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JPH023191A - Non-volatile memory circuit device - Google Patents

Non-volatile memory circuit device

Info

Publication number
JPH023191A
JPH023191A JP1049401A JP4940189A JPH023191A JP H023191 A JPH023191 A JP H023191A JP 1049401 A JP1049401 A JP 1049401A JP 4940189 A JP4940189 A JP 4940189A JP H023191 A JPH023191 A JP H023191A
Authority
JP
Japan
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potential
node
transistor
sense amplifier
memory cell
Prior art date
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Application number
JP1049401A
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Japanese (ja)
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JPH07105152B2 (en
Inventor
Makoto Ito
真 伊東
Nobutaka Kitagawa
信孝 北川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP4940189A priority Critical patent/JPH07105152B2/en
Publication of JPH023191A publication Critical patent/JPH023191A/en
Publication of JPH07105152B2 publication Critical patent/JPH07105152B2/en
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Abstract

PURPOSE:To decrease a consumption current and to improve the power source margin of a sense amplifier by impressing a potential, which is lower than a power source potential, to the gate of a transistor for column selection and precharging a node, for which the sense amplifier is connected, to the power source potential. CONSTITUTION:An intermediate potential generating circuit 8 generates a constant potential VDD which is lower than a power source voltage VCC and higher than a ground potential VSS and supplies it to a column decoder 9. The decoder 9 selectively supplies the potential VDD to the gate of a transistor 2 for column selection based on a column address. A sense amplifier 10 to be composed of NOR gate circuits 11 and 12 is connected to a node A. When a reading signal is 'H', a transistor 1 for precharge is turned on and the node A is precharged up to the potential VCC. Thus, since the circuit 8 only drives the gate of the transistor 2, the consumption current is decreased and the power source margin of the sense amplifier 10 is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明はメモリセルとして不揮発性トランジスタを使
用した不揮発性メモリ回路装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a nonvolatile memory circuit device using nonvolatile transistors as memory cells.

(従来の技術) 最近の不揮発性メモリ回路装置では、データの読み出し
時にメモリセルのドレインに電源電圧をそのまま供給す
るとメモリセルが破壊されたり、誤書込みが発生する恐
れがある。このため、この種のメモリ回路ではデータの
読み出し時にメモリセルのドレイン電圧を低く抑えるこ
とが必要−であり、かつその場合にも読み出し時の信頼
性は確保する必要がある。
(Prior Art) In recent nonvolatile memory circuit devices, if a power supply voltage is directly supplied to the drain of a memory cell when reading data, the memory cell may be destroyed or erroneous writing may occur. Therefore, in this type of memory circuit, it is necessary to keep the drain voltage of the memory cell low when reading data, and even in this case, it is necessary to ensure reliability during reading.

第8図は従来の不揮発性メモリ回路装置の構成を示す回
路図である。なお、説明を明確化するために書き込み回
路等は省略している。正極性の電源電位VCCとノード
Aとの間には電位VCCよりも低い電位を出力する中間
電位出力回路30が設けられている。また、上記ノード
Aには複数の列選択用トランジスタ31の一端が共通に
接続されており、これらトランジスタ31それぞれの他
端にはビット線32が接続されている。これらビット線
32と交差するように複数のワード線33が設けられて
おり、各ビット線とワード線とが交差する位置には不揮
発性トランジスタからなるメモリセル34が配置されて
いる。そして、各メモリセルのドレインは対応するビッ
ト線32に、ゲートは対応するワード線33にそれぞれ
接続され、すべてのメモリセルのソースはアース電位V
SSに接続されている。
FIG. 8 is a circuit diagram showing the configuration of a conventional nonvolatile memory circuit device. Note that the writing circuit and the like are omitted for clarity of explanation. An intermediate potential output circuit 30 that outputs a potential lower than the potential VCC is provided between the positive power supply potential VCC and the node A. Further, one end of a plurality of column selection transistors 31 is commonly connected to the node A, and a bit line 32 is connected to the other end of each of these transistors 31. A plurality of word lines 33 are provided to intersect with these bit lines 32, and memory cells 34 made of nonvolatile transistors are arranged at positions where each bit line and word line intersect. The drain of each memory cell is connected to the corresponding bit line 32, the gate is connected to the corresponding word line 33, and the source of all memory cells is connected to the ground potential V.
Connected to SS.

また、上記ノードAにはアナログ回路によって構成され
た電圧コンパレータからなるセンスアンプ35が接続さ
れている。このセンスアンプ35には上記中間電位出力
回路30の出力電位よりもわずかに低い電位が基準電位
V rel’として供給されており、センスアンプ35
は上記ノードAの電位をこの基準電位V rerと比較
することによってデータDoutを出力する。
Further, a sense amplifier 35 consisting of a voltage comparator configured by an analog circuit is connected to the node A. A potential slightly lower than the output potential of the intermediate potential output circuit 30 is supplied to the sense amplifier 35 as a reference potential V rel'.
outputs data Dout by comparing the potential of the node A with this reference potential V rer.

