JPH0297097A - 電磁波シールド材 - Google Patents
電磁波シールド材Info
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- JPH0297097A JPH0297097A JP63250581A JP25058188A JPH0297097A JP H0297097 A JPH0297097 A JP H0297097A JP 63250581 A JP63250581 A JP 63250581A JP 25058188 A JP25058188 A JP 25058188A JP H0297097 A JPH0297097 A JP H0297097A
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- Japan
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- thin film
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- electromagnetic shielding
- shielding material
- metal
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、電子回路や電線等に使用される電磁波シー
ルド材に関するものである。
ルド材に関するものである。
近年、半導体技術の進歩にともない、エレクトロニクス
機器も複雑かつ高度になってきている。
機器も複雑かつ高度になってきている。
例えば、コンピュータ装置、コンピュータ装置を用いた
自動車搭載用機器、ワードプロセッサ、医療機器、ビデ
オレコーダやテレビジョン等の映像機器、テープレコー
ダやコンパクトディスク等の音9機器、さらに情報機器
等に使用される電子機器は目覚ましい発展を遂げ、多方
面で使用されている。しかし、これらの電子機器やこれ
らをつなぐ電線、情報網等から電磁波やノイズを発生し
たり、逆に外部より不要な電磁波を受けて機器の誤動作
を誘発するということがあった。
自動車搭載用機器、ワードプロセッサ、医療機器、ビデ
オレコーダやテレビジョン等の映像機器、テープレコー
ダやコンパクトディスク等の音9機器、さらに情報機器
等に使用される電子機器は目覚ましい発展を遂げ、多方
面で使用されている。しかし、これらの電子機器やこれ
らをつなぐ電線、情報網等から電磁波やノイズを発生し
たり、逆に外部より不要な電磁波を受けて機器の誤動作
を誘発するということがあった。
従来、このような不要な電磁波やノイズを遮蔽するため
に、電子機器には透磁率の高い鋼板や電気伝導率の良い
鋼板が電磁波シールド材として使用されている。また、
電線には、電子機器と同様に透磁率の高い鋼板や、電気
伝導率の良い金属箔あるいは細い導体からなる電磁波シ
ールド材が使用されている。
に、電子機器には透磁率の高い鋼板や電気伝導率の良い
鋼板が電磁波シールド材として使用されている。また、
電線には、電子機器と同様に透磁率の高い鋼板や、電気
伝導率の良い金属箔あるいは細い導体からなる電磁波シ
ールド材が使用されている。
これらの電磁波シールド材の中にあっては、金属箔単体
、もしくは金属箔に高分子フィルムをラミネート加工し
たものが近年多く用いられている。
、もしくは金属箔に高分子フィルムをラミネート加工し
たものが近年多く用いられている。
これは、金属箔単体や金属箔に高分子フィルムをラミネ
ート加工したものは、電線の電磁波シールド材として使
用する場合に、テープ状にして使用することができ、細
い導体を電磁波シールド材として使用する場合に比べて
生産性がよく、また末端処理が容易でかつ電磁波シール
ド特性も良好であるためである。特に、銅箔を用いた電
磁波シールド材は、アルミニウム箔を用いたものに比べ
て重量1価格等では劣るものの、同じ箔厚で使用した場
合に、銅箔を用いたものの力が電磁波シールド特性が優
れていることが知られている。
ート加工したものは、電線の電磁波シールド材として使
用する場合に、テープ状にして使用することができ、細
い導体を電磁波シールド材として使用する場合に比べて
生産性がよく、また末端処理が容易でかつ電磁波シール
ド特性も良好であるためである。特に、銅箔を用いた電
磁波シールド材は、アルミニウム箔を用いたものに比べ
て重量1価格等では劣るものの、同じ箔厚で使用した場
合に、銅箔を用いたものの力が電磁波シールド特性が優
れていることが知られている。
従来のこの種の電磁波シールド材の一例を第5図および
第7図に基づいて説明する。第5図に示す電磁波シール
ド材は、箔厚が50μmの銅箔52の金属箔単体からな
り、テープ状に形成されている。そして、第6図に示す
ように、導体56の外周を絶縁体57で被覆した電線5
日の外周を銅箔52で螺旋状に巻回し、絶縁体57と銅
箔52との間にドレイン線59を介挿している。さらに
、電磁波シールド材の銅箔52の外周に外装60を施し
シールド電線として完成し、使用されている。
第7図に基づいて説明する。第5図に示す電磁波シール
ド材は、箔厚が50μmの銅箔52の金属箔単体からな
