JPH0321511B2 - - Google Patents
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- JPH0321511B2 JPH0321511B2 JP60121560A JP12156085A JPH0321511B2 JP H0321511 B2 JPH0321511 B2 JP H0321511B2 JP 60121560 A JP60121560 A JP 60121560A JP 12156085 A JP12156085 A JP 12156085A JP H0321511 B2 JPH0321511 B2 JP H0321511B2
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- JP
- Japan
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- ampoule
- crystal
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- tube
- crystal growth
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- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、金属、化合物半導体等の単結晶ない
しは肥大結晶粒を育成するための結晶成長アンプ
ル、特には垂直ブリツジマン法や垂直グランデイ
エントフリージング法において用いられる結晶成
長用アンプルの構造に関するものである。本発明
アンプルは、金属はもとより、CdTe、HgCdTe
等の−族化合物半導体、GaAs、InPのよう
な−族化合物半導体、ハロゲン化物、圧電素
子や電気光学結晶の作成に用いられる強誘電性物
質、フエライト等を含めて無機材料の良質の単結
晶或いは肥大結晶粒を製造するのに有用である。
従来の技術
上述のような無機材料の結晶成長のための方法
として、垂直ブリツジマン法や垂直グランデイエ
ントフリージング法がしばしば用いられている。
これら方法では、原料を容器中に収納し、ある適
当な温度勾配をもつた電気炉内で加熱して原料を
溶解し、容器を炉内で相対的に垂直方向に移動さ
せ、徐々に温度を下げながら原料融液の固化及び
単結晶化が行われる。容器としては、原料の酸化
等による汚染、易蒸発性成分の揮化損失を防止す
る為原料を真空封入する石英等製のアンプルが多
く用いられる。アンプルの形態としては、底部が
逆円錐状となつた円筒状アンプルが通常的に使用
されている。例えば、実開昭60−7596号は、容器
底部に円錐部を設けた単結晶育成用ルツボを開示
してる。特開昭58−135195号は、従来技術として
尖端底部を有する半導体結晶成長用アンプルでは
単結晶内に多数の小傾角度粒界が発生した事実を
述べ、そこで尖端部を無くして平坦にした構造の
アンプルを用いたところ、一つの単結晶内におけ
る小傾角度粒界の発生は減少したが、多数の単結
晶が同時に形成され、断面積の大きな単結晶が得
られない欠点を認識し、最終的に尖端部を複数の
分岐した構造を提唱している。実開昭49−119445
号は、やはり円錐状底部を有する結晶成長用るつ
ぼを開示し、ここでは弾性を持たせるよう肉厚の
薄い内側るつぼと高い蒸気圧に耐え得る厚い外側
るつぼの二重構造が示されている。外管るつぼは
内側るつぼが例え破壊されても内容物が酸化され
るのを防止する防護体として機能するものとして
いる。しかしながら、実際には、こうしたアンプ
ルが必ずしも有効とは言えず、更に良質の結晶成
長効果の高いアンプルが望まれている。
従来技術の問題点
上述した通り、垂直ブリツジマン法や垂直グラ
デイエントフリージング法では、底部を逆円錐状
とした単壁アンプルが主流となつていた。しかし
ながら、こうしたアンプルでは結晶成長に際して
亜粒界等が生じることにより結晶性の悪いものが
しばしば生じた。更には、結晶の熱膨脹係数がア
ンプルの材質に較べて差が大きい場合、結晶成長
後の冷却中にアンプルの破損や破裂が生じるとい
う問題もあつた。アンプル底部が逆円錐状の場
合、円錐傾斜面が結晶核発生場所となり、成長方
向の異なるものが多数できやすく、また亜粒界の
発生確率が高く、生成物の結晶性が非常に悪くな
りやすいことも認識された。
問題点を解決するための手段
本発明者等は、種々の形状のアンプルを用いて
結晶成長の研究を進めた結果、大きな単結晶の成
長促進と亜粒界発生の減少のためには、アンプル
内融液がアンプル外壁の温度変動の影響を受ける
のを極力防止することが基本的に重要であり、更
に好ましくは傾斜壁面の存在を排除することも重
要であるとの結論に達した。そのために、アンプ
ルを内管と外管とから成る2重構造として間に真
空ギヤツプを形成した構造とし、且つアンプル底
を平底構造とするのが効果的であることが見出さ
れた。2重管構造は、冷却時にアンプル内管が破
損しても外管は破損せず残るので、アンプルの破
損に伴う結晶の酸化等の問題を回避する点でも有
益である。
結晶核の発生をアンプル底部中央に起りやすく
する為アンプル底部中央に熱流出促進手段を設け
ることも有効であることが判明した。
1重管構造の場合、例えば直接合成では反応熱
による突沸などで溶湯が内管から内管−外管ギヤ
ツプに洩出する事態が憂慮されたが、内管上端周
辺を外管内面に溶着或いは当接せしめておくこと
により溶湯のギヤツプ内への浸透は有効に防止し
うる。
発明の概要
斯くして、本発明は、垂直ブリツジマン法或い
は垂直グラデイエントフリージング法によりた単
結晶ないしは肥大結晶粒を製造するのに用いられ
る結晶成長用アンプルにおいて、底端が有底の内
管及び外管から成る2重管構造を有し且つ該内管
及び外管の底端面が平坦であることを特徴とする
結晶成長用アンプルを提供する。
本アンプルは、外管底部中央に熱流出促進手段
を取付けた形態で、更には内管の上部周辺を外管
の内壁面に溶着或いは当接した形態で使用されう
る。
発明の具体的説明
垂直ブリツジマン法或いは垂直グラデイエント
フリージング法においては、第2図に示すよう
に、所定の温度勾配を有する電気炉において原料
融液を収納するアンプルと炉との相対的垂直移動
を与えることにより融液を固化し、単結晶化がも
たらされる。垂直ブリツジマン法においてはアン
プルが降下され、他方垂直グラデイエントフリー
ジング法においてはアンプルを固定し、炉を冷却
する。
第1図は本発明サンプルの具体例を示す。第1
a図は、底端が有底の内管1及び外管3から成る
2重管構造でありそして底端面5が平坦となつて
いるアンプルを示す。こうしたアンプルは、内管
を外管内に嵌入し、結晶成長させるべき物質を目
標組成に合うよう秤量して内管内部に装入し、そ
の後アンプル内を排気して外管上端部を溶融封止
することにより形成される。内管と外管との間に
は真空ギヤツプが存在する。
この場合、底部の温度がもつとも低い部分で結
晶核の発生が起こり、たとえ複数の核が生じても
平底構造の為同一方向に結晶成長が起るので、最
終的には得られる結晶は合体して大きな結晶が得
られる。亜粒界も発生し難い。
2重管構造は、アンプル外側の温度変動がアン
プル内管内部に及ぶのを最小限に防止し、単結晶
化率の向上と亜粒界のない良質結晶が生所する。
2重管構造が、更にはそれと平底構造とが相俟
つて、単結晶化率を大巾に高め且つ良質の結晶を