このような構成でなるメモリ回路では、中間電位出力回
路30によりノードAの電位が常に電源電位V。Cより
も低い電位にされる。このため、データの読み出し時に
選択されたメモリセルのドレインにはこの低い電位が印
加され、上記したようなメモリセルの破壊や誤書込みの
発生が防止される。
In the memory circuit having such a configuration, the potential of the node A is always set to the power supply potential V by the intermediate potential output circuit 30. It is set to a lower potential than C. Therefore, this low potential is applied to the drain of the selected memory cell when reading data, and the destruction of the memory cell and the occurrence of erroneous writing as described above are prevented.

しかし、中間電位出力回路30を設けたことによってノ
ードAの電位振幅が制限され、センスアンプ35として
アナログ回路による複雑な構成の電圧コンパレータ型の
ものを使用する必要がある。このようなセンスアンプは
電源マージンが低く、低電圧で駆動させることが困難で
あり、かつ消費電流が多いという問題がある。
However, the provision of the intermediate potential output circuit 30 limits the potential amplitude of the node A, and it is necessary to use a voltage comparator type sense amplifier with a complicated configuration using an analog circuit as the sense amplifier 35. Such a sense amplifier has problems in that it has a low power supply margin, is difficult to drive at a low voltage, and consumes a large amount of current.

また、データの読み出し時に選択されたメモリセル34
がオンする場合に、電源電位VCCとアース電位VSS
との間に直流貫通電流が流れるので消費電流はさらに多
くなる。さらに、中間電位出力回路30では大きな電流
容量が必要となり、その回路構成が複雑になるという問
題もある。
Also, the memory cell 34 selected at the time of reading data
turns on, power supply potential VCC and ground potential VSS
Since a DC through current flows between the two, the current consumption further increases. Furthermore, there is a problem that the intermediate potential output circuit 30 requires a large current capacity, making its circuit configuration complicated.

(発明が解決しようとする課題) このように従来の不揮発性メモリ回路装置では、メモリ
セルの破壊防止、誤書込み防止のためにセンスアンプで
検出すべき電位そのものを低くしているため、低電圧で
駆動できない、消費電流が多い、等の欠点がある。
(Problem to be Solved by the Invention) In this way, in conventional nonvolatile memory circuit devices, the potential to be detected by the sense amplifier itself is lowered to prevent memory cell destruction and erroneous writing, so low voltage It has drawbacks such as not being able to be driven with high power and high current consumption.

この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、読み出し時の信頼性を低下させるこ
となく、低電圧で駆動できかつ消費電流が少ない不揮発
性メモリ回路装置を提供することにある。
This invention was made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a nonvolatile memory circuit device that can be driven at low voltage and consumes low current without reducing reliability during reading. It's about doing.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明の不揮発性メモリ回路装置は、不揮発性トラン
ジスタからなる複数のメモリセルが設けられたメモリセ
ルアレイと、上;己メモリセルのドレインが接続された
複数の列線と、各一端が上記複数の各列線とそれぞれ接
続され、他端が第1のノードに共通接続された複数の列
選択用トランジスタと、第1の電位と上記第1のノード
との間に挿入された第1極性のプリチャージ用トランジ
スタと、上二己メモリセルのソースと第2の電位との間
に挿入された第2極性のディスチャージ用トランジスタ
と、アドレス入力に応じて上紀曳数の列選択用トランジ
スタのゲートに上記第1の電位よりも低い電位を選択的
に供給する電位供給手段と、上記第1のノードに接続さ
れたセンスアンプとから構成される。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) A nonvolatile memory circuit device of the present invention includes a memory cell array provided with a plurality of memory cells made of nonvolatile transistors, and a drain of the memory cell connected to the memory cell array. a plurality of column selection transistors each having one end connected to each of the plurality of column lines and the other end commonly connected to a first node; a first polarity precharge transistor inserted between the node of the first polarity, a second polarity discharge transistor inserted between the source of the memory cell and the second potential, and an address input and a sense amplifier connected to the first node; and a sense amplifier connected to the first node. .

(作用) この発明による不揮発性メモリ回路装置では、列選択用
トランジスタのゲートに電源電位よりも低い電位を印加
することによってメモリセルのドレイン電位を低く抑え
るようにしている。列選択用トランジスタにゲート電位
を供給する電位供給回路は、列選択用トランジスタのゲ
ート容量を充電すればよく、この電位供給回路の電流容
量を少な(でき、構成が簡単になる。
(Function) In the nonvolatile memory circuit device according to the present invention, the drain potential of the memory cell is kept low by applying a potential lower than the power supply potential to the gate of the column selection transistor. The potential supply circuit that supplies the gate potential to the column selection transistor only needs to charge the gate capacitance of the column selection transistor, and the current capacity of this potential supply circuit can be reduced (and the configuration can be simplified).

