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JPH02223008A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

Info

Publication number
JPH02223008A
JPH02223008A JP6414189A JP6414189A JPH02223008A JP H02223008 A JPH02223008 A JP H02223008A JP 6414189 A JP6414189 A JP 6414189A JP 6414189 A JP6414189 A JP 6414189A JP H02223008 A JPH02223008 A JP H02223008A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording medium
magnetic recording
medium according
manufacturing
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6414189A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Daimon
英夫 大門
Hideo Fujiwara
英夫 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
Priority to JP6414189A priority Critical patent/JPH02223008A/en
Publication of JPH02223008A publication Critical patent/JPH02223008A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic recording medium having a perpendicularly magnetized film suitable for high density recording by using such a perpendicular magnetic recording medium comprising an anodized aluminum layer having fine pores filled with magnetic metal essentially Fe and rendering the Fe particles crystallographically discontinuous. CONSTITUTION:The surface of the substrate is anodized to form an anodized aluminum layer with pores, which are filled with Fe-type ferromagnetic material containing P atoms. In the process of plating the substrate with Fe, a specific amt. of phosphit and/or hypophosphite is added into the Fe plating bath to make the Fe particles in the pores crystallographically discontinuous. When P is incorporated into Fe particles, the crystallographic continuity of the Fe particles disappears, the orientation deteriorates and fine structures appear. Thereby, coercive force of the perpendicularly magnetized film can be controlled at a desired value. The obtd. magnetic recording medium has excellent magnetic characteristics with high recording density.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気記録媒体に関する。更に詳細には、本発明
は適正な低いレベルの保磁力に制御し、かつ垂直磁気異
方性に優れた垂直磁気記録媒体およびその製造方法に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to magnetic recording media. More specifically, the present invention relates to a perpendicular magnetic recording medium that can control coercive force to an appropriately low level and has excellent perpendicular magnetic anisotropy, and a method for manufacturing the same.

[従来の技術] AヌまたはAl合金を陽極酸化し、生成したアルマイト
の微細孔中にFe等の強磁性金属をメッキ充填した磁気
記録媒体は、その形状効果から良好な垂直磁気異方性を
ボし、高密度磁気記録媒体として期待されている。
[Prior Art] A magnetic recording medium in which a ferromagnetic metal such as Fe is plated and filled into the fine pores of the alumite produced by anodizing Al or Al alloy has good perpendicular magnetic anisotropy due to its shape effect. It is expected to be used as a high-density magnetic recording medium.

[発明が解決しようとする課題] 例えば、シュウ酸浴中でAλまたはA、l!金合金陽極
酸化(浴電圧〜40V)すると、形成されるアルマイト
のセル径は約1000人であり、直径1000人のセル
が記録時の最小単位となる。代表的な垂直磁化膜である
CoCr膜では、膜中のコラム径は200〜300人で
あり、記録時の最小単位は〜300人と考えられる。従
って、C0Cr膜なみの高密度記録を達成するには、ア
ルマイト−メッキ膜の場合、セル径を小さくする必要が
ある。硫酸浴(浴電圧〜17V)を用いて作製したアル
マイトはセル径が約450人と小さいが、ボア径が約1
50人であり、この状態でFeメッキを行って微細孔中
にFeを析出させて垂直磁化膜を形成すると、垂直方向
の保磁力が20000e以上の大きな値を示し、磁気ヘ
ッドによる磁気記録ができないという問題が生じる。
[Problems to be Solved by the Invention] For example, Aλ or A, l! in an oxalic acid bath. When gold alloy is anodized (bath voltage ~40V), the cell diameter of the alumite formed is about 1000, and a cell with a diameter of 1000 is the minimum unit for recording. In a CoCr film, which is a typical perpendicular magnetization film, the column diameter in the film is 200 to 300 people, and the minimum unit during recording is considered to be ~300 people. Therefore, in order to achieve high-density recording comparable to that of a C0Cr film, in the case of an alumite-plated film, it is necessary to reduce the cell diameter. Alumite made using a sulfuric acid bath (bath voltage ~17V) has a small cell diameter of about 450, but a bore diameter of about 1.
50 people, and when Fe plating is performed in this state to deposit Fe in the micropores to form a perpendicularly magnetized film, the perpendicular coercive force shows a large value of 20,000e or more, making magnetic recording with a magnetic head impossible. A problem arises.

また、陽極酸化被膜の微細孔径を〜350人程度にまで
拡大処理し、保磁力を〜5000e程度まで低下させる
と、垂直磁化膜の形状異方性が劣化すると共に、各々の
Fe粒子間距離が短くなり、各Fe粒子間の磁気的分離
が不十分となって、磁性膜は垂直磁化膜から面内磁化膜
に移行し、高密度磁気記録媒体として必要な垂直磁気異
方性が低下するという問題があった。また、上述したシ
ュウ酸浴で作製したアルマイトの場合、保磁力を磁気記
録可能な10000e以下に制御するには、ボア径を4
00Å以上に拡大する必要があった。
Furthermore, when the micropore diameter of the anodic oxide film is enlarged to about 350 mm and the coercive force is reduced to about 5000 e, the shape anisotropy of the perpendicularly magnetized film deteriorates and the distance between each Fe particle decreases. As a result, the magnetic separation between each Fe particle becomes insufficient, the magnetic film shifts from a perpendicularly magnetized film to an in-plane magnetized film, and the perpendicular magnetic anisotropy required for a high-density magnetic recording medium decreases. There was a problem. In addition, in the case of alumite made in the oxalic acid bath mentioned above, in order to control the coercive force to below 10,000e, which is magnetically recordable, the bore diameter must be set to 4
It was necessary to enlarge the area to 00 Å or more.

従って、本発明の目的はアルマイト、Feメッキ膜にお
いて、飽和磁化が200〜600 e m u/ccで
、垂直方向の保磁力が500〜10000eである、高
密度記録に適した垂直磁化膜を有する磁気記録媒体およ
びその製造方法を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to have a perpendicular magnetization film suitable for high-density recording, which has a saturation magnetization of 200 to 600 emu/cc and a perpendicular coercive force of 500 to 10,000 e, in an alumite or Fe-plated film. An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same.

[課題を解決するための手段] 前記L1的を達成するための手段として、本発明では、
AlもしくはAl合金を陽極酸化して生成したアルマイ
ト微細孔中にFeを主体とした磁性金属を充填した垂直
磁気記録媒体において、Fe粒子が結晶学的に不連続で
あることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
[Means for solving the problem] In the present invention, as a means for achieving the L1 objective,
A perpendicular magnetic recording medium in which fine pores of alumite produced by anodizing Al or an Al alloy are filled with a magnetic metal mainly composed of Fe, in which the Fe particles are crystallographically discontinuous. Provide the medium.

アルマイト微細孔中に充填されたFe粒子を結晶学的に
不連続にする方法の一例は、アルマイト微細孔中にFe
をメッキ充填し、このメッキしたFe中に、リン(P)
原子を含有させることからなる。
An example of a method for making Fe particles filled in alumite micropores crystallographically discontinuous is to
The plated Fe is filled with phosphorus (P).
It consists of containing atoms.