り、テープ状に形成されている。そして、第6図に示す
ように、導体56の外周を絶縁体57で被覆した電線5
日の外周を銅箔52で螺旋状に巻回し、絶縁体57と銅
箔52との間にドレイン線59を介挿している。さらに
、電磁波シールド材の銅箔52の外周に外装60を施し
シールド電線として完成し、使用されている。
また、第7図に示す電磁波シールド材は、箔厚15μm
の銅7a52’に厚さ12μmのポリエチレンテレフタ
レート(PET)フィルム53を接着剤54を介してラ
ミネートされ、テープ状に形成されている。
の銅7a52’に厚さ12μmのポリエチレンテレフタ
レート(PET)フィルム53を接着剤54を介してラ
ミネートされ、テープ状に形成されている。
この1を磁波シールド材も、第5図に示す銅箔52の金
属箔単体からなる電磁波シールド材と同様に、電線の外
周に巻回され、シールド電線に使用される。
属箔単体からなる電磁波シールド材と同様に、電線の外
周に巻回され、シールド電線に使用される。
しかし、このように銅7552.52’を用いた電磁波
シールド材は、経時劣化により、銅箔5252′の表面
が腐食し、電磁波シールド特性が劣化するという問題が
あった。
シールド材は、経時劣化により、銅箔5252′の表面
が腐食し、電磁波シールド特性が劣化するという問題が
あった。
したがって、この発明の目的は、電磁波シールド特性の
経時劣化を防止することができる電磁波シールド材を提
供することである。
経時劣化を防止することができる電磁波シールド材を提
供することである。
この発明の電磁波シールド材は、銅箔の表面に錫、ニッ
ケルおよびクロムから選ばれた金属薄膜を形成したこと
を特徴としている。
ケルおよびクロムから選ばれた金属薄膜を形成したこと
を特徴としている。
さらに、金属薄膜に同種金属の酸化物を含ませてもよい
。
。
この発明の構成によれば、錫、ニッケルおよびクロムか
ら選んだ金属薄膜を銅箔の表面に形成したので、銅箔表
面が耐環境性のよい金属薄膜で保護される。したがって
、銅箔を外部雰囲気から保護することができ、耐環境性
を向上することができる。
ら選んだ金属薄膜を銅箔の表面に形成したので、銅箔表
面が耐環境性のよい金属薄膜で保護される。したがって
、銅箔を外部雰囲気から保護することができ、耐環境性
を向上することができる。
さらに、金属薄膜に同種金属の酸化物を含ませると、金
属薄膜と銅箔との付着力を大きくすることができ、耐摩
耗性を高くすることができる。
属薄膜と銅箔との付着力を大きくすることができ、耐摩
耗性を高くすることができる。
この発明の電磁波シールド材の第1の実施例を第1図な
いし第3図に基づいて説明する。
いし第3図に基づいて説明する。
この電磁波シールド材は、この場合第1図に示すように
、錫(Sn)からなる金属薄膜1を銅箔2の一面に形成
している。銅箔2の他面には、接着剤4を介してポリエ
チレンテレフタレート(PET)等からなる絶縁材3が
ラミネートされている。
、錫(Sn)からなる金属薄膜1を銅箔2の一面に形成
している。銅箔2の他面には、接着剤4を介してポリエ
チレンテレフタレート(PET)等からなる絶縁材3が
ラミネートされている。
以下、この電磁波シールド材の製造方法を説明する。銅
箔2の表面上への金属薄膜lの形成は、第3図に示す半
連続式巻取り式真空痕着@Aを用いている。この半連続
式巻取り式真空藤着機Aは、真空槽11を備え、この真
空槽11が仕切り板14により巻取り室24と蒸着室2
5とに分けられている0巻取り室24は、排気装置(図
示せず)により排気管12を介し排気され、10−1〜
10−”Paに減圧されている。また、蒸着室25も排
気装置(図示せず)により排気管13を介し排気され、
10−2〜10−’Paに減圧されている。
箔2の表面上への金属薄膜lの形成は、第3図に示す半
連続式巻取り式真空痕着@Aを用いている。この半連続
式巻取り式真空藤着機Aは、真空槽11を備え、この真
空槽11が仕切り板14により巻取り室24と蒸着室2
5とに分けられている0巻取り室24は、排気装置(図
示せず)により排気管12を介し排気され、10−1〜
10−”Paに減圧されている。また、蒸着室25も排
気装置(図示せず)により排気管13を介し排気され、
10−2〜10−’Paに減圧されている。
そして、絶縁材3と銅Vi2とを接着剤4を介してラミ
ネート加工した蒸着基板16を巻出し軸15に巻回して
いる。この場合、銅箔2の箔厚を15μmとし、絶縁材
3の厚さを12μmとし、接着剤4の厚さを2μmとし
ている。
ネート加工した蒸着基板16を巻出し軸15に巻回して
いる。この場合、銅箔2の箔厚を15μmとし、絶縁材
3の厚さを12μmとし、接着剤4の厚さを2μmとし
ている。
つぎに、巻出し軸15に巻回された蒸着基板16は、巻
出し軸15からフリーローラ(図示せず)。
出し軸15からフリーローラ(図示せず)。
エキスバンドローラ(図示せず)、蒸着ドラム17゜さ
らにフリーローラ(図示せず)、エキスバンドローラ(
図示せず)を介して巻取り軸19に巻取られる、このと
き、蒸着ドラム17は、矢印Bの方向に回転している。
らにフリーローラ(図示せず)、エキスバンドローラ(
図示せず)を介して巻取り軸19に巻取られる、このと
