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JPH028379B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH028379B2
JPH028379B2 JP55132431A JP13243180A JPH028379B2 JP H028379 B2 JPH028379 B2 JP H028379B2 JP 55132431 A JP55132431 A JP 55132431A JP 13243180 A JP13243180 A JP 13243180A JP H028379 B2 JPH028379 B2 JP H028379B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical path
radiation
optical
reading
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP55132431A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5657013A (en
Inventor
Petorusu Yozefusu Eemusukeruku Yakobusu
Renesu Hendoriku
Aasaa Yan Shimonzu Kareru
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of JPS5657013A publication Critical patent/JPS5657013A/ja
Publication of JPH028379B2 publication Critical patent/JPH028379B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
    • G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
    • G11B7/0908—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for focusing only
    • G11B7/0909—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for focusing only by astigmatic methods

Landscapes

  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Optical Head (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学系における対物系の結像面と像を
形成すべき光学系における放射線反射面との間の
ずれを検出する偏差検出光学装置に関するもので
ある。
このような偏差検出光学装置は光学的に読取る
ことができる放射線反射情報構体を有する記録キ
ヤリヤを読取る装置に使用することができ、これ
により情報構体に読取ビームの合焦を維持する。
このような装置は例えばビデオプログラムまた
はオーデイオプログラムを蓄積した記録キヤリヤ
を読取るのに使用する。この場合情報構体はトラ
ツク方向に中間領域部と交互に配置した多数の情
報領域部を有する。これら領域部を例えば螺旋状
トラツクに沿つて配列する。情報領域部は中間領
域部とは異なる作用を読取ビームに与える。情報
は情報領域部の周波数および／または中間領域部
の長さに対する情報領域部の長さの比として符号
化する。更に情報をデジタル形式として符号化す
る。ビデオおよびオーデイオ情報の他に記録キヤ
リヤはデジタル情報を蓄積するのにも使用し、例
えばデジタル情報をコンピユータに出し入れする
のに使用する。
記録キヤリヤのプレイ時間を十分長くしようと
すると記録キヤリヤの寸法に制限がある場合には
情報構体の細部は極めて小さくなる。
例えば30分のビデオプログラムを円板状記録キ
ヤリヤの片面の外径約15cm、内径約６cmの環状領
域に蓄積する場合、トラツクの幅は約0.6μとな
り、情報領域の平均長さは約1μとなる。
このような細部を読取ることができるようにす
るには相当大きな開口数の対物系を必要とする。
しかし、このような対物系の焦点深度は小さい。