生成することを可能ならしめるのである。
更に、アンプルが2重になつているので、結晶
のアンプル材質の熱膨脹係数の差により、結晶成
長後の冷却時に内管が破損しても結晶は外気に触
れることがなく、結晶の酸化等が防止できる。
第1b図は、第1a図のアンプルの外管の底部
中央に熱流出促進手段としてロツド7を取付けた
構造を示す。これにより、結晶核の発生がアンプ
ル底部の中心で起り、結晶粒が大きくなる。結晶
成長時の潜熱の流出効果が高まるので、単結晶化
率の向上及び結晶の良質化がaの場合より更に効
果的となる。
熱流出促進手段としては、ロツドの他に、ヒー
トパイプ、冷却用気体吹付け管等の使用も可能で
あり、またロツドの先に冷却管を設けて冷却水を
流すことにより熱流出効果を一段と高めることが
出来る。
第1c図は、第1b図のアンプルの内管の上部
周辺をWにて外管と溶着或いは当接した具体例を
示す(もちろん第1a図のアンプルにも適用可で
ある)。結晶成長前の直接合成では、反応熱によ
る突沸などで溶湯が内部から溢れ、内管と外管と
のギヤツプに漏入することがある。このような場
合、正常な結晶成長は出来なくなるので、内管の
上部周辺を外管に溶着して漏洩を防止する必要が
ある。作成の仕方としては、内管の周辺部を外管
に先ず溶着し、この際ギヤツプの真空引きが可能
なよう小さな穴を内管壁に数個形成しておく。そ
の後、原料を装入しそして排気後外管が溶融封止
される。或いは、内管の上端周辺を外管と密着当
接状態として外管に挿入してもよい。
アンプルの材質としては、透明石英、不透明石
英、パイレツクスガラス、ガラス等が用いられ
る。外管をこれら材料から作製しそして内管をカ
ーボン、PBN、アルミナ、マグネシア等から作
製してもよい。また、内管には、カーボン、
PBN、アルミナ、SiC等をコーテイングしたもの
を用いてもよい。
ロツドの材質としては溶着性の点からアンプル
と同一のものが好ましいが適宜の接合方法の採用
により様々の材質のものの使用が可能である。
アンプルの大きさは、対象材料に応じて様々の
ものが使用されるが、一般に直径40〜75mmそして
高さ13〜15cmである。
実施例
CdTe結晶の成長について、本発明によるアン
プルを用い、その効果を確認した。結晶成長には
第2図のような二段炉を用い、上段炉を1150℃、
下段炉を800℃とし、アンプルの形状としては第
1c図のものを用いて結晶成長を行なつた。結晶
成長法としては、ブリツジマン法、グラデイエン
トフリージング法について検討した。結晶成長条
件は下記の通りである。
Γブリツジマン法
アンプル降下速度 1nm/hr
温度勾配 3℃/cm
アンプル内径 1φ
Γグラデイエントフリージング法
冷却速度 1℃/hr
温度勾配 4℃/cm
アンプル内径 3/φ
以上の方法により、作成したCdTe結晶の品質
は以下の通りであつた。
Industrial Application Field The present invention relates to the structure of a crystal growth ampoule for growing single crystals or enlarged crystal grains of metals, compound semiconductors, etc., particularly the structure of crystal growth ampoules used in the vertical Bridgeman method and the vertical gradient-ent freezing method. It is related to. The ampoule of the present invention can be made of not only metals but also CdTe, HgCdTe,
High-quality single crystals or inorganic materials, including - group compound semiconductors such as GaAs, InP, halides, ferroelectric materials, ferrites, etc. used in the creation of piezoelectric elements and electro-optic crystals. Useful for producing enlarged grains. BACKGROUND TECHNOLOGY As a method for growing crystals of inorganic materials as described above, the vertical Bridgeman method and the vertical gradient freezing method are often used.
In these methods, raw materials are stored in a container, heated in an electric furnace with an appropriate temperature gradient to melt the raw materials, and the container is moved relatively vertically within the furnace to gradually increase the temperature. Solidification and single crystallization of the raw material melt are performed while lowering the temperature. As a container, an ampoule made of quartz or the like is often used to vacuum-seal the raw material in order to prevent contamination due to oxidation of the raw material and volatilization loss of easily evaporable components. As for the form of the ampoule, a cylindrical ampoule with an inverted conical bottom is commonly used. For example, Japanese Utility Model Application Publication No. 1983-7596 discloses a crucible for growing a single crystal, which has a conical portion at the bottom of the container. JP-A No. 58-135195 describes the fact that in the prior art, in semiconductor crystal growth ampoules with a pointed bottom, a large number of small-angle grain boundaries were generated within a single crystal. When using this ampoule, the occurrence of small angle grain boundaries within one single crystal was reduced, but we realized that many single crystals were formed at the same time, making it impossible to obtain a single crystal with a large cross-sectional area. proposed a structure with multiple branches at the tip. Jitsukai Showa 49-119445
