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JPH0316799B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0316799B2
JPH0316799B2 JP58056954A JP5695483A JPH0316799B2 JP H0316799 B2 JPH0316799 B2 JP H0316799B2 JP 58056954 A JP58056954 A JP 58056954A JP 5695483 A JP5695483 A JP 5695483A JP H0316799 B2 JPH0316799 B2 JP H0316799B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
circuit board
insulating layer
board according
item
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58056954A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59182592A (en
Inventor
Takeshi Tsunohashi
Hiroshi Tawara
Yoshihisa Mori
Sumio Ooishi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP58056954A priority Critical patent/JPS59182592A/en
Publication of JPS59182592A publication Critical patent/JPS59182592A/en
Publication of JPH0316799B2 publication Critical patent/JPH0316799B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は金属薄膜電気抵抗層を内蔵する抵抗回
路基板に関する。 抵抗体を内蔵するプリント回路基板は、一般に
支持体を兼ねる絶縁層と該絶縁層上に接合された
金属薄膜電気抵抗層、及び該抵抗層に接合される
銅箔等の導電性金属層からなる積層体の形態で提
供され、プリント抵抗回路の製作に際しては、目
的とする回路のパターンに従つて絶縁領域(絶縁
層上の全層が除去される)、抵抗領域(導電性金
属層が除去される)、並びに導体領域(何れの層
も除去されない)が形成されて成品となる。 ところで金属薄膜電気抵抗層を内蔵する回路基
板では、高いシート抵抗を得るためには膜厚を薄
くする必要があると同時に、抵抗値のバラツキを
防止するため膜厚を均一にする必要もある。この
様な前提において従来の抵抗内蔵回路基板は次の
様な問題点ないし欠点を有していた。 a 銅箔等の導電性金属層に金属薄膜電気抵抗層
をメツキ等で積層し、さらにその上に絶縁支持
体を接合する回路基板の場合、抵抗層を薄層に
しかも均一に形成するためには下地たる銅箔の
表面を凹凸のない平滑なものとする必要があ
り、このため、絶縁支持体の接合力が十分に得
られない。特にニツケル系の抵抗層を形成する
場合、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
イミド樹脂等の絶縁支持体の接合は銅箔と直接
接合する場合よりも一層接着性が悪いことが知
られている。 b エツチングにより回路形成する場合、エツチ
ング液に絶縁支持体が侵されやすく、その結
果、抵抗体層に歪が生じて性能の劣化を招きや
すい。例えば、本発明者らは均一電着性、平滑
性、エツチング選択性、合金メツキ組成の安定
性にすぐれた抵抗体層としてスズ−ニツケル合
金を提供(特公昭55−42510)すると共に、ス
ズ−ニツケル合金専用のエツチング液を提供
(特開昭55−104481)したが、この専用エツチ
ング液は良好なエツチングを行なうのに通常85
℃以上で行なわねばならず、したがつてエポキ
シ樹脂等を侵す。 c 従来絶縁性支持体として一般に用いられてい
るエポキシ樹脂等は半田浸漬の如き熱的処理に
より歪が生じやすく、そのため抵抗値の変動を
生じやすい。 d その他、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等絶
縁支持体では熱伝導性が悪く、放熱性及び耐熱
性からの制限によりシート抵抗の許容電力が制
限される。 本発明者らは上述の技術的問題点ないし欠点
を解決すべく鋭意研究の結果以下に示す本発明
を完成した。 すなわち、本発明の抵抗回路基板は、金属薄膜
電気抵抗層と、該抵抗層の片面側に電気的に接触
して接合された導電性金属層と、前記抵抗層の他
面側に接合された電気絶縁層とを有する回路基板
であつて、第1の発明はその電気絶縁層を合成樹
脂とアルミナ粉を配合した複合層から構成したも
のであり、第2の発明は電気絶縁層を、合成樹脂
とアルミナ粉の配合物をガラスクロスに含浸させ
てあるプリプレグから構成したものである。 さらに図面を参照して具体的に説明する。第1
図,第2図は抵抗回路基板の断面図である。第1
図において、金属薄膜電気抵抗層2の両側に導電
性金属層1と電気絶縁層3が接合されている。そ
して第1の発明はこの電気絶縁層3が合成樹脂と
アルミナ粉を配合した複合層から構成されてお
り、第2の発明は電気絶縁層3が合成樹脂とアル
ミナ粉の配合物をガラスクロスに含浸させたプリ
プレグから構成されている。この場合、電気絶縁
層3を比較的厚く形成することにより回路基板の
