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JPH0135444B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0135444B2
JPH0135444B2 JP55109737A JP10973780A JPH0135444B2 JP H0135444 B2 JPH0135444 B2 JP H0135444B2 JP 55109737 A JP55109737 A JP 55109737A JP 10973780 A JP10973780 A JP 10973780A JP H0135444 B2 JPH0135444 B2 JP H0135444B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
copper
present
composition
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55109737A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5734606A (en
Inventor
Tadashi Kitamura
Sumio Hirose
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP10973780A priority Critical patent/JPS5734606A/en
Priority to US06/289,887 priority patent/US4387115A/en
Priority to DE3131364A priority patent/DE3131364C2/en
Publication of JPS5734606A publication Critical patent/JPS5734606A/en
Publication of JPH0135444B2 publication Critical patent/JPH0135444B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Conductive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は初期導電性が良好で且つ高湿度下で十
分な導電耐久性を有する導電用組成物に関する。 本発明者は金属銅粉を用いて導電性の良好な硬
化樹脂を得るべく研究した結果、(a)金属銅粉、(b)
銅化合物、(c)銅化合物中の銅を還元することによ
り金属銅を生成させうる還元性部分(以下、還元
性部分と略記する。)、(d)樹脂部分を含む組成物が
導電性の良好な硬化樹脂を与えうることを見出し
た。 この場合、還元性部分として、例えば亜リン酸
のモノ又はジエステルのような、有機又は無機の
亜リン酸系化合物を用いるときは、特に初期の導
電性が優れた硬化樹脂を得ることが可能である。 しかし、この硬化樹脂を高温、高湿度下に長時
間保存すると緑青様の物質が硬化樹脂の表面に生
成し、且つ経時的に次第に導電性が減少していく
ことが判明した。 一般に電気関係の用途では、高温、高湿度下に
保存しても抵抗値が殆ど増加せず、もし若干増加
したとしても、或る抵抗値に達すると以後実質的
に変化しなくなることが強く望まれ、又緑青様の
物質も電気的性質と外観を損ずるため好まれな
い。このため、このような硬化樹脂は高度な要求
を有する用途に実用することがむずかしかつた。 このため本発明者は初期の導電性が良好で且つ
高温高湿度下に保存しても緑青様の物質が実質上
生成せず、導電性の低下が少なく、しかも或る抵
抗値に達すると、その後、実質的に変化しない如
き導電性の硬化樹脂を得る組成物を探究した結
果、この目標を達成した本発明を完成した。 本発明は(a)金属銅粉、(b)銅化合物、(c)還元性部
分として
The present invention relates to a conductive composition having good initial conductivity and sufficient conductivity durability under high humidity. As a result of research to obtain a cured resin with good conductivity using metallic copper powder, the present inventor found that (a) metallic copper powder, (b)
A composition containing a copper compound, (c) a reducing part that can generate metallic copper by reducing copper in the copper compound (hereinafter abbreviated as the reducing part), and (d) a resin part is electrically conductive. It has been found that a good cured resin can be obtained. In this case, when an organic or inorganic phosphorous compound such as a mono- or diester of phosphorous acid is used as the reducing moiety, it is possible to obtain a cured resin with particularly excellent initial conductivity. be. However, it has been found that when this cured resin is stored for a long time at high temperature and high humidity, a verdigris-like substance is generated on the surface of the cured resin, and the conductivity gradually decreases over time. In general, in electrical applications, it is highly desirable that the resistance value hardly increases even when stored under high temperature and high humidity, and even if it does increase slightly, it is highly desirable that once the resistance value reaches a certain value, it will not change substantially after that. Rare and verdigris-like materials are also not preferred as they impair electrical properties and appearance. For this reason, it has been difficult to put such cured resins into practical use in applications with high requirements. For this reason, the inventor of the present invention has found that when the initial conductivity is good, and even when stored under high temperature and high humidity, no patina-like substance is generated, there is little decrease in conductivity, and furthermore, when a certain resistance value is reached, Thereafter, as a result of searching for a composition that would yield a cured resin with substantially unchanged conductivity, the present invention, which achieved this goal, was completed. The present invention includes (a) metallic copper powder, (b) copper compound, and (c) reducing moiety.

【式】と[Formula] and

【式】とからなる群 から選ばれた構造の部分(以下、ジヒドロキシベ
ンゼン環部分と略記する。但しウルシオールから
のものは除く。)、及び(d)樹脂部分を有するか又は
更にこれと(e)キレート形成物質部分を含有し、前
記(c)部分の配合量として、前記銅化合物中の銅を
すべて還元するに足る量を基準として、80重量%
以上を配合することを特徴とする導電用組成物で
ある。 本発明において(e)の部分を含まない組成物の場
合には、機構は不明であるが、組成物としての貯
蔵性が劣つており、貯蔵時間の経過にしたがつ
て、空気と接触している組成物表面を硬化して品
質が損なわれ、やがて使用不能となる現象(以
後、皮ばり現象と略記する。)を起す傾向がある。 この皮ばり現象問題が解決できないと、本発明
の組成物を実用しようとする場合、調合後、すみ
やかに使用する必要があり、長い貯蔵性を必要と
する用途においては不便であるので、この解決を
鋭意検討した結果、(e)を加えることによつて、こ
れも機構は不明であるが、実質上皮ばり現象を防
ぎ得ることを見出した。 本発明で用いる金属銅粉はその形状に特に限定
はなく、例えばフレーク状、樹枝状、球状、不定
形などの如きものがある。 また、金属銅(箔状のものを含む。)を粉砕し
たもの、酸化第二銅や酸化第一銅などの還元によ