No. 1, No. 1, discloses a crucible for crystal growth, also with a conical bottom, showing a dual structure of a thinner inner crucible for elasticity and a thicker outer crucible to withstand high vapor pressures. The outer crucible functions as a protector to prevent the contents from being oxidized even if the inner crucible is destroyed. However, in reality, such ampoules are not necessarily effective, and there is a desire for ampoules of even better quality and a higher effect on crystal growth. Problems with the Prior Art As mentioned above, in the vertical Bridgeman method and the vertical gradient freezing method, single-walled ampoules with an inverted conical bottom have been the mainstream. However, such ampoules often have poor crystallinity due to the formation of subgrain boundaries during crystal growth. Furthermore, if the difference in thermal expansion coefficient of the crystal is large compared to the material of the ampoule, there is a problem that the ampoule may break or burst during cooling after crystal growth. If the bottom of the ampoule has an inverted conical shape, the inclined surface of the cone becomes the place where crystal nuclei are generated, and many crystals with different growth directions are likely to be formed.Also, the probability of occurrence of sub-grain boundaries is high, and the crystallinity of the product is likely to be very poor. It was also recognized that Means for Solving the Problems As a result of conducting research on crystal growth using ampules of various shapes, the present inventors found that in order to promote the growth of large single crystals and reduce the occurrence of subgrain boundaries, It was concluded that it is fundamentally important to prevent the internal melt from being affected by temperature fluctuations on the outer wall of the ampoule as much as possible, and more preferably to eliminate the presence of inclined walls. For this purpose, it has been found that it is effective to make the ampoule a double structure consisting of an inner tube and an outer tube with a vacuum gap formed therebetween, and to make the ampoule bottom a flat bottom structure. The double-tube structure is also advantageous in that it avoids problems such as oxidation of crystals due to ampoule breakage, because even if the ampoule inner tube breaks during cooling, the outer tube remains undamaged. It has been found that it is also effective to provide a means for promoting heat flow at the center of the ampoule bottom in order to facilitate the generation of crystal nuclei at the center of the ampoule bottom. In the case of a single-tube structure, for example, in direct synthesis, there was a concern that the molten metal would leak from the inner tube into the inner tube-outer tube gap due to bumping due to reaction heat, but it is possible to weld the upper end of the inner tube to the inner surface of the outer tube or By keeping