読取装置においては情報構体の面と対物系との距
離の変動が焦点深度よりも大きくなることが生じ
るためこの変動を検出し、この変動に応じて合焦
を修正する手順を組込むことが必要となる。
このためオランダ国特許出願第7703076号に記
載したように記録キヤリヤから出てくる読取ビー
ムに例えば円筒レンズにより非点収差を与える。
対物系と円筒レンズとにより構成される非点収差
系の焦線間に４個の副検出器よりなる放射線感応
検出器を配置する。対物系に対する情報構体の平
面の位置に変動がある場合複合検出器に形成され
る結像光点の形状に変化を生ずる。この形状変化
は副検出器の出力信号をを適切に組合せることに
よつて検出することができる。
一方、特開昭54−39101号公報に記載の合焦技
術は、物体例えば光デイスクに指向する入射ビー
ムに予め非点収差を導入しておくものである。従
つてこの場合、対物レンズの入射瞳が入射ビーム
によつて満たされず、この対物レンズによつて光
デイスク上に形成されるスポツトは円形とはなら
ず、最小寸法とはならず、また回折を制限するも
のではなくなる。光デイスク読取装置において
は、高解像度を得るとともに隣接トラツク間のク
ロストークを生じないようにするためには、スポ
ツトは円形かつ最小寸法にすべきである。
上述のオランダ国特許出願第7703076号に記載
の偏差検出光学装置は放射線反射形記録キヤリヤ
の読取装置だけでなく像を形成すべき放射線反射
面の所要位置と実際の位置との間のずれを検出す
ることが必要な対物系にも使用することができ
る。この対物系の例としては顕微鏡、および集積
回路の製造に使用されるようなサブストレート上
にマスクを投影する対物系等がある。
このような偏差検出光学装置においては放射線
反射面により反射した放射線を対物系通過後に放
射線感応検出器に指向させるべきである。このた
め既知の検出装置は別個のビームスプリツタ、例
えば半透過鏡または偏光感応分離プリズムを使用
する。
本発明の目的はできるだけ小型であり、また光
学的構成部材の数が少ない構成が簡単な偏差検出
光学装置を得るにある。この目的を達成するため
本発明偏差検出光学装置は第１光路に沿つて前記
対物系を通過して前記反射面に指向する反射線ビ
ームを発生するビーム発生手段と、前記反射面に
入射する前記ビームのうちの少なくとも一部の反
射後に前記第１光路の一部分に沿つて前記対物系
を逆行する反射ビームを第１光路に沿つて反射面
に指向する前記入射ビームから分離するよう前記
第１光路の一部分に配置したビーム分離手段とを
具え、このビーム分離手段は、前記反射面で反射
して第１光路の一部分を逆行してくる前記反射ビ
ームを前記第１光路とは異なる第２光路に沿うよ
う転向するとともに、この第２光路に転向した反
射ビームのみに非点収差を導入する単一の光学素
子により構成し、更に、前記第２光路に配置し、
前記結像面と前記反射面との間の偏差を表わす信
号を発生する放射線応答手段を具えたことを特徴
とする。
本発明検出装置の好適な実施例においては前記
光学素子を格子定数が線形的に変化する回折格子
により構成する。
更に本発明検出光学装置の他の実施例において
は前記光学素子を透明材料の板により構成し、こ
の板の２個の表面を前記放射線ビームの主光軸に
対して傾斜させ、また前記放射線源に近接する側
の表面を部分反射する面とする。板の２個の表面
は放射線ビームが入射する面とする。
放射ビームは非平行ビームとする。板のサブス
トレートはこのビームの非点収差導入素子とす
る。
板は面平行板とする。しかし本発明の他の実施
例によればこの板をくさび状にすることもでき
る。
くさび角を適当に選択することによつて非点収
差の程度を調節することができるが、更に重要な
ことには非点収差の向きも調整することができ
る。非点収差の向きは非点収差による焦線が有効
トラツク方向に対して45゜の角度をなすように選
択する。有効トラツク方向とは複合検出器に結像
される場合と同様に情報トラツクを走査する方向
である。このようにすると読取光点がトラツク方
向に交叉する方向にずれてもも偏差信号にはほと
んど影響がない。放射線反射面により反射した放
射線が板の第２表面を通過する偏差検出装置にお
いてくさび状板を使用すると、確実に第２表面に
よる好ましくない反射も妨害とはならなくなる。
本発明の他の実施例においては前記板の第２の
表面を放射線反射面とする。この実施例の利点は
板の傾きに関する公差を相当大きくすることがで