本発明では、前記の磁気記録媒体と併せて、Alもしく
はAl合金からなる基体の表面を陽極酸化してアルマイ
トを生成し、その微細孔中にP原子を含むFe系の強磁
性体を充填して垂直磁化膜を形成し、磁気記録媒体を製
造する方法において、F eをメッキ充填するFeメッ
キ浴中に所定量の亜リン酸塩および/または次亜リン酸
塩を添加した事を特徴とする磁気記録媒体の製造方法も
提供する。
In the present invention, in addition to the magnetic recording medium described above, the surface of the substrate made of Al or Al alloy is anodized to produce alumite, and the fine pores of the alumite are filled with Fe-based ferromagnetic material containing P atoms. A method for manufacturing a magnetic recording medium by forming a perpendicularly magnetized film using a Fe plating bath, characterized in that a predetermined amount of phosphite and/or hypophosphite is added to an Fe plating bath filled with Fe plating. A method of manufacturing a magnetic recording medium is also provided.

別法として、A、ItもしくはA、It合金からなる基
体の表面を陽極酸化してアルマイトを生成し、その微細
孔中にP原子を含むFe系の強磁性体を充填して垂直磁
化膜を形成することにより磁気記録媒体を製造する方法
において、Feメッキ浴に所定量の次亜リン酸塩および
/または亜リン酸塩の少なくとも一種類の化合物を添加
して所定の組成を有するFe−Pメッキ浴を調製し、こ
のメッキ浴中の溶存酸素を除去し、不活性ガス雰囲気下
で前記Fe−Pメッキ浴中に陽極酸化被膜を浸漬して電
気メッキ法により上記陽極酸化被膜の微細孔中に所定量
のP原子を含むFeを析出させて充填し、垂直磁化膜を
形成することもできる。
Alternatively, the surface of the substrate made of A, It or A, It alloy is anodized to produce alumite, and the fine pores are filled with Fe-based ferromagnetic material containing P atoms to form a perpendicularly magnetized film. In a method of manufacturing a magnetic recording medium by forming a Fe-P with a predetermined composition by adding a predetermined amount of hypophosphite and/or at least one compound of phosphites to an Fe plating bath, A plating bath is prepared, dissolved oxygen in the plating bath is removed, the anodized film is immersed in the Fe-P plating bath under an inert gas atmosphere, and the fine pores of the anodized film are electroplated. It is also possible to form a perpendicular magnetization film by precipitating and filling Fe containing a predetermined amount of P atoms.

[作用コ アルマイト微細孔中にFeをメッキ充填した垂直磁化膜
の磁気特性は、代表的な垂直磁化膜であるCoCr合金
膜の磁気特性および記録再生特性を考慮し、飽和磁化を
200〜800emu/cCに、垂直方向保磁力を50
0〜10000eに制御することが好ましい。
[Operation] The magnetic properties of the perpendicularly magnetized film in which Fe is plated and filled into the fine pores of the core alumite are determined by considering the magnetic properties and recording/reproducing properties of a CoCr alloy film, which is a typical perpendicularly magnetized film, and the saturation magnetization is set at 200 to 800 emu/ cC, the vertical coercive force is 50
It is preferable to control it to 0 to 10,000e.

飽和磁化に関しては、ボア径とセル径の比から求まる有
孔率で調整し、前記の範囲内に収めることができる。一
方、垂直方向保磁力はボア径に太き(依存する。垂直方
向保磁力を記録再生可能な10000e以下に制御する
には、シュウ酸浴で作製したアルマイトではボア径を4
00人以−Lにする必要がある。従って、ボア径が40
0Å未満のアルマイト膜は垂直方向保磁力の面から記録
媒体として不適当であった。また、ボア径が400Å以
上の場合において、ボア径を変化させることなくメッキ
膜の保磁力を変化させることは不可能であった。ボア径
をむやみに拡大すると、セルの機械強度が低下すると共
に、垂直膜が面内膜に移行するので好ましくない。従っ
て、機械的強度の高い磁気記録媒体を得るには、ボア径
の拡大を最少限にとどめ、垂直方向保磁力を制御する必
要がある。
Regarding saturation magnetization, it can be adjusted by adjusting the porosity determined from the ratio of the bore diameter and the cell diameter, and can be kept within the above range. On the other hand, the vertical coercive force depends on the bore diameter. In order to control the vertical coercive force to below 10,000 e, which is capable of recording and reproducing, the bore diameter must be set to 4
00 people or more - It is necessary to set it to L. Therefore, the bore diameter is 40
An alumite film with a thickness of less than 0 Å was unsuitable as a recording medium in terms of perpendicular coercive force. Further, when the bore diameter is 400 Å or more, it is impossible to change the coercive force of the plating film without changing the bore diameter. If the bore diameter is increased unnecessarily, the mechanical strength of the cell will decrease and the vertical membrane will shift to an in-plane membrane, which is not preferable. Therefore, in order to obtain a magnetic recording medium with high mechanical strength, it is necessary to minimize the expansion of the bore diameter and control the perpendicular coercive force.

本発明によれば、ボア径が400Å未満であっても、ア
ルマイト微細孔中のFeにP原子を添加することにより
垂直方向保磁力を10000e以下に制御することが可
能となる。また、ボア径が4oOÅ以上である場合でも
、ボア径を変化させることなく、垂直方向保磁力を低下
させる目的に使用可能である。
According to the present invention, even if the bore diameter is less than 400 Å, it is possible to control the vertical coercive force to 10,000 e or less by adding P atoms to Fe in the alumite micropores. Further, even if the bore diameter is 4oOÅ or more, it can be used for the purpose of lowering the vertical coercive force without changing the bore diameter.

前記のように、Al陽極酸化被膜のボア径が400人未
満の微細孔中に、P原子を0.28t%以上25.0a
t%以下含むFe系の強磁性体を析出し充填することに
より、垂直磁化膜としての特性を保持したままで、飽和
磁化が200〜600emu/ccの範囲で、かつ垂直
方向の保磁力を500〜10000eの範囲に調整し制
御することが可能となる。
As mentioned above, 0.28t% or more of P atoms are added to the micropores of the Al anodic oxide film with a bore diameter of less than 400mm.
By precipitating and filling Fe-based ferromagnetic material containing t% or less, the saturation magnetization is in the range of 200 to 600 emu/cc and the perpendicular coercive force is 500, while maintaining the characteristics of a perpendicularly magnetized film. It becomes possible to adjust and control within the range of ~10,000e.

Fe中にリン原子(P)を含有させることによりアルマ
イト−Feメッキ膜の保磁力が低下する原因を以下に説
明する。
The reason why the coercive force of the alumite-Fe plating film decreases due to the inclusion of phosphorus atoms (P) in Fe will be explained below.

第1図(a)および(b)にアルマイトより取り出した
Fe粒子の透過型電子顕微鏡像を示す。
FIGS. 1(a) and 1(b) show transmission electron microscope images of Fe particles taken out from alumite.

第1図(a)に示されるように、Pを12at%含仔す
る場合、Fe粒子内に微細な組織が存在していることが
わかる。一方、第1図(b)に示されるように、Pを含
有しない場合、微細な組織は観察されない。
As shown in FIG. 1(a), it can be seen that a fine structure exists within the Fe particles when P is included at 12 at%. On the other hand, as shown in FIG. 1(b), when P is not contained, no fine structure is observed.

第2図(a−イ)および(b−イ)にPを含む場合き含
まない場合のFe粒子の明視野像を、また、第2図(a
−口)および(b−口)にその電子線回折図形を示す。
Figures 2 (a-a) and (b-i) show bright field images of Fe particles with and without P;
-portion) and (b-portion) show their electron diffraction patterns.