支持体として兼用させることもできる。また第2
図に示す如く、電気絶縁層3にさらに専用の金属
支持体4を接合したものとしてもよい。プリプレ
グ等を厚く形成する場合は、これを複数枚重ねて
行なう。 本発明において、合成樹脂としてエポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂等を用いるが、これらの樹脂
100部に対してアルミナ粉を150〜250部配合した
ものを用いるのがよい。また放熱性改良のために
はアルミナ粉の粒子が1〜50μmの分布を示すも
のがよい。前記導電性金属層1としては例えば表
面が粗面化処理されていない数十ミクロンの銅箔
を用いる。また前記金属薄膜電気抵抗層2として
はSn−Ni系合金メツキ層を数百オングストロー
ム形成する。電気絶縁層3は、これを支持体とし
ても兼用させる場合には数ミリ程度とし、別に金
属支持体4を接合する場合は数十ミクロンないし
数百ミクロン程度とする。金層支持体4は同時に
放熱性の向上を図ることから、熱伝導性のよいア
ルミニウム板等が好ましく、アルミニウム板を用
いる場合には表面に5〜30μmのアルマイト層を
形成したものが接着力、耐電圧性も良好となる。
なお上記各層1,2,3の厚みは1つの目安であ
つて、これに限定されるものではない。 次に本発明の抵抗回路基板をその製造過程に沿
つて説明する。 導電性金属層1として例えば銅箔を用意し、そ
の片面をマスキング用シートで被覆し、脱脂、水
洗等を行なつた後、金属薄膜電気抵抗層2として
例えばSn−Ni合金、Sn−Ni−S合金を電気メツ
キする。次にマスキング用シートを剥離し、抵抗
層2側に電気絶縁層3として、アルミナ粉を配合
した合成樹脂シート、若しくはアルミナ粉と合成
樹脂の配合物をガラスクロスに含浸してなるプリ
プレグを熱圧着する。金属支持体4をさらに接合
する場合は、これを電気絶縁層3に熱圧着する。
この様にして形成された抵抗回路基板は、フオト
レジスト、エツチング液等を用いた周知の方法に
より、所望の抵抗付きパターン回路に構成され
る。 次に本発明の実施例を示し、従来例を比較例と
した性能比較試験を示す。 実施例 1 ・ 電気絶縁層3がガラスクロスを含まず、金属
支持体4を用いないもの。 (1) 導電性金属層1:35μmの電解銅箔、粗面
化処理なし。 (2) 金属薄膜電気抵抗層2:200ÅのSn−Ni電
気メツキ層、シート抵抗500Ω/□。 (3) 電気絶縁層3:ビスフエノール系エポキシ
樹脂100部、アルミナ粉250部(アルミナ70重
量パーセント)を配合したシート0.2mmを5
枚重ねて、厚み1.0mmとする。 実施例 2 ・ 電気絶縁層3がガラスクロスを含まず、金属
支持体4を用いたもの。 (1) 導電性金属層1:実施例1と同じ。 (2) 金属薄膜電気抵抗層2:実施例1と同じ。 (3) 電気絶縁層3:実施例1と同じ。ただし、
層3の厚さを0.1mmとした。 (4) 金属支持体4:アルミニウム板、厚さ1.0
mm。 実施例 3 ・ 電気絶縁層3がガラスクロスを含むプリプレ
グからなり、金属支持体4を用いないもの。 (1) 導電性金属層1:実施例1と同じ。 (2) 金属薄膜電気抵抗層2:実施例1と同じ。 (3) 電気絶縁層3:ビスフエノール系エポキシ
樹脂100部、アルミナ粉150部(アルミナ60重
量パーセント)の配合物を0.1mmのガラスク
ロスに含浸したプリプレグを10枚重ねて厚み
1.0mm。 実施例 4 ・ 電気絶縁層3がガラスクロスを含むプリプレ
グからなり、金属支持体4を用いるもの。 (1) 導電性金属層1:実施例1と同じ。 (2) 金属薄膜電気抵抗層2:実施例1と同じ。 (3) 電気絶縁層3:実施例3と同じ。ただしプ
リプレグは1枚とし、厚さ0.1mm。 (4) 金属支持体4:アルミニウム板、厚さ1.0
mm。 上記実施例1〜4を比較されるべきアルミナ粉
の配合されていない従来例。 従来例 1 ・ 実施例2において、電気絶縁層3にアルミナ
粉を配合しないもの。 従来例 2 ・ 実施例3において、電気絶縁層3にアルミナ
粉を配合しないもの。 性能比較試験は以下について行つた。 試験1:絶縁層3の接着力試験 金属薄膜電気抵抗層2と絶縁層3の間で180゜の
ピーリング試験を行つた。その結果、各実施例に
おいて従来例の2倍の接着力を有することが明ら
かとなつた。 試験2:絶縁層の耐腐食性 リン酸13.0mo1/l,リン酸第2銅5.0×
10-3mo1/lの水溶液からなるエツチング液を用
い、85℃で浸漬した。その結果、各実施例は従来
例に比べ格段の耐食性を示した。 試験3:半田浸漬前後の抵抗変化 噴流式半田槽に260℃で20秒浸漬した。浸漬前
の抵抗値をR0、浸漬後の抵抗値をR1として、(R1
−R0)/R0の百分率を求めた。 その結果、アルミナ粉を含むものは含まないも
のに比べて大幅に改善され(R1−R0)/R0が1
%以下となつた。 試験4:定格電力 周囲温度70℃、負荷時間1000時間後の抵抗変化
率が0.3%になる電力を、抵抗の単位面積当りで
求めた。その結果、金属支持体(アルミニウム
板)による効果を除外して、各実施例は従来例の
2倍以上の定格電力を有した。 以上の試験結果を表1に示す。 さらに本発明者らは(a)電気絶縁層がアルミ
ナと合成樹脂からなる場合と、(b)電気絶縁層
がアルミナと合成樹脂をガラスクロスに含浸した
プリプレグから構成される場合について、同一条
件で耐電圧を測つたところ、(b)プリプレグと
した方が高いことがわかつた。また電気絶縁層を
支持体としてのアルミニウム板と導電性金属であ
る銅箔との間にサンドウイチしたものにつき、加
熱による基板のそりについて実験したが、その結
果も前記(b)の
