JPH0240544A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH0240544A JPH0240544A JP63191487A JP19148788A JPH0240544A JP H0240544 A JPH0240544 A JP H0240544A JP 63191487 A JP63191487 A JP 63191487A JP 19148788 A JP19148788 A JP 19148788A JP H0240544 A JPH0240544 A JP H0240544A
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- JP
- Japan
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- crystal
- rays
- spectroscopic
- fluorescent
- sample
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- Pending
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は試料成分の分析等に用いる蛍光Ｘ線分析装置に
関する。
関する。
（ロ）従来の技術
蛍光Ｘ線分析装置は第４図に例示するように、分析しよ
うとする試料をＸ線等で励起し、発生する蛍光Ｘ線を分
光測定して試料を分析する装置である。第４図において
、４０は試料１を励起するＸ線管、４２は分光結晶、４
３はＸ線検出器である。Ｘ線管４０からの励起Ｘ線４４
によって励起された試料１からの蛍光Ｘ線４５は分光結
晶４２の表面（結晶格子面）に角度θで入射する。この
とき、ブラッグ反射の条件 ２ｄ−ｓｉｎθ＝ｎλ を満足する蛍光Ｘ線は蛍光Ｘ線４５と角度２θを成ず方
向に反射（回折）されて検出器４３で検出され、その信
号は増幅器及びデータ処理装置くいずれも図示せず）に
よって処理され測定される。
うとする試料をＸ線等で励起し、発生する蛍光Ｘ線を分
光測定して試料を分析する装置である。第４図において
、４０は試料１を励起するＸ線管、４２は分光結晶、４
３はＸ線検出器である。Ｘ線管４０からの励起Ｘ線４４
によって励起された試料１からの蛍光Ｘ線４５は分光結
晶４２の表面（結晶格子面）に角度θで入射する。この
とき、ブラッグ反射の条件 ２ｄ−ｓｉｎθ＝ｎλ を満足する蛍光Ｘ線は蛍光Ｘ線４５と角度２θを成ず方
向に反射（回折）されて検出器４３で検出され、その信
号は増幅器及びデータ処理装置くいずれも図示せず）に
よって処理され測定される。
（上式でｄは結晶格子間隔、ｎは自然数、＾は蛍光Ｘ線
の波長である。） 従って分光結晶の回転角とＸ線検出器の分光結晶のまわ
りの回転角は、常にθと２θの関係を維持する必要があ
り、そのためには第５図に示すように分光結晶の回転駆
動とＸ線検出器の分光結晶のまわりの回転駆動とを、１
個のモーターと減速比が２倍に異なる歯車機構を用いて
連動させている。第５図において５１．５２．５３．５
５．５６は歯車、５４は歯車５１，５２．５３を連結す
るベルト、５７．５８は夫々分光結晶の回転駆動軸、Ｘ
線検出器の分光結晶のまわりの回転駆動軸であり、歯車
５１．５２は歯車５５．５６とねし歯車の部分で結合し
ており、夫々２ｍ個２ｍ個の歯数となっている。（ｍは
整数） （ハ）解決すべき課題 以上のように分光結晶の回転角とＸ線検出器の回転角は
、常にθと２θの関係を維持する必要があるが、従来こ
の微調整が必要となった時には分光結晶やＸ線検出器の
設置角度１位置を手動で調節していた。この微調整では
Ｘ線を発生させて測定しながら行うため、被爆する可能
性もあった。
の波長である。） 従って分光結晶の回転角とＸ線検出器の分光結晶のまわ
りの回転角は、常にθと２θの関係を維持する必要があ
り、そのためには第５図に示すように分光結晶の回転駆
動とＸ線検出器の分光結晶のまわりの回転駆動とを、１