さらにこの発明ではセンスアンプが接続された第1のノ
ードをプリチャージ用トランジスタで電源電位にプリチ
ャージし、メモリセルの選択時には各メモリセルのソー
スをディスチャージ用トランジスタでディスチャージす
るようにしているので、直流貫通電流は発生せず、消費
電流の低減化を図ることができる。しかも、センスアン
プが接続された第1のノードは電源電位である第1の電
位までプリチャージされるので、第1のノードの電位振
幅が十分に大きくなり、この第1の)1−ドに接続され
るセンスアンプを論理ゲート回路を用いて構成すること
ができる。このため、センスアンプにおける電源マージ
ンの向上並びに消費電流の低減化を図ることができる。
Furthermore, in this invention, the first node connected to the sense amplifier is precharged to the power supply potential by a precharge transistor, and when a memory cell is selected, the source of each memory cell is discharged by a discharge transistor. No DC through current is generated, and current consumption can be reduced. Moreover, since the first node to which the sense amplifier is connected is precharged to the first potential, which is the power supply potential, the potential amplitude of the first node becomes sufficiently large, and this first The connected sense amplifier can be configured using a logic gate circuit. Therefore, it is possible to improve the power supply margin and reduce current consumption in the sense amplifier.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例により説明する
(Examples) Hereinafter, the present invention will be explained by examples with reference to the drawings.

第1図はこの発明に係る不揮発性メモリ回路装置の構成
を示す回路図である。なお、この場合にも説明を明確化
するために書き込み回路等は省略している。正極性の電
源電位VCCとデータ検出ノードであるノードAとの間
にはPチャネルMO3)ランジスタからなるプリチャー
ジ用トランジスタ1が挿入されている。このトランジス
タ1のゲートにはプリチャージ信号P「がO(給される
。上二己ノードA1こはNチャネルMOSトランジスタ
からなる複数の列選択用トランジスタ2の一端が共通に
接続されている。これら各列選択用トランジスタ2それ
ぞれの他端にはビット線3が接続されている。これらビ
ット線3と交差するように複数のワード線4が設けられ
ている。これら複数のワード線4は行アドレスが供給さ
れる行デコーダ5の出力で選択的に駆動される。上記各
ビット線3と各ワード線4とが交差する位置にはそれぞ
れ浮遊ゲート構造を持つ不揮発性トランジスタからなる
メモリセル6が配置されている。そして、各メモリセル
のドレインは対応するビット1913に、ゲートは対応
するワード線4にそれぞれ接続されている。上工己すべ
てのメモリセル6のソースはNチャネルMO5)ランジ
スタからなるディスチャージ用トランジスタ7のドレイ
ンに接続されている。このディスチャージ用トランジス
タ7のソースはアース電位VSSに接続されている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a nonvolatile memory circuit device according to the present invention. Note that in this case as well, the writing circuit and the like are omitted for clarity of explanation. A precharging transistor 1 consisting of a P-channel MO3) transistor is inserted between the positive power supply potential VCC and the node A, which is a data detection node. A precharge signal P is supplied to the gate of this transistor 1. An upper node A1 is commonly connected to one end of a plurality of column selection transistors 2 made up of N-channel MOS transistors. A bit line 3 is connected to the other end of each column selection transistor 2. A plurality of word lines 4 are provided to intersect with these bit lines 3. These word lines 4 are connected to the row address is selectively driven by the output of the row decoder 5 to which the bit lines 3 and word lines 4 intersect.Memory cells 6 each made of a nonvolatile transistor having a floating gate structure are arranged at the intersections of each bit line 3 and each word line 4. The drain of each memory cell is connected to the corresponding bit 1913, and the gate is connected to the corresponding word line 4.The sources of all memory cells 6 are N-channel transistors (MO5). It is connected to the drain of the discharge transistor 7. The source of the discharge transistor 7 is connected to the ground potential VSS.

8は電M電位VCCよりも低くアース電位VSSよりも
高い一定電位VOOを発生する中間Tl1i位発生回路
である。ここで発生された電位vDDは、列アドレスが
供給される列デコーダ9に供給される。この列デコーダ
9は列アドレスに基づいて上記電位vDDを上記列選択
用トランジスタ2のゲートに選択的に出力する。
Reference numeral 8 denotes an intermediate Tl1i generation circuit which generates a constant potential VOO lower than the electric potential VCC and higher than the ground potential VSS. The potential vDD generated here is supplied to a column decoder 9 to which a column address is supplied. The column decoder 9 selectively outputs the potential vDD to the gate of the column selection transistor 2 based on the column address.

上記ノードAにはセンスアンプIOが接続されている。A sense amplifier IO is connected to the node A.

このセンスアンプ10は2個のCMOS型のNORゲー
ト回路11.12の入出力間を交差接続してなるフリッ
プフロップで構成されており、一方のNORゲート回路
11には上記ノードAの電位が、他方のNORゲート回
路12には比較電位発生回路13から出力される比較電
位V refがそれぞれ供給される。
This sense amplifier 10 is composed of a flip-flop formed by cross-connecting the input and output of two CMOS type NOR gate circuits 11 and 12, and one of the NOR gate circuits 11 has the potential of the node A. The comparison potential V ref output from the comparison potential generation circuit 13 is supplied to the other NOR gate circuit 12 .