つて得る還元銅粉、熔融した銅を飛散凝固せしめ
た銅粉、電解析出銅粉及びこれらの方法を2〜3
種類組み合わせて得た銅粉等が使用可能である。
その粒径は通常100μ以下が用いられるが、用途
によつては100μ〜1mmのものも使用可能である。 なお、金属銅粉としては、後に記載する銅化合
物の例である酸化第一銅や酸化第二銅の如きが表
面に例えば皮膜として存在する通常の市販の銅粉
でもよく、又、存在しないものも使用可能であ
る。又、勿論、金属銅粉の形状や粒径の異なるも
のも混合使用してもよい。 なお、本願において「樹脂部分」の表現を用い
ているが、樹脂とは、次のような意味である。 即ち、最終的に硬化する以前に既に高分子とな
つているもの、又は硬化時の反応によつて高分子
物質となるものであつて、且つ本発明の組成物を
硬化した際、導電性の硬化物を得るような物質を
意味する。 本発明の組成物は(a)の他に(b)、(c)及び(d)の部分
又は更にこれに(e)を含むことが必要であるが、
(a)、(b)、(c)、(d)、(e)に対応する別個の4種類又は
5種類の物質を用いることは必らずしも必要でな
く、例えば(c)と(d)を兼ねたジヒドロキシベンゼン
環部を持つ樹脂を用いるなど(a)、(b)、(c)、(d)、(e)
のいくつかを兼ねた物質を用いることにより、4
種類、3種類或いは2種類の物質を混合するだけ
で目的を達することも可能である。以下、本発明
に用いる各種の物質について例を挙げて説明す
る。 (1) 銅化合物で(b)としての性質のみを有する物質 塩化第一銅、酸化第一銅、酸化第二銅、酢酸
銅、サリチル酸銅、ステアリン酸銅。 (2) ジヒドロキシベンゼン環部を持つ(c)としての
性質のみを有する物質 ハイドロキノン、カテコール、2−メチル−
ハイドロキノン、ビニルハイドロキノン、ター
シヤリブチルハイドロキノン、クロルハイドロ
キノン、フエニルハイドロキノンその他、次の
ような構造の物質。
A moiety with a structure selected from the group consisting of [Formula] (hereinafter abbreviated as dihydroxybenzene ring moiety.However, those from urushiol are excluded), and (d) a resin moiety, or furthermore, it has ( e) Contains a chelate-forming substance part, and the content of part (c) is 80% by weight, based on the amount sufficient to reduce all the copper in the copper compound.
This is a conductive composition characterized by containing the above components. In the case of compositions that do not contain part (e) in the present invention, although the mechanism is unknown, the storage stability of the composition is poor, and as the storage time elapses, it comes into contact with air. This tends to harden the surface of the composition, impairing its quality, and eventually rendering it unusable (hereinafter abbreviated as scalding phenomenon). If this scalding problem cannot be solved, in order to put the composition of the present invention into practical use, it will be necessary to use it immediately after preparation, which is inconvenient for applications that require long shelf life. As a result of intensive investigation, we found that by adding (e), the parenchymal epithelial burr phenomenon could be prevented, although the mechanism is also unknown. The shape of the metallic copper powder used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include flakes, dendritic shapes, spherical shapes, and irregular shapes. In addition, pulverized metallic copper (including foil), reduced copper powder obtained by reduction of cupric oxide or cuprous oxide, copper powder obtained by scattering and solidifying molten copper, electric Analysis of copper powder and these methods 2-3
Copper powder etc. obtained by combining types can be used.
The particle size is usually 100μ or less, but depending on the purpose, particles of 100μ to 1mm can also be used. Note that the metallic copper powder may be a normal commercially available copper powder in which cuprous oxide or cupric oxide, which are examples of copper compounds described later, is present as a film on the surface, or one in which no copper compound is present. is also available. Of course, metallic copper powders having different shapes and particle sizes may also be mixed and used. In addition, although the expression "resin part" is used in this application, the resin has the following meaning. That is, it is a material that has already become a polymer before it is finally cured, or a material that becomes a polymer material through a reaction during curing, and when the composition of the present invention is cured, it becomes conductive. It means a substance from which a cured product can be obtained. The composition of the present invention needs to contain (b), (c), and (d) in addition to (a), or further include (e),
It is not necessary to use four or five separate substances corresponding to (a), (b), (c), (d), (e), for example (c) and ( (a), (b), (c), (d), (e), such as using a resin with a dihydroxybenzene ring that also serves as d).
By using a substance that also serves as some of the
It is also possible to achieve the objective simply by mixing three or two types of substances. Hereinafter, various substances used in the present invention will be explained by giving examples. (1) Copper compounds having only the properties specified in (b) Cuprous chloride, cuprous oxide, cupric oxide, copper acetate, copper salicylate, copper stearate. (2) Substances having only the properties of (c) with a dihydroxybenzene ring: Hydroquinone, catechol, 2-methyl-
Hydroquinone, vinylhydroquinone, tertiarybutylhydroquinone, chlorohydroquinone, phenylhydroquinone, and other substances with the following structures.

