JPH02165124A - Active matrix type liquid crystal display device and its driving method - Google Patents
Active matrix type liquid crystal display device and its driving methodInfo
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- JPH02165124A JPH02165124A JP63321292A JP32129288A JPH02165124A JP H02165124 A JPH02165124 A JP H02165124A JP 63321292 A JP63321292 A JP 63321292A JP 32129288 A JP32129288 A JP 32129288A JP H02165124 A JPH02165124 A JP H02165124A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
薄膜トランジスタマトリクス、特にゲート接続対向マト
リクス方式の薄膜トランジスタマトリクスの改良に関し
、
ゲート接続対向マトリクス方式において、非選択時にゲ
ートバイアス電圧をドレインに対して負電位とすること
を可能にすることを目的とし、対向配置した一対の絶縁
性基板の一方の表面に、液晶を電気的に制御する複数の
表示電極および該表示電極を駆動する複数の薄膜トラン
ジスタを互いに対応付けてマトリクス状に配列し、前記
表示電極と薄膜トランジスタの組よりなる各画素間に行
方向に沿ってスキャンバスラインを配設すると七もに、
前記行方向の各薄膜トランジスタの制御電極を対応する
スキャンバスラインに共通接続し、一対の被制御電極の
−・方を対応する表示電極に、他方を走査順位が次位の
隣接スキャンバスラインに接続したゲート接続対向マト
リクス方式の構成において、行方向の画素を挟んで隣接
する2本のスキャンバスライン間を画素ごとに直列接続
した2つのコンデンサで橋絡し、両コンデンサの接続点
に該画素を構成する薄膜トランジスタの制御電極を接続
した構成とする。[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding the improvement of a thin film transistor matrix, particularly a thin film transistor matrix of a gate-connected opposing matrix type, the following steps are taken: In the gate-connected opposing matrix type, the gate bias voltage is set to a negative potential with respect to the drain when not selected. With the aim of making this possible, a plurality of display electrodes for electrically controlling the liquid crystal and a plurality of thin film transistors for driving the display electrodes are arranged in a matrix on one surface of a pair of insulating substrates arranged opposite to each other. If the pixels are arranged in a pattern and a scan canvas line is arranged along the row direction between each pixel consisting of a pair of the display electrode and the thin film transistor,
The control electrodes of the thin film transistors in the row direction are commonly connected to the corresponding scan canvas line, one of the pair of controlled electrodes is connected to the corresponding display electrode, and the other is connected to the next adjacent scan canvas line in the scanning order. In the configuration of the gate-connected facing matrix method, two adjacent scan canvas lines with a pixel in the row direction in between are bridged by two capacitors connected in series for each pixel, and the pixel is connected to the connection point of both capacitors. The control electrodes of the constituent thin film transistors are connected.
本発明は薄膜トランジスタマトリクス、特にゲート接続
対向7トリクス方式の薄膜トランジスタマトリクスの改
良に関する。The present invention relates to an improvement in a thin film transistor matrix, particularly a gate-connected opposed seven-trix type thin film transistor matrix.
この種のアクティブマトリクス型液晶表示装置は、薄膜
トランジスタ(TPT)が液晶セルに対する電圧供給用
のスイッチング素子として働くため、各セルの電圧を正
確に制御することができ、大容量5階調表示に適した表
示装置である。そこで昨今では、ポケットTVの表示装
置として既に商品化されているのを始め、OA端末機器
の表示装置を目指して盛んな開発が行われている。In this type of active matrix liquid crystal display device, thin film transistors (TPTs) act as switching elements to supply voltage to the liquid crystal cells, so the voltage of each cell can be accurately controlled, making it suitable for large-capacity five-gradation display. It is a display device with Therefore, in recent years, active development has been carried out aiming at display devices for OA terminal equipment, including displays that have already been commercialized as display devices for pocket TVs.
OA端末機器の表示装置などのように、画面サイズの大
きい表示装置を実現するためには、画素数に応じて多数
のトランジスタを無欠陥で形成することが必要で、これ
は必ずしも容易ではない。In order to realize a display device with a large screen size, such as a display device for OA terminal equipment, it is necessary to form a large number of transistors without defects according to the number of pixels, and this is not necessarily easy.
