JPH0245621B2

JPH0245621B2 - Tetorahidorofutaruimidoruioyobikoreojukoseibuntosurujosozai

Info

Publication number: JPH0245621B2
Application number: JP14007680A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Naohara; Masaji Oda; Fumitsugu Natsume; Hisao Watanabe; Seiichi Suzuki
Original assignee: Mitsubishi Chemical Industries Ltd
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1980-10-07
Filing date: 1980-10-07
Publication date: 1990-10-11
Anticipated expiration: 2000-10-07
Also published as: JPS5764671A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なテトラヒドロフタルイミド類お
よびこれを有効成分とする除草剤に関する。従来、Ｎ―アリール―３，４，５，６―テトラ
ヒドロフタルイミド類は優れた除草活性を有する
ことが知られているが、これらの構造の僅かな改
変（置換基の種類、数、位置など）により殺草活
性の有無あるいは強弱、あるいは選択性などが著
しく異なる場合が多く、単なる化学構造的類似性
から新たな化合物の殺草活性を予知することは困
難である。本発明者らは、テトラヒドロフタルイミド類を
有効成分とする除草剤について鋭意研究した結
果、Ｎ置換アリールが、２位に水素またはハロゲ
ン、４位にハロゲンまたは水素を有し、かつ５位
に特定の置換基を有するフエニル基である新規な
Ｎ―アリール―3.4，５，６―テトラヒドロフタ
ルイミド類が極めて優れた除草活性を示すことを
見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明の要旨は、一般式〔式中、Ｘ，Ｙは水素原子またはハロゲン原子
を示し；Ａは

【式】（式中、R¹は水素原子、アルキル基、または、ハロゲン原子で置換さ
れていてもよいフエニル基を示し、R²は水素原
子または低級アルキル基を示し、ｎは１〜３の整
数を示す）、

【式】または、―CH₂CH＝ CH―を示し、；Ｂは―OR³（式中、R³は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、炭素数３〜４の
アルキニル基、ハロアルキル基、ハロアルケニル
基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシア
ルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアル
キル基、アルキルチオアルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、フエニル基または、メチル
基で置換されていてもよいγ―ブチロラクトン
基、または、アルカリ金属、アルカリ土金属、お
よび、アルキル基で置換されていてもよいアンモ
ニウム基から選ばれる塩形成残基を示す）、―
SR⁴（中、R⁴はアルキル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル基またはベンジル基を示す）、

【式】（式中、R⁵は水素原子またはメチル基を示し、R⁶はメチル基またはフエ
ニル基を示し、ｍは１から３の整数を示す）を示
す。〕で表わされるテトラヒドロフタルイミド類
およびこれを有効成分とする除草剤に存する。次に本発明を具体的に説明する。本発明において除草剤として用いられるテトラ
ヒドロフタルイミド類は、前記一般式（）で表
わされる。前記一般式（）において、化合物の除草活性
を考慮した場合、Ｘ，Ｙ，ＡおよびＢが次の様な
ものが好適に使用される。即ち、Ｘは塩素原子、臭素原子、沃素原子また
は水素原子、好ましくは塩素原子、臭素原子また
は水素原子を表わし、Ｙは水素原子、弗素原子ま
たは塩素原子、好ましくは水素原子または塩素原
子を表わし、特に好ましくは、Ｙが水素原子のと
きＸは塩素原子、臭素原子または水素原子、Ｙが
塩素原子のときＸは塩素原子を表わす。Ａは

【式】（式中、R¹は水素原子；メチル基、エチル基、ｎ―プロピル基、イソプロピレ
ン基、ｎ―ブチル基、イソブチル基、Sec―ブチ
ル基、ｎ―ペンチル基、ｎ―ヘキシル基、ｎ―ヘ
プチル基、ｎ―オクチル基、ｎ―ノニル基または
ｎ―デシル基などの炭素数１〜10のアルキル基好
ましくはメチル基、エチル基、ｎ―プロピル、イ
ソプロピル基、ｎ―ブチル基、イソブチル基、ｎ
―ペンチル基、ｎ―ヘキシル基、またはｎ―ヘプ
チル基などの炭素数１〜７のアルキル基；フエニ
ル基；またはクロロフエニル基、ブロモフエニル
基、ジクロロフエニル基などの置換フエニル基、
好ましくはクロロフエニル基、ブロモフエニル
基、ジクロロフエニル基などの置換フエニル基を
表わし、R²は水素原子またはメチル基、エチル
基、プロピル基またはブチル基などの炭素数１〜
４のアルキル基、好ましくは水素原子またはメチ
ル基を表わす。）