Pの有無に拘らず、(110)面からの回折が最も強<
、(110)而の回折スポットから求めたFeの<ii
o>方向はFe粒子の長袖方向と一致した。しかし、第
2図(a−口)に示されるように、Pを含む場合、(1
10)のスポットが、第2図(b−口)のPを含まない
場合に比べ円周方向に拡がっており、Pを含むほうがF
e粒子の(110)配向性が劣っている。
Regardless of the presence or absence of P, the diffraction from the (110) plane is the strongest <
, (110) of Fe determined from the diffraction spot of <ii
The o> direction coincided with the long sleeve direction of the Fe particles. However, as shown in FIG. 2 (a-portion), when P is included, (1
10) is wider in the circumferential direction compared to the case without P in Figure 2 (b-port), and the spot with P is more F
The (110) orientation of e-particles is poor.

第3図(a)および(b)に、Fe粒子の(110)ス
ポットから結像した暗視野像を示す。第3図(a)では
、Pを12at%含有するのでFe粒子は長袖方向に約
0.5μmの長さで部分的に明るく結像しており単結晶
の長さとしては〜0゜5μmと考えられる。一方、Pを
含有しない第3図(b)の場合、長袖方向に2μmを越
える長さでFe粒子が明るく結像しており、この範囲で
Feが単結晶として存在している。
FIGS. 3(a) and 3(b) show dark-field images formed from the (110) spot of Fe particles. In Figure 3(a), since the P content is 12 at%, the Fe particles are partially brightly imaged with a length of about 0.5 μm in the long sleeve direction, and the length of the single crystal is ~0°5 μm. Conceivable. On the other hand, in the case of FIG. 3(b) which does not contain P, Fe particles are brightly imaged with a length exceeding 2 μm in the long sleeve direction, and Fe exists as a single crystal in this range.

第4図にはP含有量が25at%のときのFe粒子の(
110)スポットから結像した暗視野像を示す。Fe粒
子は、Pを12at%含有する第3図(a)のFe粒子
よりも一層細かなFe微結晶により構成されていること
が分かる。
Figure 4 shows (
110) Shows a dark field image formed from a spot. It can be seen that the Fe particles are composed of finer Fe microcrystals than the Fe particles in FIG. 3(a) containing 12 at% P.

以」−の実験結果から、F e粒子内にPを含有させる
と、Fe粒子は結晶学的に連続性を失い、(110)配
向性が劣化し、内部に微細組織を有するようになる。こ
の結果、針状Fe粒子の異方性が低下し、磁化反転機構
がバックリングモードあるいはファンニングモードに近
づき、弱い外部磁界により磁化反転が起こる。すなわち
、保磁力が低下すると考えられる。
From the experimental results described below, when P is contained in Fe particles, the Fe particles lose their crystallographic continuity, their (110) orientation deteriorates, and they begin to have a fine structure inside. As a result, the anisotropy of the acicular Fe particles decreases, the magnetization reversal mechanism approaches buckling mode or fanning mode, and magnetization reversal occurs due to a weak external magnetic field. In other words, it is considered that the coercive force decreases.

Fe中に添加するP原子の供給源としては、Feメッキ
浴に可溶性のリン化合物が用いられる。
A phosphorus compound soluble in the Fe plating bath is used as a source of P atoms added to Fe.

リン化合物としてはリンの原子価が3価以下の、亜リン
酸塩および次亜リン酸塩、例えば、亜リン酸ナトリウム
CNa2HPO3)および次亜リン酸ナトリウム(Na
PH202)などが好適に使用できる。亜リン酸塩およ
び次亜リン酸塩は単独でも、あるいは、二種類以上を組
み合わせて併用することもできる。原子価が3価よりも
高いPはFe中に混入されない。従って、リン酸(Ha
P04)はFeメッキ浴中に添加してもアルマイト微細
孔中のFeには取り込まれない。この場合、Pの原子価
は15価であり、Pの電子配列はNeと同じである。従
って、15価のPは安定化し、メッキの際、電子の授受
を行わないことが関係していると考えられる。
Examples of phosphorus compounds include phosphites and hypophosphites in which the valence of phosphorus is 3 or less, such as sodium phosphite (CNa2HPO3) and sodium hypophosphite (Na
PH202) etc. can be suitably used. Phosphites and hypophosphites can be used alone or in combination of two or more. P whose valence is higher than trivalence is not mixed into Fe. Therefore, phosphoric acid (Ha
Even if P04) is added to the Fe plating bath, it is not incorporated into the Fe in the alumite micropores. In this case, the valence of P is 15, and the electron arrangement of P is the same as that of Ne. Therefore, it is thought that this is related to the fact that 15-valent P is stabilized and does not exchange electrons during plating.

Fe中の原子の含有量は、25− 0at%以下が好ま
しく、このP原子の含有量が25.0at%を超えると
、垂直方向保磁力が5000e末溝に減少し、磁気特性
が劣化するので好ましくない。なお、Fe中のP原子の
含有量の下限については Fe中に添加するP原子は少
量であっても保磁力の低減に効果があり、Ms200〜
600emu/cCで垂直方向の保磁力が500〜10
000eの範囲に制御することができるP原子含有量で
あれば良いが、−膜内な指標としてはN O−2at%
以上であることが好ましい。
The content of atoms in Fe is preferably 25-0 at% or less; if the content of P atoms exceeds 25.0 at%, the perpendicular coercive force decreases to 5000e, deteriorating the magnetic properties. Undesirable. Regarding the lower limit of the content of P atoms in Fe, even a small amount of P atoms added to Fe is effective in reducing the coercive force, and it is from Ms200 to
Vertical coercive force is 500-10 at 600 emu/cC
It is sufficient if the P atom content can be controlled within the range of 000e, but as an indicator within the film, NO-2at%
It is preferable that it is above.

Fe中のPM子の含有量は、メッキ浴中に添加されるリ
ン化合物の濃度の他、メッキ時間、印加電圧、pH1浴
温などのメッキ条件を変化させることによりコントロー
ルすることができる。
The content of PM particles in Fe can be controlled by changing the plating conditions such as the plating time, applied voltage, pH1 bath temperature, etc., as well as the concentration of the phosphorus compound added to the plating bath.

本発明の磁気記録媒体の作製に使用される亜リン酸塩お
よび次亜リン酸塩は空気中あるいはメッキ浴中の酸化種
により徐々に酸化されてリン酸塩となり、これがメッキ
洛中のFeと反応してリン酸鉄[Fe3 (PO4)2
などコの沈殿を生じる。
The phosphites and hypophosphites used in the production of the magnetic recording medium of the present invention are gradually oxidized by oxidizing species in the air or in the plating bath to become phosphates, which react with Fe in the plating bath. Iron phosphate [Fe3 (PO4)2
etc., resulting in precipitation.

同時に、FePメッキ浴中にP成分が減少し、メッキ浴
の組成が大きく変化する。その結果、Fe−Pメッキ膜
中に含有されるP成分も減少する方向に大きく変化し、
形成される垂直磁化膜の保磁力が増大し、予め設定され
た低い保磁力レベルに制御することが極めて困難になる
という問題があった。
At the same time, the P component in the FeP plating bath decreases, and the composition of the plating bath changes significantly. As a result, the P component contained in the Fe-P plating film also changes significantly in the direction of decreasing,
There is a problem in that the coercive force of the perpendicularly magnetized film that is formed increases, making it extremely difficult to control the coercive force to a preset low coercive force level.