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】 (3) 樹脂即ち(d)としての性質のみを有する物質 ユリア−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−
ホルムアルデヒド樹脂、フエノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬
化性飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリフエニレンオキサイド樹脂、ポリフ
エニレンサルフアイド樹脂、脂肪酸系アルキツ
ド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、エ
ポキシアクリレート樹脂、アリール樹脂(ジア
リルフタレート樹脂など)、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリオキシメチレン樹脂、スピロ
アセタール樹脂、シリコーン樹脂、ポリサルフ
アイドゴム、アクリル樹脂、スチレン樹脂、オ
レフイン樹脂、ビニルアルカノエート樹脂、ブ
タジエン系ゴム、イソブチレン系ゴム、エチレ
ン−プロピレン系ゴム、クロロプレンゴム、エ
プクロルヒドリンゴム、セルロース系樹脂、ロ
ジン系樹脂、フツ素系樹脂、ホスホニトリルク
ロライド系樹脂、エチルシリケートポリマー。 (4) ジヒドロキシベンゼン環を有する銅化合物、
即ち(b)と(c)を兼ねる物質 前記(2)項の物質の銅塩、
[Formula] (3) Resin, that is, a substance that has only the properties as (d) Uria formaldehyde resin, melamine
Formaldehyde resin, phenol-formaldehyde resin, unsaturated polyester resin, thermosetting saturated polyester resin, polycarbonate resin, polyphenylene oxide resin, polyphenylene sulfide resin, fatty acid alkyd resin, polyamide resin, polyimide resin, epoxy acrylate resin , aryl resin (diallyl phthalate resin, etc.), epoxy resin, urethane resin, polyoxymethylene resin, spiroacetal resin, silicone resin, polysulfide rubber, acrylic resin, styrene resin, olefin resin, vinyl alkanoate resin, butadiene rubber , isobutylene rubber, ethylene-propylene rubber, chloroprene rubber, epchlorohydrin rubber, cellulose resin, rosin resin, fluorine resin, phosphonitrile chloride resin, ethyl silicate polymer. (4) a copper compound having a dihydroxybenzene ring,
That is, a substance that serves both (b) and (c); a copper salt of the substance in item (2) above;

【式】の銅塩。 (5) 樹脂状の銅化合物即ち(b)と(d)を兼ねる物質 飽和又は不飽和ポリエステル樹脂の銅塩、ビ
ニルクロライド−ビニルアセテート−マレイン
酸コポリマーの銅塩、スルホエチルメタアクリ
レート−エチルアクリレートの銅塩、ロジン系
樹脂の銅塩。 (6) ジヒドロキシベンゼン環を有する樹脂、即ち
(c)と(d)を兼ねる物質 ビニルハイドロキノンのポリマーやコポリマ
ー系樹脂、ハイドロキノン−ホルムアルデヒド
系フエノール樹脂、ハイドロキノン−フエノー
ル−ホルムアルデヒド系フエノール樹脂、カテ
コール−ホルムアルドヒド系フエノール樹脂、
1、4−ジヒドロキシナフタレン−ホルムアル
デヒド樹脂。 (7) ジヒドロキシベンゼン環を有する樹脂状銅化
合物即ち(b)、(c)及び(d)を兼ねる物質 ビニルハイドロキノン−メタアクリル酸コポ
リマーの銅塩、前記(6)項の銅塩。 (8) キレート形成物質、即ち(e)としての性質を示
す物質 本発明に適するキレート形成物質としては、
2価の銅イオンについての安定度定数Kmaの
対数値が、25℃、イオン強度0.1に於て3以上、
好ましくは5以上のものを用いる。これらの物
質としては以下のようなものがある。 8−1 脂肪族アミン及びその誘導体 エチレンジアミン、N−(2−ヒドロキシ
エチル)エチレンジアミン、トリメチレンジ
アミン、1、2−ジアミノシクロヘキサン、
トリエチレンテトラミン、2−アミノメチル
ピリジン。 8−2 芳香族ポリアミン プリン、アデニン、2−アミノメチルピリ
ジン、ヒスタミン。 8−3 β−ジケトン アセチルアセトン、トリフルオルアセチル
アセトン、4、4、4−トルフルオル−1−
フエニル−1、3−ブタンジオン、ヘキサフ
ルオルアセチルアセトン、ベンゾイルアセト
ン、ジベンゾイルメタン、5、5−ジメチル
−1、3−シクロヘキサンジオン。 8−4 フエノール性化合物 オキシン、2−メチルオキシン、オキシン
−5−スルホン酸、ジメチルグリオキシム、
1−ニトロソ−2−ナフトール、2−ニトロ
ソ−1−ナフトール、サリチルアルデヒド。 8−5 その他 2、2′−ジピリジル、1、10−フエナント
ロリン。 前記したキレート形成物質のなかで、臭気及び
皮ばり現象防止効果の点から、上記8−3、8−
4、8−5に例示した物質が好ましく、なかでも
アセチルアセトン、4、4、4−トリフルオル−
1−フエニル−1、3−ブタンジオン、ベンゾイ
ルアセトン、ジベンゾイルメタン、5、5−ジメ
チル−1、3−シクロヘキサンジオン、オキシ
ン、オキシン−5−スルホン酸、ジメチルグリオ
キシム、1−ニトロソ−2−ナフトール、サリチ
ルアルデヒド、2、2′−ジピリジル、1、10−フ
エナントロリンが特に好ましい。 尚、(e)としての性質と他の(b)、(c)、(d)などの性
質を兼ねた物質でも勿論使用できる。 本発明における銅化合物の使用割合は金属銅粉
に対する銅化合物の銅分として0.1〜30重量%、
好ましくは0.2〜10重量%となるようにする。 本発明に於けるジヒドロキシベンゼン環部の使
用割合は、銅化合物中の銅をすべて還元するに足
る量を基準として、80重量%以上が好ましく、特
に95重量%以上が好ましい。その上限値は特に制
約はないが、一般的には本発明に用いる金属銅粉
を除く非揮発性成分の中に占める割合が95重量%
以下である。 本発明に於ける樹脂部分の使用割合は、本発明
に用いる組成物の全不揮発分に対する割合で5〜