上記比較電位発生回路13は、上記列選択用トランジス
タ2と等価なトランジスタで構成され、メモリセル選択
時に上記一定電位VDDと等しい値の電位がゲートに供
給されるトランジスタ14、上記プリチャージ用トラン
ジスタ1と等価なトランジスタで構成され、ゲートに上
記プリチャージ信号Prが供給されるトランジスタ15
、上記メモリセル6と同様の不揮発性トランジスタから
なりソース、ドレイン間電流がメモリセル6の約半分と
なるように設定されたダミーセル16及びこのダミーセ
ル16とアース電位VSSとの間に挿入され、上記ディ
スチャージ用トランジスタ1と等価なトランジスタで構
成され、ゲートに上記プリチャージ信号Prが供給され
るトランジスタ17とから構成されている。
The comparison potential generation circuit 13 is composed of a transistor equivalent to the column selection transistor 2, and includes a transistor 14 whose gate is supplied with a potential equal to the constant potential VDD when selecting a memory cell, and the precharge transistor 1. A transistor 15 which is configured of a transistor equivalent to , and whose gate is supplied with the precharge signal Pr.
, a dummy cell 16 made of a non-volatile transistor similar to the memory cell 6 and set so that the source-drain current is approximately half that of the memory cell 6; It is composed of a transistor equivalent to the discharge transistor 1, and is composed of a transistor 17 whose gate is supplied with the precharge signal Pr.

次に、このような構成でなるメモリ回路におけるデータ
読み出し動作について、第3図のタイミングチャートを
参照して説明する。まず、読み出し制御信号Rdが′H
”レベルの状態において、プリチャージ信号Prが“L
″レベルなり、プリチャージ用トランジスタ1がオン状
態になる。
Next, a data read operation in the memory circuit having such a configuration will be explained with reference to the timing chart of FIG. 3. First, the read control signal Rd is
” level, the precharge signal Pr is “L” level.
'' level, and the precharge transistor 1 is turned on.

これによりノードAは電源電位VCCまでプリチャージ
される(プリチャージ期間Tp)。このとき、ディスチ
ャージ用トランジスタ7はオフ状態になり、電源電位V
CCとアース電位VSSとの間には直流貫通電流は流れ
ない。一方、比較電位発生回路13内でもトランジスタ
15がオン状態、トランジスタ17がオフ状態になり、
センスアンプ10に接続されたノードBは電源電位VC
Cまでプリチャージされる。この場合、ノードA、Bが
共にVCCレベル、すなわち″′H″レベルになるため
、センスアンプ10の出力データDoutは“L”レベ
ルになる。
As a result, node A is precharged to power supply potential VCC (precharge period Tp). At this time, the discharge transistor 7 is turned off, and the power supply potential V
No DC through current flows between CC and ground potential VSS. On the other hand, within the comparison potential generation circuit 13, the transistor 15 is turned on and the transistor 17 is turned off.
Node B connected to sense amplifier 10 is at power supply potential VC
Precharged to C. In this case, since nodes A and B are both at the VCC level, that is, the ``H'' level, the output data Dout of the sense amplifier 10 is at the ``L'' level.

次に、列及び行アドレスADDが列デコーダ9及び行デ
コーダ5に供給され、プリチャージ信号P「がL”レベ
ルから″H2レベルに変化する。
Next, the column and row addresses ADD are supplied to the column decoder 9 and the row decoder 5, and the precharge signal P changes from the L level to the H2 level.

プリチャージ信号Prが“H°レベルに変化することに
よってトランジスタ7がオン状態になり、データが読出
される期間になる(ディスチャージ期間Td)。まず、
トランジスタ7がオンすることによって各メモリセル6
のソースがアース電位に設定される。また、列アドレス
に応じていずれか1個の列選択用トランジスタ2が列デ
コーダ9で選択され、選択されたトランジスタ2のゲー
トに中間電位発生回路8からの一定電位vDDが印加さ
れる。これにより、列選択用トランジスタ2がオンする
が、そのゲート電位は電源電位VCCよりも低い値であ
るため、この列選択用トランジスタ2に接続されたビッ
ト線3′には電源電位VCCよりも低い電位が出力され
る。一方、行アドレスに応じていずれか1本のワード線
4が行デコーダ5により選択される。これにより、選択
されたワード線4に接続されているメモリセル6のゲー
トに“H#レベルの駆動信号が印加される。
When the precharge signal Pr changes to the "H° level, the transistor 7 is turned on, and a period in which data is read begins (discharge period Td). First,
Each memory cell 6 is turned on by turning on the transistor 7.
The source of is set to ground potential. Further, one of the column selection transistors 2 is selected by the column decoder 9 according to the column address, and a constant potential vDD from the intermediate potential generation circuit 8 is applied to the gate of the selected transistor 2. This turns on the column selection transistor 2, but since its gate potential is lower than the power supply potential VCC, the bit line 3' connected to the column selection transistor 2 has a voltage lower than the power supply potential VCC. A potential is output. On the other hand, one of the word lines 4 is selected by the row decoder 5 according to the row address. As a result, a drive signal of "H# level" is applied to the gate of the memory cell 6 connected to the selected word line 4.