多数のトランジスタを欠陥なく作製することを容易とす
ることを目的として、TFTI仮にパスライン交差部が
存在せず、且つ製造工程数を少なくすることができる、
ゲート接続対向マl−リクス方式と称される薄膜トラン
ジスタマトリクスが、特願昭61−212696号によ
り提案されている。In order to facilitate the production of a large number of transistors without defects, TFTI has no pass line intersections and the number of manufacturing steps can be reduced.
A thin film transistor matrix called a gate-connected facing matrix type has been proposed in Japanese Patent Application No. 61-212696.
この方式は、液晶等の表示媒体を挟んで対向配置された
TPT基板Pと対向基板P′のいずれにも、表面にパス
ラインの交差部が存在しない。In this method, there is no intersection of pass lines on the surfaces of either the TPT substrate P and the counter substrate P', which are disposed facing each other with a display medium such as a liquid crystal in between.
第5図(a)、 (b)は、上記方式の画素1個分の構
成を示す等価回路図、およびTPTマトリクスの構成を
示す分解斜視図である。FIGS. 5(a) and 5(b) are an equivalent circuit diagram showing the configuration of one pixel of the above system, and an exploded perspective view showing the configuration of a TPT matrix.
同図に見られる如くこの方式では、T P T 基板2
表面には、マトリクス状に配列された複数個の画素電極
と、この画素電極の各行対応に配設されたスキャンバス
ラインSBと、各画素電極ごとに設けられた駆動用のT
FTlを有し、各画素駆動用のTFTIのゲーi−電極
Gは、その画素電極を選択するためのスキャンバスライ
ンSBに接続し、ドレイン電極りは走査順位が後位の隣
接スキャンバスライン(図に符号SB″で示す)に接続
している。一方、上記各画素に表示データを供給するデ
ータバスラインは、対向基板P°裏表面上記画素電極の
列対応にストライブ状に形成され、対向電極を兼ねでい
る。液晶セルは液晶を挟んで対向する画素電極と対向電
極により形成される。As seen in the figure, in this method, T P T substrate 2
On the surface, there are a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, a scan canvas line SB arranged corresponding to each row of the pixel electrodes, and a driving T provided for each pixel electrode.
The gate i-electrode G of the TFTI for driving each pixel is connected to the scan canvas line SB for selecting that pixel electrode, and the drain electrode is connected to the adjacent scan canvas line ( On the other hand, a data bus line for supplying display data to each pixel is formed in a stripe shape on the back surface of the counter substrate P° corresponding to the columns of the pixel electrodes. It also serves as a counter electrode.A liquid crystal cell is formed by a pixel electrode and a counter electrode that face each other with a liquid crystal in between.
通常ドレイン電極りは1記スキヤンパスラインSBおよ
びデータバスラインDBとは別に設けたコモンパスライ
ンに接続されるが、本方式では、ドレイン電極りを隣接
するスキャンハスラインに接続することによりコモンパ
スラインを不要化し、スキャンバスラインSBはTFT
基板基板上に、データバスラインDBは対向基板P゛上
に配置したことにより、パスラインが一切交差しないよ
うにした。Normally, the drain electrode is connected to a common path line provided separately from the scan path line SB and the data bus line DB mentioned above, but in this method, the drain electrode is connected to the adjacent scan path line to connect the common path. Eliminates the need for line, scan canvas line SB is TFT
On the substrate, the data bus line DB is arranged on the counter substrate P', so that the pass lines do not intersect at all.
〔発明が解決しようとする課題〕
この方式は以、トの如く、構造的にはパスラインの交差
部が存在しないという利点がある反面、駆動に際し、液
晶セルLCの電圧保持期間にトランジスタのゲート電極
Gとドレイン電極りが同電位となるため、ゲート電圧=
0におけるオフ電流が充分に低いこと、即ち闇値電圧■
いを正にすることが必要である。[Problems to be Solved by the Invention] As shown in (g) below, this method has the structural advantage that there is no intersection of pass lines, but when driving, the gate of the transistor is removed during the voltage holding period of the liquid crystal cell LC. Since the electrode G and the drain electrode are at the same potential, the gate voltage =
The off-state current at 0 is sufficiently low, that is, the dark value voltage ■
It is necessary to correct the situation.
しかしながら、TPTに用いるゲート絶縁膜中には正の
固定電荷が生じ易く、結果として闇値電圧vtt+が負
になりやすいという傾向にある。However, positive fixed charges tend to occur in the gate insulating film used in the TPT, and as a result, the dark value voltage vtt+ tends to become negative.