き、蒸着ドラム17は、矢印Bの方向に回転している。
また、蒸着基板16は、絶縁材3側が蒸着ドラム17の
表面に接し、蒸着ドラム17と同期して走行する。
表面に接し、蒸着ドラム17と同期して走行する。
また、蒸着ドラム17の下方の蒸着室25には、蒸着材
料である錫22を入れたルツボ21が備えられており、
このルツボ21を電子ビーム加熱源23により加熱し、
錫22を加熱、溶解しさらに蒸発させている。蒸発した
錫22は、原子流20となり蒸着基板16の銅箔2の表
面に付着堆積して金属薄膜1を形成する。この場合、銅
箔2の表面に形成された錫22の金属薄膜1は、厚さを
500オングストロームとしている。これにより、銅箔
2の表面が耐環境性の高い金属で保護されることになる
。
料である錫22を入れたルツボ21が備えられており、
このルツボ21を電子ビーム加熱源23により加熱し、
錫22を加熱、溶解しさらに蒸発させている。蒸発した
錫22は、原子流20となり蒸着基板16の銅箔2の表
面に付着堆積して金属薄膜1を形成する。この場合、銅
箔2の表面に形成された錫22の金属薄膜1は、厚さを
500オングストロームとしている。これにより、銅箔
2の表面が耐環境性の高い金属で保護されることになる
。
さらに、この蒸着基板16の銅箔2への錫22の原子流
20の蒸着中に、蒸着基板16への錫22の原子流20
の蒸着が終了する位置の蒸着ドラム17の近傍に設けた
ノズル26から酸素(0□)27を毎分0.31供給す
る。これにより、蒸着基板16の銅wi2の表面に形成
された錫22の金属薄膜1の一部が酸化し、酸化錫(S
nOx)となる。このように、金属薄膜1の一部を同種
金属酸化物とすることにより、金属薄膜1と1liiI
PHとの付着力を強くすることができ、しかも金属薄膜
1の耐摩耗性の向上を図ることができる。
20の蒸着中に、蒸着基板16への錫22の原子流20
の蒸着が終了する位置の蒸着ドラム17の近傍に設けた
ノズル26から酸素(0□)27を毎分0.31供給す
る。これにより、蒸着基板16の銅wi2の表面に形成
された錫22の金属薄膜1の一部が酸化し、酸化錫(S
nOx)となる。このように、金属薄膜1の一部を同種
金属酸化物とすることにより、金属薄膜1と1liiI
PHとの付着力を強くすることができ、しかも金属薄膜
1の耐摩耗性の向上を図ることができる。
そして、金属薄膜lの一部が同種金属酸化物とされてw
4箔2の表面に金属薄膜1が形成された蒸着基板18が
巻取り軸19に巻き取られ、電磁波シールド材原板とし
て完成する。
4箔2の表面に金属薄膜1が形成された蒸着基板18が
巻取り軸19に巻き取られ、電磁波シールド材原板とし
て完成する。
第2図は、上記した製造方法により得られた電磁波シー
ルド材原板を裁断し、テープ状に形成した電磁波シール
ド材5を用いたシールド電線を示している。この場合、
電磁波シールド材5は、幅500閣の電磁波シールド材
原板を幅8mmに裁断し、テープ状に形成したものを示
している。
ルド材原板を裁断し、テープ状に形成した電磁波シール
ド材5を用いたシールド電線を示している。この場合、
電磁波シールド材5は、幅500閣の電磁波シールド材
原板を幅8mmに裁断し、テープ状に形成したものを示
している。
そして、この電磁波シールド材5を電線8の外周に螺旋
上に巻回し、外装置0を施してシールド電線を完成して
いる。電磁波シールド材5は、導体部分すなわち金属薄
膜1側を内側にして巻回されている。6は電線8の導体
を示し、7は絶縁体を示している。9はドレイン線を示
し、電線8の絶縁体7と電磁波シールド材5との間に介
挿されている。
上に巻回し、外装置0を施してシールド電線を完成して
いる。電磁波シールド材5は、導体部分すなわち金属薄
膜1側を内側にして巻回されている。6は電線8の導体
を示し、7は絶縁体を示している。9はドレイン線を示
し、電線8の絶縁体7と電磁波シールド材5との間に介
挿されている。
このように、゛この電磁波シールド材は、錫22の金属
薄膜1を銅箔2の表面に形成したので、電磁波シールド
特性を損なうことなく、銅箔2の表面を耐環境性のよい
金属薄膜1で保護することができる。したがって、銅箔
2を外部雰囲気から保護することができ、耐環境性が向
上する。この結果、銅箔2の腐食を防止することができ
、電磁波シールド特性の経時劣化を低減することができ
る。
薄膜1を銅箔2の表面に形成したので、電磁波シールド
特性を損なうことなく、銅箔2の表面を耐環境性のよい
金属薄膜1で保護することができる。したがって、銅箔
2を外部雰囲気から保護することができ、耐環境性が向
上する。この結果、銅箔2の腐食を防止することができ
、電磁波シールド特性の経時劣化を低減することができ
る。
さらに、金属薄膜1の一部を同種金属酸化物としたので
、金属Fill!1と銅箔2との付着力を大きくするこ
とができ、耐摩耗性を向上することができる。この結果
、さらに耐環境性の信転性を高いものにできる。
、金属Fill!1と銅箔2との付着力を大きくするこ
とができ、耐摩耗性を向上することができる。この結果
、さらに耐環境性の信転性を高いものにできる。
また、金属薄膜lの形成に真空蒸着手段を用いたので、