60重量%、好ましくは8〜45重量%である。 なお、上記した本発明に適する(c)および(c)を兼
ねる物質、すなわち、前記(2)、(4)、(6)、(7)のごと
き物質のなかで、(d)に結合された形で(c)を用いる
上記(6)や(7)のごとき物質が特に好ましく、そうで
ない形の、たとえば、(2)や(4)のごとき物質を用い
ると、本発明の導電性の組成物を硬化した後、実
際の応用において、ハンダ処理を行う場合、260
℃のハンダ槽に10秒程度の浸漬では異常は観察さ
れないが、たとえば、300℃のハンダ槽に10秒浸
漬するような苛酷な条件においては、フクレ等の
異常が発生することがある。 本発明に於て樹脂部分として用いる樹脂は、そ
れ自体は固体であつてもよいが硬化の際、それ自
身で又は有機溶剤や水或いは可塑剤等の存在で実
質或いはみかけ上液状になるものであればよい。
樹脂の使用形態としては、有機溶剤に溶かした溶
剤型タイプ、水溶性タイプ、水乳化タイプ、溶剤
乳化タイプ、100%液状樹脂タイプ、100%固体樹
脂で硬化の際の温度で液状となるタイプの如きい
ずれでもよく、特に制限はない。これら各樹脂を
硬化させるには以下に示す方法を用いるとよい。 即ち、これらが、常温乾燥型樹脂(ラツカータ
イプ)の如き乾燥により揮発性物質を蒸発させな
がら硬化させるとか、又、これらが(a)熱硬化性を
有する場合は、その種類に応じ、適宜、(1)熱で硬
化させるか、(2)不飽和ポリエステル樹脂、アクリ
レート樹脂の如き、ビニル重合で硬化する樹脂の
場合は、アゾビスイソブチロニトリル、ジ−t−
ブチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイ
ドなどの如き、公知の重合開始剤や電子線によ
り、エポキシ樹脂の場合はトリエチレンテトラミ
ン、ポリアミドポリアミン、ジアミノジシクロヘ
キシルメタン、ジアミノジフエニルメタン、アジ
ピン酸ジヒドラジド、イミダゾール誘導体、ジシ
アンジアミド、三弗化硼素・エチルアミン錯体、
ポリメルカプト化合物、多価カルボン酸やその無
水物などの如き、公知の硬化剤を用いて、フエノ
ール樹脂の場合にはヘキサメチレンテトラミン、
パラホルムアルデヒド、P−トルエンスルホン酸
などの如き硬化剤又は硬化促進剤により、又、酸
化硬化型の樹脂の場合にはナフテン酸鉛、オクチ
ル酸コバルトなどの如き公知のドライヤーなどを
用いることにより、又、(b)熱可塑性の場合には、
加熱後冷却することにより、それぞれ公知の手段
で硬化させればよい。要は、樹脂の種類性質に応
じ、それらを硬化させる公知の手段により硬化さ
せればよい。 なお、本発明における還元作用は前記樹脂が硬
化する段階で発揮されるのがよく、この還元反応
が前記硬化に比し、早すぎたり、或いは遅すぎた
りすると、本発明の方法で得られる目的物の導電
性の耐久性に影響するので、この硬化条件や実用
の場合の作業性等から、等に還元の温度は通常
250℃以下、好ましくは常温から200℃、特に好ま
しくは50℃から180℃である。従つて、このよう
な条件を満足するようにジヒドロキシベンゼン環
部分を含む物質、金属銅粉、銅化合物、樹脂、塩
基性物質などの選定を行なえばよい。尚、本発明
の組成物にはアミノ基を含む物質等の塩基性物質
を存在させるのが好ましい。 又、本発明に於て還元作用を生じさせる際の雰
囲気は、窒素、炭酸ガスの如き不活性ガス、或い
は空気中の如く、いずれの雰囲気下に於てもよ
く、特に雰囲気の制限はない。 本発明の方法いおいて樹脂を硬化させる際に、
あらかじめ以下の如き公知の各種添加剤を配合さ
せてもよい。 例えば、メルカプトプロピオン酸、四臭化炭素
の如き分子量調節剤、P−ベンゾキノン、フエノ
チアジンの如き安定剤、ブチルグリシジルエーテ
ル、フエニルグリシジルエーテルの如き反応性希
釈剤、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフ
エートの如き可塑剤、金、銀、パラジウムの如き
周期律表b族及び族に属する貴金属及びこれ
らの化合物、水酸化リチウム、水酸化カリウムの
如き無機塩基、ジメチルベンジルアミン、エタノ
ールアミン、トリス(N、N−ジメチルアミノメ
チル)フエノール、N、N−ジメチルアニリンな
どの如きアミノ化合物、酢酸、蓚酸、安息香酸の
如き酸類、正リン酸ソーダ、硼砂、酢酸カリの如
きPH調節剤、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンの如き粘度調節剤、オレイン酸カリ、
ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、ポリオキシ
エチレンラウリルエーテル、クタデシルピリジニ
ウムクロライドの如き界面活性剤、水、トルエ
ン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルの如き溶剤やその他、パラフイ
ンワツクス、カーボンブラツク、メチルエチルケ
トオキシム、滑剤、難燃剤、着色剤、発泡剤、揺
変剤などがある。 本発明の組成物を硬化するに際しては、各種基
材例えば、ポリスルホン樹脂のシート、フエノー
ル樹脂積層板、エポキシ樹脂積層板、ポリイミド
フイルム、不織布の如き有機物、ガラス、アルミ
ナ等の無機物、塗装鉄板、塗布アルミ板等に塗布
或いは印刷して硬化させてもよく、又、型の中に
入れて形成してもよい。 本発明の組成物を硬化させて得た導電性硬化物
については用途、使用環境、信頼性高揚などに留
意した場合、以下の如き公知の各種保護処理をし
てもよい。 即ち、このような処理としては、ニツケル、銅
などによる電気又は化学メツキ処理、エポキシ樹
脂、フエノール樹脂、ロジン系物質、ポリエチレ
ンフイルム等による被覆、イミダゾール系処理
剤、シリコーン系処理剤などによる表面処理など
がある。 本発明の組成物の使用方法には、塗料、接着
剤、印刷インキ、成形品などがあり、電気、電子
の各工業分野では導電回路、クロスオーバー回
路、高周波防護回路、放熱回路、スルーホール部
分の充填、部品の接着などの如き用途、自動車工
業分野では、窓に於ける露結防止回路、住宅の分
野ではヒーター等実用上広い応用分野を有し、工
業的に非常に有用である。 本発明の組成物の応用例の1つとしてスクリー
ン印刷によりプリント回路板があるが、この場
合、従来の銀系の印刷インキに比し、いわゆるシ
ルバーマイグレーシヨンによる回路間の短絡がな
いことも、本発明の実用価値を高める。 以下に実施例を記載するが、以下に記載する部
及び%はそれぞれ重量部及び重量%を意味し、ま
た例中に記載する濃度は、全成分中の該成分の割
合を重量%で表わす。 以下に記載する実施例中の「スクリーン印刷法
による印刷体」は下記の如き方法で形成したもの
である。被印刷物面に、全長200mm、幅0.5mmの線
の間隔が0.5mmでS字形の線状の印刷体を次の方
法で形成した。即ち180メツシユのテトロン製ス
クリーンの上に写真的製版法を用いてスクリーン
全体の膜厚が145μとなる様に直線法により版膜
を作り、且つ必要な画線以外の目を塞いだ構造に
したスクリーン印刷用スクリーンを作成して、そ
れぞれの実験で用いる導電用組成物をゴム硬度No.