本発明は、ゲート接続対向マトリクス方式において、非
選択時にゲートバイアス電圧をドレインに対して負電位
としてTPTを非導通状態に保ち、書き込み後の電荷を
保持できるようにすることを目的とする。An object of the present invention is to maintain the TPT in a non-conductive state by setting the gate bias voltage to a negative potential with respect to the drain when not selected in the gate-connected facing matrix method, so that the charge after writing can be retained.
第1図により本発明の詳細な説明する。 The present invention will be explained in detail with reference to FIG.
同図に見られる如く、本発明はゲート接続対向マトリク
ス型液晶表示装置において、行方向の画素を挟んで隣接
する2本のスキャンバスラインSBおよびSB’間を、
画素ごとに直列接続した2つのコンデンサCIとCtで
橋絡し、両コンデンサの接続点に該画素を構成するTF
TlのゲートGを接続した。As seen in the figure, in a gate-connected facing matrix type liquid crystal display device, the present invention provides a method for connecting two scan canvas lines SB and SB' that are adjacent to each other with a pixel in the row direction in between.
Each pixel is bridged by two capacitors CI and Ct connected in series, and the TF forming the pixel is connected to the connection point of both capacitors.
The gate G of Tl was connected.
なお、ゲート接続対向マトリクス型では、TFTlの一
方の被制御電極(例えばソースS)は液晶セルLCOT
FTI板側にある表示電極已に、他方の被制御電極(例
えばドレインD)は走査順位が次位のスキャンバスライ
ンSB’に接続されることは、前述した通りである。Note that in the gate-connected facing matrix type, one controlled electrode (for example, source S) of the TFTl is connected to the liquid crystal cell LCOT.
As described above, the other controlled electrode (for example, the drain D) is connected to the scan canvas line SB' which is next in the scanning order next to the display electrode on the FTI board side.
このような構成とした場合、コンデンサC2と02には
、アドレス後TPTのドレインに対し、負の電荷蓄積が
行なわれるので、2つのコンデンサC1と02の中点に
接続されたゲートはドレインに対し負電位が印加される
こととなり、TPTは常に完全にオフ状態とすることが
できる。In this configuration, negative charges are stored in the capacitors C2 and 02 with respect to the drain of TPT after addressing, so the gate connected to the midpoint of the two capacitors C1 and 02 is stored with respect to the drain. A negative potential is applied, and the TPT can always be completely turned off.
以下本発明の一実施例を第2図〜第4図により説明する
。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 2 to 4.
第2図は本発明一実施例の構成を示す等価回路図で、同
図に示すように本実施例では、各画素ごとに、各画素対
応のスキャンバスライン(例えばSB、)と走査順位が
次位のスキャンバスライン(例えば582)間を、直列
に接続した2個のコンデンサC,,C2で橋絡する。こ
こで、前位のスキャンハスライン側にコンデンサC5、
後位のスキャンバスライン側にコンデンサC2を接続す
るものとする。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing the configuration of one embodiment of the present invention. As shown in the figure, in this embodiment, the scan canvas line (for example, SB) corresponding to each pixel and the scanning order are determined for each pixel. The next scan canvas lines (for example, 582) are bridged by two series-connected capacitors C, , C2. Here, capacitor C5 is placed on the front scanhas line side.
It is assumed that a capacitor C2 is connected to the rear scan canvas line side.
更に各画素とも、2個のコンデンサc、、C2の中点P
+、Pz、Psに、各画素駆動用の薄膜トランジスタT
I T2 、TelのゲートGを接続する。Furthermore, for each pixel, the midpoint P of two capacitors c, , C2
+, Pz, Ps, thin film transistor T for driving each pixel
I T2 and the gate G of Tel are connected.
各薄膜トランジスタT1、Tt 、T3の被制御電極の
一方(例えばソース電極)Sは、液晶セルLCの表示電
極已に、他方(例えばドレイン電極)Dは、走査順位が
次位のスキャンバスラインSBt 、SB、、SB、に
接続する。One of the controlled electrodes (for example, a source electrode) S of each of the thin film transistors T1, Tt, and T3 is the same as the display electrode of the liquid crystal cell LC, and the other (for example, a drain electrode) D is the scan canvas line SBt, which has the next scanning order. Connect to SB,,SB,.
