２を腹厚１６．９μｍになるように成膜した。次に（
ｂ）、 （Ｃ）に示すようにアルミニウム１０３を０３
４μｍ，ポジフオトレジスト１０４を１．２μｍ成膜
した。次に、 （ｄ）に示すように、所望のパターンを
有するフォトマスク１０５を用いて、ＵＶ光１０６で、
フォトレジスト１０４を露光し、 （ｅ）に示すように
、現像を行なった。次に、 （ｆ）に示すように、フォ
トレジスト１０４をマスクとしてアルミニウム１０３を
酸を用いてエッチングし、更に（ｇ）に示すように、ア
ルミニウム１０３をマスクとしてアセトンを用いて Ｐ
ＭＭＡ１０２をエッチングした。最後にＰＭＭＡ１０２
の上に残るアルミニウム１０３を酸を用いて剥離し、
（ｈ）に示すようなＰＭＭＡのパターン幅３０μｍ、高
さ１６．９μｍの断面が矩形であるパターンを得た。
すように、パイレヅクス基板１０１上にＰＭＭＡ薄膜１
０２を腹厚１６．９μｍになるように成膜した。次に（
ｂ）、 （Ｃ）に示すようにアルミニウム１０３を０３
４μｍ，ポジフオトレジスト１０４を１．２μｍ成膜
した。次に、 （ｄ）に示すように、所望のパターンを
有するフォトマスク１０５を用いて、ＵＶ光１０６で、
フォトレジスト１０４を露光し、 （ｅ）に示すように
、現像を行なった。次に、 （ｆ）に示すように、フォ
トレジスト１０４をマスクとしてアルミニウム１０３を
酸を用いてエッチングし、更に（ｇ）に示すように、ア
ルミニウム１０３をマスクとしてアセトンを用いて Ｐ
ＭＭＡ１０２をエッチングした。最後にＰＭＭＡ１０２
の上に残るアルミニウム１０３を酸を用いて剥離し、
（ｈ）に示すようなＰＭＭＡのパターン幅３０μｍ、高
さ１６．９μｍの断面が矩形であるパターンを得た。
このパターンをｉｓｏ’ｃで熱処理することにより、Ｐ
ＭＭＡは熱流動を起こし、表面張力で（ｉ）に示すよう
な幅６５μｍのレンズパターンを得ることができた。
ＭＭＡは熱流動を起こし、表面張力で（ｉ）に示すよう
な幅６５μｍのレンズパターンを得ることができた。
このレンズアレイの個々のレンズの焦点距離は１００μ
ｍであった。又、可視光領域（３９ｏｎｍ〜７６０ｎｍ
）での光透過率は全領域にわたって９０％以上有りほぼ
均一であった。一方、このような手法を用いずに、ボジ
レジストＴＦ−２０ （Ｓｈｉｐｌｅｙ社製）を用イテ
、直接パターニングをして全く同様の焦点距離を持つレ
ンズを作製したが、５５０ｎｍ以下での透過率が悪く、
赤く着色していた。また、このような厚膜になると、精
度のよいパターニングは不可能であり、作製するレンズ
アレイの個々のレンズの焦点距離に大きなばらつきを生
じてしまった。
ｍであった。又、可視光領域（３９ｏｎｍ〜７６０ｎｍ
）での光透過率は全領域にわたって９０％以上有りほぼ
均一であった。一方、このような手法を用いずに、ボジ
レジストＴＦ−２０ （Ｓｈｉｐｌｅｙ社製）を用イテ
、直接パターニングをして全く同様の焦点距離を持つレ
ンズを作製したが、５５０ｎｍ以下での透過率が悪く、
赤く着色していた。また、このような厚膜になると、精
度のよいパターニングは不可能であり、作製するレンズ
アレイの個々のレンズの焦点距離に大きなばらつきを生
じてしまった。
以上説明したように、本発明によれば、あらかじめ作製
された熱変形性樹脂パターンを加熱し、前記熱変形性樹
脂パターンを変形することにより個々のマイクロレンズ
を作製するレンズアレイの製造方法に於て、前記熱変形
性樹脂パターンを、熱変形性樹脂をマスクを用いてエッ
チングすることにより作製するという手段を用いること
により、熱変形性樹脂の選択の自由度が高くなり、様々
なスペックのレンズアレイに対応することができる。
された熱変形性樹脂パターンを加熱し、前記熱変形性樹
脂パターンを変形することにより個々のマイクロレンズ
を作製するレンズアレイの製造方法に於て、前記熱変形
性樹脂パターンを、熱変形性樹脂をマスクを用いてエッ
チングすることにより作製するという手段を用いること
により、熱変形性樹脂の選択の自由度が高くなり、様々
なスペックのレンズアレイに対応することができる。
したがって、本発明は、多様なレンズアレイの要求スペ
ックに答え得るレンズアレイの製造方法であると言える
。
ックに答え得るレンズアレイの製造方法であると言える
。
第１図は本発明の実施例の説明図である。
１ ０ １
１０２
１ ０３
１ ０４
１ ０５
１ ０ ６
バイレックス基板
ＰＭＭＡ薄族
アルミニウム薄膜
ボジレジスト
フォトマスク
ＵＶ光
ｃｔＪ＞
Claims (2)
- （１）あらかじめ作製された熱変形性樹脂パターンを加
熱し、前記熱変形性樹脂パターンを変形することにより
個々のマイクロレンズを作製するレンズアレイの製造方
法に於て、前記熱変形性樹脂パターンを、熱変形性樹脂
をマスクを介してエッチングすることにより得ることを
特徴とする、レンズアレイの製造方法。 - （２）前記マスクを、金属薄膜のパターニングにより得
ることを特徴とするレンズアレイの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15643789A JPH0321901A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | レンズアレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15643789A JPH0321901A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | レンズアレイの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321901A true JPH0321901A (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=15627735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15643789A Pending JPH0321901A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | レンズアレイの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0321901A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4234740A1 (de) * | 1992-10-15 | 1994-04-21 | Joachim Hentze | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von optischen Linsen oder dergleichen |