【式】または、―CH₂CH＝CH―を表わし、ｎは１から３の整数を表わしく特に好ましく
はｎが１以外の整数の場合、R¹およびR²は水素
原子を表わす。Ｂは―OR³；SR⁴；２―オキソプロピル基、３
―オキソブチル基、４―オキソペンチル基、２―
オキソメチルプロピル基、３―オキソメチルブチ
ル基、４―オキソメチルペンチル基、フエナシル
基、３―オキソフエニルプロピル基または４―オ
キソフエニルブチル基などの炭素数３〜10の

【式】（式中、R⁵は水素またはメチル基、R⁶はメチル基またはフエニル基を示
し、ｍは１から３の整数を表わす）で示される基上記式においてR³は水素原子、メチル基、エ
チル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―
ブチル基、イソブチル基、sec―ブチル基、ｔ―
ブチル基、ｎ―ペンチル基、３―メチルブチル
基、２，２―ジメチルプロピル基、ｎ―ヘキシル
基、ｎ―ヘプチル基、ｎ―オクチル基、ｎ―ノニ
ル基、ｎ―デシル基、ｎ―ウンデシル基、または
ｎ―ドデシル基などの炭素数１〜12のアルキル基
好ましくはメチル基、エチル基、ｎ―プロピル
基、イソプロピル基、ｎ―ブチル基、イソブチル
基、sec―ブチル基、ｔ―ブチル基、ｎ―ペンチ
ル基、３―メチルブチル基、２，３―ジメチルプ
ロピル基またはｎ―ヘキシル基などの炭素数１〜
６のアルキル基；ビニル基、アリル基、メタクリ
ル基、２―ブテニル基または３―メチル―２―ブ
テニル基などの炭素数２〜５のアルケニル基好ま
しくはアリル基、メタリル基または２―ブテニル
基などの炭素数３〜４のアルケニル基；プロパル
ギル基、２―ブチニル基または１，１―ジメチル
プロパルギル基などの炭素数３〜４のアルキニル
基好ましくはプロパルギル基または２―ブチニル
基などの炭素数３〜４のアルキニル基；フルオロ
エチル基、クロロエチル基、ブロモエチル基、ヨ
ードエチル基、ジフルオロエチル基、ジクロロエ
チル基、ジブロモエチル基、トリフルオロエチル
基、トリクロロエチル基、トリブロモエチル基、
フルオロプロピル基、クロロプロピル基、ブロモ
プロピル基、ヨードプロピル基、ジフルオロプロ
ピル基、ジクロロプロピル基、ジブロモプロピル
基、トリフルオロプロピル基、トリクロロプロピ
ル基、トリブロモプロピル基、テトラフルオロプ
ロピル基、クロロブチル基、ブロモブチル基、ト
リフルオロブチル基、クロロペンチル基またはブ
ロモペンチル基などの１〜４個のハロゲンを含む
炭素数１〜５のハロアルキル基好ましくは、フル
オロエチル基、クロロエチル基、ブロモエチル
基、ジクロロエチル基、ジブロモエチル基、トリ
フルオロエチル基、トリクロロエチル基、クロロ
プロピル基、ブロモプロピル基、ジクロロプロピ
ル基、ジブロモプロピル基、テトラフルオロプロ
ピル基、クロロブチル基またはブロモブチル基な
どの１〜４個のハロゲンを含む炭素数２〜４のハ
ロアルキル基；クロロアリル基、ブロモアリル
基、ジクロロアリル基、ジブロモアリル基、トリ
クロロアリル基、トリブロモアリル基またはクロ
ロブテニル基などの１〜３個のハロゲンを含む炭
素数３〜４のハロアルケニル基、好ましくはクロ
ロアリル基、ジクロロアリル基またはトリクロロ
アリル基などの１〜３個の塩素原子を含む炭素数
３のハロアルケニル基；シアノメチル基、シアノ
エチル基またはシアノプロピル基などの炭素数２
〜４のシアノアルキル基；ヒドロキシエチル基、
ヒドロキシプロピル基またはヒドロキシブチル基
などの炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基；メ
トキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシ
エチル基、ブトキシエチル基、ペンチルオキシエ
チル基、ヘキシルオキシエチル基、メトキシプロ
ピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピ
ル基またはエトキシブチル基などの炭素数３〜８
のアルコキシアルキル基好ましくはメトキシエチ
ル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、
ブトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキ
シプロピル基またはプロポキシプロピル基などの
炭素数３〜６のアルコキシアルキル基；メトキシ
エトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、
プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシ
エチル基、メトキシプロポキシプロピル基、エト
キシプロポキシプロピル基またはブトキシプロポ
キシプロピル基などの炭素数５〜10のアルコキシ
アルコキシアルキル基好ましくはメトキシエトキ
シエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポ
キシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル
基またはメトキシプロポキシプロピル基などの炭
素数５〜８のアルコキシアルコキシアルキル基；
メトキシエトキシエトキシエチル基、エトキシエ
トキシエトキシエチル基、プロポキシエトキシエ
トキシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチ
ル基、メトキシプロポキシプロポキシプロピル
基、エトキシプロポキシプロポキシプロピル基ま
たはブトキシプロポキシプロポキシプロピル基な
どの炭素数７〜13のアルコキシアルコキシアルコ
キシアルキル基好ましくはメトキシエトキシエト
キシエチル基、エトキシ、エトキシエトキシエチ
ル基、プロポキシエトキシエトキシエチル基、ブ
トキシエトキシエトキシエチル基またはメトキシ
プロポキシプロポキシプロピル基などの炭素数７
〜10のアルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基；メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、
プロピルチオエチル基、ブチルチオエチル基、ペ
ンチルチオエチル基などの炭素数３〜８のアルキ
ルチオアルキル基；シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基
などの炭素数４〜８のシクロアルキル基好ましく
はシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基またはシクロヘプチル基などの炭素数４
〜７のシクロアルキル基；ベンジル基、クロロベ
ンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、α―メチルベンジル基、α，α―ジメチルベ
ンジル基、フエネチル基、メチルフエネチル基ま
たはフエニルプロピル基などの炭素数７〜９のア
ラルキル基；フエニル基；メチル基で置換されて
いてもよいγ―ブチロラクトン基；またはナトリ
ウム、カリウム、カルシウムなどのアルカリ金
属、アルカリ土金属、およびアンモニウム基、メ
チルアンモニウム基、エチルアンモニウム基、プ
ロピルアンモニウム基、ブチルアンモニウム基、
ペンチルアンモニウム基、ヘキシルアンモニウム
基、ジメチルアンモニウム基、ジエチルアンモニ
ウム基、ジプロピルアンモニウム基、ジブチルア
ンモニウム基、トリメチルアンモニウム基、トリ
エチルアンモニウム基、トリプロピルアンモニウ
ム基、テトラメチルアンモニウム基、テトラエチ
ルアンモニウム基などの総炭素数４〜９のアルキ
ル基を０〜４個有するアンモニウム基から選ばれ
る塩形成残基を表わす。また、R⁴はメチル基、エチル基、ｎ―プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル基、イソブチ
ル基、sec―ブチル基、ｎ―ペンチル基、sec―ペ
ンチル基、ｎ―ヘキシル基、ｎ―ヘプチル基、ｎ
―オクチル基、ｎ―ノニル基、ｎ―デシル基、ｎ
―ウンデシル基またはｎ―ドデシル基などの炭素
数１〜12のアルキル基好ましくはメチル基、エチ
ル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブ
チル基、イソブチル基、ｎ―ペンチル基、sec―
ペンチル基、ｎ―ヘキシル基、ｎ―ヘプチル基、
ｎ―オクチル基、ｎ―ノニル基またはｎ―デシル
基などの炭素数１〜10のアルキル基；メトキシカ
ルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、プロポキシカルボニルメチル基またはブトキ
シカルボニルメチル基などの炭素数３〜６のアル
コキシカルボニルアルキル基；またはベンジル基
を表わす。本発明の式（）で示される化合物は、場合に
より光学異性体、Ｚ―Ｅ異性体またはジアステレ
オマーなどの各種異性体が存在し得る。それぞれ
の異性体のいずれかが存在し得るとき、多くの場
合、該異性体は全ての異性体を含有する混合物と
して得られる。これらの異性体は既知の様々な方
法（例えば、不斉合成、光学分割、再結晶または
カラムクロマトグラフイー、薄層クロマトグラフ
イー、高速液体クロマトグラフイーなどの各種ク
ロマトグラフイー）を用いてそれぞれの異性体を
得ることも可能である。以下に上記各種異性体を与え得る式（）で示
される化合物の例を挙げる。光学異性体の存在し得る例式（）で示される化合物に包含される式(a)で
示される化合物は、R¹が水素原子以外の特定の
基を示すとき、光学異性体を与える。またR¹が
水素原子である場合においてＢが不斉中心を有す
る基である場合（例えば、