70のウレタンゴムを用いたスクイジーで、被印刷
物面上に手刷りで印刷した後、それぞれの実験の
硬化条件で硬化させて印刷体を形体した。 また導電性の目安として記載した抵抗値、比抵
抗値はそれぞれテスター(横河電機社製、Type
−3201)、ホイトストンブリツジ(横河電機社製、
Type−2755)を用いて印刷体の硬化物の両端に
接触させ抵抗値を測定し、上記硬化物の厚み、長
さ及び幅を測定して比抵抗値を算出した。 以下に記載する実施例中の耐久試験は、恒温恒
湿試験器(ETAC社製卓上型温湿度試験器JLH
−400−40型)を用いて50℃、RH95%、1000時
間の条件下で促進試験を行ない、各時間ごとに印
刷体を取り出し、室温下に1時間放置した後、抵
抗値及び外観の変化を測定した。 実施例 1 片側表面を酢酸エチルで清浄にした6枚のそれ
ぞれのガラス板(厚み1.7mm)の面上に、下記実
験番号1〜2で得た各液状組成物を上記「スクリ
ーン印刷法による印刷体」の形成方法により、厚
さ約60μとなるように印刷し、この様にして得た
それぞれの印刷体を空気雰囲気下の恒温装置中に
て100℃で20分間予備乾燥した後、実験番号−1
の印刷体については、150℃で60分加熱硬化させ、
実験番号−2、3、4、5、6の印刷体について
は165℃で90分加熱硬化して得た硬化塗膜を、室
温下に放置冷却後、それぞれの抵抗値、比抵抗値
を測定し、ひき続いて同試験体を耐久試験に供
し、その結果を表−1に示した。 実験番号−1(比較例) (イ)工業用銅粉(不定形、平均15μ、酸化銅約2.0
%含有)を110部、(ロ)硬化後不揮発分80%である
アルコール可溶性レゾール型フエノール樹脂(フ
エノール1モルとホルマリン3モルとから得られ
たレゾール型フエノール樹脂)23部、(ハ)2−ヒド
ロキシ−3−フエノキシプロピルホスフアイト20
部、(ニ)ジメチルアミノエタノール4部、(ホ)ジアセ
トンアルコールとエチレングリコールモノメチル
エーテル(1:1)からなる混合媒体29部、(ヘ)酢
酸2部を混合してなる液状組成物。 実験番号−2(本発明の例) (イ)工業用銅粉(不定形、平均粒径15μ、酸化銅
約2.0%含有)110部、(ロ)エチレングリコールモノ
ブチルエーテルに溶解した樹脂分80%のハイドロ
キノン変性レゾール型フエノール樹脂(ハイドロ
キノン2モルとフエノール0.5モルとホルマリン
6モルをアンモニア触媒の存在下で反応させて得
た。)を42部、(ハ)トリス(NN′−ジメチルアミノ
メチル)フエノール0.2部、(ニ)アセト酢酸エチル
12部を混合してなる液状組成物。 実験番号−3(本発明の例) 上記実験番号−2の(イ)、(ロ)は同じで(ハ)として
N、N′−ジメチルアニリンを0.5部、(ニ)として4、
4、4−トリフルオル−1−フエニル−1、3−
ブタンジオン8部、(ホ)ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル5部からなる液状組成物。 実験番号−4(本発明の例) 上記実験番号−3において(ニ)として2、2′−ジ
ピリジル5部、その他同組成からなる液状組成
物。 実験番号−5(本発明の例) (イ)工業用フレーク状銅粉(平均粒径20μ、酸化
銅含量約3.5%)を25部と工業用電解銅粉(平均
粒径15μ、酸化銅含量約0.5%)を100部、(ロ)メチ
ル化メチロールメラミン樹脂10部、(ハ)カテコール
7部、(ニ)2−メチルハイドロキノン18部、(ホ)ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル15部、(ヘ)ヘ
キサメチレンテトラミン2部、(ト)工業用銀粉(樹
Copper salt of [formula]. (5) Resin-like copper compounds, i.e. substances that serve as both (b) and (d) Copper salts of saturated or unsaturated polyester resins, copper salts of vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymers, sulfoethyl methacrylate-ethyl acrylate Copper salt, copper salt of rosin resin. (6) Resin having dihydroxybenzene ring, i.e.