個のモーターと減速比が２倍に異なる歯車機構を用いて
連動させている。第５図において５１．５２．５３．５
５．５６は歯車、５４は歯車５１，５２．５３を連結す
るベルト、５７．５８は夫々分光結晶の回転駆動軸、Ｘ
線検出器の分光結晶のまわりの回転駆動軸であり、歯車
５１．５２は歯車５５．５６とねし歯車の部分で結合し
ており、夫々２ｍ個２ｍ個の歯数となっている。（ｍは
整数） （ハ）解決すべき課題 以上のように分光結晶の回転角とＸ線検出器の回転角は
、常にθと２θの関係を維持する必要があるが、従来こ
の微調整が必要となった時には分光結晶やＸ線検出器の
設置角度１位置を手動で調節していた。この微調整では
Ｘ線を発生させて測定しながら行うため、被爆する可能
性もあった。
また、低エネルギーの蛍光Ｘ線を測定する場合は分光装
置の内部を真空にしているが、このような場合には分光
結晶、Ｘ線検出器の設置角度１位置の手動によるｍ＝は
困難である。
置の内部を真空にしているが、このような場合には分光
結晶、Ｘ線検出器の設置角度１位置の手動によるｍ＝は
困難である。
上述の微調整が特に必要となる場合としては、第一に、
複数の分光結晶を搭載し切替えて使用する場合がある０
例えばＭｇよりも小さい原子番号の元素用にＴＡＰ（タ
リウム酸フタレイト）、Ａｌ−Ｓｉ用にＰＥＴ、Ｐ〜Ｃ
１用にＧｅ、に〜Ｕ用にＬｉＦの結晶を夫々用いる場合
、これらの結晶は結晶台に接着されており、結晶台はさ
らに結晶交換機に固定されているので、結晶交換機、結
晶台の寸法誤差や接着誤差のために、１個の結晶でθと
２θの関係を合せても他の結晶に切替えた場合にはθと
２θの関係に誤差が生じ微調整が必要となる。またＰＥ
Ｔ等の結晶は熱膨張係数が大きいので、結晶格子間隔が
温度によって変化し、ブラッグ反射の条件を満たす角度
θが変化する。
複数の分光結晶を搭載し切替えて使用する場合がある０
例えばＭｇよりも小さい原子番号の元素用にＴＡＰ（タ
リウム酸フタレイト）、Ａｌ−Ｓｉ用にＰＥＴ、Ｐ〜Ｃ
１用にＧｅ、に〜Ｕ用にＬｉＦの結晶を夫々用いる場合
、これらの結晶は結晶台に接着されており、結晶台はさ
らに結晶交換機に固定されているので、結晶交換機、結
晶台の寸法誤差や接着誤差のために、１個の結晶でθと
２θの関係を合せても他の結晶に切替えた場合にはθと
２θの関係に誤差が生じ微調整が必要となる。またＰＥ
Ｔ等の結晶は熱膨張係数が大きいので、結晶格子間隔が
温度によって変化し、ブラッグ反射の条件を満たす角度
θが変化する。
本発明が解決すべき他の課題は、１個の分光結晶で２種
の検出器を使用できるようにすることである。検出器は
重元素（Ｃｒ−Ｕ）、軽元素（Ｂ〜Ｖ）用に２種使用す
ることがあるが、１種の分光結晶で２種の検出器を使用
する場合でも、従来では２個の分光結晶を用意しなけれ
ばならなかった。
の検出器を使用できるようにすることである。検出器は
重元素（Ｃｒ−Ｕ）、軽元素（Ｂ〜Ｖ）用に２種使用す
ることがあるが、１種の分光結晶で２種の検出器を使用
する場合でも、従来では２個の分光結晶を用意しなけれ
ばならなかった。
（ニ）課題を解決するための手段
以上の課題を解決するため、本発明においては分光結晶
を回転駆動する駆動源と、分光されたＸ線を検出するＸ
ｌｌ検出器を分光結晶のまわりに回転駆動する駆動源を
別々にし、これらの駆動源の駆動量を夫々制御する制御
装置を設け、試料からの蛍光Ｘ線と分光結晶の結晶格子
面とが成す角度、及び、試料からの蛍光Ｘ線と検出する
Ｘ線とが成す角度を、所定の関係になるように制御する
ようにした。
を回転駆動する駆動源と、分光されたＸ線を検出するＸ
ｌｌ検出器を分光結晶のまわりに回転駆動する駆動源を
別々にし、これらの駆動源の駆動量を夫々制御する制御
装置を設け、試料からの蛍光Ｘ線と分光結晶の結晶格子
面とが成す角度、及び、試料からの蛍光Ｘ線と検出する
Ｘ線とが成す角度を、所定の関係になるように制御する
ようにした。
なお本発明には実施態様として、
（３）分光結晶を回転駆動する駆動源の駆動量及びＸ線