なお、同図のPa、P2.Pa。P、は各スキャンバス
ラインSB+ 、SBz 、SB3 、SB4とコンデ
ンサとの接続点を示す。Note that Pa, P2. Pa. P indicates a connection point between each scan canvas line SB+, SBz, SB3, SB4 and a capacitor.
上記コンデンサC+、Czの容量を、本実施例では凡そ
5pFとした。In this embodiment, the capacitance of the capacitors C+ and Cz was approximately 5 pF.
このように構成した本実施例の動作を、第3図(a)〜
(f)により説明する。The operation of this embodiment configured in this way is shown in FIGS. 3(a) to 3(a).
This will be explained using (f).
時刻む、においでスキャンバスラインSB、。Time, smell, scan canvas line SB.
SB、から見た駆動回路のインピーダンスを低(L)と
し、スキャンバスラインS B +に走査信号として■
なる正電位(第3図(a)参照)、SB2に0〔■〕を
印加する。これに同期してデータバスラインDBから表
示データが供給される。The impedance of the drive circuit as seen from SB is set to low (L), and the scanning signal is sent to the scan canvas line SB +.
A positive potential of 0 [■] is applied to SB2 (see FIG. 3(a)). In synchronization with this, display data is supplied from the data bus line DB.
ここで、ゲート入力容量が約0.05pF程度であれば
、コンデンサC+、Czの容量より非常に小さいので、
これの影響は殆ど無視でき、その中点P1の電圧〔第3
図(d)参照)はスキャンバスラインSB、、SBz間
に印加した電圧■のほぼ半分の電圧となり、薄膜トラン
ジスタT1をオンとすることができ、データバスライン
DBから供給された表示データは、液晶セルLCに書き
込まれる。Here, if the gate input capacitance is about 0.05 pF, it is much smaller than the capacitance of capacitors C+ and Cz, so
The influence of this can be almost ignored, and the voltage at the midpoint P1 [3rd
(see figure (d)) is approximately half the voltage (2) applied between the scan canvas lines SB, SBz, and the thin film transistor T1 can be turned on, and the display data supplied from the data bus line DB is displayed on the liquid crystal display. Written to cell LC.
スキャンバスラインS B + のアドレスが終了し、
次のスキャンバスラインSB、のアドレスが開始される
時刻t2において、スキャンバスラインSB、、SB、
、SB3から見た駆動回路のインピーダンスを低“ (
L)として、スキャンバスラインSB、の電位を0〔■
〕とし、スキャンバスラインSB、に■なる正電位を印
加すると〔第3図(b)参照〕、同様にして2つのコン
デンサの中点P3の電位はほぼV/2となり〔第3図(
(至)参照)、薄膜トランジスタT、はオンとなる。The address of scan canvas line SB + ends,
At time t2 when the address of the next scan canvas line SB, starts, scan canvas lines SB, SB,
, lower the impedance of the drive circuit seen from SB3 (
L), the potential of the scan canvas line SB is 0 [■
], and when a positive potential of ■ is applied to the scan canvas line SB [see Fig. 3 (b)], the potential at the midpoint P3 of the two capacitors becomes approximately V/2 [Fig. 3 (
(see (to)), the thin film transistor T is turned on.
この特売にアドレスを終了した画素のコンデンサC,,
C,の中点P1の電位は、T、のドレインDに対して−
V/2となるため〔第3図(d)参照〕、アドレスを終
了した薄膜トランジスタT1はオフ状態となる。The capacitor C of the pixel that ended the address in this sale,,
The potential at the midpoint P1 of C is - with respect to the drain D of T.
Since the voltage becomes V/2 [see FIG. 3(d)], the thin film transistor T1 that has finished addressing is turned off.
時刻も、においてスキャンバスラインSB、から見た駆
動回路のインピーダンスを“高゛ (H)とすると、こ
のインピーダンスと各画素に設けられたコンデンサC,
,C,で構成されるCR時定数により、C2の両端電位
が減衰する。しかし1フレームが約30ms程度である
ので、この時定数が0.1S程度であればここでこの減
衰はごく僅かであり、次のアドレスまで充分薄膜トラン
ジスタT、をオフにしておくことができる。At time, if the impedance of the drive circuit seen from the scan canvas line SB is "high" (H), then this impedance and the capacitor C provided at each pixel are
, C, the potential across C2 is attenuated by the CR time constant. However, since one frame is about 30 ms, if this time constant is about 0.1 S, this attenuation is very small, and the thin film transistor T can be turned off sufficiently until the next address.
