JPH02303478A - 遺伝子導入装置 - Google Patents
遺伝子導入装置Info
- Publication number
- JPH02303478A JPH02303478A JP1125955A JP12595589A JPH02303478A JP H02303478 A JPH02303478 A JP H02303478A JP 1125955 A JP1125955 A JP 1125955A JP 12595589 A JP12595589 A JP 12595589A JP H02303478 A JPH02303478 A JP H02303478A
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- JP
- Japan
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- pulse
- resistance value
- pulse width
- gene
- cells
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M35/00—Means for application of stress for stimulating the growth of microorganisms or the generation of fermentation or metabolic products; Means for electroporation or cell fusion
- C12M35/02—Electrical or electromagnetic means, e.g. for electroporation or for cell fusion
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- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Immobilizing And Processing Of Enzymes And Microorganisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、処理液中に浮遊する細胞に遺伝子を導入させ
る遺伝子導入装置に関する。
る遺伝子導入装置に関する。
（従来の技術）
細胞内に遺伝子を導入させる手段として従来がら種々試
みられている。一般的にお１１胞に逍伝Ｔ−を組込ませ
る手段としては電気穿孔法がＨカ視される。
みられている。一般的にお１１胞に逍伝Ｔ−を組込ませ
る手段としては電気穿孔法がＨカ視される。
この電気穿孔法は、細胞と遺伝子とを懸濁した処理液中
に電気的パルスにより衝撃を与え、その電気エネルギに
より細胞の細胞膜を局部的に破功させ、これにより透過
性を与えて遺伝子の導入を図ろうとするものである。こ
の電気穿孔法は、従来最も一般的とされていた遺伝子と
リン酸カルシウムの共沈殿によるものに較ベリンパ系細
胞などの浮遊細胞に遺伝子を導入させることができる点
などからみて有利である。
に電気的パルスにより衝撃を与え、その電気エネルギに
より細胞の細胞膜を局部的に破功させ、これにより透過
性を与えて遺伝子の導入を図ろうとするものである。こ
の電気穿孔法は、従来最も一般的とされていた遺伝子と
リン酸カルシウムの共沈殿によるものに較ベリンパ系細
胞などの浮遊細胞に遺伝子を導入させることができる点
などからみて有利である。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながらこの電気穿孔法により遺伝子の導入を実施
する場合、処理液中に電極を対設し、この電極間でパル
スを発生させることになるが、この場合、電極の形状や
間隔、処理液の４度、同温度等の要因により処理液中の
細胞に与えられる電気エネルギにばらつきが生じ、所望
の大きさの穿孔がなされず、遺伝子の導入が安定的に行
なわれなくなるという問題がある。
する場合、処理液中に電極を対設し、この電極間でパル
スを発生させることになるが、この場合、電極の形状や
間隔、処理液の４度、同温度等の要因により処理液中の
細胞に与えられる電気エネルギにばらつきが生じ、所望
の大きさの穿孔がなされず、遺伝子の導入が安定的に行
なわれなくなるという問題がある。
本発明はこれに鑑み、細胞と遺伝子との懸濁’ｔ（ｋの
電気抵抗値を基にしてパルス印加電圧および）々ルス幅
を決定することにより細胞に対し予しめ設定した電気エ
ネルギを与え得ることに着想し、これにより細胞に対し
常に一定の条件の下に穿孔が行なわれるようにした遺伝
子導入装置を提供することにある。
電気抵抗値を基にしてパルス印加電圧および）々ルス幅
を決定することにより細胞に対し予しめ設定した電気エ
ネルギを与え得ることに着想し、これにより細胞に対し
常に一定の条件の下に穿孔が行なわれるようにした遺伝
子導入装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
上記従来技術が有する課題を解決するため、本発明は、
細胞と遺伝子が懸濁された処理液中で電気的高圧パルス
を発生させ、その電気エネルギにより細胞膜を局部的に
破壊して穿孔し、その孔から遺伝子を細胞内に導入する
装置において、前記処理液の電気抵抗値を測定する抵抗