The present invention relates to a resistive circuit board incorporating a metal thin film electrically resistive layer. A printed circuit board with a built-in resistor generally consists of an insulating layer that also serves as a support, a metal thin film electric resistance layer bonded to the insulating layer, and a conductive metal layer such as copper foil bonded to the resistance layer. It is provided in the form of a laminate, and during the fabrication of printed resistor circuits, the insulating areas (all the layers above the insulating layer are removed) and the resistive areas (the conductive metal layer is removed) according to the pattern of the intended circuit. ), as well as conductor regions (no layers removed) are formed to form the finished product. By the way, in a circuit board incorporating a metal thin film electrical resistance layer, in order to obtain a high sheet resistance, it is necessary to make the film thin, and at the same time, it is necessary to make the film thickness uniform in order to prevent variations in resistance value. Under such a premise, conventional circuit boards with built-in resistors have the following problems and drawbacks. a. In the case of a circuit board in which a metal thin film electrical resistance layer is laminated by plating or the like on a conductive metal layer such as copper foil, and an insulating support is further bonded on top of it, in order to form the resistance layer thinly and uniformly, In this case, the surface of the underlying copper foil must be smooth without any unevenness, and therefore, sufficient bonding strength of the insulating support cannot be obtained. In particular, when forming a nickel-based resistance layer, it is known that bonding with an insulating support such as epoxy resin, polyester resin, or polyimide resin has poorer adhesive properties than directly bonding with copper foil. (b) When forming a circuit by etching, the insulating support is easily attacked by the etching solution, and as a result, the resistor layer is likely to be distorted, leading to deterioration in performance. For example, the present inventors have provided a tin-nickel alloy as a resistor layer with excellent uniform electrodeposition, smoothness, etching selectivity, and stability of alloy plating composition (Japanese Patent Publication No. 55-42510). We have provided an etching solution specifically for nickel alloys (Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-104481).