これにより、電源電位VCCよりも低い電位が出力され
ているビット線と、選択ワード線との交差位置に配置さ
れたメモリセルが選択される。いま、この選択メモリセ
ルの閾値電圧が低い状態でプログラムされているならば
、このメモリセルはオン状態となり、ビット線3及びノ
ードAはアース電位VSSにディスチャージされる。選
択メモリセルの閾値電圧が高い状態でプログラムされて
いるならば、このメモリセルはオフ状態となり、ビット
線3及びノードAはディスチャージされない。
As a result, the memory cell arranged at the intersection of the selected word line and the bit line to which a potential lower than the power supply potential VCC is output is selected. If the threshold voltage of this selected memory cell is programmed to be low, this memory cell is turned on and the bit line 3 and node A are discharged to the ground potential VSS. If the threshold voltage of the selected memory cell is programmed to be high, this memory cell will be in an off state and bit line 3 and node A will not be discharged.

一方、比較電位発生回路13内では、プリチャージ信号
Prが“H”レベルに変化することによってトランジス
タI7がオン状態になり、かつ列選択用トランジスタ2
のいずれか1つが選択されるときに、同時にトランジス
タ14のゲートに中間電位vDDが供給される。これに
よりノードBの電位はVCCからディスチャージされる
。ここで、いま、上記選択されたメモリセル6の閾値電
圧が低く、ノードAの電位がディスチャージされる場合
、比較電位発生回路13のダミーセル16のソース、ド
レイン間電流がメモリセル6の約半分となるように設定
されているため、ノードAの電位の方がノ−ドBの電位
よりも速<Vssに近づき、センスアンプ10の出力デ
ータD outは′L”レベルから“H”レベルに反転
する。選択されたメモリセル6の閾値電圧が高い場合、
ノードAの電位はディスチャージされず、ノードBの電
位がディスチャージされるため、センスアンプ10の出
力データD outは元の“L”レベルのまま変化しな
い。このようにして選択メモリセルからデータ読み出し
が行われる。
On the other hand, in the comparison potential generation circuit 13, when the precharge signal Pr changes to "H" level, the transistor I7 is turned on, and the column selection transistor 2
When any one of them is selected, the intermediate potential vDD is simultaneously supplied to the gate of the transistor 14. As a result, the potential of node B is discharged from VCC. Here, if the threshold voltage of the selected memory cell 6 is low and the potential of the node A is discharged, the current between the source and drain of the dummy cell 16 of the comparison potential generation circuit 13 is about half that of the memory cell 6. Therefore, the potential of node A approaches Vss faster than the potential of node B, and the output data D out of the sense amplifier 10 is inverted from 'L' level to 'H' level. If the threshold voltage of the selected memory cell 6 is high,
Since the potential of the node A is not discharged and the potential of the node B is discharged, the output data D out of the sense amplifier 10 remains unchanged at the original "L" level. In this way, data is read from the selected memory cell.

ここで、各ビット線3には電源電位VCCよりも低い電
位が印加されるため、従来と同様にメモリセルの破壊や
誤書込みを防止することができる。
Here, since a potential lower than the power supply potential VCC is applied to each bit line 3, destruction of memory cells and erroneous writing can be prevented as in the prior art.

また、データの読み出し期間にはトランジスタ1により
第1のノードAを電源電位にプリチャージし、その後、
トランジスタ7により各メモリセル6のソースをアース
電位にディスチャージするようにしており、電源電位と
アース電位との間には直流貫通電流が発生しない。この
ため、消費電流を削減することができる。
In addition, during the data read period, the first node A is precharged to the power supply potential by transistor 1, and then,
The source of each memory cell 6 is discharged to the ground potential by the transistor 7, and no DC through current is generated between the power supply potential and the ground potential. Therefore, current consumption can be reduced.

さらに、電源電位よりも低い電位を発生する中間電位発
生回路8では、列選択用トランジスタ2のゲートを駆動
するだけでよいので、電流容量が少なくてよく、消費電
流の低減と構成の簡単化を図ることができる。
Furthermore, since the intermediate potential generation circuit 8 that generates a potential lower than the power supply potential only needs to drive the gate of the column selection transistor 2, the current capacity is small, reducing current consumption and simplifying the configuration. can be achieved.

しかも、ノードAの電位は電源電位V。Cとアース電位
VSSとの間で変化するため、センスアンプ10として
図示のようなNORゲート回路11.12からなる論理
ゲート回路を用いた簡単な構成のものを使用することが
でき、消費電流も少なくできる。しかも、このNORゲ
ート回路11.12としてCMOS構成のものを使用す
れば、消費電流はより少なくなる。このようにフリップ
フロップ方式で構成される論理回路は、広い電圧範囲に
おいて安定した回路動作が得られ、低消費電力及び低電
圧駆動等の利点がある。
Moreover, the potential of node A is the power supply potential V. Since the sense amplifier 10 changes between C and the ground potential VSS, a simple configuration using a logic gate circuit consisting of NOR gate circuits 11 and 12 as shown in the figure can be used, and the current consumption is also reduced. You can do less. Furthermore, if a CMOS configuration is used as the NOR gate circuits 11 and 12, the current consumption will be further reduced. Logic circuits constructed using the flip-flop method have advantages such as stable circuit operation over a wide voltage range, low power consumption, and low voltage driving.