検出器を回転駆動する駆動源の駆動量を、分光結晶の結
晶格子間隔の温度による変動に応じて調節することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の蛍光Ｘ線分析装置
。
検出器を回転駆動する駆動源の駆動量を、分光結晶の結
晶格子間隔の温度による変動に応じて調節することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の蛍光Ｘ線分析装置
。
（４）切替えて使用する複数のＸ線検出器を搭載し、Ｘ
線線検出器を回転駆動する駆動源の駆動量を、Ｘ線検出
器の切替えに応じて調節することを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の蛍光Ｘ線分析装置。
線線検出器を回転駆動する駆動源の駆動量を、Ｘ線検出
器の切替えに応じて調節することを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の蛍光Ｘ線分析装置。
が含まれる。
（ホ）作用
分光結晶を回転駆動する駆動源と、分光されたＸ線を検
出するＸ線検出器を分光結晶のまわりに回転駆動する駆
動源は夫々側々に、θと２０の関係を維持するように所
定の計算式に従って制御される。
出するＸ線検出器を分光結晶のまわりに回転駆動する駆
動源は夫々側々に、θと２０の関係を維持するように所
定の計算式に従って制御される。
（へ）実施例
第１図は本発明の第１実施例を示す構成図である。第１
図において、４は試料１を励起するＸ線管、２ａ、２ｂ
、２ｃ、２ｄは蛍光Ｘ線を分光する分光結晶、３は分光
されたＸ線を検出するＸ線検出器で、Ｘ線管４からの励
起Ｘ線４４によって励起された試料１からの蛍光Ｘ線４
５は分光結晶２ａの表面（結晶格子面）に角度θで入射
し、蛍光Ｘ線４５と角度２θを成す方向に反射（回折）
されて検出器３で検出され、その信号は増幅器及びデー
タ処理装置（いずれも図示せず）によって処理、測定さ
れる０分光結晶２ａ、２ｂ、２ｃ。
図において、４は試料１を励起するＸ線管、２ａ、２ｂ
、２ｃ、２ｄは蛍光Ｘ線を分光する分光結晶、３は分光
されたＸ線を検出するＸ線検出器で、Ｘ線管４からの励
起Ｘ線４４によって励起された試料１からの蛍光Ｘ線４
５は分光結晶２ａの表面（結晶格子面）に角度θで入射
し、蛍光Ｘ線４５と角度２θを成す方向に反射（回折）
されて検出器３で検出され、その信号は増幅器及びデー
タ処理装置（いずれも図示せず）によって処理、測定さ
れる０分光結晶２ａ、２ｂ、２ｃ。
２ｄはモーター１０の駆動軸１１の周囲に固定されてお
り、モーター１０と駆動軸Ｊ１は結晶交換機を構成して
いる。
り、モーター１０と駆動軸Ｊ１は結晶交換機を構成して
いる。
分光結晶の回転角とＸ線検出器の分光結晶のまわりの回
転角は、常にθと２θの関係を維持する必要があり、そ
のためには第２図に示すように分光結晶の回転駆動とＸ
線検出器の分光結晶のまわりの回転駆動とを、２個のパ
ルスモータ−（駆動源）２１．２２とこれ等の駆動源の
駆動量を夫々制御する制御装置２５によって行う、パル
スモータ−２１は分光結晶を回転駆動する駆動源、パル
スモータ−２２はＸ線検出器を分光結晶のまわりに回転
駆動する駆動源である。パルスモータ−２１，２２の回
転軸にはネジ歯車２３．２４が取付けられ、これ等は夫
々分光結晶の回転駆動軸２７、Ｘ線検出器の分光結晶の
まわりの回転駆動軸２８に固定された歯車２５．２６と
連動している。
転角は、常にθと２θの関係を維持する必要があり、そ
のためには第２図に示すように分光結晶の回転駆動とＸ
線検出器の分光結晶のまわりの回転駆動とを、２個のパ
ルスモータ−（駆動源）２１．２２とこれ等の駆動源の
駆動量を夫々制御する制御装置２５によって行う、パル
スモータ−２１は分光結晶を回転駆動する駆動源、パル
スモータ−２２はＸ線検出器を分光結晶のまわりに回転
駆動する駆動源である。パルスモータ−２１，２２の回
転軸にはネジ歯車２３．２４が取付けられ、これ等は夫
