JPH0160000B2 - - Google Patents
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- JPH0160000B2 JPH0160000B2 JP6659583A JP6659583A JPH0160000B2 JP H0160000 B2 JPH0160000 B2 JP H0160000B2 JP 6659583 A JP6659583 A JP 6659583A JP 6659583 A JP6659583 A JP 6659583A JP H0160000 B2 JPH0160000 B2 JP H0160000B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/30—Mechanisms for rotating or moving either the melt or the crystal
- C30B15/305—Stirring of the melt
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は単結晶、例えば半導体結晶を得る結晶
成長法に係わる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a crystal growth method for obtaining single crystals, for example semiconductor crystals.
背景技術とその問題点
例えば半導体単晶を育成させるにチヨクラルス
キー法(CZ法)が広く用いられる。この方法で
は石英るつぼ内で溶解した半導体融液に種結晶を
浸してこれを引き上げることによつて単結晶の育
成させるものであるが、この場合半導体融液と石
英るつぼの反応によつて酸素の混入が多く、引き
上げた結晶中の酸素濃度は1018/cm3の桁になる。
この結晶中の入つた過剰の酸素は集積回路製造過
程等の熱処理工程で種々の欠陥、例えば積層欠
陥、酸素析出物、転位ループなどを発生させ、半
導体装置の特性を劣化させる原因をつくる。また
単結晶半導体ではこのような結晶欠陥のほかに成
長縞と呼ばれる結晶中のミクロな不純物分布の不
均一性が問題になる。この成長縞発生の原因は融
液中の熱対流による。影響が重要であることが知
られている。一方、電気伝導性を有する液状体の
熱対流は、磁場によつて抑制される。即ち、電気
伝導性を有する物体が磁場中で運動するとき、物
体の中に電位差が発生し、電流が流れる。一方、
磁場の中で運動する電流の担体には力が働くから
物体は新しい力を受ける。今CZ法の例をとると、
これに熱対流が生じている場合これを横切る方向
に磁場を加えるとき、電気伝導性をもつ流体が磁
力線を横切ることになつて、その結果流体の運動
方向と磁場に垂直な方向に電流が流れる。そのた
め電流と磁場に垂直な方向に力が発生する。そし
てこの力は熱対流とは逆方向になり対流が抑制さ
れ、見かけ上流体の粘性を大きくするものであ
る。Background technology and its problems For example, the Czyochralski method (CZ method) is widely used to grow semiconductor single crystals. In this method, a single crystal is grown by dipping a seed crystal into a semiconductor melt dissolved in a quartz crucible and pulling it up.In this case, oxygen is removed by the reaction between the semiconductor melt and the quartz crucible. There is a lot of contamination, and the oxygen concentration in the pulled crystal is on the order of 10 18 /cm 3 .
This excess oxygen in the crystal causes various defects, such as stacking faults, oxygen precipitates, and dislocation loops, to occur during heat treatment processes such as integrated circuit manufacturing processes, causing deterioration of the characteristics of semiconductor devices. In addition to such crystal defects, single-crystal semiconductors also suffer from non-uniform microscopic impurity distribution in the crystal called growth striations. The cause of this growth streak is thermal convection in the melt. The effects are known to be important. On the other hand, thermal convection in a liquid having electrical conductivity is suppressed by a magnetic field. That is, when an electrically conductive object moves in a magnetic field, a potential difference is generated within the object and a current flows. on the other hand,
A force acts on a current carrier moving in a magnetic field, so an object receives a new force. Taking the example of the CZ method now,
If thermal convection is occurring, and a magnetic field is applied in a direction across it, the electrically conductive fluid will cross the lines of magnetic force, and as a result, a current will flow in the direction perpendicular to the direction of fluid motion and the magnetic field. . Therefore, a force is generated in the direction perpendicular to the current and magnetic field. This force is in the opposite direction to thermal convection, suppressing convection, and apparently increasing the viscosity of the fluid.
第1図はこのような磁場中で単結晶の成長を行
う単結晶成長装置を示すもので、1はその単結晶
成長を行うチエンバー、2は電気伝導性を有する
液状体3が収容された石英るつぼ等の容器で、4
は例えばグラフアイト発熱体よりなる液状体3の
加熱手段、5は磁場発生装置でこれより発生させ
た磁場が液状体3に与えられるようになされる。
7は液状体3に浸漬されてこれより引き上げられ
ることによつて単結晶8を成長する種結晶であ
る。 Figure 1 shows a single crystal growth apparatus that grows a single crystal in such a magnetic field, where 1 is a chamber in which the single crystal is grown, and 2 is a quartz chamber containing an electrically conductive liquid 3. In a container such as a crucible, 4
5 is a heating means for the liquid body 3 made of, for example, a graphite heating element, and 5 is a magnetic field generating device so that a magnetic field generated by the device is applied to the liquid body 3.