them in contact, penetration of molten metal into the gap can be effectively prevented. SUMMARY OF THE INVENTION Thus, the present invention provides a crystal growth ampoule used for producing single crystals or enlarged crystal grains by the vertical Bridgeman method or the vertical gradient freezing method, which comprises an inner tube with a bottom end and Provided is an ampoule for crystal growth which has a double tube structure consisting of an outer tube and is characterized in that the bottom end surfaces of the inner tube and the outer tube are flat. This ampoule can be used in a form in which a heat flow promoting means is attached to the center of the bottom of the outer tube, and further in a form in which the periphery of the upper part of the inner tube is welded or in contact with the inner wall surface of the outer tube. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the vertical Bridgeman method or the vertical gradient freezing method, as shown in FIG. This solidifies the melt and results in single crystallization. In the vertical Bridziman method, the ampoule is lowered, while in the vertical gradient freezing method, the ampoule is fixed and the furnace is cooled. FIG. 1 shows a specific example of a sample of the present invention. 1st
Figure a shows an ampoule having a double tube structure consisting of an inner tube 1 and an outer tube 3 with a bottom end and a flat bottom end surface 5. In these ampoules, the inner tube is inserted into the outer tube, the substance to be crystal grown is weighed to match the target composition, and then charged into the inner tube.The ampoule is then evacuated and the upper end of the outer tube is melt-sealed. It is formed by A vacuum gap exists between the inner and outer tubes. In this case, even if the bottom temperature is low, crystal nuclei will be generated in the lower part, and even if multiple nuclei are generated, crystal growth will occur in the same direction due to the flat bottom structure, so the crystals obtained will eventually coalesce. large crystals can be obtained. Subgrain boundaries are also less likely to occur. The double tube structure minimizes the influence of temperature fluctuations on the outside of the ampoule to the inside of the ampoule inner tube, improving the single crystallization rate and producing high-quality crystals without sub-grain boundaries. The double tube structure, together with the flat bottom structure, greatly increases the single crystallization rate and makes it possible to produce high quality crystals. Furthermore, since the ampoule is double layered, due to the difference in thermal expansion coefficient of the crystal ampoule materials, even if the inner tube is damaged during cooling after crystal growth, the crystal will not come into contact with the outside air, and the crystal will not be oxidized. It can be prevented. FIG. 1b shows a structure in which a rod 7 is attached to the center of the bottom of the outer tube of the ampoule shown in FIG. 1a as a means for promoting heat flow. As a result, crystal nuclei are generated at the center of the ampoule bottom, and the crystal grains become larger. Since the outflow effect of latent heat during crystal growth is enhanced, the single