第2図はこの発明の不揮発性メモリ回路装置の他の実施
例の構成を示す回路図である。この実施例回路では、複
数の列選択用トランジスタ2の共通接続端であるノード
Aと一端が第1の電位に接続されたプリチャージ用トラ
ンジスタ1の他端との間に、ゲートに中間電位vDDが
供給されるレベルダウン用トランジスタ18を挿入して
、列選択用トランジスタ2を介して選択的にビット線3
を第1の電位である電源電位VCCよりも低い電位を供
給するように構成したものである。これに伴い、比較電
位発生回路13には、前記ダミーセル16とトランジス
タ14との間に、ゲートに電源電位Vccが供給され、
上記列選択用トランジスタ2と等価になるようなトラン
ジスタ19が挿入される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the nonvolatile memory circuit device of the present invention. In this embodiment circuit, an intermediate potential VDD is connected to the gate between a node A, which is a common connection end of a plurality of column selection transistors 2, and the other end of the precharge transistor 1, one end of which is connected to the first potential. A level-down transistor 18 to which the bit line 3 is supplied is inserted, and the bit line 3 is selectively
is configured to supply a potential lower than the power supply potential VCC, which is the first potential. Accordingly, the power supply potential Vcc is supplied to the gate of the comparison potential generation circuit 13 between the dummy cell 16 and the transistor 14, and
A transistor 19 equivalent to the column selection transistor 2 is inserted.

そして、センスアンプ10内のNORゲート回路11に
は上記プリチャージ用トランジスタ1とレベルダウン用
トランジスタ18との接続ノードCの電位が供給される
ように構成されている。
The NOR gate circuit 11 in the sense amplifier 10 is configured to be supplied with the potential of the connection node C between the precharge transistor 1 and the level down transistor 18.

上記第2図の実施例装置におけるデータ読み出し動作は
前記第3図のタイミングチャートと同様である。また、
この第2図の実施例装置よれば、さらに集積度の面で優
れている。1なわち、第1図の実施例装置では中間電位
VDDを列デコーダ9に供給するようにしている。この
ため、列デコーダ9内において、列選択用トランジスタ
2の各ゲートに第1の電位である電源電位VCCよりも
低い電位を供給すべく、CMO3回路等からなるバッフ
ァ(図示せず)を各々設置する必要があり、パターン面
積が増大する傾向にある。上記第2図の実施例では複数
子の列選択用トランジスタに対して1個のレベルダウン
用トランジスタ18を設ければよいため、上記のように
多くのバッファを設けるときに比べてパターン面積の増
大はわずかである。
The data read operation in the embodiment shown in FIG. 2 is similar to the timing chart shown in FIG. 3 above. Also,
The device according to the embodiment shown in FIG. 2 is further superior in terms of the degree of integration. 1, that is, in the embodiment shown in FIG. 1, the intermediate potential VDD is supplied to the column decoder 9. Therefore, in the column decoder 9, a buffer (not shown) consisting of a CMO3 circuit or the like is installed in order to supply a potential lower than the first potential, power supply potential VCC, to each gate of the column selection transistor 2. Therefore, the pattern area tends to increase. In the embodiment shown in FIG. 2 above, it is sufficient to provide one level-down transistor 18 for a plurality of column selection transistors, so the pattern area is increased compared to when many buffers are provided as described above. is small.

また、列デコーダの持つ容量及び抵抗は大容量になるに
つれ増大するため、上記バッファ等の遅延要素となる回
路が少しでも減少する分、動作上の信゛頼性も向上する
という利点がある。
Furthermore, since the capacitance and resistance of the column decoder increase as the capacity increases, there is an advantage that operational reliability is improved by reducing the number of delay elements such as buffers.

第4図及び第5図及び第6図はそれぞれ上記各実施例回
路で使用される中間電位発生回路8の具体的な構成を示
す回路図である。
FIG. 4, FIG. 5, and FIG. 6 are circuit diagrams showing specific configurations of the intermediate potential generation circuit 8 used in each of the above embodiment circuits.

第4図回路では電源電位Vccとアース電位VSSとの
間にPチャネルMOSトランジスタからなるスイッチ用
トランジスタ20と2個の抵抗21゜22とを直列接続
し、スイッチ用トランジスタ20ヲデータ読み出し時に
“L″レベルされる信号、例えば読み出し制御信号Rd
の逆相信号Rdで導通制御するようにしたものである。
In the circuit shown in FIG. 4, a switching transistor 20 consisting of a P-channel MOS transistor and two resistors 21 and 22 are connected in series between the power supply potential Vcc and the earth potential VSS, and the switching transistor 20 is set to "L" when data is read. Signal to be leveled, e.g. read control signal Rd
The conduction is controlled by the reverse phase signal Rd.

この回路では、データ統御み出し期間以外にはトランジ
スタ20がオフ状態となり、電流は消費されない。他方
、データ読み出し期間にはトランジスタ20がオンし、
2個の抵抗21.22により抵抗分割されたVCCより
も低い電位VDDが出力される。
In this circuit, the transistor 20 is turned off except during the data control period, and no current is consumed. On the other hand, during the data read period, the transistor 20 is turned on,
A potential VDD lower than VCC, which is resistance-divided by two resistors 21 and 22, is output.