この時必要とされるインピーダンスRは、1ラインの画
素数を1000個とすると、
R≧0.1/1000(5/2)・10−” =40M
Ωとなり、これはゲート接地のMO3出力回路の出力イ
ンピーダンスで実現できる。従って、コンデンサC,,
CRの中点P、の負電圧を100m5以上保持できるの
で、1フレームの間薄膜トランジスタT、を充分にオフ
しておくことができる。The impedance R required at this time, assuming that the number of pixels in one line is 1000, is R≧0.1/1000(5/2)・10-” = 40M
Ω, which can be realized by the output impedance of the gate-grounded MO3 output circuit. Therefore, capacitor C,,
Since the negative voltage at the midpoint P of CR can be maintained at 100 m5 or more, the thin film transistor T can be sufficiently turned off for one frame.
以下同様にして、時刻も、においてスキャンバスライン
SB、に■なる正の電圧を印加し、スキャンバスライン
SB、を0 (V)として〔第3図(C)参照〕、薄膜
トランジスタT、をオンにする。Similarly, at time, a positive voltage of ■ is applied to the scan canvas line SB, and the scan canvas line SB is set to 0 (V) [see FIG. 3(C)], and the thin film transistor T is turned on. Make it.
この時には、薄膜トランジスタTtの電位がほぼ一■/
2となり〔第3図(f)参照〕、T2はオフとなる。At this time, the potential of the thin film transistor Tt is approximately 1 /
2 [see FIG. 3(f)], and T2 is turned off.
このように本実施例は、駆動回路の出力インピーダンス
を、アドレスするスキャンバスラインと走査順位がその
前後のスキャンバスラインに対して“低°とし、他のス
キャンバスラインに対しては°高°として、通常と同様
に走査信号および表示データを印加することによって駆
動することができ、しかも、アドレス時以外は薄膜トラ
ンジスタのゲート電位をドレインの電位に対して負とす
ることができるので、非選択時には薄膜トランジスタを
確実にオフとすることができる。In this way, in this embodiment, the output impedance of the drive circuit is set to "low degree" with respect to the scan canvas line to be addressed and the scan canvas lines before and after it, and "high degree" with respect to other scan canvas lines. It can be driven by applying a scanning signal and display data in the same way as usual, and the gate potential of the thin film transistor can be made negative with respect to the drain potential except when addressing, so when not selected, The thin film transistor can be turned off reliably.
次に上記一実施例を具体化した例を、第4図(a)〜(
C)により説明する。Next, an example embodying the above embodiment is shown in FIGS.
This is explained by C).
同図(a)は1画素分の各部の配置を示す要部平面図で
、SBは当該画素を選択するためのスキャンバスライン
、SB’ は走査順位が次位のスキャンバスラインで、
An膜のような導電膜により形成する。また、EはIT
O膜のような透明導電膜からなる表示電極、GはCr(
クロム)等からなるゲート電極、SおよびDはソース・
ドレイン電極、C9及びC2はコンデンサを示す。Figure (a) is a plan view of the main parts showing the arrangement of each part for one pixel, where SB is the scan canvas line for selecting the pixel, SB' is the scan canvas line with the next highest scanning order,
It is formed from a conductive film such as an An film. Also, E is IT
A display electrode made of a transparent conductive film such as an O film, G is Cr(
S and D are the source and gate electrodes.
Drain electrodes C9 and C2 represent capacitors.
上記ソース・ドレイン電極S、Dは、(a)のAA矢視
部断面を示す(b)に見られるように、ガラス基板2上
に形成されたゲート電極Gを被覆するSiN膜3のよう
なゲート絶縁膜、動作半導体層としてのa−3i膜4.
コンタクト層としてのn゛a−Si膜5.Ti(チタン
)膜6のような導電膜を積層し、これらを所定のパター
ンに従って選択的にエツチングして形成する。The source/drain electrodes S and D are made of a SiN film 3 that covers the gate electrode G formed on the glass substrate 2, as shown in FIG. A-3i film as gate insulating film and active semiconductor layer 4.
nia-Si film as contact layer5. Conductive films such as a Ti (titanium) film 6 are laminated and selectively etched according to a predetermined pattern.
このようにして形成したソース・ドレイン電極の一方(
参照符号Sで示す)は、前述の表示電極Eと一部を重ね
合わせることによって接続する。One of the source and drain electrodes formed in this way (
(indicated by reference numeral S) is connected by partially overlapping with the display electrode E described above.