きる点である。
更に本発明の実施例においては前記板の前記部
分反射面を偏光感応分離鏡とする。この実施例に
おいては利用できる放射線の強さを最適にするこ
とができるとともに、放射線反射面から反射した
後放射線源に帰還する放射線の量を最小にするこ
とができる。この事実は光学式記録キヤリヤの読
取装置においては重要である。
本発明によれば、入射ビームには非点収差を与
えず、反射面で反射してきた反射ビームにのみ非
点収差を与えるため反射面の照射スポツトは最小
寸法の円形に維持するとができ、クロストークの
心配のない高解像度が得られるとともに、反射面
に向う入射ビームから反射ビームを分離するビー
ム分離手段が非点収差を導入する光学素子として
も機能するため、別個の非点収差導入素子を使用
する必要がなく、従つて部品点数が少なくなり、
光学装置全体を小型にすることができ、また個別
の素子間のアライメントをとるという面倒な作業
も不要となり、構成および組立てが簡単になると
いう効果が得られる。
次に図面につき本発明の実施例を説明する。
第１図において円板状記録キヤリヤ１の断面を
示す。情報構体を情報トラツク２により表わす。
この記録キヤリヤにビーム発生手段としての放射
線源７からの読取ビーム８を照射する。この放射
線源をレーザ、例えばHe−Neレーザのようなガ
スレーザ、またはAlGaAsレーザのような半導体
ダイオードレーザとする。対物系（簡単のため単
一のレンズ１６により代表して示す）により読取
ビームを情報トラツク２の平面上に読取光点Ｖと
して集束させる。補助レンズ９を設ける場合には
対物系の入射瞳を満たすに十分なように補助レン
ズ９の焦点距離を選択しておき、これにより読取
光点は対物系の開口数に相当する回折制限寸法を
得る。読取ビームは記録キヤリヤにより反射し、
モータ６により駆動されるターンテーブル５によ
つて記録キヤリヤを回転させる場合読取るべきト
ラツク部分に蓄積された情報に従つて読取ビーム
は変調される。
未変調の入射ビームと変調された反射ビームと
を分離するビーム分離手段としてのビームスプリ
ツタ、例えば半透過鏡１１を放射線経路に設け
る。このビームスプリツタによつて放射線源から
発生した放射線の一部を記録キヤリヤの方向に指
向させ、記録キヤリヤにより反射した放射線の一
部を放射線感応情報検出器１３に透過する。この
検出器を電子回路１４に接続し、この電子回路に
おいて既知のようにして（本明細書では詳述しな
い）高周波情報信号Siと、低周波偏差信号Sf（以
下に説明する）と、場合によつてやはり低周波数
のトラツキング信号とを導き出す。偏差信号を得
るには情報構体により反射したビームに非点収差
を与えるべきである。この検出器および電子回路
は放射線応答手段をなす。
本発明によればビームスプリツタおよび非点収
差導入素子の機能を単一の光学素子により行う。
第１図に示すようにこの素子を各表面が平行な面
平行板１０とし、この表面１１を半透過鏡とす
る。この板１０を読取ビームに対して傾斜して配
置し、記録キヤリヤにより反射した集束する読取
ビームのための非点収差導入素子を構成し、この
素子によりこのビームの断面形状を変化させる。
記録キヤリヤに向うビームは板１０を通過せず、
従つて非点収差を受けない。この結果情報構体に
おける読取光点Ｖの質は板１０によつて影響され
ない。
対物系１６と板１０とにより構成される非点収
差系により読取光点Ｖを２個の焦線として結像さ
せ、これら焦線のうちの第１焦線は図面の平面上
に配置させ、第２焦線は図面の平面に垂直な平面
上に位置させる。これら焦線間の距離は板１０の
物質の屈折率ｎと厚さｄ、および読取ビームの主
光線の入射角ｉにより決定される。放射線感応検
出器１３は光軸に沿つて見て２個の焦線間に、好
適にはピントが合つている場合に読取光点に関連
する結像光点V′の互いに直交する２方向の寸法
ができるだけ等しくなるような位置に配置すると
よい。
結像光点V′の形状およびピント（合焦）の度
合を測定することを可能にするため検出器１３に
４個の副検出器を設け、Ｘ−Ｙ座標系の４個の象
限にそれぞれ配置する。第２ａ，２ｂおよび２ｃ
図に第１図の―′線上から見た４個の副検出
器Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ、ならびに対物系と情報ト
ラツクの平面の間の距離が異なる場合これら副検
出器に投射される種々の形状の結像光点V′を示