It must be carried out at temperatures above 10°C and therefore attacks epoxy resins, etc. (c) Epoxy resins and the like that have been commonly used as insulating supports are easily distorted by thermal treatments such as solder immersion, and are therefore prone to fluctuations in resistance. d In addition, insulating supports such as epoxy resins and polyimide resins have poor thermal conductivity, and the allowable power of the sheet resistance is limited due to restrictions from heat dissipation and heat resistance. The present inventors completed the present invention as shown below as a result of intensive research in order to solve the above-mentioned technical problems and drawbacks. That is, the resistance circuit board of the present invention includes a metal thin film electrical resistance layer, a conductive metal layer electrically contacted and bonded to one side of the resistance layer, and a conductive metal layer bonded to the other side of the resistance layer. The first invention is a circuit board having an electrically insulating layer, the electrically insulating layer being composed of a composite layer made of a synthetic resin and alumina powder, and the second invention is a circuit board having an electrically insulating layer made of a composite layer made of synthetic resin and alumina powder. It is constructed from prepreg in which glass cloth is impregnated with a mixture of resin and alumina powder. Further, a detailed explanation will be given with reference to the drawings. 1st
2 and 2 are cross-sectional views of the resistance circuit board. 1st
In the figure, a conductive metal layer 1 and an electrically insulating layer 3 are bonded to both sides of a metal thin film electrically resistive layer 2. In the first invention, the electrical insulating layer 3 is composed of a composite layer of synthetic resin and alumina powder, and in the second invention, the electrical insulating layer 3 is composed of a composite layer of synthetic resin and alumina powder on glass cloth. Constructed from impregnated prepreg. In this case, by forming the electrical insulating layer 3 relatively thick, it can also be used as a support for the circuit board. Also the second
As shown in the figure, a dedicated metal support 4 may be further bonded to the electrical insulating layer 3. When forming a thick prepreg or the like, multiple sheets are stacked one on top of the other. In the present invention, epoxy resins, polyimide resins, etc. are used as synthetic resins.
It is preferable to use a mixture containing 150 to 250 parts of alumina powder per 100 parts. In order to improve heat dissipation, it is preferable that the alumina powder particles have a particle size distribution of 1 to 50 μm. As the conductive metal layer 1, for example, a copper foil having a thickness of several tens of microns and whose surface is not roughened is used. Further, as the metal thin film electrical resistance layer 2, a Sn--Ni based alloy plating layer is formed to a thickness of several hundred angstroms. The electrical insulating layer 3 has a thickness of about several millimeters when used also as a support, and has a thickness of about several tens to hundreds of microns when a metal support 4 is separately bonded. Since the gold layer support 4 also aims to improve heat dissipation, it is preferable to use an aluminum plate with good thermal conductivity, and when using an aluminum plate, it is preferable to form an alumite layer of 5 to 30 μm on the surface to improve adhesive strength and The voltage resistance is also improved.
Note that the thicknesses of the layers 1, 2, and 3 described above are only a guideline, and are not limited thereto. Next, the resistor circuit board of the present invention will be explained along with its manufacturing process. For example, a copper foil is prepared as the conductive metal layer 1, one side of which is covered with a masking sheet, and after degreasing and washing with water, the metal thin film electrical resistance layer 2 is prepared using, for example, Sn-Ni alloy, Sn-Ni- Electroplating the S alloy. Next, the masking sheet is peeled off, and a synthetic resin sheet containing alumina powder, or a prepreg made by impregnating glass cloth with a mixture of alumina powder and synthetic resin, is thermocompressed as the electrical insulating layer 3 on the resistance layer 2 side. do. If the metal support 4 is to be further bonded, it is thermocompression bonded to the electrical insulating layer 3.