A seed crystal 7 grows a single crystal 8 by being immersed in the liquid 3 and pulled up from it.
このような装置においてその磁場発生手段5と
しては、例えば図示のようにチエンバー1を挾ん
でその両側に夫々ポールピースにコイルが巻装さ
れた構成(以下ポールピース型という)をとつて
両者間に発生するほぼ水平方向の磁束が液状体3
を横切るような構成とするか、或いはチエンバー
1の外周を繞つて巻回するコイル体を配置し(以
下ソレノイド型という)、このコイル体に対する
通電によつてコイルの軸心方向(垂直方向)すな
わち重力方向の磁場を液状体3を与えるようにな
す。しかしながらこのようなポールピース型の磁
場装置とする場合も、またコイルを巻回するソレ
ノイド型の磁場装置とする場合においてもいずれ
も長短所を相そなえている。すなわちポールピー
ス型による場合、その重量が大となりまた大型化
されるものであるに比し、ソレノイド型による場
合は、その重量及び全体の大きさにおいてポール
ピース型に比して小さくできるものの、このよう
なソレノイド型構成をとる場合、そのコイルの上
下端において大きな漏洩磁場が発生し、これが他
の電動機や計器類に悪影響を及ぼすという欠点を
有し、この漏洩磁場を遮蔽する大掛りな遮蔽手段
を必要とする。更に消費電力が大きいという欠点
を有する。また、上述したように磁場によつて効
率よく熱対流を抑制するには、この対流の流に対
して直角方向の磁場を加えることが望ましいもの
であるが、上述したポールピース型、或いはソレ
ノイド型は、夫々主として水平方向、或いは垂直
方向のいずれか一方のみをとるものであつて、そ
の効率において問題がある。 In such a device, the magnetic field generating means 5 may have a structure (hereinafter referred to as pole piece type) in which a chamber 1 is held between the chamber 1 and coils are wound around pole pieces on both sides of the chamber 1 as shown in the figure (hereinafter referred to as pole piece type). The almost horizontal magnetic flux generated is the liquid material 3.
Alternatively, by arranging a coil body wound around the outer periphery of the chamber 1 (hereinafter referred to as a solenoid type), by energizing this coil body, the coil is moved in the axial direction (vertical direction), that is, by energizing the coil body. A magnetic field in the direction of gravity is applied to the liquid material 3. However, both the pole piece type magnetic field device and the solenoid type magnetic field device in which a coil is wound have advantages and disadvantages. In other words, when using a pole piece type, the weight and size are large, whereas when using a solenoid type, although it can be smaller in weight and overall size compared to the pole piece type, When using a solenoid type configuration such as this, a large leakage magnetic field is generated at the upper and lower ends of the coil, which has a negative effect on other electric motors and instruments. Requires. Furthermore, it has the disadvantage of high power consumption. In addition, as mentioned above, in order to efficiently suppress thermal convection using a magnetic field, it is desirable to apply a magnetic field perpendicular to the convection flow, but the above-mentioned pole piece type or solenoid type Each of these methods mainly operates only in either the horizontal direction or the vertical direction, and has a problem in its efficiency.
発明の目的
本発明においては、上述した結晶成長装置にお
いて、その磁場発生装置としてソレノイド型構成
をとり、しかもその改良を図つて、これの磁場で
結晶成長に有効に作用するようにし、全体として
小型軽量で、更に漏洩磁場による他への悪影響を
激減することができ、消費電力の低減化をも図る
ことができるようにした結晶成長装置を提供する
ものである。Purpose of the Invention In the present invention, the above-mentioned crystal growth apparatus has a solenoid type configuration as its magnetic field generator, and is further improved so that the magnetic field effectively acts on crystal growth, and the overall size is small. It is an object of the present invention to provide a crystal growth apparatus that is lightweight, can drastically reduce the adverse effects of leakage magnetic fields on others, and can also reduce power consumption.
発明の概要
本発明においては電気伝導性を示す液状体例え
ばシリコン融液を収容する容器とこの液状体を加
熱する手段と容器を取り囲むように配置するコイ
ル体とを具備してなるものであるが、特にこのコ
イル体において互いに巻回方向(電流方向)が異
なる2つ以上の領域を設け、これら領域の隣り合
う領域が互いにその巻回方向が逆向きとなるよう
にするものであつてコイル体の通電によつて容器
内の液状体に磁場を印加するようになすものであ
る。Summary of the Invention The present invention comprises a container containing an electrically conductive liquid such as a silicon melt, a means for heating the liquid, and a coil body disposed to surround the container. In particular, this coil body is provided with two or more regions with different winding directions (current directions), and the winding directions of adjacent regions are opposite to each other. A magnetic field is applied to the liquid in the container by energizing the container.