この問題を避けるために、例えば、メッキ洛中に溶存し
ている酸化種(例えば、酸素)を不活性ガスなどで置換
し、除去することが好ましい。置換方法としては、例え
ば、Fe−Pメッキ浴を調製するために用いる*(例え
ば、精製水、脱イオン水、純水など)中に不活性ガスを
バブリングさせるか、または、;A製したFe−Pメッ
キ浴中に不活性ガスをバブリングさせることにより行わ
れる。前記のようにして脱酸素したFe−Pメッキ浴を
不活性ガス雰囲気下に置き、電気メッキ処理を行う。
In order to avoid this problem, for example, it is preferable to replace and remove oxidizing species (eg, oxygen) dissolved in the plating layer with an inert gas or the like. As a replacement method, for example, bubbling an inert gas into * (e.g., purified water, deionized water, pure water, etc.) used to prepare the Fe-P plating bath, or; -P is carried out by bubbling an inert gas into the plating bath. The Fe--P plating bath deoxidized as described above is placed in an inert gas atmosphere and electroplating is performed.

このような構成により、Fe−Pメッキ浴中に含有され
る次亜リン酸塩または亜リン酸塩などの酸化を最大限に
防止し、常にFe−Pメッキ浴の組成を設定範囲内でほ
ぼ一定に保持することができ、所望する低レベルの保磁
力に制御した垂直磁化膜を有する磁気記録媒体が得られ
る。
With this configuration, oxidation of hypophosphite or phosphite contained in the Fe-P plating bath can be prevented to the maximum, and the composition of the Fe-P plating bath can always be maintained within the set range. A magnetic recording medium having a perpendicular magnetization film that can be maintained constant and whose coercive force is controlled to a desired low level can be obtained.

本発明で使用できる不活性ガスは例えば、N2、Art
HeまたはKrなどである。これらのガスは単独でも、
あるいは二種類以上を組合わせて混合ガスとして使用す
ることもできる。入手容易性とコストの点から、N2ガ
スが好ましい。
Examples of inert gases that can be used in the present invention include N2, Art
Such as He or Kr. These gases alone
Alternatively, two or more types can be used in combination as a mixed gas. N2 gas is preferred in terms of availability and cost.

AJ2またはAl合金は通常の物理蒸着法により非磁性
基体−Lに成膜させることができる。物理蒸着法自体は
当業者に周知であり特に説明を要しないであろう。また
、非磁性基体とA、It金属層との間にTiなどの下地
層を介在させることもできる。
AJ2 or Al alloy can be formed into a film on the nonmagnetic substrate-L by a normal physical vapor deposition method. The physical vapor deposition method itself is well known to those skilled in the art and does not require any particular explanation. Furthermore, an underlayer such as Ti may be interposed between the nonmagnetic substrate and the A, It metal layer.

下地層を介在させる場合、下地層の厚さは特に限定され
ない。−膜内には、0.01μm〜10μmの範囲内で
あることが好ましい。
When a base layer is provided, the thickness of the base layer is not particularly limited. - The thickness within the membrane is preferably within the range of 0.01 μm to 10 μm.

AJまたはAl合金の陽極酸化法自体は当業者に周知な
ので、ここでは特に説明しない。
The method of anodizing AJ or Al alloys itself is well known to those skilled in the art and will not be specifically described here.

本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基板としては
、アルミニウム基板の他に、ポリイミド。
In addition to aluminum substrates, polyimide may be used as the nonmagnetic substrate used in the magnetic recording medium of the present invention.

ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム。Polymer film such as polyethylene terephthalate.

ガラス類、セラミック、陽極酸化アルミ、黄銅などの金
属板+Si単結晶板1表面を熱酸化処理したSi単結晶
板などがある。
There are Si single-crystal plates whose surfaces are thermally oxidized and the surfaces of metal plates such as glass, ceramics, anodized aluminum, and brass + Si single-crystal plates are subjected to thermal oxidation treatment.

また、本発明の磁気記録媒体としては、ポリエステルフ
ィルム、ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを
基体とする磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィル
ム、アルミニウム板およびガラス板等からなる円盤やド
ラムを基体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気
ヘッドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
Further, the magnetic recording medium of the present invention includes a magnetic tape or a magnetic disk based on a synthetic resin film such as a polyester film or a polyimide film, a disk or a drum made of a synthetic resin film, an aluminum plate, a glass plate, etc. as a base. It includes various forms of structures that come into sliding contact with a magnetic head, such as magnetic disks and magnetic drums.

[実施例コ 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。[Example code] Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実l[[[ 純度99.99%の圧延AJ板(厚さ65μm。Real l[[[ Rolled AJ plate with purity of 99.99% (thickness: 65 μm).

20*mX20+gn)を5vt%のNaOH水溶液で
アルカリエツチングし、水洗後、E3volXのHNO
3水溶液で中和した。その後、1モル/λのH2S04
水溶液中において、I A / d m2の電流密度で
陽極酸化(対極;カーボン)を行い、陽極酸化被膜を0
.45μm形成した。この時のセル径およびボア径はそ
れぞれ460人、150人であった。
20*mX20+gn) with 5vt% NaOH aqueous solution, washed with water,
Neutralized with 3 aqueous solution. Then 1 mol/λ H2S04
Anodic oxidation (counter electrode: carbon) was performed in an aqueous solution at a current density of I A / d m2 to remove the anodic oxide film.
.. A thickness of 45 μm was formed. The cell diameter and bore diameter at this time were 460 and 150, respectively.

次に、30℃、lvt%のH3PO4水溶液中に、9分
間浸漬して陽極酸化被膜の微細孔径の拡大処理を行い、
ボア径を250人に拡大した。この後、Fe1o411
(NH4)280441E3H20をAモル/オ* N
aPHz 02 ・H2OをBモル/Jl。
Next, the anodic oxide film was immersed in a lvt% H3PO4 aqueous solution for 9 minutes at 30°C to enlarge the micropore diameter.
The bore diameter was expanded to 250 people. After this, Fe1o411
(NH4)280441E3H20 A mol/o*N
aPHz 02 ・B mol/Jl of H2O.

H3BO3を0.2モル/Jlおよびグリセリンを2m
、l/J加えてなるメッキ浴を用い、Fe−Pの電気メ
ッキを行った。この際、5A+28=l。
0.2 mol/Jl of H3BO3 and 2 m of glycerin
, l/J was used to perform electroplating of Fe-P. At this time, 5A+28=l.

Oの関係を保ちつつ、B/Aを0〜5の間で変化させ、
メッキ洛中の次亜リン酸ナトリウムの添加量を調整した
。メッキ浴中に2規定のH2SO4を添加し、pHを3
.3に調整し、浴温を22℃とした。メッキに使用した
電源はAC300Hzの正弦波で、16Vp−p(アル
マイト側に一8V。
While maintaining the relationship O, change B/A between 0 and 5,
The amount of sodium hypophosphite added during plating was adjusted. Add 2N H2SO4 to the plating bath and adjust the pH to 3.
.. 3, and the bath temperature was 22°C. The power supply used for plating was an AC 300Hz sine wave, 16Vp-p (18V on the alumite side.

対極(カーボン)側に18V)、14Vp−p  (ア
ルマイト側に一8V、対極側に18V)および15Vp
−p  (アルマイト側に一10V、対極側に15V)
である。メッキ時間を30秒〜5分とし、P含有量の異
なるアルマイト−Feメッキ膜を作製した。
18V on the counter electrode (carbon) side), 14Vp-p (-8V on the alumite side, 18V on the counter electrode side) and 15Vp
-p (-10V on the alumite side, 15V on the opposite electrode)
It is. Alumite-Fe plating films with different P contents were produced using a plating time of 30 seconds to 5 minutes.

裏iti 実施例1において30℃、lvt%のH3po、。Ura iti In Example 1, 30° C., lvt% H3po.

