JPH02192006A - 磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気ヘッドとその製造方法に係り、特にビデオ
・テープレコーダ、ディジタル・オーディオ・テープレ
コーダ、フロッピーｆイスク等に用いられる磁気ヘッド
とその製造方法に関する。

一般に磁気ヘッドは高い飽和磁束密度と高い透磁率が要
求される。高い飽和磁束密度を実現できる材料としては
センダスト（登録商標）、アモルファス合金等の金属磁
性材料が、また、高い透磁率を有する材料としては磁性
フェライトが知られている。

しかし、金属磁性材料は抵抗が小であるため、渦電流に
よる透磁率の低下が生じ、また、磁性フエライ１〜は飽
和磁束密度が小さい。このため、これらの材料を複合す
ることにより、良好な特性を実現した複合体構造の磁気
ヘッドがある。

従来の技術 従来の金属磁性材料と磁性フェライトとの複合体構造の
磁気ヘッドは第８図に示すように磁性フェライトよりな
るコア半体９ａ、９ｂの互いに対向する面に金属磁性体
層１０ａ、１０ｂをコア半体９ａ、９ｂに直接形成し、
ギャップ材１１を介して、コア半体９ａ、９ｂをつき合
わせガラス等の接合剤１２により接合した構成であった
。

発明が解決しようとする課題 しかるに、従来の磁気ヘッドはフェライトと金属磁性体
膜との付着性密着性が悪い為、コアと金属磁性薄膜との
間に疑似ギャップが生じ、磁気ヘッドの特性を劣化させ
てしまったり、またコアは酸化物系のフェライトが用い
られるため、コアから金属磁性薄膜に酸素が移動して金
属磁性薄膜を酸化してしまい疑似ギャップとして作用す
る磁気特性性の劣化層が生じてしまい、又金属性磁性膜
はその下地の結晶配向に大きく影響され、配向の悪い下
地上に形成した金属磁性体は配向が悪い磁気特性の劣化
層が生じ疑似ギ〜・ツブが生じてしまう等の問題点があ
った。

本発明はＦ記の点に鑑みてなされたもので、疑似ギャッ
プの生じにくい複合型の磁気ヘッドとその製造方法を提
供することを目的とする。

課題を解決するための手段 本発明はギャップ材を磁性体層が形成された二つの磁気
コアを突き合わせて挟持してなる磁気ヘッドにおいて、
前記磁気コアと前記磁性体層との間に酸素に対して安定
で、かつ、結晶に配向性を有し尚かつ金属磁性膜の付着
力・密着性を向上させる材料で薄膜を具備してなる。

作用 薄膜は酸素に対して安定である材料で形成されるため、
磁気コアの酸素を遮断し、磁性体層への酸素拡散を防止
する。また、結晶に配向性をイ］′？ｌるため、薄膜上
に積層される磁性体層の結晶の配向性も向上させること
ができる。又金属磁性体層と下地との密着性も向上させ
ることができる。

実施例 第１図は本発明の一実施例の平面図を示−Ｊｏ図中、１
ａ、、１ｂｔ、ｔ：１７半休、２ａ、２ｂは薄膜、３ａ
、３ｂは金属磁性体層、４ａ、４ｂはギャップ材を示す
。

コア半体１ａ、ｌｂは酸化物系磁性材であるフェライト
よりなり、高い透磁率を有する。薄膜２ａ、２ｂは薄膜
形成時に配向性よく膜を形成する物質で構成する。例え
ば、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎ　ｉ　）　、クロム（Ｏ
ｒ）、モリブデン（Ｎｏ）、チタン（Ｔ　ｉ　）　、タ
ンタル（Ｔａ）、コバルト（Ｃｏ）、鉄−ニッケル（Ｆ
ｅ−Ｎｉ＞合金、鉄ケイ素（Ｆｅ−３ｉ　）合金等の物
質を蒸着して構成する。