The resistor circuit board thus formed is formed into a desired resistor pattern circuit by a well-known method using photoresist, etching solution, etc. Next, an example of the present invention will be shown, and a performance comparison test using a conventional example as a comparative example will be shown. Example 1 - Electrical insulating layer 3 does not contain glass cloth and metal support 4 is not used. (1) Conductive metal layer 1: 35 μm electrolytic copper foil, no roughening treatment. (2) Metal thin film electrical resistance layer 2: 200 Å Sn-Ni electroplated layer, sheet resistance 500 Ω/□. (3) Electrical insulation layer 3: 5 sheets of 0.2 mm containing 100 parts of bisphenol epoxy resin and 250 parts of alumina powder (alumina 70% by weight)
Stack them to make a thickness of 1.0 mm. Example 2 - The electrical insulating layer 3 does not contain glass cloth and uses a metal support 4. (1) Conductive metal layer 1: Same as Example 1. (2) Metal thin film electrical resistance layer 2: Same as Example 1. (3) Electrical insulation layer 3: Same as Example 1. however,
The thickness of layer 3 was 0.1 mm. (4) Metal support 4: aluminum plate, thickness 1.0
mm. Example 3 - The electrical insulating layer 3 is made of prepreg containing glass cloth, and the metal support 4 is not used. (1) Conductive metal layer 1: Same as Example 1. (2) Metal thin film electrical resistance layer 2: Same as Example 1. (3) Electrical insulation layer 3: 10 sheets of prepreg made by impregnating 0.1 mm glass cloth with a mixture of 100 parts of bisphenol epoxy resin and 150 parts of alumina powder (60% by weight of alumina) are stacked to a thickness of
1.0mm. Example 4 - The electrical insulating layer 3 is made of prepreg containing glass cloth, and the metal support 4 is used. (1) Conductive metal layer 1: Same as Example 1. (2) Metal thin film electrical resistance layer 2: Same as Example 1. (3) Electrical insulation layer 3: Same as Example 3. However, the prepreg shall be one sheet, with a thickness of 0.1mm. (4) Metal support 4: aluminum plate, thickness 1.0
mm. A conventional example in which no alumina powder is mixed, with which the above Examples 1 to 4 should be compared. Conventional Example 1 - In Example 2, alumina powder is not mixed in the electrical insulating layer 3. Conventional Example 2 - In Example 3, alumina powder is not mixed into the electrical insulating layer 3. Performance comparison tests were conducted on the following: Test 1: Adhesion test of insulating layer 3 A 180° peeling test was conducted between the metal thin film electrical resistance layer 2 and the insulating layer 3. As a result, it was revealed that each example had twice the adhesive strength of the conventional example. Test 2: Corrosion resistance of insulating layer Phosphoric acid 13.0 mo1/l, cupric phosphate 5.0×
It was immersed at 85°C using an etching solution consisting of an aqueous solution of 10 -3 mo1/l. As a result, each example showed markedly higher corrosion resistance than the conventional example. Test 3: Resistance change before and after immersion in solder Immersed in a jet solder tank at 260°C for 20 seconds. Assuming the resistance value before immersion as R 0 and the resistance value after immersion as R 1 , (R 1
−R 0 )/R 0 percentage was determined. As a result, those containing alumina powder were significantly improved compared to those without alumina powder, with (R 1 − R 0 )/R 0 being 1.
% or less. Test 4: Rated power The power at which the resistance change rate after 1000 hours of load time at an ambient temperature of 70° C. was determined to be 0.3% was determined per unit area of the resistor. As a result, excluding the effect of the metal support (aluminum plate), each example had a rated power more than twice that of the conventional example. The above test results are shown in Table 1. Furthermore, the present inventors investigated (a) the case where the electrical insulating layer is made of alumina and synthetic resin, and (b) the case where the electrical insulating layer is made of prepreg made of glass cloth impregnated with alumina and synthetic resin, under the same conditions. When the withstand voltage was measured, it was found that the (b) prepreg was higher. In addition, we conducted an experiment on the warping of the board due to heating using an electrically insulating layer sandwiched between an aluminum plate as a support and a copper foil as a conductive metal, and the results were also similar to the above (b).