crystallization rate and quality of the crystal are improved more effectively than in case a. In addition to rods, it is also possible to use heat pipes, cooling gas blowing pipes, etc. as means for promoting heat flow.Also, by installing a cooling pipe at the end of the rod and flowing cooling water, the heat flow effect can be further enhanced. It can be increased. FIG. 1c shows a specific example in which the periphery of the upper part of the inner tube of the ampoule of FIG. 1b is welded or abutted to the outer tube at W (of course, it is also applicable to the ampoule of FIG. 1a). In direct synthesis before crystal growth, molten metal may overflow from the inside due to bumping due to reaction heat and leak into the gap between the inner and outer tubes. In such a case, normal crystal growth cannot occur, so it is necessary to weld the upper part of the inner tube to the outer tube to prevent leakage. To make it, the peripheral part of the inner tube is first welded to the outer tube, and at this time several small holes are formed in the wall of the inner tube so that the gap can be evacuated. Thereafter, raw materials are charged and the outer tube is melt-sealed after evacuation. Alternatively, the inner tube may be inserted into the outer tube with its upper end periphery in close contact with the outer tube. Transparent quartz, opaque quartz, pyrex glass, glass, etc. are used as the material for the ampoule. The outer tube may be made from these materials and the inner tube may be made from carbon, PBN, alumina, magnesia, etc. In addition, the inner tube contains carbon,
A material coated with PBN, alumina, SiC, etc. may also be used. The rod is preferably made of the same material as the ampoule from the viewpoint of weldability, but various materials can be used by employing an appropriate joining method. The size of the ampoule varies depending on the target material, but it is generally 40 to 75 mm in diameter and 13 to 15 cm in height. Example Regarding the growth of CdTe crystal, the effect of the ampoule according to the present invention was confirmed. A two-stage furnace as shown in Figure 2 is used for crystal growth, with the upper stage heated at 1150°C.
The temperature of the lower furnace was set at 800°C, and crystal growth was carried out using the ampoule shape shown in Fig. 1c. As crystal growth methods, we investigated the Bridgeman method and the gradient freezing method. The crystal growth conditions are as follows. Γ Bridziman method Ampoule lowering rate 1 nm/hr Temperature gradient 3℃/cm Ampoule inner diameter 1φ Γ Gradient freezing method Cooling rate 1℃/hr Temperature gradient 4℃/cm Ampoule inner diameter 3/φ The quality was as follows.
【表】
表す。
表より、アンプルの形状は単結晶化率とその結
晶性に著しい影響を与えることが判る。本発明の
改良アンプルによつて結晶性の向上と単結晶化率
の向上が実現される。
発明の効果
(1) アンプルを二重構造とすることにより、結晶
成長中、アンプルの外壁の温度変動の影響を受
けにくくなり、外壁での結晶核の発生が抑制さ
れる。このため、大きな単結晶部ができやすく
なるとともに、亜粒界の発生が減少し、良質の
結晶ができる。また、結晶成長後、冷却時にア
ンプルが破損しても大気に触れないので、冷却
時に、結晶の酸化などが起こらない。
(2) アンプルの底部が平坦なことが成長方向の異
なる結晶の成長を防止し、上記の二重構造とあ
いまつて一層大きな結晶粒が得られ、亜粒界の
発生も一段と抑制される。
(3) ロツド等の熱流出促進手段をアンプル外管底
部中央部につけた場合種となる結晶核の発生が
アンプル底部の中心で起こりやすくなり、結晶
粒が大きくなるとともに、亜粒界も発生しにく
くなり、良質の結晶ができる。
(4) 結晶とアンプルの材質との熱膨脹係数の差に
よるアンプルの破損に対する対策を講じ、また
結晶成長前に結晶の直接合成を行なう際に反応
熱による突沸等で生じる問題をも解決する。[Table] Represent.