す。Ｘ軸およびＹ軸は非点収差の焦線の向きに対
して45゜の角度をなすよう配列する。
第２ａ図は対物系とトラツク平面との間の距離
が適正である場合の状態を示す。この距離が大き
すぎる場合焦線は板１０に一層近接する。このと
き検出器１３は第２焦線よりも第１焦線の方に近
接する。このとき結像光点V′は第２ｂ図に示す
形状になる。対物系とトラツク平面との間の距離
が小さすぎる場合、焦線は板１０から一層遠去
り、検出器は第１焦線よりも第２焦線に近接す
る。このとき結像光点V′は第２ｃ図に示す形状
になる。
副検出器Ａ，Ｂ，ＣおよびＤにより発生する信
号をそれぞれSA，SB，ScおよびSDにより表わすと
すると偏差信号Sfは次式のようになる。即ち Sf＝（SA＋Sc）−（SB＋SD） 第２ａ図の場合SA＋SC＝SB＋SD、従つてSf＝
０となる。第２ｂおよび第２ｃ図の場合Sfはそれ
ぞれ負および正の値となる。信号SA，SCならび
に信号SB，SDをそれぞれ互いに加算し、このよう
にして得られた双方の和の信号を互いに減算する
ことによつてあいまいでない偏差信号が得られ
る。この信号はそれ自体既知の方法により電子的
に合焦制御信号になるよう処理され、この制御信
号により例えば可動コイルを使用し、情報構体の
平面に対して対物系を移動することによつて合焦
を修正することができる。
情報信号Siは同一の副検出器Ａ，Ｂ，Ｃおよび
Ｄにより、例えば４個の副検出器からの信号を互
いに加算することによつて得ることができる。
副検出器Ａ，Ｂ，ＣおよびＤはトラツキング信
号、即ち読取るべきトラツクの中心に対する読取
光点の中心の位置を表わす信号を抽出するにも使
用することができる。トラツキング信号Srは例
えば次式で与えられる。即ち、 Sr＝（SA＋SB）−（SC＋SD） この場合情報は偏差検出ビームおよび複合検出
器１３の代りに個別の読取ビームおよび個別の放
射線感応情報検出器によつても読取ることができ
る。
読取装置の種類によつては板１０と対物系１６
との間に他の光学素子、例えば対物系１６に入射
する前にビーム８を平行光線にするための正レン
ズを配置する。
第３図に示すように板１０の表面１２に反射層
１８を堆積させる。このとき読取ビーム８は板１
０サブストレートを２回通過する。第３図の装置
によれば第１図の装置よりも一層小型にすること
ができ、また板１０の傾斜にそれ程影響されない
点で極めて有利である。第３図および第４，５図
において本発明に関連するこれらの素子を示す。
読取ビームの強度が十分大きい場合第１および
３図の装置における板１０の表面１１を半透過鏡
とする。変調された読取ビームが鏡１１を経て放
射線源にフイードバツクすることを減少するのは
鏡の反射係数Ｒの値を0.5の代りに0.3を選択する
ことによつて得る。この場合放射線経路中の他の
光学的構成部材における反射および吸収損失を無
視すれば放射線源７から発生する放射線の９％の
みが放射線源に返るだけであるとともに、放射線
源から発生した放射線の21％が検出器１３に達す
ることができる。
板１０の表面に半透過鏡１１の代りに偏光感応
分離鏡１９を担持するとき検出器１３における放
射線の強度が最大になるとともに、記録キヤリヤ
よつて放射線源に反射して返る放射線のフイード
バツクは最小になる。このとき第３図に示すよう
に偏光感応分離鏡１９および対物系１６との間に
λ／４板20（ただしλは放射線ビーム９の波長と
する）を介挿すべきであり、直線偏光された放射
線ビームを発生すべきである。このビームの電界
領域即ちＥベクトルを入射平面即ち図面の平面に
垂直にし、これにより表面即ち分離鏡１９により
反射することができ、λ／４板の第１回目の通過
を行う。情報構体によつて反射した後読取ビーム
はλ／４板に対して２回目の通過を行う、これに
より反射したビーム８′のＥベクトルは入射平面
に平行になる。従つて読取ビームは分離鏡１９を
通過し、層１８によつて検出器１３に反射する。
入射ビーム８および帰還ビーム８′の主光線間
の距離Δは次式によつて与えられるる。即ち Δ＝２・ｄ・tan（i′）・cos（ｉ） ただしｄは板即ちサブストレート１０の厚さ、
ｉはビーム８の表面１９への入射角、i′はビーム
８′の主光線のサブストレート１０における屈折
角とする。ｉにおける変動δiによる距離の変動
δΔは次のようになる。すなわち δΔ＝２・ｄ・tan（i′）・δi 第３図の装置の場合ｉを45゜、サブストレート