水溶液中に7分間浸漬してボア径を220人に拡大した
以外は実施例1と同様の方法でアルマイト−Feメッキ
膜を作製した。
An alumite-Fe plating film was produced in the same manner as in Example 1, except that the bore diameter was expanded to 220 by immersion in an aqueous solution for 7 minutes.

I血性1 実施例1において30℃、1wt%のH3PO4水溶液
中に11分間浸漬してボア径を270人に拡大した以外
は実施例1と同様の方法でアルマイ)−Feメッキ膜を
作製した。
Blood Type 1 An aluminium)-Fe plating film was prepared in the same manner as in Example 1, except that it was immersed in a 1 wt% H3PO4 aqueous solution at 30°C for 11 minutes and the bore diameter was expanded to 270 mm.

実施1目。First implementation.

純度99.99%の圧延Al板(厚さ85 tt m 
*20ssX20em)を5vt%のNaOH水溶液で
アルカリエツチングし、水洗後、8voL%のHNO3
水溶液で中和した。その後、1モル/J!のH2SO4
水溶液中においてs I A / d m2の電流密度
で陽極酸化(対極;カーボン)を行い、陽極酸化被膜を
0.45μm形成した。この時のセル径およびボア径は
それぞれ460人、150人であった。
Rolled Al plate with purity 99.99% (thickness 85 ttm
*20ss
Neutralized with aqueous solution. After that, 1 mol/J! of H2SO4
Anodic oxidation (counter electrode: carbon) was performed in an aqueous solution at a current density of s I A / d m 2 to form an anodic oxide film of 0.45 μm. The cell diameter and bore diameter at this time were 460 and 150, respectively.

次に、30℃、1wt%のH3PO4水溶液中に、9分
間浸漬して陽極酸化被膜の微細孔径の拡大処理を行い、
ボア径を250人に拡大した。この後、Fe50+ ”
 (NH4)2804 命eH20を50g/λ、 8
3 BO3を15g/λ、グリセリンを2m、It/J
l含有する基本Feメッキ浴にNa2HPOa・5H2
0をOg/λ、0.28g/J。
Next, the anodic oxide film was immersed in a 1wt% H3PO4 aqueous solution for 9 minutes at 30°C to enlarge the micropore diameter.
The bore diameter was expanded to 250 people. After this, Fe50+”
(NH4) 2804 life eH20 50g/λ, 8
3 BO3 15g/λ, glycerin 2m, It/J
Basic Fe plating bath containing Na2HPOa・5H2
0 is Og/λ, 0.28g/J.

0.55g/J!、1.38g/Jそれぞれ添加し、F
e−Pの電気メッキを行い、P含有量の兄なるアルマイ
ト−Feメッキ膜を作製した。メッキの用いた電源はA
C300Hz、15Vp−pで、アルマイト側に一10
V1対極(カーボン)側に15V印加される様に、DC
バイアスをかけた。メッキ時間を10〜25秒とした。
0.55g/J! , 1.38g/J, respectively, F
Electroplating of e-P was performed to produce an alumite-Fe plating film, which has a higher P content. The power supply used for plating is A
C300Hz, 15Vp-p, -10 on the alumite side
DC so that 15V is applied to the V1 counter electrode (carbon) side.
Biased. The plating time was 10 to 25 seconds.

前記の実施例1〜4で得られたアルマイト−Feメッキ
膜のP含有量(Feに対する存在比:at%)と、膜面
垂直方向の保磁力の関係を第5図に示す。なお、P* 
Feの定量はEPMA(波長分散型X線マイクロアナラ
イザー)で行い、保磁力測定はVSM (試料振動かた
磁力計)で行った。
FIG. 5 shows the relationship between the P content (abundance ratio to Fe: at%) of the alumite-Fe plating films obtained in Examples 1 to 4 described above and the coercive force in the direction perpendicular to the film surface. In addition, P*
Quantification of Fe was performed using EPMA (wavelength dispersive X-ray microanalyzer), and coercive force measurement was performed using VSM (sample vibrating magnetometer).

この図から明らかなように、Pの含有量が増加するに従
い、保磁力が減少する。図より、Pの含有量を0.2〜
25.0at%に変化させることで、ポア径400Å未
満においても、保磁力を500〜10000eの範囲内
に自由に制御することが可能となる。
As is clear from this figure, as the P content increases, the coercive force decreases. From the figure, the P content is 0.2~
By changing it to 25.0 at%, it becomes possible to freely control the coercive force within the range of 500 to 10,000 e even when the pore diameter is less than 400 Å.

第6図にPの含有量とメッキ膜の飽和磁化の関係を示す
。Pを含有しない場合、アルマイト−Feメッキ膜の飽
和磁化は、実施例1および4において、410emu/
cc (有孔率0.25より算出した値は430emu
/cc)、実施例2において、320emu/cc (
有孔率0.20より算出した値は340emu/cc)
、実施例3において、470emu/cc (有孔率〇
、 285より算出した値は490emu/cc)であ
る。いずれの場合も有孔率から算出した値よりも約り%
小さいが、これは鉄酸化物あるいは孔の乱れに起因して
いると考えられる。Pの含有量が増加すると飽和磁化は
減少するが、200emu/CCを下回ることはなく、
出力低下には大きな影響を与えないと考えられる。
FIG. 6 shows the relationship between the P content and the saturation magnetization of the plated film. In the case of not containing P, the saturation magnetization of the alumite-Fe plated film was 410 emu/in Examples 1 and 4.
cc (value calculated from porosity 0.25 is 430 emu
/cc), in Example 2, 320emu/cc (
The value calculated from the porosity of 0.20 is 340 emu/cc)
In Example 3, it was 470 emu/cc (the value calculated from the porosity of 0 and 285 was 490 emu/cc). In either case, it is approximately % lower than the value calculated from the porosity.
Although small, this is thought to be caused by iron oxide or disordered pores. As the P content increases, the saturation magnetization decreases, but does not fall below 200 emu/CC.
It is thought that this will not have a large effect on output reduction.

I直外1 純度99.99%の圧延AJl板(厚さ658 m *
20■mX20m5)を用い、実施例1と同じ前処理の
後、3vt%のシュウ酸浴中において、40Vの定電圧
を使用し、陽極酸化(対極:カーボン)を行い、8μm
の厚さのアルマイトを形成した。この時のセル径とボア
径はそれぞれ960人、320人であった。次に、30
℃、1wt%のリン酸水溶液中に上記試料を19分間浸
漬し、ボア径を500人に拡大した。この後、この後、
F e S 04・(NH4)2 SO4・6H20を
50g/J。
Immediately outside I 1 Rolled AJl plate with purity of 99.99% (thickness 658 m *
After the same pretreatment as in Example 1, anodic oxidation (counter electrode: carbon) was performed using a constant voltage of 40 V in a 3 vt% oxalic acid bath.
Anodized aluminum with a thickness of . The cell diameter and bore diameter at this time were 960 and 320, respectively. Next, 30
The above sample was immersed in a 1 wt % phosphoric acid aqueous solution at ℃ for 19 minutes, and the bore diameter was expanded to 500. After this, after this,
F e S 04・(NH4)2 SO4・6H20 at 50 g/J.

83 Bo3を15g/J、グリセリンを2mJ! /
λ金含有る基本Feメッキ浴にNaPH2O2・N20
をOg/J!、0.14g/J、0.88g/J2.1
.35g/λそれぞれ添加し、Fe−Pのメッキを行っ
た。浴のI)Hを2規定のH2SO4により3.0に調
整し、浴温を22℃とした。
83 15g/J of Bo3 and 2mJ of glycerin! /
NaPH2O2/N20 in the basic Fe plating bath containing λ gold
Og/J! , 0.14g/J, 0.88g/J2.1
.. 35 g/λ was added to perform Fe-P plating. The I)H of the bath was adjusted to 3.0 with 2N H2SO4, and the bath temperature was 22°C.