々分光結晶の回転駆動軸２７、Ｘ線検出器の分光結晶の
まわりの回転駆動軸２８に固定された歯車２５．２６と
連動している。
第１図及び第２図に示す蛍光Ｘ線分析装置においては、
蛍光Ｘ線に対する分光結晶の回転角θ。
蛍光Ｘ線に対する分光結晶の回転角θ。
Ｘ線検出器の分光結晶のまわりの回転角２θは次のよう
に駆動及び調節、制御される。即ち、モーター２１．２
２の回転量Ｍ、Ｍ−に対してθ＝ｂＭ＋Ｃ＋Ｔ ２θ＝２ｂ−Ｍ−＋２Ｃ− ここで、ｂ、ｂ−、ｃ、ｃ−は定数である。Ｔは分光結
晶２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄの夫々に対して定まる分光結
晶の取付は誤差を補正するバイアスであり、分光結晶の
回転駆動量を分光結晶の切替えに応じて調節する。モー
ター２１．２２の回転−１Ｍ、Ｍ−は制御装置２５から
夫々に与えられる駆動パルス数に比例する。従って制御
装置２５は所定のθ、２θの値に対して上式を満足する
Ｍ。
に駆動及び調節、制御される。即ち、モーター２１．２
２の回転量Ｍ、Ｍ−に対してθ＝ｂＭ＋Ｃ＋Ｔ ２θ＝２ｂ−Ｍ−＋２Ｃ− ここで、ｂ、ｂ−、ｃ、ｃ−は定数である。Ｔは分光結
晶２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄの夫々に対して定まる分光結
晶の取付は誤差を補正するバイアスであり、分光結晶の
回転駆動量を分光結晶の切替えに応じて調節する。モー
ター２１．２２の回転−１Ｍ、Ｍ−は制御装置２５から
夫々に与えられる駆動パルス数に比例する。従って制御
装置２５は所定のθ、２θの値に対して上式を満足する
Ｍ。
Ｍ゛を算出し、これ等に対応する数の駆動パルスをモー
ター２１．２２に与える。このようにして、本実施例の
蛍光Ｘ線分析装置においては、分光結晶の切替え時にも
、バイアスＴを各結晶に対応して適切に設定して制御す
ることにより、θ、２θの関係を満足することができる
。
ター２１．２２に与える。このようにして、本実施例の
蛍光Ｘ線分析装置においては、分光結晶の切替え時にも
、バイアスＴを各結晶に対応して適切に設定して制御す
ることにより、θ、２θの関係を満足することができる
。
またＰＥＴ等の結晶は熱膨張係数が大きいので結晶格子
間隔が温度によって変化し、ブラッグ反射の条件を満た
す角度θが変化するが、このような変化による誤差も本
発明によって調節、補正できる。結晶格子間隔ｄが熱膨
張によって（ｄ＋δｄ）になった場合、ブラッグの式は ２（ｄ＋δｄ）−ｓｉｎθ−＝ｎλ となる。
間隔が温度によって変化し、ブラッグ反射の条件を満た
す角度θが変化するが、このような変化による誤差も本
発明によって調節、補正できる。結晶格子間隔ｄが熱膨
張によって（ｄ＋δｄ）になった場合、ブラッグの式は ２（ｄ＋δｄ）−ｓｉｎθ−＝ｎλ となる。
Δθ＝θ −θ
とすると、Δθは角度θに依存する。この関係は第６図
のグラフのようになることが知られており、下に凸の曲
線になる。 （第６図はＰＥＴ及びＬ ｉ Ｆの結晶
に対するもので、−２Δθ／ Ｃと２θの関係を示して
いる。） 従って、θ−７２θ−とＭ、Ｍ″の関係を多項式近似（
簡単のため２次式近似とする）を用いて、θ゛、２θ−
を新たにθ、２θと表わし、定数を新しく設定しなおす
と、 θ＝ａＭ ＋ｂＭ＋Ｃ＋Ｔ ２θ＝２ａＭ” ＋２ｂ２ｂ−＋２Ｃ′と表わせ、制御
装置２５は所定のθ、２θの値に対して上式を満足する
Ｍ、Ｍ−を算出し、これ等に対応する数の駆動パルスを
モーター２］、、２２に与える。このようにして結晶が
熱膨張した場合における誤差も本発明によって調整でき
る。
のグラフのようになることが知られており、下に凸の曲
線になる。 （第６図はＰＥＴ及びＬ ｉ Ｆの結晶
に対するもので、−２Δθ／ Ｃと２θの関係を示して
いる。） 従って、θ−７２θ−とＭ、Ｍ″の関係を多項式近似（
簡単のため２次式近似とする）を用いて、θ゛、２θ−
を新たにθ、２θと表わし、定数を新しく設定しなおす
と、 θ＝ａＭ ＋ｂＭ＋Ｃ＋Ｔ ２θ＝２ａＭ” ＋２ｂ２ｂ−＋２Ｃ′と表わせ、制御