【式】も光学異性体を与える。Ｚ―Ｅ異性体の存在し得る例式（Ｉ）で示される化合物に包含される式(b)で
示される化合物は、Ｚ―Ｅ異性体を与える。ジアステレオマーの存在し得る例；式（）で示される化合物に包含される式(c)で
示される化合物は、２個の不斉中心を有しており
ジアステレオマーを与える。式（）で示される化合物は各種原料を用いて
下記反応式に従つて製造することができる。上記反応式でＺは塩素、臭素または沃素などの
ハロゲン原子を示す。反応はアセトン、エチルメ
チルケトン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ―ジメチルホル
ムアミドなどの溶媒中、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の塩基性化合物または弗化カリウム、弗化セシウ
ム、弗化テトラｎ―ブチルアンモニウムなどの弗
素化合物の存在下、沃化ナトリウム、沃化カリウ
ムなどの沃素化合物の存在下あるいは不存在下０
〜150℃で行なわれる。テトラヒドロフタル酸無水物と上記アニリン類
との反応は、無溶媒または酢酸、トルエン、メタ
ノール、水などの溶媒中60〜200℃で行なわれる。上記加水分解反応は、(i)水、水―メタノール、
水―エタノール、水、ジオキサンなどの溶媒中、
塩酸、硫酸などの酸の存在下０〜120℃、または
蟻酸、酢酸などの溶媒中メタンスルホン酸、ｐ―
トルエンスルホン酸の存在下80〜180℃で行なわ
れる。(ii)Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、Ｎ―メ
チル―２―ピロリドン、２，４，６―コリジン、
２，６―ルチジン、ピリジンなどの溶媒中、水酸
化リチウム、臭素化リチウム、沃素化リチウム、
沃素化ナトリウムなどの存在下100〜200℃で行な
われる。(iii)水、水―メタノール、水、―エタノー
ル、水―ジオキサン、水―アセトンなどの溶媒
中、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
バリウムなどの存在下−20〜150℃において反応
後、溶媒を留去し残留物を酢酸、希塩酸、希塩酸
―ジオキサンなどの溶媒中50〜200℃で反応する
ことにより行われる。本反応を用いて式（）で示されるカルボン酸
類を製造する場合には原料として用いられる式
（）の化合物としては、より安価かつ容易に得
られるＢがメトキシ基またはエトキシ基であるエ
ステル類を用いるのが好ましい。上記エステル化反応は、無溶媒下、塩化水素、
硫酸、ｐ―トルエンスルホン酸などの酸触媒の存
在下０〜100℃で行なわれる。この反応は、無溶媒またはベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの溶媒中塩化チオニル、五塩化
リンなどの塩素化剤を０〜150℃で作用させ式
（）で示される酸塩化物を形成せしめ、これに
式（）で示される化合物を、無溶媒またはベン
ゼン、トルエン、テトラクロルエタン、トリクロ
ルエチレンなどの溶媒中、トリエチルアミン、ピ
リジン、Ｎ，Ｎ―ジメチルアニリン、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの
塩基性化合物の存在下または不存在下−20〜130
℃で行なわれる。本反応を用いて式（）で示される化合物を製
造する場合、式（）で示される酸塩化物を特に
単離精製する必要はなく一容器（one pot）反応
で目的物が得られる。また式（）で示される酸
塩化物の生成はそのirスペクトルを測定すること
により容易に確認できる。上記反応式でＺは塩素、臭素、沃素などのハロ
ゲン原子、Ｂは―OR³で示される基を示す。本反
応は、アセトン、エチルメチルケトン、ベンゼ
ン、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフ
ラン、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、塩化メチ
レン、クロロホルムなどの溶媒中、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、金属ナトリウム、水素化ナト
リウム、弗化カリウム、弗化セシウムなどの酸結
合剤を用いて０〜150℃で行なわれる。上記反応式でB′はＢで定義した前出の基中特
定の基を示す。本エステル交換反応は通常無溶媒
下、塩化水素、硫酸、ｐ―トルエンスルホン酸な
どの酸触媒の存在下０〜150℃にて行なわれる。上記反応式でＺは塩素、臭素または沃素などの
ハロゲン原子を示す。反応はアセトン、エチルメ
チルケトン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ―ジメチルホル
ムアミドなどの溶媒中、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の塩基性化合物の存在下、沃化ナトリウム、沃化
カリウムの存在下あるいは不存在下０〜150℃で
行なわれる。なお、本反応は下記中間体（）を
経て進行するものと考えられる。本反応式でＢはOR₃を示し、R₃は塩形成残基
を示す。本塩形成反応は、水、水―メタノール、
水―エタノール、ベンゼン、トルエン、テトラヒ
ドロフランなどの溶媒中−20℃〜150℃で行なわ
れる。用いられる塩基性化合物としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム
などの水酸化アルカリ金属またはアルカリ土金
属、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの水
素化アルカリ金属、金属ナトリウム、金属カリウ
ムなどのアルカリ金属、アンモニア、モノ、ジま
たはトリアルキルアミンなどが挙げられる。これらの化合物はそのままでも除草剤として使
用できるが、通常不活性な液体担体または固体担
体と混合し、これに適当な界面活性剤などを加
え、乳剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤等の形態と
して使用する。液体担体としては、トルエン、キシレン、メチ
ルナフタレン、シクロヘキサン、ブタノール、グ
リコール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、アセトン、メチルイソブチルケトン、
動植物性油、脂肪酸、脂肪酸エステル、水など
て、また固体担体としては、粘土、カオリンクレ