また、他方(参照符号りで示す)は次位のスキャンバス
ラインSB’ と、重なり合った部分にレーザ光を照射
してその部分を溶融させ、上層のTi膜6とスキャンバ
スラインSB’を構成するA1膜とを、SiN膜3を貫
通して接続する。The other side (indicated by reference numeral) is irradiated with a laser beam to the overlapping part with the next scan canvas line SB' to melt that part and form the scan canvas line SB' with the upper Ti film 6. The SiN film 3 is connected to the A1 film through the SiN film 3.
コンデンサC1及びC2の構造は、(a)のB−B矢視
部断面を示す(C)に見られるように、スキャンバスラ
インSB、SB’から導出され、先端を互いに近接して
対向するように形成されたA1膜7および7°上を橋絡
する如く、TazOs膜8を介してCr膜9を形成する
。このCr膜9の延長部は、前述のゲート電極Gを形成
している。The structures of the capacitors C1 and C2 are derived from the scan canvas lines SB and SB', as shown in FIG. A Cr film 9 is formed via a TazOs film 8 so as to bridge the A1 film 7 formed in the above and 7° above. The extended portion of this Cr film 9 forms the aforementioned gate electrode G.
上記Al膜7,7゛とCr膜9は絶縁膜であるTazO
s膜8を介して対向しているので、2つの平行平板型の
コンデンサCI及びCtを構成する。The Al films 7, 7' and the Cr film 9 are insulating films of TazO.
Since they face each other with the S film 8 in between, they constitute two parallel plate type capacitors CI and Ct.
以上のようにして本実施例を具体化できる。本実施例で
2つのコンデンサC,,C2を構成するのに用いた材料
は、薄膜トランジスタマトリクスに通常使用される材料
であるので、
以上述べた如く本実施例は、通常の薄膜トランジスタマ
トリクスの構成材料を用いて製作できるので、製造工程
や特性および信頼性に悪影響を及ぼすおそれはなく、ゲ
ート接続対向マトリクス型の液晶表示装置の駆動用薄膜
トランジスタを、非選択時にゲートバイアス電圧がドレ
インに対して負電位となるので、その間非導通状態を保
つことがきて、書き込み後の電荷を充分に保持できる。This embodiment can be implemented in the manner described above. The materials used to construct the two capacitors C, C2 in this example are materials that are normally used for thin film transistor matrices. Since it can be fabricated using a thin film transistor for driving a gate-connected facing matrix type liquid crystal display device, the gate bias voltage is at a negative potential with respect to the drain when it is not selected. Therefore, the non-conducting state can be maintained during that time, and the charge after writing can be sufficiently retained.
全にオフとすることができるので、充分なデータストレ
ージが可能となり、鮮明な画像を得ることが可能となる
。Since it can be completely turned off, sufficient data storage is possible and clear images can be obtained.
第1図は本発明の構成説明図、
第2図は本発明一実施例の構成説明図、第3図(a)〜
(f)は上記一実施例の駆動波形図、第4図(a)〜(
C)は上記一実施例の構造説明図、第5図(a)、 (
b)は従来のゲート接続対向マトリクス方式の問題点説
明図である。
図において、1は薄膜トランジスタ(TPT)、2は絶
縁性基板(ガラス基板)、Gはゲート電極、S、Dはソ
ース・ドレイン電極、SB、SB’SB、〜SB、はス
キャンバスライン、DBはデータバスライン、T、〜T
3は薄膜トランジスタを示す。
〔発明の効果〕
以上説明した如く本発明によれば、TPTを完/¥亮口
胎講A″設明国
第1図
卆禿θ月−ブ「オ台(りむA戒′値i口月図第2図
tet+tztststit&
本発明−矢蛇例弓乙動廉形図
第3図Fig. 1 is an explanatory diagram of the configuration of the present invention, Fig. 2 is an explanatory diagram of the configuration of one embodiment of the invention, and Figs.