装置２５は所定のθ、２θの値に対して上式を満足する
Ｍ、Ｍ−を算出し、これ等に対応する数の駆動パルスを
モーター２］、、２２に与える。このようにして結晶が
熱膨張した場合における誤差も本発明によって調整でき
る。
本発明の別の実施例を示す第３図は、１個の分光結晶３
２（ＬｉＦ結晶）で複数（この場合２種）の検出器３３
．３４を切替え使用できるようにしたものであり、検出
器３３は重元素（ＣｆＡ−Ｕ）用でシンチレーション検
出器、検出器３４は軽元素（Ｂ〜Ｖ）用で比例計数管で
ある０分光結晶を中心とした検出器３３．３４の間の角
度は３０度に固定されている。この場合、検出器３３を
使用した測定をしているときに ２θ＝２ａＭ−λ＋２ｂ”Ｍ”＋２Ｃ”の式に従って２
θの回転制御をしているとすると、検出器３４を使用し
た測定に切替える場合には検出器回転を３０度戻す必要
があり、２θの回転制御は ２θ＝２ａＭ ＋２ｂ′Ｍ− ＋２Ｃ′＋３０ の式に従うことになる。あるいは分光結晶回転を１５度
戻してもよく、この場合、 θ＝ａＭ”＋ｂＭ＋Ｃ＋１５ となる、このように検出器あるいは分光結晶の回転制御
の式を変更することにより、１個の分光結晶３２ （Ｌ
ｉＦ結晶）で２種の検出器３３．３４を使用できるよう
になる。
２（ＬｉＦ結晶）で複数（この場合２種）の検出器３３
．３４を切替え使用できるようにしたものであり、検出
器３３は重元素（ＣｆＡ−Ｕ）用でシンチレーション検
出器、検出器３４は軽元素（Ｂ〜Ｖ）用で比例計数管で
ある０分光結晶を中心とした検出器３３．３４の間の角
度は３０度に固定されている。この場合、検出器３３を
使用した測定をしているときに ２θ＝２ａＭ−λ＋２ｂ”Ｍ”＋２Ｃ”の式に従って２
θの回転制御をしているとすると、検出器３４を使用し
た測定に切替える場合には検出器回転を３０度戻す必要
があり、２θの回転制御は ２θ＝２ａＭ ＋２ｂ′Ｍ− ＋２Ｃ′＋３０ の式に従うことになる。あるいは分光結晶回転を１５度
戻してもよく、この場合、 θ＝ａＭ”＋ｂＭ＋Ｃ＋１５ となる、このように検出器あるいは分光結晶の回転制御
の式を変更することにより、１個の分光結晶３２ （Ｌ
ｉＦ結晶）で２種の検出器３３．３４を使用できるよう
になる。
（ト）効果
本発明によると、複数の分光結晶を搭載し切替えて使用
する場合や結晶が熱膨張して結晶格子間隔が変化した場
合の分光結晶、Ｘ線検出器の設置角度の調整が簡単に行
なえ、また１個の分光結晶で２種の検出器を使用できる
ようになる等、勝れた機能を有する蛍光Ｘ線分析装置を
提供することが可能となる。
する場合や結晶が熱膨張して結晶格子間隔が変化した場
合の分光結晶、Ｘ線検出器の設置角度の調整が簡単に行
なえ、また１個の分光結晶で２種の検出器を使用できる
ようになる等、勝れた機能を有する蛍光Ｘ線分析装置を
提供することが可能となる。
第１図、第２図は本発明の蛍光Ｘ線分析装置の一実施例
の要部構成を示す図であり、第３図は本発明の蛍光Ｘ線
分析装置の他の実施例の要部構成を示す図である。第４
図、第５図は従来の技術を説明するための図である。第
６図は本発明を説明するための図である。 １・・・・・・試料 ４．４０・・・・・・Ｘ線管２
ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、３２．４２ ・・・・・・分光結晶 ３．３３．３４．４３・・・・・・Ｘ線検出器２１．２
２・・・・・・パルスモータ−（駆動源）２５・・・・
・・制御装置 第１図 第２凹 第 図 −一一髪２０
の要部構成を示す図であり、第３図は本発明の蛍光Ｘ線
分析装置の他の実施例の要部構成を示す図である。第４
図、第５図は従来の技術を説明するための図である。第
６図は本発明を説明するための図である。 １・・・・・・試料 ４．４０・・・・・・Ｘ線管２
ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、３２．４２ ・・・・・・分光結晶 ３．３３．３４．４３・・・・・・Ｘ線検出器２１．２