ー、タルク、ベントナイト、硅藻土、シリカ、炭
酸カルシウムおよびダイズ粉、コムギ粉等の植物
性粉末などがあげられる。さらに必要があれば、
他の活性成分、例えば農業用殺菌剤、殺虫剤、殺
線虫剤または他の除草剤、植物生長調節剤、土壤
改良剤および肥料などと混ぜて使用することもで
きる。また、確実な除草効果を得るため、展着
剤、乳化剤、湿展剤、固着剤などの補助剤を適当
に混合してもよい。本発明の除草剤の施用量は、当然選ばれる化合
物の種類、対象雑草、処理時期、処理方法または
土壤の性質などの状況によつて異なるが、通常有
効成分として１アール当り２―80grの範囲が適当
である。本発明の除草剤は移植水田での雑草発芽前湛水
土壤処理または生育期処理のいずれにも使用可能
であり、１年生雑草および多年生雑草に対し高い
殺草活性を示し、加えて移植水稲に対する影響が
極めて少ないという水田用除草剤として極めて好
ましい性質を有する特徴がある。また畑作での雑草発芽前土壤処理および茎葉兼
土壤処理においても、１年生雑草および多年生雑
草に対し優れた殺草活性と十分な残効性とを示
し、高濃度で処理した場合においても作物に対す
る影響が極めて軽微であるという優れた特徴を有
している。本発明の除草剤は、例えば次の雑草を防除する
のに用いられる。双子葉植物である雑草、例えば野生アサガオ、
ヤエムグラ、ハコベ、ハキダメギク、アカザ、シ
ロザ、イチビ、野性カラシナ、ナズナ、ギシギ
シ、タデ、スベリヒユ、イヌビユ、ブタクサ、キ
カシグサ、アゼナ、タカサブロウ、タウコギ、ア
ブノメ、ミゾハコベ、ミゾソバ。単子葉植物である雑草、例えばノビエ、メヒシ
バ、オヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビ
ラ、スズメノテツポウ、ギヨウギシバ、シバム
ギ、カヤツリグサ、タマガヤツリ、クログワイ、
マツバイ、ホタルイ、ミズガヤツリ、コウキヤガ
ラ、コナギ、ウリカワ、ヘラオモダカ、オモダ
カ。本発明の除草剤は、例えば次の作物の栽培にお
いて選択的除草剤として使用できる。双子葉植物である裁培作物：ダイズ、ワタ、テ
ンサイ、ヒマワリ、エンドウ、ジヤガイモ、キユ
ウリ。単子葉植物である裁培作物：イネ、コムギ、オ
オムギ、カラスムギ、ライムギ、トウモロコシ、
サトウキビ。本発明の除草剤の適用範囲は以上の種属の植物
のみに限定されるものではなく、他の植物に対し
ても同様な施用方法により使用することができ
る。次に本発明を実施例をあげて、さらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、
以下の実施例に限定されるものではない。実施例１Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―エトキシカルボ
ニルブチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，
６―テトラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―（４―ブロモ―３―ヒドロキシフエニル）
―３，４，５，６―テトラヒドロフタルイミド
15.0gr、α―ブロモ吉草酸エチル12.0gr、炭酸カ
リウム7.7gr、沃化カリウム2.5grおよびアセトン
50mlの混合物を撹拌下に３時間加熱還流した後、
室温迄冷却し、塩を別した。液を減圧濃縮し
残留物に2N塩酸を加えて結晶を析出させた。こ
の結晶を取し、水洗、乾燥後、シリカゲルカラ
ムで酢酸エチル―ｎ―ヘキサン１：３を展開溶媒
として溶出し、表１記載の化合物（No.92）17.6gr
を得た。実施例２Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―エトキシカルボ
ニルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，
６―テトラヒドロフタルイミドの製造シクロヘキセン―１，２―ジカルボン酸無水物
1.52gr、４―ブロモ―３―（１―エトキシカルボ
ニルエチルオキシ）アニリン（n²⁵ _D1.5590）2.88gr
および酢酸10mlの混合物を撹拌下に２時間加熱還
流後、室温迄冷却しこれに水を加えた。析出した
結晶を取した後、ベンゼン―シクロヘキサンよ
り再結晶し表１記載の化合物（No.18）3.89grを得
た。実施例３Ｎ―〔２，４―ジクロロ―５―（１―カルボキ
シルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，
６―テトラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―〔２，４―ジクロロ―５―（１―エトキシ
カルボニルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，
５，６―テトラヒドロフタルイミド14.4gr、メタ
ンスルホン酸3.40gr、86％蟻酸35mlの混合物を撹
拌下に15時間加熱還流後、室温迄冷却しこれに水
を加え酢酸エチルにて抽出した。抽出液を減圧濃
縮して得られた油状物にｎ―ヘキサンを加えトリ
チユレートすると結晶が得られた。これをベンゼ
ン―シクロヘキサンより再結晶し、表１記載の化
合物（No.11）8.7grを得た。実施例４Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―カルボキシエチ
ルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６―テト
ラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―エトキシカルボ
ニルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６
―テトラヒドロフタルイミド1gr、沃化リチウム
5gr、乾燥Ｎ，Ｎジメチルホルムアミド120mlの混
合物を撹拌下に窒素気流中で140℃にて1.5時間加
熱後、室温迄冷却し2N塩酸を加え、エーテルで
抽出した。抽出液を減圧濃縮して得られた結晶を
ベンゼン―シクロヘキサンより再結晶して表１記
載の化合物（No.10）0.72grを得た。実施例５Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―カルボキシエチ
ルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６―テト
ラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―エトキシカルボ
ニルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６
―テトラヒドロフタルイミド4.7gr、メタノール
15ml、40％水酸化ナトリウム水溶液４mlの混合物
を撹拌下に１時間加熱還流後、溶媒を減圧下に留
去した。残留物にシクロヘキセン―１，２―ジカ
ルボン酸無水物0.4grおよび氷酢酸20mlを加えて
得られた混合物を撹忰下３時間加熱還流後、１
の水に注ぎ結晶を析出させた。この結晶を取
し、水洗、乾燥後、シリカゲルカラムで酢酸エチ
ル―ｎ―ヘキサン８：１を展開溶媒として溶出
し、表１記載の化合物（No.10）3.8grを得た。実施例６Ｎ―（４―ブロモ―３―メトキシカルボニルメ
チルオキシ）フエニル―３，４，５，６―テト
ラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―（４―ブロモ―３―カルボキシメチルオキ
シ）フエニル―3.4，５，６―テトラヒドロフタ
ルイミド1.5grおよびメタノール15mlの混合物に、
撹拌下室温にて塩化水素ガスを0.5時間通じた後、
溶媒を留去した後、得られた結晶をシクロヘキサ
ンより再結晶して表１記載の化合物（No.２）
1.5grを得た。実施例７Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―プロピルメルカ
プトカルボニルプロピルオキシ）フエニル〕―
３，４，５，６―テトラヒドロフタルイミドの
製造Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―カルボキシプロ
ピルオキシ）フエニル〕―３，４，４，６―テト
ラヒドロフタルイミド2.0grおよび塩化チオニル
2.5mlの混合物を1.5時間加熱還流後、過剰の塩化
チオニルを留去し、残留物をトルエン10mlに溶解
させた。これに１―プロパンチオール0.45grおよ
びトリエチルアミン0.60grのトルエン５ml溶液を
加え、室温にて２時間、その後加熱還流下に0.5
時間撹拌した。室温迄冷却し、析出せる塩を別し、液を減
圧濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカラムで酢酸エチ
ル―ｎ―ヘキサン１：４を展開溶媒として溶出
し、表１記載の化合物（No.65）2.26grを得た。実施例８Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―フエナシルオキ
シカルボニルブチルオキシ）フエニル〕―３，
４，５，６―テトラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―カルボキシブチ
ルオキシ）フエニル〕３，４，５，６―テトラヒ
ドロフタルイミド2.11gr、臭化フエナシル
11.19gr、弗化カリウム0.64grおよびアセトニト
リル10mlの混合物を撹拌下に8.5時間加熱還流後
室温迄冷却し、析出せる塩を別した。液を減
圧濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムで
ベンゼンを展開溶媒として溶出し、表１記載の化
合物（No.141）2.20grを得た。実施例９Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―メトキシカルボ
ニルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，
６―テトラヒドロフタルイミドの製造Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―エトキシカルボ
ニルエチルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６
―テトラヒドロフタルイミド2.5grをメタノール
30mlに溶解せしめ、塩化水素ガスを室温にて0.5
時間通じた後一夜放置した。析出した結晶を取し、メタノールで洗浄し表
１記載の化合物（No.16）2.21grを得た。実施例 10 Ｎ―〔４―クロロ―３―（１―エトキシカルボ
ニル―１―プロペニルオキシ）フエニル〕―
３，４，５，６―テトラヒドロフタルイミドの
製造Ｎ―（４―クロロ―３―ヒドロキシフエニル）
―３，４，５，６―テトラヒドロフタルイミド
4.0gr、２，３―ジブロモ酪酸エチル4.7gr、炭酸
カリウム2.4grおよびアセトン35mlの混合物を撹
拌下、６時間加熱還流後、析出せる塩を別し
た。液を減圧濃縮し、残留物に2N塩酸を加え
て粗結晶を得た。この粗結晶を水洗、乾燥後、シ
リカゲルカラム（展開溶媒系酢酸エチル―ｎ―ヘ
キサン３：７）で精製し、表１記載の化合物（No.
158）5.2grを得た。実施例 11 Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―カルボキシブチ
ルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６―テト
ラヒドロフタルイミドナトリウム塩の製造Ｎ―〔４―ブロモ―３―（１―カルボキシブチ
ルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６―テトラ
ヒドロフタルイミド2.11grを乾燥ベンゼン20mlに
溶解せしめ、これに水素化ナトリウム0.12grを加
えた。水素の発生が止んだ後、溶媒を留去して表
１記載の化合物（No.84）2.18grを得た。実施例 12 Ｎ―〔４―クロロ―３―（１―カルボキシペン
チルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６―テ
トラヒドロフタルイミドジイソプロピルアミン
塩の製造Ｎ〔４―クロロ―３―（１―カルボキシペンチ
ルオキシ）フエニル〕―３，４，５，６―テトラ
ヒドロフタルイミド1.18gr、ジイソプロピルアミ
ン0.33grおよびベンゼン８mlの混合物を80℃に５
分間加熱後室温にて一夜放置した。析出する結晶
を取し表１記載の化合物（No.171）1.15grを得
た。前示一般式（）に含まれるその他の化合物も
以上で説明した方法のいずれかによつて製造する
ことができるが、製造法の詳細は後記表１の製造
法実施例No.で示す。なお、表１記載の化合物の構造はすべてIRス
ペクトルおよび／または¹H―NMRスペクトルに
よつて確認した。