湿式による金属薄膜の形成に比べて金属薄膜1の形成を
極めて短い時間で行うことができ、製造工数の低減を行
うことができ、生産性の向上を図ることができる。
湿式による金属薄膜の形成に比べて金属薄膜1の形成を
極めて短い時間で行うことができ、製造工数の低減を行
うことができ、生産性の向上を図ることができる。
つぎに、この発明の電磁波シールド材の第2の実施例を
第4図に基づいて説明する。この電磁波シールド材は、
銅箔2の両面に、第1図に示す第1の実施例と同様に、
錫からなる金属薄膜1を形成し、さらに金属薄膜1の一
部を同種金属酸化物である酸化錫としたものである。こ
の第2の実施例の電磁波シールド材の作用、効果は、第
1の実施例の電磁波シールド材と同様である。
第4図に基づいて説明する。この電磁波シールド材は、
銅箔2の両面に、第1図に示す第1の実施例と同様に、
錫からなる金属薄膜1を形成し、さらに金属薄膜1の一
部を同種金属酸化物である酸化錫としたものである。こ
の第2の実施例の電磁波シールド材の作用、効果は、第
1の実施例の電磁波シールド材と同様である。
なお、この第1および第2の実施例においては、fl箔
2の表面に錫からなる金属薄膜1を形成したが、錫の他
にニッケル(Ni)またはクロム(Cr)を用いて、第
1および第2の実施例と同様に、金属薄膜を形成し、さ
らに金属薄膜の一部を同種金属酸化物〔酸化ニッケル(
NtOx)、酸化クロム(Crux))としてもよい。
2の表面に錫からなる金属薄膜1を形成したが、錫の他
にニッケル(Ni)またはクロム(Cr)を用いて、第
1および第2の実施例と同様に、金属薄膜を形成し、さ
らに金属薄膜の一部を同種金属酸化物〔酸化ニッケル(
NtOx)、酸化クロム(Crux))としてもよい。
また、第1の実施例の電磁波シールド材においては、電
磁波シールド材の材料の各寸法や量、また電線のシール
ド構造等の寸法を具体的に示したが、これらに限定され
ない。また、電磁波シールド材を電線8に用いてシール
ド電線としたものを説明したが、電磁波シールド材とし
て使用する対象は電線に限らない。
磁波シールド材の材料の各寸法や量、また電線のシール
ド構造等の寸法を具体的に示したが、これらに限定され
ない。また、電磁波シールド材を電線8に用いてシール
ド電線としたものを説明したが、電磁波シールド材とし
て使用する対象は電線に限らない。
また、第1および第2の実施例において、真空蒸着によ
り金属薄膜1を銅箔2の表面に形成したが、金属薄膜の
形成方法は真空蒸着に限らない。
り金属薄膜1を銅箔2の表面に形成したが、金属薄膜の
形成方法は真空蒸着に限らない。
この発明の電磁波シールド材は、錫、ニッケルおよびク
ロムから選んだ金属薄膜を銅箔の表面に形成したので、
銅箔を耐環境性のよい金属薄膜で外部雰囲気から保護す
ることができる。この結果、銅箔の腐食を防止すること
ができ、電磁波シールド特性の経時劣化を低減すること
ができる。
ロムから選んだ金属薄膜を銅箔の表面に形成したので、
銅箔を耐環境性のよい金属薄膜で外部雰囲気から保護す
ることができる。この結果、銅箔の腐食を防止すること
ができ、電磁波シールド特性の経時劣化を低減すること
ができる。
さらに、金属薄膜に同種金属の酸化物を含んだ場合、金
属薄膜と銅箔との付着強度を増すことができ、しかも耐
摩耗性を高くすることができる。
属薄膜と銅箔との付着強度を増すことができ、しかも耐
摩耗性を高くすることができる。
この結果、さらに耐環境性の信鎖性の高いものにできる
。
。
第1図はこの発明の第1の実施例の斜視図、第2図は第
1図の電磁波シールド材を用いた電線の構造を示す斜視
図、第3図は第1図の電磁波シールド材の製造方法を説
明するための半連続式巻取り式真空蒸着機の概念図、第
4図はこの発明の第2の実施例の斜視図、第5図は従来
の銅箔単体からなる電磁波シールド材の斜視図、第6図
は従来のシールド電線の構造を示す斜視図、第7図は従
来の銅箔にポリエチレンテレフタレートを被覆した電磁
波シールド材の斜視図である。 1・・・金属薄膜、2・・・銅箔 第2図 第3図 第 図 第 図 第 図 第 図
1図の電磁波シールド材を用いた電線の構造を示す斜視
図、第3図は第1図の電磁波シールド材の製造方法を説
明するための半連続式巻取り式真空蒸着機の概念図、第
4図はこの発明の第2の実施例の斜視図、第5図は従来
の銅箔単体からなる電磁波シールド材の斜視図、第6図
は従来のシールド電線の構造を示す斜視図、第7図は従
来の銅箔にポリエチレンテレフタレートを被覆した電磁
波シールド材の斜視図である。 1・・・金属薄膜、2・・・銅箔 第2図 第3図 第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (2)
- (1) 銅箔の表面に錫,ニッケルおよびクロムから選
ばれた金属薄膜を形成したことを特徴とする電磁波シー
ルド材。 - (2) 前記金属薄膜に同種金属の酸化物を含んだ特許