メッキノ用いた電源!tAc500Hz、15Vp−p
でアルマイト側に一10v、対極(カーボン)側に15
V印加されるようにDCバイアスをかけた。メッキ時間
を7〜10分とした。
Power supply using Mekkino! tAc500Hz, 15Vp-p
- 10V on the alumite side, 15V on the opposite electrode (carbon) side
A DC bias was applied so that V was applied. The plating time was 7 to 10 minutes.

第7図にメッキ浴中のNaPHz 02 /Fe2ナイ
オンのモル比と膜の保磁力の関係を示す。NaP820
2m添加時に保磁力8000eを示すが、メッキ浴中の
NaPH2O2のモル比が増加すると、保磁力が減少す
る。この様に、ボア径が400Å以上の場合においても
、Fe中にPを含有させることで、ボア径を拡大するこ
となく(本実施例ではボア径500人で一定)、保磁力
を制御することが可能となる。
FIG. 7 shows the relationship between the molar ratio of NaPHz 02 /Fe2 nions in the plating bath and the coercive force of the film. NaP820
When 2m is added, a coercive force of 8000e is exhibited, but as the molar ratio of NaPH2O2 in the plating bath increases, the coercive force decreases. In this way, even when the bore diameter is 400 Å or more, by including P in Fe, the coercive force can be controlled without increasing the bore diameter (in this example, the bore diameter is constant at 500 Å). becomes possible.

L五旌1 純度99.99%の圧延AJ板(厚さ85μm。L five 1 Rolled AJ plate with purity of 99.99% (thickness: 85 μm).

20 ms X 20■謙)を用い、2Nの濃度の硫酸
洛中において、I A / d m2の電流密度で陽極
酸化(対極:カーボン)を行い、0.45μmの厚さの
アルミニューム陽極酸化被膜(アルマイト)を形成させ
た。この時のセル径とボア径はそれぞれ460人、15
0人であった。次に30℃、lvt%のリン酸(83P
O4)水溶液中に上記試料を9分間浸漬して、陽極酸化
被膜のボア径を0.025μmに拡大する処理を行った
Anodic oxidation (counter electrode: carbon) was performed in 2N sulfuric acid at a current density of I A / d m2 using a 0.45 μm thick aluminum anodic oxide film ( alumite) was formed. At this time, the cell diameter and bore diameter were 460 and 15, respectively.
There were 0 people. Next, at 30°C, lvt% phosphoric acid (83P
O4) The sample was immersed in an aqueous solution for 9 minutes to expand the bore diameter of the anodic oxide film to 0.025 μm.

Fe−Pメッキ浴を調製するに当たり、純水(蒸留水)
中にN2ガスを約1時間バブリングさせて、水中の溶存
酸素をN2ガスで置換した。このN2ガスで置換した純
水に、モール塩50 g/J 。
In preparing the Fe-P plating bath, pure water (distilled water)
N2 gas was bubbled inside for about 1 hour to replace dissolved oxygen in the water with N2 gas. 50 g/J of Mohr's salt was added to the pure water that had been replaced with N2 gas.

ホウ酸1りg/J、グリセリン2 m J / J! 
、次亜リン酸ナトリウム1.4g/Jを溶解させ、2規
定の硫酸を添加し、pHを3.0に調整した。
Boric acid 1 g/J, glycerin 2 m J/J!
, 1.4 g/J of sodium hypophosphite was dissolved, 2N sulfuric acid was added, and the pH was adjusted to 3.0.

このFe−Pメッキ浴をメッキ槽に入れ、メッキ槽全体
をビニール製のドラフトで包囲し、外部よりN2ガスを
150mλ/分の流量で上記ドラフトへ導入し続けなが
ら、上記陽極酸化被膜のボア径の拡大処理を施した試料
表面にFe−Pメッキを行い、第9図に示す断面構造の
垂直磁化膜を作製した。なお、Fe−Pメッキに使用し
た電源は、AC300Hz、15Vp−pで、陽極酸化
被膜側に一10V、対極(カーボン)側に15vかかる
ようにDCバイアスを印加し、メッキ時間を20秒とし
た。この条件下で、上記の陽極酸化被膜を設けた試料を
用い、50個以−りの上記試料に対しでそれぞれFe−
Pメッキを行い、それぞれの試料のFe−Pメッキ膜中
のPの含有量を調べたところ、Pの含有量は7.5〜8
.0at%を示した。
This Fe-P plating bath is placed in a plating tank, the entire plating tank is surrounded by a vinyl draft, and while N2 gas is continuously introduced into the draft from the outside at a flow rate of 150 mλ/min, the bore diameter of the anodic oxide coating is Fe--P plating was applied to the surface of the sample subjected to the enlargement treatment to produce a perpendicularly magnetized film having the cross-sectional structure shown in FIG. The power supply used for Fe-P plating was AC 300 Hz, 15 Vp-p, and a DC bias was applied so that -10 V was applied to the anodized film side and 15 V was applied to the counter electrode (carbon) side, and the plating time was 20 seconds. . Under these conditions, using the samples provided with the above-mentioned anodic oxide film, Fe-
When P plating was performed and the P content in the Fe-P plating film of each sample was investigated, the P content was 7.5 to 8.
.. It showed 0 at%.

第8図の実線aに、本実施例の方法で作製したアルマイ
)/Fe−Pメッキ膜の垂直方向の保磁力(kOe)と
アルマイト/Fe−Pメッキ膜の形成回数(回)の関係
を示す。図から明らかなように、本発明の方法によれば
、50回以上アルマイ)/Fe−Pメッキ膜の形成を行
っても垂直磁化膜の保磁力をほぼ一定の約8000eに
制御可能であることがわかる。
The solid line a in FIG. 8 shows the relationship between the vertical coercive force (kOe) of the alumite/Fe-P plating film produced by the method of this example and the number of times the alumite/Fe-P plating film is formed. show. As is clear from the figure, according to the method of the present invention, it is possible to control the coercive force of the perpendicularly magnetized film to a nearly constant level of about 8000e even if the aluminium/Fe-P plating film is formed more than 50 times. I understand.

光1阻工 実施例6において使用した不活性ガスをN2ガスからA
 r s HeまたはKrガスに変更したこと以外は、
実施例6と同様にして、アルマイト/Fe−Pメッキ膜
を形成した。形成した垂直磁化膜の保磁力を調べたとこ
ろ第8図における実線で示されたものとほぼ同様な結果
が得られた。
The inert gas used in Example 6 was changed from N2 gas to A.
r s Except for changing to He or Kr gas,
An alumite/Fe-P plating film was formed in the same manner as in Example 6. When the coercive force of the perpendicularly magnetized film thus formed was examined, results almost similar to those shown by the solid line in FIG. 8 were obtained.

匿佼涯1 実施例6において、純水中にN2ガスをバブリングさせ
ること、およびメッキ浴をN2ガス雰囲気のドラフトで
包囲することを除いた以外は、実施例6と同様な方法で
アルマイト/Fe−Pメッキ膜の形成を行い、垂直磁化
膜を作製した。
Anonymous story 1 In Example 6, alumite/Fe was produced in the same manner as in Example 6, except for bubbling N2 gas into pure water and surrounding the plating bath with a draft of N2 gas atmosphere. - A P plating film was formed to produce a perpendicular magnetization film.