【表】

【表】製剤例１水和剤の製造法表１記載の化合物または比較剤50部（以下の部
は全て重量部を示す。）、白土カーブレツクス＃80
（塩野義製薬社商標）15部、Ｎ，Ｎカオリンクレ
ー（土屋カオリン社商標）、30部および高級アル
コール硫酸エステル系界面活性剤ソルポール8070
（東邦化学社商標）５部を配合し、均一に混合粉
砕して有効成分50％を含有する水和剤を得た。製剤例２粒剤の製造法表１記載の化合物または比較剤５部（以下の部
は全て重量部を示す。）、クレー（日本タルク社
製）38部、ベントナイト（豊順洋行社製）55部、
サクシネート系界面界性剤エヤロールCT―１（東
邦化学社商標）２部を混合し、更に水を加えて練
り合せ、造粒機を用いて造粒する。次いで、これ
を60℃で２時間乾燥し、有効成分５％を含有する
粒剤を得た。製剤例３乳剤の製造法表１記載の化合物または比較剤30部（以下の部
は全て重量部を示す。）をキシレン30部とジメチ
ルホルムアミド25部からなる混合溶媒に溶解し、
更にポリオキシエチレン系界面活性剤ソルボール
3005X（東邦化学社商標）15部を加えて有効成分
30％を含有する乳剤を得た。実施例 13 水田雑草発生前湛水土壤処理試験 2500分の１アールのバツトに水田沖積埴壤土を
充填し、施肥後のタイヌビエ、キカシグサ、ホタ
ルイ、ヘラオモダカの各種子を播種した。この種
子を表層２cm内に良く混合し、深さ約３cmの湛水
状態を維持した。翌日、化合物No.１乃至100、No.
150乃至200を有効成分とする水和剤および比較剤
としてＮ―（３―メトキシ―４―クロルフエニ
ル）―３，４，５，６―テトラヒドロフタルイミ
ド（以下比較剤Ａと略記する。）Ｎ―（３―メト
キシ―４―ブロムフエニル）―３，４，５，６―
テトラヒドロフタルイミド（以下比較剤Ｂと略記
する。）、２，４，６―トリクロルフエニル―4′―
ニトロフエニルエーテル（以下比較剤Ｃと略記す
る。）またはＳ―（２―クロルベンジル）―Ｎ，
Ｎ―ジエチル―チオールカーバメイト（以下比較
剤Ｄと略記する。）を有効成分とする水和剤を水
で希釈調製し、これを有効成分量として１アール
当り40，20，10，5gとなる様に所定量湛水面に
滴加処理した。処理後３日間３cm／日の減水深を与え、その後
温室内で管理し、薬剤処理後21日目に除草効果の
調査を行つた。その結果を表２に示す。尚、評価は（１−処理区に於ける雑草の地上部生体重／無処理
区に於ける雑草の地上部生体重）×100＝Ｙ（％）を求め、下記の基準による除草効果係数で表わし
た。

【表】

【表】実施例 14 稚苗水稲に対する薬害試験 5000分の１アールのワグネルポツトに水田沖積
埴壤土を充填し、施肥後適量の水で代掻きを行
い、2.7葉期の水稲苗（品種：ササニシキ、草
丈：14.7cm、苗質：やや良）をポツト当り２本２
株で挿入深約1.5cmの浅植えを行つた。3.5cmの水
深を保ち、移植後翌日または７日目に化合物No.１
乃至50、No.150乃至215を有効成分とする粒剤およ
び比較剤としてＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄを有効成分とする
粒剤を有効成分量として１アール当り40，20，
10gとする様に所定量湛水面に落下させた。処理後３日間３cm／日の減水深を与え、その後
温室内で栽培管理し、薬剤処理後21日目に薬害状
況の調査を行つた。その結果を表３に示す。尚、評価は（１−処理区に於ける水稲の地上部生体重／無処理
区に於ける水稲の地上部生体重）×100＝Ｙ（％）を求め、下記の基準による被害度係数で表わし
た。