請求の範囲第(1)項記載の電磁シールド材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63250581A JPH0297097A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 電磁波シールド材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63250581A JPH0297097A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 電磁波シールド材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0297097A true JPH0297097A (ja) | 1990-04-09 |
Family
ID=17210019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63250581A Pending JPH0297097A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 電磁波シールド材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0297097A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11121961A (ja) * | 1997-10-13 | 1999-04-30 | Etsumi Kogaku:Kk | 電磁波シールド成形品 |
| US5990465A (en) * | 1995-03-27 | 1999-11-23 | Omron Corporation | Electromagnetic induction-heated fluid energy conversion processing appliance |
| JP2000216591A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | シ―ルド材 |
| WO2011121801A1 (ja) | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電磁波シールド用複合体 |
| US9549471B2 (en) | 2010-07-15 | 2017-01-17 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite |
| US9955574B2 (en) | 2012-01-13 | 2018-04-24 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite, formed product and method of producing the same |
| US9981450B2 (en) | 2012-01-13 | 2018-05-29 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite, formed product and method of producing the same |
| US10178816B2 (en) | 2011-05-13 | 2019-01-08 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite, copper foil used for the same, formed product and method of producing the same |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP63250581A patent/JPH0297097A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH11121961A (ja) * | 1997-10-13 | 1999-04-30 | Etsumi Kogaku:Kk | 電磁波シールド成形品 |
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| US9549471B2 (en) | 2010-07-15 | 2017-01-17 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite |
| US10178816B2 (en) | 2011-05-13 | 2019-01-08 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite, copper foil used for the same, formed product and method of producing the same |
| US9955574B2 (en) | 2012-01-13 | 2018-04-24 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite, formed product and method of producing the same |
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