１０の屈折率ｎを1.5、およびｄを３mmとする。
組立体の不精度および／または経時的変化により
δiが0.5゜になる場合変動δΔは約6μmとなる。この
変動は放射線源７と鏡１９との間の距離には無関
係である。
帰還ビーム８′が面平行板を通過するときこの
ビームは軸線に平行に即ち縦方向にずれＬを生
じ、このずれは Ｌ＝ｎ−１／ｎ 2d／cos（i′） で与えられる。このＬをΔに等しくすることは可
能である。この場合ダイオードレーザとしての放
射線源および検出器１３をビーム８，８′の主光
線に対して45゜の角度をなす１個の支持部材に収
容する。
第１および３図による装置に面平行板１０の代
りにくさび状板２１を使用することができる。こ
のような板を第４図に示す。記録キヤリヤにより
反射した読取ビームが板を通過する場合（第１図
と比較すると）、この板がくさび状板であるので
鏡として設計されていない後面（第１図において
は面１２）による反射は何ら妨害とならない。
即ちこれは後面により反射される放射線成分が
記録キヤリヤから見てもまた検出器から見ても合
焦ずれの検出を行うのに使用されるまた場合によ
つては情報を読取るののに使用される放射線から
相当ずれるためである。同様の非点収差を与える
ためにくさび状板の厚さは面平行板の厚さより小
さくてよい。
くさび状板の面平行板に比較しての大きな利点
は非点収差の向きを具合よく調節することがで
き、また使用する複合検出器１３に適合すること
ができる点である。
第４図の実施例の装置は非点収差の焦線間の距
離を約10mmとするが、この場合入射角ｉを45゜、
サブストレートの平均厚さｄを約３mm、サブスト
レートの屈折率ｎを1.5、および表面２３ならび
にくさび状板２１と検出器１３との間の距離を約
10mm、くさびの角度αを約10.5゜とする。
このオーダーの大きさのくさび角αまたはこの
角度より大きい角度に対して表面２３を半透過鏡
により構成する場合やはり入射ビーム８と帰還ビ
ーム８′との間の満足のいく分離が得られ、従つ
てこの場合偏光感応分離鏡およびλ／４板の形式
の一層高価な偏光手段を使用する必要がなくな
る。しかし上述の角度より小さいくさび角ではビ
ーム８とビーム８′との満足のいく分離を得るた
めにこのような偏光手段を使用しなければならな
い。
第５図においてはビーム偏向および非点収差導
入素子を回折格子２５により構成した実施例の装
置を示す。既知のように直線状けい線を有する回
折格子により入射放射線ビームをゼロ次サブビー
ムと、２個の一次サブビームと、複数個の高次サ
ブビームとに分離する。この場合記録キヤリヤに
より反射した放射線の強さのうち比較的大きな部
分、例えば40％が一次サブビーム８″に含まれる。
検出器１３をこのサブビームの経路上に配置す
る。
格子２５の格子定数を線形的に変化させること
により格子は非点収差効果を発生する。実際大き
い格子定数を有する格子部分を通過するビームの
部分は小さい格子定数を有する格子部分を通過す
るビームの部分よりも小さい角度で回折する。
更にビーム８が最初に格子を通過するときに回
折したサブビームがゼロ次のサブビームから十分
離間するよう格子２５の格子定数を選択し、これ
によりこの回折したサブビームが記録キヤリヤに
より反射した後に検出器１３または放射線源７に
達することができないようにする。この格子の利
点は傾動による影響を受けにくい点である。
第５図の実施例の装置においては放射線源とし
て約800nmの波長のダイオードレーザを使用し、
ダイオードレーザと格子２５との間の距離を約20
mmとする。格子定数は3.9μmから4.1μmまで線形
的に変化させる。ダイオードレーザと検出器１３
との間の距離を約２mmとするとともに、非点収差
焦線間の距離は約２mmになる。このとき結像光点
V′の寸法は約0.2mmとなる。
読取装置以外の装置、例えば顕微鏡または集積
回路製造のための対物系に偏差検出光学装置を使
用すると上述の読取装置に関して説明したと同様
にこの検出装置を作用させること勿論である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明偏差検出光学装置の第１の実施
例の線図、第２ａ，２ｂおよび２ｃ図は合焦関数
として複合検出器に表われる結像光点の形状変化
を示す線図、第３図は本発明偏差検出光学装置の
第２の実施例の線図、第４図は本発明偏差検出光
学装置の第３の実施例の線図、第５図は本発明偏