第5図回路では電源電位VCCとアース電位VSSとの
間にPチャネルMOSトランジスタからなるスイッチ用
トランジスタ23と複数個のPチャネルMO3)ランジ
スタ24を直列接続し、スイッチ用トランジスタ23を
上記信号Rdで導通制御するようにしたものである。こ
の回路でも、データ読み出し期間以外にはトランジスタ
23がオフ状態となり、電流は消費されない。また、デ
ータ読み出し期間にはトランジスタ23がオンし、スイ
ッチ用トランジスタ23及び複数個のトランジスタ24
で抵抗分割されたVCCよりも低い電位VOOが出力さ
れる。
In the circuit of FIG. 5, a switching transistor 23 consisting of a P-channel MOS transistor and a plurality of P-channel MO3) transistors 24 are connected in series between the power supply potential VCC and the earth potential VSS, and the switching transistor 23 is connected in series with the above signal Rd. It is designed to control conduction. In this circuit as well, the transistor 23 is turned off during periods other than the data read period, and no current is consumed. Further, during the data read period, the transistor 23 is turned on, and the switching transistor 23 and the plurality of transistors 24
A potential VOO lower than VCC, which is resistance-divided by , is output.

第6図回路では、電g電位vccとアース電位VSSと
の間にPチャネルMO5)ランジスタからなるスイッチ
用トランジスタ25とデプレッション型のNチャネルM
OSトランジスタ26及びインドリニジツク型(閾値が
ほぼOV)のNチャネルMO3)ランジスタ27が直列
接続され、出力ノードDとして上記トランジスタ26.
27の互いのゲート及び一端を共通接続して構成されて
おり、上記スイッチ用トランジスタ25を上記信号Rd
で導通制御するようにしたものである。この回路でも、
データ読み出しJtA間以外にはトランジスタ25がオ
フ状態となり、電流は消費されない。また、データ読み
出し期間には、トランジスタ25がオンし、スイッチ用
トランジスタ25のドレイン電圧が上記トランジスタ2
6.27のオン抵抗で分割されたVCCよりも低い電圧
vDDがノードDに出力される。この構成によれば、上
記トランジスタ26゜27の各ゲートとノードDは短絡
されているので、電源電位VCCがある程度変動しても
常に一定の中間電位が出力される。
In the circuit of FIG. 6, a switching transistor 25 consisting of a P-channel MO transistor 5) and a depletion type N-channel M
An OS transistor 26 and an indolinic type (threshold approximately OV) N-channel MO3) transistor 27 are connected in series, and the output node D is connected to the transistor 26.
The switch transistor 25 is connected to the signal Rd.
The conduction is controlled by . Even in this circuit,
The transistor 25 is in an off state except during data read JtA, and no current is consumed. Further, during the data read period, the transistor 25 is turned on, and the drain voltage of the switching transistor 25 is changed to the transistor 2.
A voltage vDD lower than VCC divided by an on-resistance of 6.27 is output to node D. According to this configuration, since each gate of the transistors 26 and 27 and the node D are short-circuited, a constant intermediate potential is always output even if the power supply potential VCC fluctuates to some extent.

なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
種々の変形が可能であることはいうまでもない。例えば
、各メモリセルのソースをディスチャージ用トランジス
タ7に共通接続し、このディスチャージ用トランジスタ
7をすべてのメモリセルで共用してもよいし、または、
第7図の回路図に示すように各メモリセル6毎に独立し
たディスチャージ用トランジスタ7を設けるようにして
もよい。さらに、中間電位発生回路8やセンスアンプ1
0等も図示の構成に限定されるものではなく、種々の回
路構成のものを使用することができる。
It goes without saying that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and that various modifications can be made. For example, the sources of each memory cell may be commonly connected to a discharge transistor 7, and this discharge transistor 7 may be shared by all memory cells, or
As shown in the circuit diagram of FIG. 7, an independent discharge transistor 7 may be provided for each memory cell 6. Furthermore, the intermediate potential generation circuit 8 and the sense amplifier 1
0 etc. are not limited to the illustrated configuration, and various circuit configurations can be used.