本比較例における垂直磁化膜の保磁力とアルマイト/ 
F e −Pメッキ膜の形成回数の関係を第8図の点a
bに示す。図示されているように、F e−Pメッキ浴
中の溶存酸素の除去処理および上記メッキ浴を不活性ガ
スで包囲しなかった比較例1においては、作製したアル
マイ)/Fe−Pメッキ膜の垂直方向の保磁力は、アル
マイ)/Fe−Pメッキ膜の形成回数が7回から増加し
始め、その形成回数が50回位で13000e以上に増
大し、本比較例におけるFe−Pメッキ浴は保磁力を設
定の低レベルに制御する能力がなくなっていることを示
している。
Coercive force of perpendicular magnetization film and alumite in this comparative example
The relationship between the number of times the F e -P plating film is formed is shown at point a in Figure 8.
Shown in b. As shown in the figure, in Comparative Example 1, in which the dissolved oxygen in the Fe-P plating bath was not removed and the plating bath was not surrounded with an inert gas, the The coercive force in the vertical direction starts to increase after the number of times the aluminium)/Fe-P plating film is formed, and increases to more than 13,000e when the number of times of formation is around 50, and the Fe-P plating bath in this comparative example is This indicates that the ability to control the coercive force to a set low level is lost.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、ボア径やセル径
および膜厚、軸比などの物理的ファクターに依存するこ
となく、アルマイト微細孔中に充填されるFeなどの強
磁性金属にP原子を含有させ、その含有率を調節するこ
とにより、200〜600emu/ccの範囲内の飽和
磁化において、垂直方向保磁力を500〜10000e
の範囲内で自由にコントロールすることが可能となる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, Fe, etc. filled in the alumite micropores can be By incorporating P atoms into the ferromagnetic metal and adjusting the content, the perpendicular coercive force can be increased from 500 to 10,000 e at saturation magnetization within the range of 200 to 600 emu/cc.
can be freely controlled within the range of

また、メッキ浴およびメッキ雰囲気から酸化種を除くこ
とにより、Fe−pメッキ浴中の次亜リン酸塩または亜
リン酸塩の酸化が効果的に防止され、Fe中に含有され
るPの量を予め設定した任意の値にほぼ一定に保持する
ことができる。
In addition, by removing oxidizing species from the plating bath and plating atmosphere, oxidation of hypophosphite or phosphite in the Fe-P plating bath is effectively prevented, and the amount of P contained in Fe is can be held almost constant at any preset value.

その結果、垂直磁化膜の保磁力を任意の設定値に制御す
ることが可能となり、磁気ヘッドによる高密度記録を達
成することができる優れた磁気特性を有する垂直磁気記
録媒体が得られる。
As a result, it becomes possible to control the coercive force of the perpendicularly magnetized film to an arbitrary set value, and a perpendicular magnetic recording medium having excellent magnetic properties capable of achieving high-density recording by a magnetic head is obtained.

言うまでもなく、本発明によるP原子含有率の調節に加
えて、従来の物理的ファクターの調節を併用することも
できる。
Needless to say, in addition to the adjustment of the P atom content according to the present invention, conventional adjustment of physical factors can also be used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)はPを12wt%含むFe粒子の透過型電
子顕微鏡による明視野像を示す写真であり、第1図(b
)はPを含まないFe粒子の透過型電子顕微鏡による明
視野像を示す写真であり、第2図(a)の(イ)はPを
12wt%含むFe粒子の透過型電子顕微鏡による明視
野像を示す写真であり、第2図(a)の(ロ)はその電
子線回折パターンを示す写真であり、第2図(b)の(
イ)はPを含まないFe粒子の透過型電子顕微鏡による
明視野像を示す写真であり、第2図(b)の(ロ)はそ
の電子線回折パターンを示す写真であり、第3図(a)
はPを12wt%含むFe粒子の暗視野像を示す写真で
あり、第3図(b)はPを含まないFe粒子の暗視野像
を示す写真であり、第4図はPを25vt%含有するF
e粒子の暗視野像を示す写真であり、第5図はP含有量
と垂直方向保磁力の関係を示す特性図であり、第6図は
P含有量と飽和磁化の関係を示す特性図であり、第7図
はNaPHz 02 /F132+イオンのモル比と垂
直方向保磁力の関係を示す特性図であり、第8図はアル
マイト/Fe−Pメッキ膜の形成回数と作製した垂直磁
化膜の垂直方向保磁力との関係を示す特性図であり、第
9図は実施例6で作製された垂直磁化膜を有する磁気記
録媒体の断面構造を示す模式図である。 1・・・アルミニウム基板。 2・・・陽極酸化被膜。 3・・・Fe−Pメッキ膜。 4・・・アルマイト/F e−Pメッキ膜特許出廓人 日立マクセル株式会社 代理人 弁理士 梶 山 拮 是
Figure 1(a) is a photograph showing a bright field image of Fe particles containing 12 wt% P by a transmission electron microscope, and Figure 1(b)
) is a photograph showing a bright field image of Fe particles that do not contain P, taken by a transmission electron microscope, and (a) in Figure 2 (a) is a photograph showing a bright field image of Fe particles containing 12 wt% P, taken by a transmission electron microscope. (b) in Figure 2(a) is a photograph showing the electron diffraction pattern, and (b) in Figure 2(b) is a photograph showing the electron diffraction pattern.
A) is a photograph showing a bright field image of Fe particles that do not contain P by a transmission electron microscope, FIG. a)
is a photograph showing a dark-field image of Fe particles containing 12 wt% P, FIG. 3(b) is a photograph showing a dark-field image of Fe particles containing no P, and FIG. 4 is a photograph showing a dark-field image of Fe particles containing 25 wt% P. F to do
This is a photograph showing a dark field image of e-particles, Figure 5 is a characteristic diagram showing the relationship between P content and perpendicular coercive force, and Figure 6 is a characteristic diagram showing the relationship between P content and saturation magnetization. Figure 7 is a characteristic diagram showing the relationship between the molar ratio of NaPHz 02 /F132+ ions and the perpendicular coercive force, and Figure 8 is a characteristic diagram showing the relationship between the number of times the alumite/Fe-P plating film is formed and the vertical coercive force of the perpendicularly magnetized film produced. 9 is a characteristic diagram showing the relationship with directional coercive force, and FIG. 9 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magnetic recording medium having a perpendicularly magnetized film manufactured in Example 6. 1...Aluminum substrate. 2...Anodic oxide film. 3...Fe-P plating film. 4...Alumite/F e-P plating membrane Patent distributor Hitachi Maxell Co., Ltd. Agent Patent attorney Kore Kajiyama