金属磁性体層３ａ、３ｂはセンダスト（登録商標）等の
飽和磁束密度の高い金属磁性材よりなる。

磁気ヘッドの製造方法を第２図〜第７図と共に説明する
。

まず、コア半休１ａ、ｌｂを形成するフェライトブロッ
ク５ａ、５ｂを用意し、第２図に示すようにブロック５
ａにコイルを巻回するための溝６と、ブロック５ａ、５
ｂにヘッドトラック幅を規制する溝７ａ、７ｂとを形成
する。次に第３図に示すようにフェライトブロック５ａ
、５ｂの互いに対向する面に前出のＦｅ、Ｎ　ｉ　ＳＣ
ｒ、Ｍｏ、Ｔ　Ｉ　、Ｔ　ａ　ＳＣＯ−、Ｆ　ｅ　　Ｎ
　＋　１Ｆ　ｅ　　Ｓ　を等の結晶の配向性がよく、酸
化物となじみゃすく、センダスト等の金属磁性体層の付
着力を向上させ酸素に対して比較的安定な金属もしくは
合金の薄膜２ａ、２ｂをスパッタリング等の蒸着法によ
り膜厚的１０〜１０００　（入〕形成する。なお、スパ
ッタガスはアルゴン（Ａｒ）もしくはアルゴン（Ａｒ）
に数％の酸素０２又は窒素（Ｎ２）を添加しＩＣものを
用いる。

次に第４図に示すようにセンダスト（ＦｅＡＬ−８ｉ　
）等の高透磁率の金属磁性体層３ａ。

３ｂをスパッタリング等の蒸着法にＪ：り形成し、さら
に第５図に示すように金属磁性体層３ａ。

３ｂ上にギャップを形成するためのギャップ材４ａ、４
ｂを形成する。

次に第６図に示すように、ブロック５ａ、５ｂの薄膜２
ａ、２ｂ、金属磁性体層３ａ、３ｂ、ｌ！ギャップ材ａ
、４ｂが形成された面を互いにつき合わせ、第７図に示
すように、溝７ａ、７ｂにガラス等の接合剤８を封入す
ることにより両ブロック５ａ、５ｂを接合する。接合し
た後第７図に破線で示すように切断することによりヘッ
ドチップを得る。

薄膜２ａ、２ｂのＦｅ、Ｎｉ、ＭＯ，ＴＴａ、Ｃｏ１Ｆ
ｅ−Ｎ　ｉ合金、Ｆｅ−８ｉ合金智の金属又は合金は安
定で配向性に優れており、また、これらの金属又は合金
は酸化物との付着性にも優れている。一方、フェライト
は不安定な酸化物であり、金属磁性体層３ａ、３ｂに酸
素が移動してしまい金属磁性体１３ａ、３ｂを劣化させ
又フエライ１〜自体も劣化づる。また、酸化物の為金属
磁性体層３ａ、３ｂとの付着性も悪い物質である。

しかし、本実施例のように金属磁性体膜どフェライトコ
アとの間にＦｅ、Ｎ　ｉ、ＭＯ，Ｔｉ。

Ｔａ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎ　ｉ合金、Ｆｅ−３ｉ合金等の金
属又は合金の薄膜２ａ、　２ｂを形成することにより、
薄膜２ａ、２ｂの材料は酸化物との付着性に優れるため
、フェライトコア１ａ、１ｂと金属磁性体層３ａ、３ｂ
との付着性を向上させることができる。このため、フェ
ライトコア１ａ。