Substances that serve both (c) and (d) Vinyl hydroquinone polymers and copolymer resins, hydroquinone-formaldehyde phenolic resins, hydroquinone-phenol-formaldehyde phenolic resins, catechol-formaldehyde phenolic resins,
1,4-dihydroxynaphthalene-formaldehyde resin. (7) A resinous copper compound having a dihydroxybenzene ring, that is, a substance that also serves as (b), (c), and (d): a copper salt of a vinylhydroquinone-methacrylic acid copolymer, the copper salt of item (6) above. (8) Chelate-forming substances, that is, substances exhibiting properties as (e) Chelate-forming substances suitable for the present invention include:
The logarithm value of the stability constant Kma for divalent copper ions is 3 or more at 25°C and ionic strength 0.1,
Preferably, 5 or more are used. These substances include the following: 8-1 Aliphatic amines and their derivatives Ethylenediamine, N-(2-hydroxyethyl)ethylenediamine, trimethylenediamine, 1,2-diaminocyclohexane,
Triethylenetetramine, 2-aminomethylpyridine. 8-2 Aromatic polyamine Purine, adenine, 2-aminomethylpyridine, histamine. 8-3 β-diketone acetylacetone, trifluoroacetylacetone, 4,4,4-tolufluoro-1-
Phenyl-1,3-butanedione, hexafluoroacetylacetone, benzoylacetone, dibenzoylmethane, 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione. 8-4 Phenolic compounds oxine, 2-methyloxine, oxine-5-sulfonic acid, dimethylglyoxime,
1-Nitroso-2-naphthol, 2-nitroso-1-naphthol, salicylaldehyde. 8-5 Others 2,2'-dipyridyl, 1,10-phenanthroline. Among the above-mentioned chelate-forming substances, the above-mentioned 8-3 and 8-
The substances exemplified in 4 and 8-5 are preferred, and among them, acetylacetone, 4,4,4-trifluoro-
1-phenyl-1,3-butanedione, benzoylacetone, dibenzoylmethane, 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione, oxine, oxine-5-sulfonic acid, dimethylglyoxime, 1-nitroso-2-naphthol , salicylaldehyde, 2,2'-dipyridyl, and 1,10-phenanthroline are particularly preferred. Of course, it is also possible to use substances that have the properties of (e) and other properties such as (b), (c), and (d). The proportion of the copper compound used in the present invention is 0.1 to 30% by weight as the copper content of the copper compound to the metal copper powder,
The content is preferably 0.2 to 10% by weight. The proportion of the dihydroxybenzene ring used in the present invention is preferably 80% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more, based on the amount sufficient to reduce all the copper in the copper compound. There is no particular restriction on the upper limit, but generally the proportion of non-volatile components excluding the metallic copper powder used in the present invention is 95% by weight.
It is as follows. The proportion of the resin part used in the present invention is from 5 to 50% relative to the total non-volatile content of the composition used in the present invention.
60% by weight, preferably 8-45% by weight. In addition, among the substances (c) and (c) that are suitable for the present invention, that is, the substances (2), (4), (6), and (7), which are combined with (d), Particularly preferable are substances such as (6) and (7) above, in which (c) is used in a certain form.If substances in other forms, such as (2) and (4), are used, the conductive properties of the present invention are After curing the composition, when performing soldering in practical applications, 260
No abnormalities are observed when immersed in a solder bath at 300°C for about 10 seconds, but under severe conditions such as immersion in a solder bath at 300°C for 10 seconds, abnormalities such as blistering may occur. The resin used as the resin part in the present invention may be solid in itself, but it must not become substantially or apparently liquid by itself or in the presence of an organic solvent, water, plasticizer, etc. during curing. Good to have.
Usage forms of resin include solvent type dissolved in organic solvent, water soluble type, water emulsion type, solvent emulsion type, 100% liquid resin type, and 100% solid resin type that becomes liquid at the temperature during curing. Any of the following may be used, and there is no particular restriction. The following methods may be used to cure each of these resins. That is, if these are cured while evaporating volatile substances by drying, such as room temperature drying type resins (Latzker type), or if they have (a) thermosetting properties, depending on the type, ( 1) cured by heat or (2) for resins cured by vinyl polymerization, such as unsaturated polyester resins and acrylate resins, azobisisobutyronitrile, di-t-
In the case of epoxy resins, triethylenetetramine, polyamide polyamine, diaminodicyclohexylmethane, diaminodiphenylmethane, adipic acid dihydrazide, imidazole derivatives, dicyandiamide, etc. , boron trifluoride/ethylamine complex,
Using known curing agents such as polymercapto compounds, polyhydric carboxylic acids and their anhydrides, hexamethylenetetramine in the case of phenolic resins,
By using a curing agent or curing accelerator such as paraformaldehyde or P-toluenesulfonic acid, or in the case of an oxidative curing type resin, by using a known dryer such as lead naphthenate or cobalt octylate. , (b) for thermoplastics,
What is necessary is just to harden by a well-known means, respectively, by cooling after heating. In short, the resin may be cured by any known means depending on the type and nature of the resin. Note that the reducing action in the present invention is preferably exerted at the stage of curing the resin, and if this reduction reaction is too rapid or slow compared to the curing, the purpose obtained by the method of the present invention may be impaired. Since it affects the durability of the conductivity of the material, the reduction temperature is usually set at
The temperature is 250°C or less, preferably room temperature to 200°C, particularly preferably 50°C to 180°C. Therefore, a substance containing a dihydroxybenzene ring moiety, a metallic copper powder, a copper compound, a resin, a basic substance, etc. may be selected so as to satisfy such conditions. Incidentally, it is preferable that a basic substance such as a substance containing an amino group be present in the composition of the present invention. Further, in the present invention, the atmosphere in which the reducing action is caused may be any atmosphere such as nitrogen, an inert gas such as carbon dioxide, or air, and there is no particular restriction on the atmosphere. When curing the resin in the method of the present invention,