【表】【table】

【表】 プリプレグからなる絶縁層がサンドウイチされて
いる方が基板のそりが少ないことが明らかとなつ
た。すなわち、プリプレグとした方が基板のそ
り、耐電圧の点で良好であることがわかつた。 本発明の効果 以上の構成よりなる第1の発明,第2の発明に
よれば次の如き効果を奏する。 電気絶縁層3と金属薄膜電気抵抗層2との接
合性が大幅に改善される。 よつてその製造においてもロールラミネート加工
等が容易となる。 エツチング液等に対する電気絶縁層3の耐食
性が大幅に改善される。すなわち抵抗回路形成
過程等における薄膜抵抗層の歪発生が防止さ
れ、高性能の抵抗回路を作ることができる。 半田浸漬など熱衝撃に対しても歪の発生が十
分に防止され、安定した抵抗性能を保持するこ
とができる。 アルミナ粉配合により、放熱性が改善される
ので、抵抗体に対する許容電力を増大すること
ができる。この場合、絶縁層3に支持体4とし
てアルミニウム板等を接合すれば、一層放熱性
が改善される。
[Table] It has become clear that the board warps less when the insulating layer made of prepreg is sandwiched. In other words, it was found that prepreg is better in terms of substrate warpage and withstand voltage. Effects of the present invention According to the first invention and the second invention having the above configurations, the following effects are achieved. The bondability between the electrically insulating layer 3 and the metal thin film electrically resistive layer 2 is significantly improved. Therefore, roll lamination processing and the like can be easily performed in its manufacture. The corrosion resistance of the electrical insulating layer 3 against etching solutions and the like is greatly improved. In other words, distortion of the thin film resistance layer during the process of forming the resistance circuit is prevented, and a high performance resistance circuit can be manufactured. Even when subjected to thermal shock such as solder immersion, distortion is sufficiently prevented and stable resistance performance can be maintained. Since heat dissipation is improved by incorporating alumina powder, it is possible to increase the allowable power for the resistor. In this case, if an aluminum plate or the like is bonded to the insulating layer 3 as the support 4, heat dissipation is further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図,第2図は各々発明の具体例を示す抵抗
体回路基板の断面図である。 1……導電性金属層、2……金属薄膜電気抵抗
層、3……電気絶縁層、4……金属支持体。
FIGS. 1 and 2 are cross-sectional views of resistor circuit boards showing specific examples of the invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Conductive metal layer, 2... Metal thin film electric resistance layer, 3... Electric insulating layer, 4... Metal support.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 金属薄膜電気抵抗層と、その抵抗層の片面側
に電気的に接触して接合された導電性金属層と、
上記抵抗層の他面側に接合された電気絶縁層とを
有する抵抗回路基板であつて、上記電気絶縁層が
合成樹脂とアルミナ粉を配合した複合層によつて
構成され、かつ、その配合比はアルミナ粉が40〜
70重量パーセントであることを特徴とする抵抗回
路基板。 2 上記電気絶縁層の合成樹脂がエポキシ樹脂で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の抵抗回路基板。 3 上記電気絶縁層の合成樹脂がポリイミド樹脂
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の抵抗回路基板。 4 上記金属薄膜電気抵抗層がスズ−ニツケル合
金であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項、第2項もしくは第3項記載の抵抗回路基板。 5 上記電気絶縁層を厚く形成して当該基板の支
持体としたことを特徴とする、特許請求の範囲第
1項、第2項、第3項、もしくは第4項記載の抵
抗回路基板。 6 上記電気絶縁層が金属板支持体に接合されて
いることを特徴とする、特許請求の範囲第1項、
第2項、第3項もしくは第4項記載の抵抗回路基
板。 7 上記金属板支持体がアルミニウム板であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の抵抗
回路基板。 8 上記アルミニウム板の表面が10〜200μmのア
ルマイト層で被覆されていることを特徴とする特
許請求の範囲第7項記載の抵抗回路基板。 9 金属薄膜電気抵抗層と、その抵抗層の片面側
に電気的に接合された導電性金属層と、上記抵抗
層の他面側に接合された電気絶縁層とを有する抵
抗回路基板であつて、上記電気絶縁層が、アルミ
ナ粉の配合比が40〜70重量パーセントであるアル
ミナ粉と合成樹脂との複合物を、ガラスクロスに
含浸して形成したプリプレグによつて構成されて
いることを特徴とする抵抗回路基板。 10 上記電気絶縁層の合成樹脂がエポキシ樹脂
であることを特徴とする特許請求の範囲第9項記
載の抵抗回路基板。 11 上記電気絶縁層の合成樹脂がポリイミド樹
脂であることを特徴とする特許請求の範囲第9項
記載の抵抗回路基板。 12 上記金属薄膜電気抵抗層がスズ−ニツケル
合金であることを特徴とする、特許請求の範囲第
9項、第10項もしくは第11項記載の抵抗回路
基板。 13 上記プリプレグを複数枚重ねて上記電気絶
縁層を厚く形成して当該基板の支持体としたこと
を特徴とする、特許請求の範囲第9項、第10
項、第11項もしくは第12項記載の抵抗回路基
板。 14 上記電気絶縁層が金属板支持体に接合され
