JPH01235201A - サーミスタ用酸化物半導体 - Google Patents
サーミスタ用酸化物半導体Info
- Publication number
- JPH01235201A JPH01235201A JP63061045A JP6104588A JPH01235201A JP H01235201 A JPH01235201 A JP H01235201A JP 63061045 A JP63061045 A JP 63061045A JP 6104588 A JP6104588 A JP 6104588A JP H01235201 A JPH01235201 A JP H01235201A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermistor
- oxide semiconductor
- constant
- atom
- oxide
- Prior art date
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- Pending
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- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高応答性の温度センサとして利用できるとこ
ろの負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体に関するものである。
ろの負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体に関するものである。
従来の技術
従来、汎用ディスク型サーミスタとしては、Mn−Co
−Ni−Cu酸化物系サーミスタ材料であって、しかも
その結晶構造がスピネル構造をとるものが主に用いられ
てきた。サーミスタ材料の電気的特性としては、一般的
に、比抵抗及びサーミスタ定数Bで示される。サーミス
タ定数(以下B定数と記す)は抵抗の温度勾配を表すも
ので。
−Ni−Cu酸化物系サーミスタ材料であって、しかも
その結晶構造がスピネル構造をとるものが主に用いられ
てきた。サーミスタ材料の電気的特性としては、一般的
に、比抵抗及びサーミスタ定数Bで示される。サーミス
タ定数(以下B定数と記す)は抵抗の温度勾配を表すも
ので。
具体的にはサーミスタ材料のバンドギャップに相当する
活性化エネルギーにより決定される。従って、B定数が
大きい程、温度に対する抵抗値変化が大きく、即ち応答
性が良くなる(、tた。比抵抗とB定数には第1図に示
すように相関性があり。
活性化エネルギーにより決定される。従って、B定数が
大きい程、温度に対する抵抗値変化が大きく、即ち応答
性が良くなる(、tた。比抵抗とB定数には第1図に示
すように相関性があり。
現在の汎用サーミスタ材料は図中1で囲んだ領域、つま
り比抵抗が数10〜数100kg・眞、B定 。
り比抵抗が数10〜数100kg・眞、B定 。
数2600〜5000にのものが用いられている。
また、酸化コバルトとリチウムを組合わせた酸化物半導
体としては、一般的に酸化物半導体材料の導電機構の1
つとして説明される原子価制御理論の実例で、古(71
!RWKYらにより取り上げられている。
体としては、一般的に酸化物半導体材料の導電機構の1
つとして説明される原子価制御理論の実例で、古(71
!RWKYらにより取り上げられている。
(Philips Re5eroh Report
5173しかしながら、vxawxyらの検討はあ
くまでも研究的な段階で終っており、サーミスタとして
の用途開発以前のものであって、サーミスタ材料として
の検討は二本によって記載されたもの((株)日立製作
所、中央研究所創立二十周年記念論文集、P30〜45
.昭和37年)があるだけである。二本の検討結果によ
れば、比抵抗及びB定数とも低く、サーミスタとして適
するものではなく、これに準するものと記載されている
。
5173しかしながら、vxawxyらの検討はあ
くまでも研究的な段階で終っており、サーミスタとして
の用途開発以前のものであって、サーミスタ材料として
の検討は二本によって記載されたもの((株)日立製作
所、中央研究所創立二十周年記念論文集、P30〜45
.昭和37年)があるだけである。二本の検討結果によ
れば、比抵抗及びB定数とも低く、サーミスタとして適
するものではなく、これに準するものと記載されている
。
発明が解決しようとする課題
従来より、自動車の水温計用あるいはアイロンの温度セ
ンサ用等として、応答性を良くすることを目的にした、
比抵抗が低(、B定数の高いサーミスタ材料が要望され
てきたが、上記第1図の汎用サーミスタ材料ではこの要
望を満足することができなかった。
ンサ用等として、応答性を良くすることを目的にした、
比抵抗が低(、B定数の高いサーミスタ材料が要望され
てきたが、上記第1図の汎用サーミスタ材料ではこの要
望を満足することができなかった。
本発明は、この要望を満足できるサーミスタ材料、すな
わちサーミスタ用酸化物半導体を提供することを目的と
するものである。
わちサーミスタ用酸化物半導体を提供することを目的と
するものである。
課題を解決するための手段
本発明は上記要望を達成するために、前述のCo−Li
系酸化物半導体を見直し、改良を加えることによって解
決できたものである。本発明のサーミスタ用酸化物半導
体は、金属酸化物の焼結混合体よりなり、その金属元素
としてコバルト(Go)To、O〜98.0原子%、銅
(Cu)0.5〜4.0原子%、リチウA (Li)
1.0〜20.0原子%及びハーフニウム(If)o、
es〜5.0原子%の4種を合計100原子%含有して
なるものである。
系酸化物半導体を見直し、改良を加えることによって解
決できたものである。本発明のサーミスタ用酸化物半導
体は、金属酸化物の焼結混合体よりなり、その金属元素
としてコバルト(Go)To、O〜98.0原子%、銅
(Cu)0.5〜4.0原子%、リチウA (Li)
1.0〜20.0原子%及びハーフニウム(If)o、
es〜5.0原子%の4種を合計100原子%含有して
なるものである。
作用
この構成により、第1図の実線で囲まれた領域2の比抵
抗が低く、B定数の高いサーミスタ用酸化物半導体を得
ることができることとなる。ここで、この半導体は酸化