２・・・・・・パルスモータ−（駆動源）２５・・・・
・・制御装置 第１図 第２凹 第 図 −一一髪２０
Claims (2)
- （１）励起された試料からの蛍光Ｘ線を分光測定して試
料を分析する装置において、蛍光Ｘ線を分光する分光結
晶を回転駆動する駆動源と、分光されたＸ線を検出する
Ｘ線検出器を分光結晶のまわりに回転駆動する駆動源と
、これらの駆動源の駆動量を夫々制御する制御装置とを
備え、試料からの蛍光Ｘ線と分光結晶の結晶格子面とが
成す角度、及び、試料からの蛍光Ｘ線と検出するＸ線と
が成す角度を、所定の関係になるように制御することを
特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。 - （２）励起された試料からの蛍光Ｘ線を分光測定して試
料を分析する装置において、結晶交換機により切替えて
使用する複数の分光結晶を搭載し、蛍光Ｘ線を分光する
分光結晶を回転駆動する駆動源と、分光されたＸ線を検
出するＸ線検出器を分光結晶のまわりに回転駆動する駆
動源と、これらの駆動源の駆動量を夫々制御する制御装
置とを備え、分光結晶を回転駆動する駆動源の駆動量を
分光結晶の切替えに応じて調節し、試料からの蛍光Ｘ線
と分光結晶の結晶格子面とが成す角度、及び、試料から
の蛍光Ｘ線と検出するＸ線とが成す角度を、所定の関係
になるように制御することを特徴とする蛍光Ｘ線分析装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63191487A JPH0240544A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63191487A JPH0240544A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240544A true JPH0240544A (ja) | 1990-02-09 |
Family
ID=16275462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63191487A Pending JPH0240544A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0240544A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007017350A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS475117U (ja) * | 1971-02-03 | 1972-09-14 | ||
| JPS63167250A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-11 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP63191487A patent/JPH0240544A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS475117U (ja) * | 1971-02-03 | 1972-09-14 | ||
| JPS63167250A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-11 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
Cited By (1)
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| JP2007017350A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
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