【表】

【表】実施例 15 畑地土壤処理試験 2500分の１アールの樹脂製バツトに畑地黒ぼく
土壤を充填し、施肥後コムギ、トウモロコシ、ダ
イズ、ワタの各種子を播種して２〜３cmの覆土を
行つた。この土壤表層内にメヒシバ、タデ、シロザの雑
草種子を播種混合した後、化合物No.25乃至76、No.
105乃至125を有効成分とする水和剤および比較剤
としてＡ，Ｂ，３―（3′，4′―ジクロルフエニ
ル）―１，１―ジメチルウレア（以下比較剤Ｅと
略記する。）または２，４―ジクロルフエニル―
4′―ニトロフエニルエーテル（以下比較剤Ｆと略
記する。）を有効成分とする水和剤を水で希釈調
製し、有効成分量が１アール当り40，20，10gと
なる様に土壤表面に小型動力加圧噴霧機で均一に
散布した。薬剤散布後20日目に除草効果の調査を行い、同
時に各作物に対する薬害についても調査を行つ
た。その結果を表４に示す。尚、除草力の評価は実施例13の基準と同様に表
わし、各作物の薬害についての評価は実施例14の
基準と同様に表わした。

【表】

【表】実施例 16 茎葉処理試験小型ポリエチレン製ポツトに畑地黒ぼく土壤を
充填し、施肥後食用ビエ、メヒシバ、ダイコンの
種子を各々ポツト別に播種した。温室内で栽培管
理を続け、供試植物の生育程度が食用ビエ、メヒ
シバは２葉期、ダイコンは第一本葉期に達した
時、化合物No.１乃至50、No.90乃至120、No.190乃至
205を有効成分とする乳剤および比較剤Ａ，Ｂま
たは３，４―ジクロルプロピオン酸アニリド（以
下比較剤Ｇと略記する。）を有効成分とする乳剤
を水で希釈調製し、有効成分濃度が0.5，0.25，
0.125％となる様にして得られた各調製液を１ア
ール当り10の液量となる様に小型動力加圧噴霧
機で散布処理を行つた。その後、温室内で観察を続け、薬剤散布後15日
目に除草効果の調査を行つた。その結果を表５に示す。尚、評価については実施例13と同様に除草効果
係数で表わした。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中、Ｘ，Ｙは水素原子またはハロゲン原子
を示し；Ａは【式】（式中、R¹は水素原子、アルキル基、または、ハロゲン原子で置換さ
れていてもよいフエニル基を示し、R²は水素原
子または低級アルキル基を示し、ｎは１〜３の整
数を示す）、【式】または、―CH₂CH＝ CH―を示し、；Ｂは―OR³（式中、R³は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、炭素数３〜４の
アルキニル基、ハロアルキル基、ハロアルケニル
基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシア
ルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアル
キル基、アルキルチオアルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、フエニル基、または、メチ
ル基で置換されていてもよいγ―ブチロラクトン
基を示す）、―SR⁴（式中、R⁴はアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基またはベンジル基を
示す）、【式】（式中、R⁵は水素原子またはメチル基を示し、R⁶はメチル基ま
たはフエニル基を示し、ｍは１から３の整数を示
す）、または、アルカリ金属、アルカリ土金属、
および、アルキル基で置換されていてもよいアン
モニウム基から選ばれる塩形成残基を示す。〕で表わされるテトラヒドロフタルイミド類。２一般式〔式中、Ｘ，Ｙは水素原子またはハロゲン原子
を示し；Ａは【式】（式中、R¹は水素原子、アルキル基、または、ハロゲン原子で置換さ
れていてもよいフエニル基を示し、R²は水素原
子または低級アルキル基を示し、ｎは１〜３の整
数を示す）、【式】または、―CH²CH＝ CH―を示し、；Ｂは―OR₃（式中、R³は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、炭素数３〜４の
アルキニル基、ハロアルキル基、ハロアルケニル
基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシア
ルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアル
キル基、アルキルチオアルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、フエニル基、または、メチ
ル基で置換されていてもよいγ―ブチロラクトン
基を示す）、―SR⁴（式中、R⁴はアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基またはベンジル基を
示す）、【式】（式中、R⁵は水素原子またはメチル基を示し、R⁶はメチル基ま
たはフエニル基を示し、ｍは１から３の整数を示
す）、または、アルカリ金属、アルカリ土金属、
および、アルキル基で置換されていてもよいアン
モニウム基から選ばれる塩形成残基を示す。〕で表わされるテトラヒドロフタルイミド類を有効
成分とする除草剤。