Ａｌ１１定手段と、この抵抗測定手段による測定抵抗値
に基づきノくルス印加電圧およびパルス幅を演算する手
段とを備え、その演算結果に基づいて予め設定された電
気エネルギを処理液中に与え得るようにしたことを特徴
とするものである。
細胞と遺伝子が懸濁された処理液中で電気的高圧パルス
を発生させ、その電気エネルギにより細胞膜を局部的に
破壊して穿孔し、その孔から遺伝子を細胞内に導入する
装置において、前記処理液の電気抵抗値を測定する抵抗
Ａｌ１１定手段と、この抵抗測定手段による測定抵抗値
に基づきノくルス印加電圧およびパルス幅を演算する手
段とを備え、その演算結果に基づいて予め設定された電
気エネルギを処理液中に与え得るようにしたことを特徴
とするものである。
（作 用）
処理液中の電気抵抗値を抵抗ｉ１Ｆ＋定手設定より測定
し、そのδ−１定抵抗値に基づき演算手段によりノくル
ス印加電圧およびパルス幅を演算してその演算結果に基
づきパルス発生手段により予しめ設定された電気エネル
ギが処理液中に与えられ、これにより細胞に対し常に一
定の電気エネルギがり、えられて所望の穿孔がなされる
。
し、そのδ−１定抵抗値に基づき演算手段によりノくル
ス印加電圧およびパルス幅を演算してその演算結果に基
づきパルス発生手段により予しめ設定された電気エネル
ギが処理液中に与えられ、これにより細胞に対し常に一
定の電気エネルギがり、えられて所望の穿孔がなされる
。
（実施例）
以下、本発明を図面に示す実施例を謬照して説明する。
図に示す実施例においては、電源１に接続される充電制
御部２と、この充電制御部２により設定されたパルス幅
の高圧パルスを発生するパルス発生部３と、処理液中に
設けられ高圧パルスにより細胞に穿孔して遺伝子の導入
を図る遺伝子導入部４と、充電電圧値、パルス幅エネル
ギ量等の各種データを予じめ設定する手動設定部５と、
処理液中の遺伝子導入部４の電極間抵抗を４−１定する
抵抗Ａｐ１定部６と、この抵抗測定部６からの人力信号
により遺伝子導入部４の電極間抵抗値および１動設定部
５から送られる設定データを基に充電電圧およびパルス
幅を演算して充電制御部２、パルス発生部３に設定デー
タとして送るエネルギ制御部７とを有している。パルス
幅可変モードの場合には、電極間抵抗値にしたがってＴ
−Ｑ／Ｖ２・Ｒの演算を行ない、パルス幅Ｔが決定され
る。ニーでＱ：エネルギｆｆ１（一定）、Ｖ；パルス電
圧（一定）は、予じめ設定しておくものとする。
御部２と、この充電制御部２により設定されたパルス幅
の高圧パルスを発生するパルス発生部３と、処理液中に
設けられ高圧パルスにより細胞に穿孔して遺伝子の導入
を図る遺伝子導入部４と、充電電圧値、パルス幅エネル
ギ量等の各種データを予じめ設定する手動設定部５と、
処理液中の遺伝子導入部４の電極間抵抗を４−１定する
抵抗Ａｐ１定部６と、この抵抗測定部６からの人力信号
により遺伝子導入部４の電極間抵抗値および１動設定部
５から送られる設定データを基に充電電圧およびパルス
幅を演算して充電制御部２、パルス発生部３に設定デー
タとして送るエネルギ制御部７とを有している。パルス
幅可変モードの場合には、電極間抵抗値にしたがってＴ
−Ｑ／Ｖ２・Ｒの演算を行ない、パルス幅Ｔが決定され
る。ニーでＱ：エネルギｆｆ１（一定）、Ｖ；パルス電
圧（一定）は、予じめ設定しておくものとする。
したがって充電制御部２においてエネルギ制御部７によ
り設定された電圧までコンデンサが充電される。一方、
抵抗ｌ１ｐｊ定部６により処理液中の遺伝子導入部４の
電極間の抵抗値が測定されてエネルギ制御部７゛に入力
され、こ＼で手動設定部５に設定された設定データを括
に充電電圧、パルス幅が演算され、パルス発生部３に設
定データとして送られ、パルス発生部３から抵抗ｄｐ１
定値に応じたパルス幅の高圧パルスを発生して遺伝子導
入部４を通じ電気エネルギとして細胞に与えられる。こ
れにより細胞膜が局部的に破壊され、これにより生じた
穿孔から遺伝子が細胞内に導入される。
り設定された電圧までコンデンサが充電される。一方、
抵抗ｌ１ｐｊ定部６により処理液中の遺伝子導入部４の
電極間の抵抗値が測定されてエネルギ制御部７゛に入力
され、こ＼で手動設定部５に設定された設定データを括
に充電電圧、パルス幅が演算され、パルス発生部３に設
定データとして送られ、パルス発生部３から抵抗ｄｐ１
定値に応じたパルス幅の高圧パルスを発生して遺伝子導
入部４を通じ電気エネルギとして細胞に与えられる。こ
れにより細胞膜が局部的に破壊され、これにより生じた
穿孔から遺伝子が細胞内に導入される。
このように処理液の電気抵抗値の変化に応じて最適条件
のパルス印加電圧およびパルス幅を決定してその電気エ
ネルギにより細胞への穿孔が當に一定の条件下で行なわ
れ、遺伝子導入効率の向上および再現性が著しく高めら
れた。
のパルス印加電圧およびパルス幅を決定してその電気エ
ネルギにより細胞への穿孔が當に一定の条件下で行なわ
れ、遺伝子導入効率の向上および再現性が著しく高めら
れた。
以上説明したように本発明によれば、細胞と遺伝子を懸
濁した処理液の電気抵抗値を測定し、その抵抗値に基づ
いてパルス印加電圧およびパルス幅を演算し、処理液の
状態にか＼わらず予定の電気エネルギを処理液中の細胞
に与え得るようにしたことにより、常に一定の条件とし
て細胞に対し所定の電気エネルギを与えることができ、
細胞膜への穿孔がコンスタントに行なわれ、遺伝子の導