| US5605783A (en) * | 1995-01-06 | 1997-02-25 | Eastman Kodak Company | Pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays for solid state imagers |
| US5723264A (en) * | 1996-03-14 | 1998-03-03 | Eastman Kodak Company | Pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays using specialized polyesters |
| US6043001A (en) * | 1998-02-20 | 2000-03-28 | Eastman Kodak Company | Dual mask pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays |
| US7575845B2 (en) | 1997-08-08 | 2009-08-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
-
1989
- 1989-06-19 JP JP15643789A patent/JPH0321901A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4234740A1 (de) * | 1992-10-15 | 1994-04-21 | Joachim Hentze | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von optischen Linsen oder dergleichen |
| DE4234740C2 (de) * | 1992-10-15 | 1997-12-11 | Joachim Hentze | Verfahren zur Herstellung von optischen Elementen |
| US5605783A (en) * | 1995-01-06 | 1997-02-25 | Eastman Kodak Company | Pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays for solid state imagers |
| US5691116A (en) * | 1995-01-06 | 1997-11-25 | Eastman Kodak Company | Pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays for solid state imagers |
| US5723264A (en) * | 1996-03-14 | 1998-03-03 | Eastman Kodak Company | Pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays using specialized polyesters |
| US7575845B2 (en) | 1997-08-08 | 2009-08-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| US7943275B2 (en) | 1997-08-08 | 2011-05-17 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| US7965446B2 (en) | 1997-08-08 | 2011-06-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| US7998662B2 (en) | 1997-08-08 | 2011-08-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| US8268546B2 (en) | 1997-08-08 | 2012-09-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| US8785108B2 (en) | 1997-08-08 | 2014-07-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| US8815130B2 (en) | 1997-08-08 | 2014-08-26 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for producing a lens |
| US6043001A (en) * | 1998-02-20 | 2000-03-28 | Eastman Kodak Company | Dual mask pattern transfer techniques for fabrication of lenslet arrays |
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