差検出光学装置の第４の実施例の線図である。 １……円板状記録キヤリヤ、２……情報トラツ
ク、５……ターンテーブル、６……モータ、７…
…放射線源、８……読取ビーム、９……補助レン
ズ、１０……面平行板、１１……半透過鏡、１
２，２３……表面、１３……放射線感応情報検出
器、１４……電子回路、１６……対物系、１８…
…反射層、１９……偏光感応分離鏡、２０……
λ／４板、２１……くさび状板、２５……回折格
子。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 対物系の結像面とこの対物系により像を形成
    すべき反射面との間のずれを検出する偏差検出光
    学装置において、 第１光路に沿つて前記対物系を通過して前記反
    射面に指向する放射線ビームを発生するビーム発
    生手段と、前記反射面に入射する前記ビームのう
    ちの少なくとも一部の反射後に前記第１光路の一
    部分に沿つて前記対物系を逆行する反射ビームを
    第１光路に沿つて反射面に指向する前記入射ビー
    ムから分離するよう前記第１光路の一部分に配置
    したビーム分離手段とを具え、このビーム分離手
    段は、前記反射面で反射して第１光路の一部分を
    逆行してくる前記反射ビームを前記第１光路とは
    異なる第２光路に沿うよう転向するとともに、こ
    の第２光路に転向した反射ビームのみに非点収差
    を導入する単一の光学素子により構成し、さら
    に、前記第２光路に配置し、前記結像面と前記反
    射面との間の偏差を表わす信号を発生する放射線
    応答手段を具えたことを特徴とする偏差検出光学
    装置。 ２ 前記光学素子を格子定数が線形的に変化する
    回折格子により構成することを特徴とする特許請
    求の範囲第１項に記載の偏差検出光学装置。 ３ 前記光学素子を透明材料の板により構成し、
    この板の２個の表面を前記放射線ビームの主光軸
    に対して傾斜させ、また前記放射線源に近接する
    側の表面を部分反射する面とすることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項に記載の偏差検出光学装
    置。 ４ 前記板をくさび状にすることを特徴とする特
    許請求の範囲第３項に記載の偏差検出光学装置。 ５ 前記板の第２の表面を放射線反射面とするこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第３または４項に
    記載の偏差検出光学装置。 ６ 前記板の前記部分反射面を偏光感応分離鏡と
    することを特徴とする特許請求の範囲第３乃至５
    項のうちいずれか一項に記載の偏差検出光学装
    置。 ７ 光学的に読取ることができる放射線反射情報
    構体を有する記録キヤリアを読取るため、読取ビ
    ームを発生する放射線源と、読取用対物系と、放
    射線感応情報検出器と、前記情報構体により変調
    された読取放射線を前記放射線源により発生した
    放射線から分離するビームスプリツタとを具え、
    前記情報構体の面と前記読取用対物系の焦点面と
    の間のずれを測定する偏差検出光学装置を設け、
    この偏差検出光学装置は、第１光路に沿つて前記
    対物系を通過して前記反射面に指向する放射線ビ
    ームを発生するビーム発生手段と、前記反射面に
    入射する前記ビームのうちの少なくとも一部の反
    射後に前記第１光路の一部分に沿つて前記対物系
    を逆行する反射ビームを第１光路に沿つて反射面
    に指向する前記入射ビームから分離するよう前記
    第１光路の一部分に配置したビームスプリツタと
    を具え、このビームスプリツタは、前記反射面で
    反射して第１光路の一部分を逆行してくる前記反
    射ビームを前記第１光路とは異なる第２光路に沿
    うよう転向するとともに、この第２光路に転向し
    た反射ビームのみに非点収差を導入する単一の光
    学素子により構成し、さらに、前記第２光路に配
    置し、前記結像面と前記反射面との間の偏差を表
    わす信号を発生する放射線応答手段を具えたこと
    を特徴とする記録キヤリヤの読取装置。
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