Various known additives such as those listed below may be added in advance. For example, molecular weight regulators such as mercaptopropionic acid, carbon tetrabromide, stabilizers such as P-benzoquinone, phenothiazine, reactive diluents such as butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, etc. Noble metals belonging to group B and groups of the periodic table such as gold, silver, palladium and their compounds, inorganic bases such as lithium hydroxide, potassium hydroxide, dimethylbenzylamine, ethanolamine, tris(N,N - amino compounds such as (dimethylaminomethyl)phenol, N,N-dimethylaniline, acids such as acetic acid, oxalic acid, benzoic acid, pH regulators such as sodium orthophosphate, borax, potassium acetate, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone. Viscosity modifiers such as potassium oleate,
Surfactants such as sodium dodecylbenzenesulfonate, polyoxyethylene lauryl ether, and tadecyl pyridinium chloride, solvents such as water, toluene, methyl ethyl ketone, and ethylene glycol monoethyl ether, paraffin wax, carbon black, methyl ethyl ketoxime, and lubricants. , flame retardants, colorants, blowing agents, thixotropic agents, etc. When curing the composition of the present invention, various substrates such as polysulfone resin sheets, phenolic resin laminates, epoxy resin laminates, polyimide films, organic materials such as non-woven fabrics, glass, inorganic materials such as alumina, painted iron plates, coatings, etc. It may be applied or printed on an aluminum plate or the like and cured, or it may be formed by placing it in a mold. The conductive cured product obtained by curing the composition of the present invention may be subjected to various known protective treatments as described below, taking into consideration the intended use, environment of use, enhancement of reliability, etc. That is, such treatments include electrical or chemical plating with nickel, copper, etc., coating with epoxy resin, phenolic resin, rosin-based substances, polyethylene film, etc., surface treatment with imidazole-based processing agents, silicone-based processing agents, etc. There is. The composition of the present invention can be used in paints, adhesives, printing inks, molded products, etc. In the electrical and electronic industrial fields, it is used in conductive circuits, crossover circuits, high frequency protection circuits, heat dissipation circuits, and through-hole parts. It has a wide range of practical applications, such as filling, adhesion of parts, etc. in the automobile industry, dew condensation prevention circuits on windows, and heaters in the housing field, and is extremely useful industrially. One example of the application of the composition of the present invention is printed circuit boards by screen printing; in this case, compared to conventional silver-based printing inks, there is no short circuit between circuits due to so-called silver migration. Enhances the practical value of the present invention. Examples will be described below. Parts and % hereinafter mean parts by weight and % by weight, respectively, and concentrations described in the examples represent the proportion of the component in all components in % by weight. The "printed material by screen printing method" in the examples described below was formed by the following method. An S-shaped linear printing material having a total length of 200 mm and a width of 0.5 mm with an interval of 0.5 mm was formed on the surface of the printing material by the following method. That is, a film was made using a straight line method using a photographic engraving method on a 180-mesh Tetron screen so that the film thickness of the entire screen was 145 μm, and the structure was such that the screen was closed except for the necessary image lines. A screen for screen printing was created, and the conductive composition used in each experiment was adjusted to rubber hardness No.
After hand-printing onto the printing surface using a squeegee using No. 70 urethane rubber, the printed material was shaped by curing under the curing conditions of each experiment. In addition, the resistance value and specific resistance value listed as a guide for conductivity are measured using a tester (manufactured by Yokogawa Electric Corporation, Type
-3201), Wheatstone Bridge (manufactured by Yokogawa Electric Corporation,
Type-2755) was used to contact both ends of the cured product of the printed material to measure the resistance value, and the thickness, length, and width of the cured product were measured to calculate the specific resistance value. The durability tests in the examples described below were carried out using a constant temperature and humidity tester (ETAC's tabletop temperature and humidity tester JLH).
-400-40 type) under the conditions of 50℃, RH95%, and 1000 hours. After each time, the printed material was taken out and left at room temperature for 1 hour, and the resistance value and appearance changed. was measured. Example 1 Each of the liquid compositions obtained in Experiments 1 and 2 below was printed by the above-mentioned "screen printing method" on the surface of each of six glass plates (thickness 1.7 mm) whose one surface had been cleaned with ethyl acetate. Each printed body obtained in this way was pre-dried at 100℃ for 20 minutes in a thermostat in an air atmosphere, and then the experimental number was -1
For printed matter, heat cure at 150℃ for 60 minutes,
For the printed bodies of experiment numbers 2, 3, 4, 5, and 6, the cured coatings obtained by heating and curing at 165℃ for 90 minutes were left to cool at room temperature, and the resistance and specific resistance values of each were measured. Subsequently, the same test specimen was subjected to a durability test, and the results are shown in Table 1. Experiment number-1 (comparative example) (a) Industrial copper powder (amorphous, average 15μ, copper oxide approximately 2.0
(b) 23 parts of alcohol-soluble resol-type phenolic resin (resol-type phenolic resin obtained from 1 mole of phenol and 3 moles of formalin) with a nonvolatile content of 80% after curing, (c) 2- Hydroxy-3-phenoxypropyl phosphite 20