入効率が高められて生産性を著しく向上させるに寄与す
ることができる。
濁した処理液の電気抵抗値を測定し、その抵抗値に基づ
いてパルス印加電圧およびパルス幅を演算し、処理液の
状態にか＼わらず予定の電気エネルギを処理液中の細胞
に与え得るようにしたことにより、常に一定の条件とし
て細胞に対し所定の電気エネルギを与えることができ、
細胞膜への穿孔がコンスタントに行なわれ、遺伝子の導
入効率が高められて生産性を著しく向上させるに寄与す
ることができる。
図は本発明による遺伝子導入装置のブロック図である。
Claims (1)
- 細胞と遺伝子が懸濁された処理液中で電気的高圧パルス
を発生させ、その電気エネルギにより細胞膜を局部的に
破壊して穿孔し、その孔から遺伝子を細胞内に導入する
装置において、前記処理液の電気抵抗値を測定する抵抗
測定手段と、この抵抗測定手段による測定抵抗値に基づ
きパルス印加電圧およびパルス幅を演算する手段とを備
え、その演算結果に基づいて予め設定された電気エネル
ギを処理液中に与え得るようにしたことを特徴とする遺
伝子導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125955A JPH02303478A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 遺伝子導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125955A JPH02303478A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 遺伝子導入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02303478A true JPH02303478A (ja) | 1990-12-17 |
Family
ID=14923110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1125955A Pending JPH02303478A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 遺伝子導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02303478A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010512151A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-22 | バイオ−ラッド ラボラトリーズ，インコーポレイティド | 多重チャンネルエレクトロポレーションシステム |
| US7732175B2 (en) | 2004-06-14 | 2010-06-08 | Lonza Cologne Ag | Method and circuit arrangement for treating biomaterial |
| US8173416B2 (en) | 2001-04-23 | 2012-05-08 | Lonza Cologne Gmbh | Circuit arrangement for injecting nucleic acids and other biologically active molecules into the nucleus of higher eucaryotic cells using electrical current |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1125955A patent/JPH02303478A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8173416B2 (en) | 2001-04-23 | 2012-05-08 | Lonza Cologne Gmbh | Circuit arrangement for injecting nucleic acids and other biologically active molecules into the nucleus of higher eucaryotic cells using electrical current |
| US7732175B2 (en) | 2004-06-14 | 2010-06-08 | Lonza Cologne Ag | Method and circuit arrangement for treating biomaterial |
| US8058042B2 (en) | 2004-06-14 | 2011-11-15 | Lonza Cologne Gmbh | Method and circuit arrangement for treating biomaterial |
| JP2010512151A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-22 | バイオ−ラッド ラボラトリーズ，インコーポレイティド | 多重チャンネルエレクトロポレーションシステム |
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