〔発明の効果コ 以上詳述したようにこの発明によれば、読み出し時の信
頼性を低下させることなく回路の簡素化を実現し、低消
費電力でしかも低電圧で駆動する不揮発性メモリ回路装
置を提供することができる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, a non-volatile memory circuit device is realized that simplifies the circuit without reducing the reliability during reading, consumes low power, and is driven at low voltage. can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明に係る不揮発性メモリ回路装置の構成
を示す回路図、第2図はこの発明に係る不揮発性メモリ
回路装置の他の実施例の構成を示す回路図、第3図は第
1図及び第2図の回路の動作を説明するためのタイミン
グチャート、第4図ないし第7図はそれぞれ第1図及び
第2図の回路内の一部の構成を示す回路図、第8図は従
来の不揮発性メモリ回路装置の構成を示す回路図である
。 1・・・プリチャージ用トランジスタ、2・・・列選択
用トランジスタ、3・・・ビット線、4・・・ワード線
、5・・・行デコーダ、6.18・・・メモリセル、7
・・・ディスチャージ用トランジスタ、8・・・中間電
位発生回路、9・・・列デコーダ、10・・・センスア
ンプ、II。 12・・・NORゲート、13・・・比較電位発生回路
、14゜17・・・NチャネルMO8)ランジスタ、1
5・・・PチャネルMOSトランジスタ。18・・・レ
ベルダウン用トランジスタ。 出願人代理人  弁理士 鈴江武彦 第 図 第 図
FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a non-volatile memory circuit device according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the non-volatile memory circuit device according to the present invention, and FIG. 1 and 2; FIGS. 4 to 7 are circuit diagrams showing partial configurations of the circuits in FIGS. 1 and 2, respectively; FIG. 8; 1 is a circuit diagram showing the configuration of a conventional nonvolatile memory circuit device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Precharge transistor, 2... Column selection transistor, 3... Bit line, 4... Word line, 5... Row decoder, 6.18... Memory cell, 7
. . . Discharge transistor, 8. Intermediate potential generation circuit, 9. Column decoder, 10. Sense amplifier, II. 12...NOR gate, 13...Comparison potential generation circuit, 14°17...N channel MO8) transistor, 1
5...P channel MOS transistor. 18... Level down transistor. Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセル
が設けられたメモリセルアレイと、 上記メモリセルのドレインが接続された複数の列線と、 各一端が上記複数の各列線とそれぞれ接続され他端が第
1のノードに共通接続された複数の列選択用トランジス
タと、 第1の電位と上記第1のノードとの間に挿入された第1
極性のプリチャージ用トランジスタと、上記メモリセル
のソースと第2の電位との間に挿入された第2極性のデ
ィスチャージ用トランジスタと、 アドレス入力に応じて上記複数の列選択用トランジスタ
のゲートに上記第1の電位よりも低い電位を選択的に供
給する電位供給手段と、 上記第1のノードに接続されたセンスアンプとを具備し
たことを特徴とする不揮発性メモリ回路装置。
(1) A memory cell array including a plurality of memory cells made of non-volatile transistors; a plurality of column lines to which the drains of the memory cells are connected; one end of each column line is connected to each of the plurality of column lines, and the other end thereof is connected to the plurality of column lines; a plurality of column selection transistors commonly connected to the first node; and a first column selection transistor inserted between the first potential and the first node.
a polarity precharging transistor, a second polarity discharging transistor inserted between the source of the memory cell and a second potential, and a second polarity discharging transistor inserted between the source of the memory cell and the second potential; A nonvolatile memory circuit device comprising: potential supply means for selectively supplying a potential lower than the first potential; and a sense amplifier connected to the first node.
(2)前記センスアンプは、前記第1のノードの電位を
比較電位と比較するCMOS論理ゲート回路からなるフ
リップフロップで構成されている請求項1記載の不揮発
性メモリ回路装置。
(2) The nonvolatile memory circuit device according to claim 1, wherein the sense amplifier is constituted by a flip-flop consisting of a CMOS logic gate circuit that compares the potential of the first node with a comparison potential.
(3)不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセル
が設けられたメモリセルアレイと、 上記メモリセルのドレインが接続された複数の列線と、 各一端が上記複数の各列線とそれぞれ接続され、他端が
第1のノードに共通接続された複数の列選択用トランジ
スタと、 第1の電位と第2のノードとの間に挿入された第1極性
のプリチャージ用トランジスタと、上記メモリセルのソ
ースと第2の電位との間に挿入された第2極性のディス
チャージ用トランジスタと、 上記第1のノードと第2のノードとの間に挿入され、上
記メモリセルからの読み出し時にゲートに上記第1の電
位よりも低い電位が供給される第2極性のレベルダウン
用トランジスタと、 上記第2のノードに接続されたセンスアンプとを具備し
たことを特徴とする不揮発性メモリ回路装置。
(3) a memory cell array provided with a plurality of memory cells made of non-volatile transistors; a plurality of column lines to which the drains of the memory cells are connected; one end of each is connected to each of the plurality of column lines; a plurality of column selection transistors whose ends are commonly connected to the first node; a first polarity precharge transistor inserted between the first potential and the second node; and a source of the memory cell. and a second polarity discharge transistor inserted between the first node and the second node, the discharge transistor being inserted between the first node and the second node and having the gate connected to the first node when reading from the memory cell. A nonvolatile memory circuit device comprising: a level-down transistor of a second polarity to which a potential lower than the potential of is supplied; and a sense amplifier connected to the second node.
(4)前記センスアンプは、前記第2のノードの電位を
比較電位と比較するCMOS論理ゲート回路からなるフ
リップフロップで構成されている請求項3記載の不揮発
性メモリ回路装置。
(4) The nonvolatile memory circuit device according to claim 3, wherein the sense amplifier is constituted by a flip-flop consisting of a CMOS logic gate circuit that compares the potential of the second node with a comparison potential.
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US5226522A (en) * 1992-07-16 1993-07-13 Otis Elevator Company Moving handrail guide mount with vibration isolation
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