実施例
第2図を参照して本発明による結晶成長装置の
一例を説明すると、第2図において第1図と対応
する部分には同一符号を付して重複説明を省略す
る。Embodiment An example of a crystal growth apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. 2. In FIG. 2, parts corresponding to those in FIG.
本発明においては、電気伝導性を有する液状体
3、例えばシリコン半導体融液を収容する容器2
の外周、図においては発熱体4の外周に、コイル
体10すなわちソレノイド型磁場発生装置を、そ
の巻回軸心方向が第2図の例においては垂直方向
に沿う結晶引き上げ方向の中心、すなわち容器2
の中心と一致するように巻回配置する。そして、
特に本発明においては、このコイル体10を、そ
の軸心方向に関して、例えば軸心方向の中央部
と、その上下両端との3領域10A,10B,1
0Cによつて構成し、その隣り合う領域10Aと
10B,10Aと10Cとが相互に逆向きの巻回
方向となるようにする。すなわち、第2図におい
てこのコイル体10は○印及び●印によつて示す
もので、○印は例えば第2図において紙面の上方
から下方に向かう通電方向を示すものとすると
き、●はこれと逆に紙面の下方から上方に向う通
流方向を示すものとする。 In the present invention, a container 2 containing an electrically conductive liquid 3, for example, a silicon semiconductor melt, is used.
A coil body 10, that is, a solenoid type magnetic field generator is placed around the outer periphery of the heating element 4 in the figure, and its winding axis direction is the center of the crystal pulling direction along the vertical direction in the example of FIG. 2
Arrange the windings so that they match the center of the and,
In particular, in the present invention, the coil body 10 is arranged in three areas 10A, 10B, 1 in the axial direction, for example, the central part in the axial direction and the upper and lower ends thereof.
0C, and the adjacent regions 10A and 10B, 10A and 10C are wound in opposite directions. That is, in FIG. 2, this coil body 10 is indicated by a circle mark and a ● mark. For example, when the circle mark indicates the current direction from the top to the bottom of the page in FIG. Conversely, the direction of flow is from the bottom to the top of the page.
コイル体10の上下端より漏洩磁束を大幅に減
少させることができる。すなわち、コイルより発
生する磁場の分布は、コイルの中心軸上に関して
次のように表わすことができる。 The leakage magnetic flux can be significantly reduced from the upper and lower ends of the coil body 10. That is, the distribution of the magnetic field generated by the coil can be expressed as follows with respect to the central axis of the coil.
ここでμ0は透磁率、nはコイルの巻数、Iは通
電電流値、rはコイル半径、lはコイルの長さで
ある。 Here, μ 0 is the magnetic permeability, n is the number of turns of the coil, I is the current value, r is the coil radius, and l is the length of the coil.
第3図は、コイルとその中心軸上における磁場
分布との関係を示すもので、この例では、その長
さlと直径が等しいすなわちl=2rのコイル21
と、長さが短い、l=(1/2)rのコイル22とが
隣り合うように配置されたものにおいて、その軸
心上における磁場分布を示すものである。この場
合、コイル21に関しての軸心上の磁場分布は、
曲線aで与えられる。但し、この場合、コイルの
中心点x0の磁場強度を1として規格化したもので
ある。一方、流さがこれの1/4のコイル22のみ
の同様の中心軸上の磁場分布を、同図中曲線bに
示す。この場合においても、コイル21の中心x0
の磁場強度でその規格化を行つたものである。
今、コイル21に対してコイル22と逆方向に電
流を流し、逆方向の磁場を発生させたとすると、
そのときの中心軸上の磁場部分は、第3図中曲線
cに示すように両曲線a及びbの差の分布、すな
わち曲線cに示すようになる。すなわち、この場
合コイル21だけにおけるコイル軸心上の端部
Yeにおける磁場強度はa0となるに比し、コイル
22において逆方向磁場を発生させたときの磁場
強度は点c0で与えられる。従つてこの場合Ye点
での磁場強度c0はa0に対して約1/4となる。この
ようにしてコイル21の上下端部に逆巻きのコイ
ルを設けたことによつてコイル21における外側
の磁場強度は減少させることができることがわか
る。つまり、第2図で説明したように磁場発生装
置としてのコイル体10が中央における領域10
Aに対してこれの両側の領域10B及び10Cに
実質的にその電流の向きが逆向きとされたことに
よりコイル体10の上下両側から発生する磁場強
度の減少、すなわち漏洩磁束の発生が激減し得る
ことがわかる。 FIG. 3 shows the relationship between a coil and the magnetic field distribution on its central axis. In this example, a coil 21 whose length l and diameter are equal, that is, l = 2r.