１ｂと金属磁性体層３ａ、３ｂとの間に生じる疑似ギャ
ップを低減できる。

さらに、薄膜２ａ、２ｂの材料の金属又は合金は安定で
あり、フェライトコア１ａ、１ｂからの酸素の拡散を遮
断するため、金属磁性体層３　ａ　。

３ｂの劣化を防止でき、金属磁性体層３ａ、３ｂ及びフ
ェライトの劣化ににる疑似ギャップの発生を防止できる
。

また、一般に、結晶の配向性は下地の状態により左右す
る。一方、金属磁性体層３ａ、３ｂの配向性、特に最初
の約１０００〜２０００人の初期生成膜の配向性が疑似
ギャップ効果を決定している。しかし、フェライトコア
１ａ、１ｂは配向性に問題ががある（特に多結晶のフェ
ライトコアを用いた場合）。したがって、通常この上に
形成される金属磁性体層３ａ、３ｂの結晶の配向性はふ
ぞろいになり、磁気特性を劣化してしまうが、薄膜２ａ
。

２ｂを設けることにより、薄膜２ａ、　２ｂの材料は結
晶の配向性に優れるため、フェライトコアに蒸着した場
合でもその配向性を失うことなく、したがって、薄１１
２ａ、２ｂＪ：に形成される金属磁性体層３ａ、３ｂの
結晶の配向性も良くなり、磁気特性を向上できる。

なお、以上のことはスパッタリングの際ガス中に酸素（
０２）又は窒素（Ｎ２）を添加又は酸素（０２）中で行
なうとその効果が顕著なものとなる。これは、スパッタ
リングを、０２を添加したＡｒガス中又は、０２ガス中
で行なうことにより、薄膜２ａ、２ｂの結晶が微細化し
、金属磁性体の磁気特性が向上する。

なお、本実施例では薄膜２ａ、２ｂにＦｅ１Ｎｉ、Ｃｒ
、ＭＯｌＴｉ、”ｌａ、Ｃｏ等の金属やＦｅ−Ｎ　ｉ　
、　Ｆｅ−８ｉ等の合金を用いたが、これに限ることは
なく、結晶の配向性が良く、酸素に対して安定な物質で
あればよく、例えば、熱的、化学的に安定な５ｉ０２、
Ｔａ２０５、ＡＬ２０３、ＴｉＯ２等の酸化物やＡＱ、
ＡＵ、Ｐｔ等の不活性な金属でもＪ：い。なお、Ｓ！０
２．１−ａｚ　Ｏｓ　、ＡＬ２０３、Ｔ　ｉ　０２等の
酸化物は熱化学的に安定な物質であるため、金属磁性体
層３ａ、３ｂへの酸素の拡散の心配はない。

発明の効果 上述の如く、フェライトコアと金属磁性体層との間に薄
膜を蒸着することにより、薄膜は酸素に対して安定であ
るため、フェライトコア中の酸素と反応せず、また、金
属磁性体層への酸素の拡散を防止し、疑似ギャップを発
生させる劣化層の発生を防止し、また、結晶の配向性に
も優れる材料を用いるため、薄膜上に形成される磁性体
層の結晶の配向性が向上し、又付着力が向上ししたがっ
て、疑似ギャップが生じにくくなり磁気ヘッドの磁気特
性を向上させる等の特長を右する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の平面図、第２図、第３図、
第４図、第５図、第６図、第７図は本発明の一実施例の
製造方法を説明するための図、第８図は従来の一例の平
面図である。 １ａ、１ｂ・・・コア半休、２ａ、２ｂ・・・簿膜、３
ａ、３ｂ・・・金属磁性体層、４ａ、４ｂ・・・ギャッ
プ材。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ギャップ部に磁性体層が形成された２つの磁気コ
   アを突き合わせて挟持してなる磁気ヘッドにおいて、 前記磁気コアと前記磁性体層との間に酸素に対し安定で
   、かつ、結晶に配向性を有する材料で薄膜を具備してな
   る磁気ヘッド。
2. （２）前記磁気コアに前記薄膜を蒸着する第１の工程と
   、 前記第１の工程により蒸着された前記薄膜上に前記磁性
   体層を蒸着する第２の工程とを具備してなる請求項１記
   載の磁気ヘッドの製造方法。