(iv) 4 parts of dimethylaminoethanol, (e) 29 parts of a mixed medium consisting of diacetone alcohol and ethylene glycol monomethyl ether (1:1), and (f) 2 parts of acetic acid. Experiment No. 2 (Example of the present invention) (a) 110 parts of industrial copper powder (amorphous, average particle size 15μ, containing about 2.0% copper oxide), (b) 80% resin dissolved in ethylene glycol monobutyl ether 42 parts of hydroquinone-modified resol type phenolic resin (obtained by reacting 2 moles of hydroquinone, 0.5 moles of phenol, and 6 moles of formalin in the presence of an ammonia catalyst), (c) tris(NN'-dimethylaminomethyl)phenol 0.2 parts, (d)ethyl acetoacetate
A liquid composition made by mixing 12 parts. Experiment No. 3 (Example of the present invention) (A) and (B) of Experiment No. 2 above are the same; (C) is 0.5 part of N,N'-dimethylaniline; (D) is 4;
4,4-trifluoro-1-phenyl-1,3-
A liquid composition consisting of 8 parts of butanedione and 5 parts of (e)diethylene glycol monomethyl ether. Experiment No. 4 (Example of the Present Invention) A liquid composition comprising 5 parts of 2,2'-dipyridyl as (d) in Experiment No. 3 above, and the same composition. Experiment No. 5 (Example of the present invention) (a) 25 parts of industrial flaky copper powder (average particle size 20μ, copper oxide content approximately 3.5%) and industrial electrolytic copper powder (average particle size 15μ, copper oxide content) 0.5%), (b) 10 parts of methylated methylolmelamine resin, (c) 7 parts of catechol, (d) 18 parts of 2-methylhydroquinone, (e) 15 parts of diethylene glycol monomethyl ether, (f) hexamethylene. 2 parts of tetramine, (g) industrial silver powder (wood)

【表】 枝状、平均粒径1μ)10部を混合してなる液状組
成物。 実験番号−6(本発明の例) 上記実験番号−5の組成物にさらにアセチルア
セトンを10部添加してなる液状組成物。 実験番号−7(比較例) 実験番号−5においてカテコール7部と2−メ
チルハイドロキノン18部の代わりに0.01部のカテ
コール(メチロール化メラミン樹脂に対し
1000ppm*)を用いる以外は実験番号−5と同様
にして液状組成物を得たのち実験番号−5と同じ
方法でスクリーン印刷で印刷し加熱硬化した。初
期抵抗値(Ω)を測定したところ∞であり導電性
は全く認められなかつた。その理由は還元剤であ
るカテコールの添加量が少いために銅粉表面の酸
化銅が還元されなかつたためと考えられる。( *
用いた銅化物中の銅を還元する還元剤量に対し約
0.5重量%に相当) なお、表−1中、液状組成物の皮ばり現象の有
無とは、各実験番号で得た液状組成物100部を内
容積100mlの広口ガラス瓶に入れ密栓をして放置
したのちの経時変化を観察した結果である。 さらに、実施例1において、実験番号−2およ
び−5の液状組成物を、ガラス板の代りに厚さ
1.5mmのエポキシ樹脂積層板の面上に、前記した
方法で、スクリーン印刷および加熱硬化させた
後、260℃のハンダ浴に10秒間浸漬したところ、
実験番号−2および−5から得られた導電性硬化
物は、両者共にフクレ等の異常は発生しなかつた
が、別途、300℃のハンダ浴に10秒浸漬した際は、
実験番号−2の組成物から得られた導電性硬化物
には異常は発生しなかつたのに対し、実験番号−
5の組成物から得られた導電性硬化物には僅かな
がらフクレが発生した。 実施例 2 実施例1の実験番号−2の組成物に於いて(ニ)ア
セト酢酸エチル12部の代りに表−2に示す種類と
添加量のキレート形成物質を混合してなる液状組
成物を用いて、加熱硬化条件を除いては実施例1
と同じ方法で、硬化塗膜を作り、実施例1と同じ
テストをした。尚、テスト結果及び硬化塗膜を作
る際の加熱硬化条件を表−3に示した。尚、表−
12の実験番号14及び15の液状組成物に於いてはエ
チレングリコールモノブチルエーテルは添加しな
かつた。
[Table] A liquid composition made by mixing 10 parts of branched, average particle size 1μ). Experiment No. 6 (Example of the Present Invention) A liquid composition obtained by further adding 10 parts of acetylacetone to the composition of Experiment No. 5 above. Experiment No.-7 (Comparative Example) In Experiment No.-5, instead of 7 parts of catechol and 18 parts of 2-methylhydroquinone, 0.01 part of catechol (based on methylolated melamine resin) was used.
A liquid composition was obtained in the same manner as Experiment No. 5 except that 1000 ppm * ) was used, and then printed by screen printing and heat cured in the same manner as Experiment No. 5. When the initial resistance value (Ω) was measured, it was ∞, and no conductivity was observed. The reason for this is thought to be that the copper oxide on the surface of the copper powder was not reduced due to the small amount of the reducing agent catechol added. ( *
About the amount of reducing agent to reduce copper in the copperide used.
(equivalent to 0.5% by weight) In Table 1, the presence or absence of the scalding phenomenon of the liquid composition means that 100 parts of the liquid composition obtained in each experiment number was placed in a wide-mouth glass bottle with an internal volume of 100 ml, the bottle was tightly stoppered, and the liquid composition was left standing. This is the result of observing changes over time. Furthermore, in Example 1, the liquid compositions of experiment numbers -2 and -5 were used instead of the glass plate.
After screen printing and heat curing on the surface of a 1.5 mm epoxy resin laminate using the method described above, it was immersed in a 260°C solder bath for 10 seconds.
The conductive cured products obtained from Experiment No. 2 and -5 did not cause any abnormalities such as blistering, but when separately immersed in a 300°C solder bath for 10 seconds,
No abnormality occurred in the conductive cured product obtained from the composition of experiment number-2, whereas experiment number-2
Slight blistering occurred in the conductive cured product obtained from composition No. 5. Example 2 In the composition of Experiment No. 2 of Example 1, (d) instead of 12 parts of ethyl acetoacetate, a liquid composition was prepared by mixing chelate-forming substances of the type and amount shown in Table-2. Example 1 was used except for the heat curing conditions.
A cured coating film was prepared in the same manner as in Example 1 and tested in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the test results and the heat curing conditions for producing the cured coating. Furthermore, the table-
In the liquid compositions of Experiment Nos. 14 and 15 of 12, ethylene glycol monobutyl ether was not added.

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 (a)金属銅粉、(b)銅化合物、(c)
【式】とからなる群より選ばれた 構造の部分(但しウルシオールからのものを除
く。)、(d)樹脂部分を含有し、前記(c)部分の配合量
として、前記銅化合物中の銅をすべて還元するに
足る量を基準として、80重量%以上を配合するこ
とを特徴とする導電用組成物。 2 (a)金属銅分、(b)銅化合物、(c)
【式】とからなる群より選ばれた 構造の部分(但しウルシオールからのものを除
く。)、(d)樹脂部分、(e)キレート形成物質部分を含
有し、前記(c)部分の配合量として、前記銅化合物
中の銅をすべて還元するに足る量を基準として、
80重量%以上を配合することを特徴とする導電用
組成物。
[Claims] 1 (a) Metallic copper powder, (b) copper compound, (c)
[Formula] Contains a part with a structure selected from the group consisting of A conductive composition characterized by containing 80% by weight or more of copper, based on an amount sufficient to reduce all of the copper. 2 (a) Metallic copper, (b) copper compound, (c)
Contains a part with a structure selected from the group consisting of [Formula] (excluding those from urushiol), (d) a resin part, and (e) a chelate-forming substance part, and a combination of the above (c) part. The amount is based on the amount sufficient to reduce all the copper in the copper compound,
A conductive composition characterized by containing 80% by weight or more.
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