コバルト(Coo) が基本組成であって、四酸化二
コバルト (Cos o4’)が生成される場合には、
ホッピング伝導の寄与により、高B定数を達成すること
ができない。
抗が低く、B定数の高いサーミスタ用酸化物半導体を得
ることができることとなる。ここで、この半導体は酸化
コバルト(Coo) が基本組成であって、四酸化二
コバルト (Cos o4’)が生成される場合には、
ホッピング伝導の寄与により、高B定数を達成すること
ができない。
実施例
以下、本発明の実施例について説明する。
市販の原料である酸化コバルト、酸化鋼、酸化リチウム
及び酸化ハーフニウムを後述する表に示すようにそれぞ
れの原子%の組成になるように配合した。ここで、サー
ミスタ製造工程を例示すると、これらの配合組成物をボ
ールミルで湿式混合し、そのスラリーを乾燥後800℃
の温度で仮焼し、その仮焼物を再びボールミルで湿式粉
砕混合を行った。こうして得られたスラリーを乾燥し、
ポリビニルアルコールをバインダーとして添加混合し、
所要量採って円板状に加圧成形し成形品を多数作り、こ
れらを窒素ガスフロー中12oO℃〜1300℃で2時
間焼成した。こうして得られた円板状焼結体の両面にム
gを主成分とする電極を設けた。これらの試料について
26℃及び60℃での抵抗値(それぞれの”25及びR
5゜)を測定し、26℃での比抵抗p25を下記(1)
式より、またB定数を(2り式より算出した。
及び酸化ハーフニウムを後述する表に示すようにそれぞ
れの原子%の組成になるように配合した。ここで、サー
ミスタ製造工程を例示すると、これらの配合組成物をボ
ールミルで湿式混合し、そのスラリーを乾燥後800℃
の温度で仮焼し、その仮焼物を再びボールミルで湿式粉
砕混合を行った。こうして得られたスラリーを乾燥し、
ポリビニルアルコールをバインダーとして添加混合し、
所要量採って円板状に加圧成形し成形品を多数作り、こ
れらを窒素ガスフロー中12oO℃〜1300℃で2時
間焼成した。こうして得られた円板状焼結体の両面にム
gを主成分とする電極を設けた。これらの試料について
26℃及び60℃での抵抗値(それぞれの”25及びR
5゜)を測定し、26℃での比抵抗p25を下記(1)
式より、またB定数を(2り式より算出した。
(1=電極面積、+1=電極間距離)
これらの結果を下表にまとめて示す。
本日は比較用試料
上述したように、第1図中実線で囲んだ領域2が本発明
の目的とする低比抵抗、高B定数の領域である。この領
域は、センサとして高応答性を達成するために機器側か
ら要望された電気特性をサーミスタ材料の特性(比抵抗
及びB定数)として置き換えたものである。
の目的とする低比抵抗、高B定数の領域である。この領
域は、センサとして高応答性を達成するために機器側か
ら要望された電気特性をサーミスタ材料の特性(比抵抗
及びB定数)として置き換えたものである。
前表において、試料番号1.5,6,9,10゜15.
18は、この実線で囲んだ領域2に含まれない。つまり
機器メーカの要望を満足しないという点から、本発明の
範囲外とした。
18は、この実線で囲んだ領域2に含まれない。つまり
機器メーカの要望を満足しないという点から、本発明の
範囲外とした。
今回の試料は、乾式成形後焼成したものを用いたが、ビ
ードタイプの素子でもよく、素子製造方法に何ら拘束さ
れるものではない。
ードタイプの素子でもよく、素子製造方法に何ら拘束さ
れるものではない。
発明の効果
以上のように本発明によれば、低比抵抗、高B定数を有
する負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体を提供するものであるが、センサとして温度に対して
高応答性が図れること、またこれにより節電できること
になる。また、従来にはない低比抵抗、高B定数のサー
ミスタ材料であることから、センサとして全く新しい用
途が展開されることが期待できるものである。
する負の抵抗温度係数を有するサーミスタ用酸化物半導
体を提供するものであるが、センサとして温度に対して
高応答性が図れること、またこれにより節電できること
になる。また、従来にはない低比抵抗、高B定数のサー
ミスタ材料であることから、センサとして全く新しい用
途が展開されることが期待できるものである。
第1図は負の抵抗温度係数を持つサーミスタ材料の特性
相関図を示す図である。
相関図を示す図である。
Claims (1)
- 金属酸化物の焼結混合体からなり、その構成金属元素と
して、コバルト71.0〜98.0原子%、銅0.6〜
4.0原子%、リチウム1.0〜20.0原子%及びハ
ーフニウム0.5〜5.0原子%の4種を合計100原
子%含有することを特徴とするサーミスタ用酸化物半導
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63061045A JPH01235201A (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | サーミスタ用酸化物半導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63061045A JPH01235201A (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | サーミスタ用酸化物半導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01235201A true JPH01235201A (ja) | 1989-09-20 |
Family
ID=13159871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63061045A Pending JPH01235201A (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | サーミスタ用酸化物半導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01235201A (ja) |
-
1988
- 1988-03-15 JP JP63061045A patent/JPH01235201A/ja active Pending
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