This figure shows the magnetic field distribution on the axis of a coil 22 having a short length l=(1/2)r and arranged adjacent to each other. In this case, the magnetic field distribution on the axis regarding the coil 21 is
It is given by curve a. However, in this case, the magnetic field strength at the center point x 0 of the coil is normalized to 1. On the other hand, a similar magnetic field distribution on the central axis of only the coil 22 whose current is 1/4 of this is shown by curve b in the figure. In this case as well, the center of the coil 21 x 0
It is normalized by the magnetic field strength of .
Now, if we apply a current to the coil 21 in the opposite direction to that of the coil 22 and generate a magnetic field in the opposite direction,
At that time, the magnetic field portion on the central axis becomes a distribution of the difference between both curves a and b, as shown by curve c in FIG. 3, that is, as shown by curve c. That is, in this case, the end on the coil axis of only the coil 21
The magnetic field strength at Ye is a 0 , whereas the magnetic field strength when a reverse magnetic field is generated in the coil 22 is given by a point c 0 . Therefore, in this case, the magnetic field strength c 0 at the Ye point is about 1/4 of a 0 . It can be seen that by providing reversely wound coils at the upper and lower ends of the coil 21 in this manner, the strength of the magnetic field outside the coil 21 can be reduced. That is, as explained in FIG. 2, the coil body 10 as a magnetic field generator
Since the direction of the current is substantially reversed in the regions 10B and 10C on both sides of A, the magnetic field strength generated from both the upper and lower sides of the coil body 10 is reduced, that is, the generation of leakage magnetic flux is drastically reduced. I know what I'm getting.
また、上述したようにコイル体10が逆方向通
電すなわち複数の逆巻きコイル領域より構成した
ので、各領域による磁束の磁場の向きが混在する
ことによつて容器2内における導電性液状体2へ
の印加磁場は、この液状体の対流の水平及び垂直
両方向のほぼ全域において与えられる。言い換え
れば対流のほぼ全行程に関してこれと直交する方
向の磁場が効率よく与えられることになつてい
て、これによつて対流の抑制を、より効果的に行
うことができる。 In addition, as described above, since the coil body 10 is configured with reverse direction energization, that is, a plurality of reversely wound coil regions, the direction of the magnetic field of the magnetic flux from each region is mixed, so that the conductive liquid 2 in the container 2 is The applied magnetic field is applied almost throughout the convection of the liquid in both the horizontal and vertical directions. In other words, a magnetic field in a direction perpendicular to the convection is efficiently applied over almost the entire path of the convection, thereby making it possible to suppress the convection more effectively.
尚、上述した例においては、コイル体10を、
その中央部10Aとその両側10B及び10Cの
3領域によつて構成した場合であるが、例えば第
4図に示すように更に中央部のコイルにおいて互
いに逆向きの2領域10A,10A2より構成し
て全体として4つの領域に区分するとか、3また
は4領域に限らず、多領域に区分することができ
る。また同図に示すように中央のコイル領域を大
径とし、その上下両側のコイル領域を、この大径
のコイル領域と同心的に配置するも、これよりそ
の巻き径を小にして漏洩磁束の発生をより効果的
に抑制するようになすこともできる。 In addition, in the example mentioned above, the coil body 10 is
In this case, the coil is composed of three areas, ie, the central part 10A and both sides 10B and 10C , but for example, as shown in FIG. The entire area can be divided into four areas, or it can be divided into multiple areas, not limited to three or four areas. In addition, as shown in the same figure, the central coil area is made large in diameter, and the coil areas on both sides above and below are arranged concentrically with this large diameter coil area. It is also possible to suppress the occurrence more effectively.
また、上述した例においては、引き上げ法に本
発明を適用した場合について説明したがいわゆる
横型ボート法すなわち水平ブリツジマン法等に適
用することもでき、この場合にはコイル体10は
横方向配置の構成がとられればよい。 Further, in the above-mentioned example, the case where the present invention is applied to the pulling method was explained, but it can also be applied to the so-called horizontal boat method, that is, the horizontal Bridgeman method, etc. In this case, the coil body 10 is arranged in a horizontal direction. It is sufficient if it is taken.