(f) is a drive waveform diagram of the above embodiment, and FIGS. 4(a) to (
C) is a structural explanatory diagram of the above embodiment, FIG. 5(a), (
b) is a diagram illustrating the problems of the conventional gate-connected opposing matrix method. In the figure, 1 is a thin film transistor (TPT), 2 is an insulating substrate (glass substrate), G is a gate electrode, S, D are source/drain electrodes, SB, SB'SB, ~SB are scan canvas lines, DB is a Data bus line, T, ~T
3 indicates a thin film transistor. [Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the TPT can be completed / ¥○口子子 A″ Establishment of the Ming Dynasty Moon diagram Fig. 2 tet + tztstststit& Present invention - Arrow and snake example bow oto and low form diagram Fig. 3
Claims (2)
方の表面に、液晶を電気的に制御する複数の表示電極(
E)および該表示電極を駆動する複数の薄膜トランジス
タ(1)を互いに対応付けてマトリクス状に配列し、前
記表示電極(E)と薄膜トランジスタ(1)の組よりな
る各画素間に行方向に沿ってスキャンバスライン(SB
、SB′)を配設するとともに、前記行方向の各薄膜ト
ランジスタ(1)の制御電極(G)を対応するスキャン
バスライン(SB)に共通接続し、一対の被制御電極の
一方(S)を対応する表示電極(E)に、他方(D)を
走査順位が次位の隣接スキャンバスライン(SB′)に
接続したゲート接続対向マトリクス方式の構成において
、 行方向の画素を挟んで隣接する2本のスキャンバスライ
ン(SB、SB′)間を画素ごとに直列接続した2つの
コンデンサ(C_1、C_2)で橋絡し、両コンデンサ
の接続点に該画素を構成する薄膜トランジスタの制御電
極(G)を接続したことを特徴とするアクティブマトリ
クス型液晶表示装置。(1) A plurality of display electrodes (1, 1') for electrically controlling the liquid crystal are provided on one surface of a pair of insulating substrates (1, 1') arranged facing each other.
E) and a plurality of thin film transistors (1) for driving the display electrodes are arranged in a matrix in correspondence with each other, and a plurality of thin film transistors (1) are arranged in a matrix along the row direction between each pixel consisting of a pair of the display electrode (E) and the thin film transistor (1). scan canvas line (SB
, SB'), and the control electrodes (G) of each thin film transistor (1) in the row direction are commonly connected to the corresponding scan canvas line (SB), and one of the pair of controlled electrodes (S) is connected in common to the corresponding scan canvas line (SB). In a gate-connected opposing matrix configuration in which the corresponding display electrode (E) is connected to the other (D) to the adjacent scan canvas line (SB') having the next highest scanning order, two adjacent pixels across the row direction are connected. The scan canvas lines (SB, SB') of the book are bridged by two capacitors (C_1, C_2) connected in series for each pixel, and the control electrode (G) of the thin film transistor constituting the pixel is at the connection point of both capacitors. An active matrix liquid crystal display device characterized by connecting.
する駆動回路を出力インピーダンス切り換え可能とし、
該駆動回路の出力インピーダンスを、アドレスするスキ
ャンバスラインと、走査順位が該スキャンバスラインの
前位および次位のスキャンバスラインに対しては‘低イ
ンピーダンス’、他のスキャンバスラインに対しては‘
高インピーダンス’とすることを特徴とする請求項1記
載のアクティブマトリクス型液晶表示装置の駆動方法。(2) The output impedance of the drive circuit that drives the scan canvas lines (SB, SB') can be switched,
The output impedance of the drive circuit is set to 'low impedance' for the scan canvas line to be addressed and the scan canvas lines that precede and follow this scan canvas line, and for other scan canvas lines. '
2. The method of driving an active matrix liquid crystal display device according to claim 1, wherein the driving method is characterized in that the driving method is a high impedance.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63321292A JPH02165124A (en) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Active matrix type liquid crystal display device and its driving method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63321292A JPH02165124A (en) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Active matrix type liquid crystal display device and its driving method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02165124A true JPH02165124A (en) | 1990-06-26 |
Family
ID=18130940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63321292A Pending JPH02165124A (en) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Active matrix type liquid crystal display device and its driving method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02165124A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5508765A (en) * | 1990-07-25 | 1996-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Matrix-addressed type display device |
| US5614730A (en) * | 1990-11-09 | 1997-03-25 | Seiko Epson Corporation | Active matrix substrate |
-
1988
- 1988-12-19 JP JP63321292A patent/JPH02165124A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5508765A (en) * | 1990-07-25 | 1996-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Matrix-addressed type display device |
| US5614730A (en) * | 1990-11-09 | 1997-03-25 | Seiko Epson Corporation | Active matrix substrate |
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