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)AlもしくはAl合金を陽極酸化して生成したア
ルマイト微細孔中にFeを主体とした磁性金属を充填し
た垂直磁気記録媒体において、Fe粒子が結晶学的に不
連続であることを特徴とする磁気記録媒体。
(1) A perpendicular magnetic recording medium in which alumite micropores formed by anodizing Al or an Al alloy are filled with a magnetic metal mainly composed of Fe, characterized in that the Fe particles are crystallographically discontinuous. magnetic recording media.
(2)AlもしくはAl合金を陽極酸化して生成したア
ルマイト微細孔中にFeを主体とした磁性金属をメッキ
充填してなる垂直磁気記録媒体において、メッキしたF
e中に、リン(P)原子を含むことを特徴とする請求項
1記載の磁気記録媒体。
(2) In a perpendicular magnetic recording medium in which alumite micropores formed by anodizing Al or Al alloy are filled with magnetic metal mainly composed of Fe, the plated F
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein e contains a phosphorus (P) atom.
(3)微細孔中にメッキ充填したFe中のPの含有率が
0.2at%以上25.0at%以下であることを特徴
とする請求項2記載の磁気記録媒体。
(3) The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the content of P in the Fe plated into the micropores is 0.2 at% or more and 25.0 at% or less.
(4)垂直磁化膜の飽和磁化が200〜600emu/
ccの範囲において、垂直方向の保磁力が500〜10
000eの範囲内にあることを特徴とする請求項1また
は2記載の磁気記録媒体。
(4) Saturation magnetization of perpendicular magnetization film is 200 to 600 emu/
In the cc range, the vertical coercive force is 500 to 10
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is within the range of 000e.
(5)微細孔の孔径が400Å未満であることを特徴と
する請求項1または2記載の磁気記録媒体。
(5) The magnetic recording medium according to claim 1 or 2, wherein the micropores have a diameter of less than 400 Å.
(6)微細孔中にメッキ充填したFe中のP原子が亜リ
ン酸塩および/または次亜リン酸塩に由来するものであ
ることを特徴とする請求項2記載の磁気記録媒体。
(6) The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the P atoms in the Fe plated into the micropores are derived from phosphite and/or hypophosphite.
(7)亜リン酸塩が亜リン酸ナトリウム(Na_2HP
O_3)であり、次亜リン酸塩が次亜リン酸ナトリウム
(NaPH_2O_2)であることを特徴とする請求項
6記載の磁気記録媒体。
(7) Phosphite is sodium phosphite (Na_2HP
7. The magnetic recording medium according to claim 6, wherein the hypophosphite is sodium hypophosphite (NaPH_2O_2).
(8)AlもしくはAl合金からなる基体の表面を陽極
酸化してアルマイトを生成し、その微細孔中にP原子を
含むFe系の強磁性体を充填して垂直磁化膜を形成する
ことにより磁気記録媒体を製造する方法において、Fe
をメッキ充填するFeメッキ浴中に所定量の、次亜リン
酸塩および/または亜リン酸塩の少なくとも一種類の化
合物を添加することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
(8) The surface of the substrate made of Al or Al alloy is anodized to produce alumite, and the fine pores are filled with Fe-based ferromagnetic material containing P atoms to form a perpendicularly magnetized film. In the method of manufacturing a recording medium, Fe
A method for producing a magnetic recording medium, comprising adding a predetermined amount of at least one compound of hypophosphite and/or phosphite to an Fe plating bath filled with plating.
(9)亜リン酸塩が亜リン酸ナトリウム(Na_2HP
O_3)であり、次亜リン酸塩が次亜リン酸ナトリウム
(NaPH_2O_2)であることを特徴とする請求項
8記載の磁気記録媒体の製造方法。
(9) Phosphite is sodium phosphite (Na_2HP
9. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 8, wherein the hypophosphite is sodium hypophosphite (NaPH_2O_2).
(10)微細孔中にメッキ充填したFe中のPの含有率
が0.2at%以上25.0at%以下であることを特
徴とする請求項8記載の磁気記録媒体の製造方法。
(10) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 8, wherein the content of P in the Fe plated into the micropores is 0.2 at% or more and 25.0 at% or less.
(11)垂直磁化膜の飽和磁化が200〜800emu
/ccの範囲において、垂直方向の保磁力が500〜1
000Oeの範囲内にあることを特徴とする請求項8記
載の磁気記録媒体の製造方法。
(11) Saturation magnetization of perpendicular magnetization film is 200 to 800 emu
/cc, the vertical coercive force is 500 to 1
9. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 8, wherein the magnetic recording medium is within a range of 000 Oe.
(12)微細孔の孔径が400Å未満であることを特徴
とする請求項8または10記載の磁気記録媒体の製造方
法。
(12) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 8 or 10, wherein the diameter of the micropores is less than 400 Å.
(13)AlもしくはAl合金からなる基体の表面を陽
極酸化してアルマイトを生成し、その微細孔中にP原子
を含むFe系の強磁性体を充填して垂直磁化膜を形成す
ることにより磁気記録媒体を製造する方法において、F
eメッキ浴に所定量の次亜リン酸塩および/または亜リ
ン酸塩の少なくとも一種類の化合物を添加して所定の組
成を有するFe−Pメッキ浴を調製し、このメッキ浴中
の溶存酸素を除去し、不活性ガス雰囲気下で前記Fe−
Pメッキ浴中に陽極酸化被膜を浸漬して電気メッキ法に
より上記陽極酸化被膜の微細孔中に所定量のP原子を含
むFeを析出させて充填し、垂直磁化膜を形成すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(13) The surface of the substrate made of Al or Al alloy is anodized to produce alumite, and the fine pores are filled with Fe-based ferromagnetic material containing P atoms to form a perpendicularly magnetized film. In the method of manufacturing a recording medium, F
A Fe-P plating bath having a predetermined composition is prepared by adding a predetermined amount of hypophosphite and/or at least one type of phosphite compound to an e-plating bath, and dissolved oxygen in this plating bath is was removed, and the Fe-
The anodic oxide film is immersed in a P plating bath, and Fe containing a predetermined amount of P atoms is precipitated and filled into the fine pores of the anodic oxide film by electroplating to form a perpendicularly magnetized film. A method for manufacturing a magnetic recording medium.
(14)Fe−Pメッキ浴中の溶存酸素を除去する手段
が、Fe−Pメッキ浴の調製に使用される水中に不活性
ガスをバブリングさせるか、または、調製したFe−P
メッキ浴中に不活性ガスをバブリングさせることからな
ることを特徴とする請求項13記載の磁気記録媒体の製
造方法。
(14) The means for removing dissolved oxygen in the Fe-P plating bath includes bubbling an inert gas into the water used for preparing the Fe-P plating bath, or
14. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 13, further comprising bubbling an inert gas into the plating bath.
(15)不活性ガスはN_2、Ar、HeおよびKrか
らなる群から選択される少なくとも一種類のガスである
ことを特徴とする請求項13または14記載の磁気記録
媒体の製造方法。
(15) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 13 or 14, wherein the inert gas is at least one type of gas selected from the group consisting of N_2, Ar, He, and Kr.
(16)亜リン酸塩が亜リン酸ナトリウム(Na_2H
PO_3)であり、次亜リン酸塩が次亜リン酸ナトリウ
ム(NaPH_2O_2)であることを特徴とする請求
項13記載の磁気記録媒体の製造方法。
(16) Phosphite is sodium phosphite (Na_2H
14. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 13, wherein the hypophosphite is sodium hypophosphite (NaPH_2O_2).
(17)微細孔中にメッキ充填したFe中のPの含有率
が0.2at%以上25.0at%以下であることを特
徴とする請求項13記載の磁気記録媒体の製造方法。
(17) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 13, wherein the content of P in the Fe plated into the micropores is 0.2 at% or more and 25.0 at% or less.
(18)垂直磁化膜の飽和磁化が200〜600emu
/ccの範囲において、垂直方向の保磁力が500〜1
000Oeの範囲内にあることを特徴とする請求項13
記載の磁気記録媒体の製造方法。
(18) Saturation magnetization of perpendicular magnetization film is 200 to 600 emu
/cc, the vertical coercive force is 500 to 1
Claim 13 characterized in that it is within the range of 000 Oe.
A method of manufacturing the magnetic recording medium described above.
(19)微細孔の孔径が400Å未満であることを特徴
とする請求項13または17記載の磁気記録媒体の製造
方法。
(19) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 13 or 17, wherein the diameter of the micropores is less than 400 Å.
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