尚、上述の構成によるコイル体10は、例えば
超電導線によるコイルを用い、これをチエンバー
の外周に設けた冷却用ヘリウムが収容される容器
内に配置するようにすることもできる。 The coil body 10 having the above-mentioned structure may be a coil made of, for example, a superconducting wire, and may be arranged in a container provided on the outer periphery of the chamber and containing cooling helium.
発明の効果
上述したように本発明によれば、コイル体10
によつて磁場発生装置を構成したソレノイド型構
成をとるので軽量小型に構成し得るものであり、
またこのようなソレノイド型構成をとるにも拘ら
ず、互いに逆向きのコイル領域が隣り合う配置と
したことによつて漏洩磁束の発生を効果的に減少
させることができ、且つまたは水平垂直両方向に
関して液状体3すなわち例えば半導体融液に磁場
を与えるようにしたので前述したように効率よく
対流の抑制を行うことができ、これらが相乗して
更に消費電力の減少化を図ることができる。Effects of the Invention As described above, according to the present invention, the coil body 10
Since it has a solenoid type configuration in which the magnetic field generator is configured by
In addition, despite this solenoid type configuration, by arranging the coil regions in opposite directions adjacent to each other, the generation of leakage magnetic flux can be effectively reduced, and Since a magnetic field is applied to the liquid body 3, for example, the semiconductor melt, convection can be efficiently suppressed as described above, and these effects can be combined to further reduce power consumption.
また、漏洩磁束の発生を減少したことによつて
この漏洩磁束を遮蔽する電磁遮蔽手段の簡易化が
図られるために、更に小型軽量化の促進を図るこ
とができる。 Further, by reducing the generation of leakage magnetic flux, the electromagnetic shielding means for shielding this leakage magnetic flux can be simplified, so that it is possible to further promote miniaturization and weight reduction.
第1図は本発明の説明に供する従来の結晶成長
装置の略線的構成図、第2図は本発明による結晶
成長装置の一例の要部の略線的構成図、第3図は
その説明に供するコイルと磁界分布との関係を示
す、第4図は本発明の他の例の要部の略線的構成
図である。
1はチエンバー、2は電気伝導性液状体3を収
容するるつぼ、4は発熱体、10はコイル体、1
0A,10B及び10Cはその各コイル領域であ
る。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a conventional crystal growth apparatus used to explain the present invention, FIG. 2 is a schematic block diagram of essential parts of an example of a crystal growth apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is an explanation thereof. FIG. 4 is a schematic diagram of the main parts of another example of the present invention, showing the relationship between the coil used for the purpose and the magnetic field distribution. 1 is a chamber, 2 is a crucible containing an electrically conductive liquid 3, 4 is a heating element, 10 is a coil body, 1
0A, 10B and 10C are the respective coil regions.
Claims (1)
該液状体を加熱する手段と、上記容器をとり囲む
ように配置された磁場発生装置を有してなり、該
磁場発生装置は少くともコイル体を有し、該コイ
ル体は隣りと巻回方向の異なる少くとも2つの領
域を有し、該コイル体に電流を流して上記液状体
に磁場を印加するようにした結晶成長装置。1. A container for storing a liquid material exhibiting electrical conductivity;
and a magnetic field generating device arranged to surround the container, the magnetic field generating device having at least a coil body, and the coil body having a winding direction opposite to that of the adjacent coil body. 1. A crystal growth apparatus comprising at least two regions having different values, and applying a magnetic field to the liquid material by passing an electric current through the coil body.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6659583A JPS59195595A (en) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | Apparatus for crystal growth |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6659583A JPS59195595A (en) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | Apparatus for crystal growth |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59195595A JPS59195595A (en) | 1984-11-06 |
| JPH0160000B2 true JPH0160000B2 (en) | 1989-12-20 |
Family
ID=13320438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6659583A Granted JPS59195595A (en) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | Apparatus for crystal growth |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59195595A (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6081086A (en) * | 1983-10-07 | 1985-05-09 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | Process and apparatus for growing single crystal |
| JP3418084B2 (en) * | 1997-03-27 | 2003-06-16 | 株式会社スーパーシリコン研究所 | Method for determining attachment position and arrangement direction of device or element |
| JP3824412B2 (en) * | 1998-02-17 | 2006-09-20 | 株式会社東芝 | Superconducting magnet device for crystal pulling device |
| JP4990194B2 (en) * | 2008-03-07 | 2012-08-01 | 株式会社神戸製鋼所 | Magnet position measurement method |
-
1983
- 1983-04-15 JP JP6659583A patent/JPS59195595A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59195595A (en) | 1984-11-06 |
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