From the table, it can be seen that the shape of the ampoule has a significant effect on the single crystallization rate and its crystallinity. The improved ampoule of the present invention achieves improved crystallinity and single crystallinity. Effects of the Invention (1) By forming the ampoule into a double structure, the outer wall of the ampoule is less susceptible to temperature fluctuations during crystal growth, and the generation of crystal nuclei on the outer wall is suppressed. Therefore, large single crystal parts are easily formed, the occurrence of sub-grain boundaries is reduced, and high quality crystals are formed. Furthermore, even if the ampoule breaks during cooling after crystal growth, it does not come into contact with the atmosphere, so oxidation of the crystal does not occur during cooling. (2) The flat bottom of the ampoule prevents the growth of crystals with different growth directions, and together with the above-mentioned double structure, larger crystal grains are obtained, and the generation of subgrain boundaries is further suppressed. (3) When a heat flow promoting means such as a rod is attached to the center of the bottom of the ampoule outer tube, the generation of crystal nuclei that become seeds is likely to occur at the center of the ampoule bottom, and as the crystal grains become larger, subgrain boundaries also occur. It becomes hard and produces high quality crystals. (4) Measures are taken to prevent damage to the ampoule due to the difference in thermal expansion coefficient between the crystal and the material of the ampoule, and also problems caused by bumping due to reaction heat when directly synthesizing the crystal before crystal growth are also solved.
第1a,1b及び1c図は本発明アンプルの具
体例の断面図である。第2図は実施例で使用した
結晶成長装置の断面及びその温度分布を表すグラ
フを併記した図面である。
1:内管、3:外管、5:底端面、7:ロツ
ド、W:溶着部。
Figures 1a, 1b and 1c are cross-sectional views of specific examples of ampules according to the invention. FIG. 2 is a drawing together with a cross section of the crystal growth apparatus used in the examples and a graph showing its temperature distribution. 1: Inner tube, 3: Outer tube, 5: Bottom end surface, 7: Rod, W: Welded part.
Claims (1)
トフリージング法により単結晶ないしは肥大結晶
粒を製造するのに用いられる結晶成長用アンプル
において、底端が有底の内管及び外管から成る2
重管構造を有し且つ該内管及び外管の底端面が平
坦であることを特徴とする結晶成長用アンプル。 2 外管底部中央に熱流出促進手段を取付けた特
許請求の範囲第1項記載のアンプル。 3 内管の上部周辺を外管の内壁面に溶着或いは
当接した特許請求の範囲第1項或いは第2項記載
のアンプル。[Scope of Claims] 1. A crystal growth ampoule used for producing single crystals or enlarged crystal grains by the vertical Bridgeman method or the vertical gradient freezing method, comprising an inner tube and an outer tube with a bottom end; 2.
An ampoule for crystal growth, which has a double tube structure and has flat bottom end surfaces of the inner tube and the outer tube. 2. The ampoule according to claim 1, wherein a heat flow promoting means is attached to the center of the bottom of the outer tube. 3. The ampoule according to claim 1 or 2, wherein the upper periphery of the inner tube is welded to or in contact with the inner wall surface of the outer tube.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12156085A JPS61281095A (en) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | Ampule for crystal growth |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12156085A JPS61281095A (en) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | Ampule for crystal growth |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61281095A JPS61281095A (en) | 1986-12-11 |
| JPH0321511B2 true JPH0321511B2 (en) | 1991-03-22 |
Family
ID=14814258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12156085A Granted JPS61281095A (en) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | Ampule for crystal growth |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61281095A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6321278A (en) * | 1986-07-11 | 1988-01-28 | Nippon Mining Co Ltd | Ampule for growing single crystal |
| US5312506A (en) * | 1987-06-15 | 1994-05-17 | Mitsui Mining Company, Limited | Method for growing single crystals from melt |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49119445U (en) * | 1973-02-13 | 1974-10-12 | ||
| JPS58135195A (en) * | 1982-02-04 | 1983-08-11 | Fujitsu Ltd | Ampule for growing semiconductor crystal |
| JPS607596U (en) * | 1983-06-24 | 1985-01-19 | ミツミ電機株式会社 | Crucible for single crystal growth |
-
1985
- 1985-06-06 JP JP12156085A patent/JPS61281095A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61281095A (en) | 1986-12-11 |
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