ていることを特徴とする、特許請求の範囲第9
項、第10項、第11項もしくは第12項記載の
抵抗回路基板。 15 上記金属板支持体がアルミニウム板である
ことを特徴とする特許請求の範囲第14項記載の
抵抗回路基板。 16 上記アルミニウム板の表面が10〜200μmの
アルマイト層で被覆されていることを特徴とする
特許請求の範囲第15項記載の抵抗回路基板。 17〜20項は削除する。
[Claims] 1. A thin metal film electrical resistance layer, a conductive metal layer electrically connected to one side of the resistance layer,
A resistive circuit board having an electrically insulating layer bonded to the other side of the resistive layer, wherein the electrically insulating layer is composed of a composite layer containing a synthetic resin and alumina powder, and the blending ratio thereof is The alumina powder is 40~
A resistive circuit board characterized by being 70% by weight. 2. The resistance circuit board according to claim 1, wherein the synthetic resin of the electrical insulating layer is an epoxy resin. 3. The resistance circuit board according to claim 1, wherein the synthetic resin of the electrical insulating layer is a polyimide resin. 4. Claim 1, wherein the metal thin film electrically resistive layer is a tin-nickel alloy.
2. The resistance circuit board according to item 2, item 3, or item 3. 5. The resistance circuit board according to claim 1, 2, 3, or 4, characterized in that the electrically insulating layer is formed thickly to serve as a support for the board. 6. Claim 1, characterized in that the electrically insulating layer is bonded to a metal plate support;
The resistance circuit board according to item 2, 3, or 4. 7. The resistance circuit board according to claim 6, wherein the metal plate support is an aluminum plate. 8. The resistance circuit board according to claim 7, wherein the surface of the aluminum plate is coated with an alumite layer having a thickness of 10 to 200 μm. 9. A resistive circuit board comprising a metal thin film electrically resistive layer, a conductive metal layer electrically bonded to one side of the resistive layer, and an electrically insulating layer bonded to the other side of the resistive layer, , the electrical insulating layer is composed of a prepreg formed by impregnating glass cloth with a composite of alumina powder and synthetic resin with an alumina powder blending ratio of 40 to 70% by weight. resistor circuit board. 10. The resistance circuit board according to claim 9, wherein the synthetic resin of the electrical insulating layer is an epoxy resin. 11. The resistance circuit board according to claim 9, wherein the synthetic resin of the electrical insulating layer is a polyimide resin. 12. The resistance circuit board according to claim 9, 10 or 11, wherein the metal thin film electrical resistance layer is a tin-nickel alloy. 13 Claims 9 and 10, characterized in that a plurality of prepregs are stacked to form a thick electrically insulating layer to serve as a support for the substrate.
12. The resistance circuit board according to item 11, item 11, or item 12. 14 Claim 9, characterized in that the electrically insulating layer is bonded to a metal plate support.
The resistance circuit board according to item 1, item 10, item 11, or item 12. 15. The resistance circuit board according to claim 14, wherein the metal plate support is an aluminum plate. 16. The resistance circuit board according to claim 15, wherein the surface of the aluminum plate is coated with an alumite layer having a thickness of 10 to 200 μm. Items 17 to 20 will be deleted.
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