JPH01212025A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
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- JPH01212025A JPH01212025A JP63035769A JP3576988A JPH01212025A JP H01212025 A JPH01212025 A JP H01212025A JP 63035769 A JP63035769 A JP 63035769A JP 3576988 A JP3576988 A JP 3576988A JP H01212025 A JPH01212025 A JP H01212025A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はバッファ増幅器回路のレイアウト面積を縮少さ
せることが可能な半導体集積回路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit capable of reducing the layout area of a buffer amplifier circuit.
従来の技術
近年、半導体集積回路が高集積化され、回路レイアウト
面積の縮少化も同時に求められている。2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor integrated circuits have become highly integrated, and there is also a demand for reduction in circuit layout area.
特に電流駆動能力が必要なバッファ増幅器は大きなレイ
アウト面積を占めている。In particular, buffer amplifiers that require current drive capability occupy a large layout area.
以下に従来のバッファ増幅器回路(以下バッファ回路と
記す)について説明する。A conventional buffer amplifier circuit (hereinafter referred to as a buffer circuit) will be described below.
第2図は従来の半導体集積回路で設計されたバッファ回
路を示すものである。第2図において、DinとD i
rtは信号入力端子であり、信号入力端子Dinに入力
される信号は信号入力端子D inに対して位相が反転
した信号である。C3は制御信号入力端子、0は出力端
子である。A+とA2は2人力のNAND回路であり、
この回路は、2人力がともに高【ハイ)レベルの時のみ
低(ロウ)レベルを出力し、他の入力レベルの場合は、
ハイレベルを出力する。I I、+ 12およびT3は
インバータ回路で、入力信号を反転させる。FIG. 2 shows a buffer circuit designed using a conventional semiconductor integrated circuit. In Figure 2, Din and D i
rt is a signal input terminal, and the signal input to the signal input terminal Din is a signal whose phase is inverted with respect to the signal input terminal D in. C3 is a control signal input terminal, and 0 is an output terminal. A+ and A2 are two-man NAND circuits,
This circuit outputs a low level only when both inputs are at a high level, and for other input levels,
Outputs high level. I, +12 and T3 are inverter circuits that invert the input signal.
T1はPチャネルMOS)ランリスタ(以下PMOST
、と記す)であり、T2はNチャネルMO1ランジスタ
(以下、NMOST2と記す)である。T1 is P channel MOS) run lister (hereinafter referred to as PMOST)
, T2 is an N-channel MO1 transistor (hereinafter referred to as NMOST2).
以上のように構成されたバッファ回路について、以下そ
の動作について説明する。The operation of the buffer circuit configured as above will be explained below.
制御信号入力端子C3からNAND回路A+ とA2に
入力されている信号がハイレベルの場合において、信号
入力端子Dinに入力される信号がハイレベル、信号入
力端子Dinに入力される信号がロウレベルのとき、N
AND回路A、の出力はロウレベル、NAND回路A2
の出力はハイレベルになる。NAND回路A1のロウレ
ベル出力信号は、インバータ回路■1と!2を経て、P
MOST+のゲート電圧をハイレベルにする。また、N
AND回路A2のハイレベル出力信号はインバータ回路
■3を経て、N M OS T 2のゲート電圧をロウ
レベルにする。これによりP M OS T +は導通
状態に、N M OS T 2は遮断状態となるため出
力端子Oのレベルはハイレベルとなる。同様にして制御
信号入力端子C8がハイレベルの場合において信号入力
端子Dinに入力される信号がロウレベル、信号入力端
子Dinに入力される信号がハイレベルのとき、出力端
子Oのレベルはロウレベルとなる。When the signal input from the control signal input terminal C3 to the NAND circuits A+ and A2 is at high level, the signal input to the signal input terminal Din is high level, and the signal input to the signal input terminal Din is low level. , N
The output of AND circuit A is low level, and the output of NAND circuit A2
output becomes high level. The low level output signal of NAND circuit A1 is connected to inverter circuit ■1! After 2, P
Set the gate voltage of MOST+ to high level. Also, N
The high level output signal of the AND circuit A2 passes through the inverter circuit (3) and sets the gate voltage of the N MOST 2 to a low level. As a result, P MOST + becomes conductive, and N MOST T 2 becomes cut off, so that the level of the output terminal O becomes high. Similarly, when the control signal input terminal C8 is at a high level, the signal input to the signal input terminal Din is at a low level, and when the signal input to the signal input terminal Din is at a high level, the level at the output terminal O is at a low level. .
次に制御信号入力端子C8がロウレベルの場合信号入力
端子D inとD inに入力される信号がどのような
信号であってもNAND回路A+とA2に出力される信
号はともにハイレベルとなる。そしてこれらの信号はイ
ンバータ回路1.とI3を経てP M OS T +の
ゲート電圧をロウレベルに、またインバータ回路13を
経てN M OS T 2のゲート電圧をハイレベルと
する。この結果、P M OS T rとNMOST2
はともに遮断状態になり、出力端子Oは電気的に分離し
た状態となり、高インピーダンス状態となる。Next, when the control signal input terminal C8 is at a low level, the signals output to the NAND circuits A+ and A2 are both at a high level, no matter what signals are input to the signal input terminals D in and D in. These signals are then sent to the inverter circuit 1. and I3 to set the gate voltage of P MOST + to low level, and pass through inverter circuit 13 to set the gate voltage of N MOST 2 to high level. As a result, P M OS T r and NMOST2
Both are in a cut-off state, and the output terminal O is in an electrically isolated state and in a high impedance state.
バッファ増幅器の電流駆動能力を大きくし、次段回路の
駆動能力を増すには、PMO3T+ とN M OS
T 2の電流駆動能力IDSを太き(する必要がある。To increase the current drive capability of the buffer amplifier and increase the drive capability of the next stage circuit, PMO3T+ and NMOS
It is necessary to increase the current drive capability IDS of T2.
電流駆動能力IDSは一般に次式のように表わされる。The current drive capability IDS is generally expressed as shown below.
・・・・・・(1)
ここでμはP M OS T Iでは正孔の移動度を示
し、室温では約450c+J/V−seeであり、また
N M OS T 2では電子の移動度を示し、室温で
は約1500cd/V−secである。C:oxはMO
S)ランリスタのゲート酸化膜容量である。Woおよび
L゛はMOSトランジスタのゲート幅およびゲート長で
ある。VQSはMOSトランジスタのゲートとソース間
電圧であり1.VtはMOSトランジスタのしきい値電
圧である。......(1) Here, μ indicates the hole mobility in PMOS T I, which is approximately 450c+J/V-see at room temperature, and in NMOS T2, it indicates the electron mobility. It is about 1500 cd/V-sec at room temperature. C: ox is MO
S) is the gate oxide film capacitance of the run lister. Wo and L' are the gate width and gate length of the MOS transistor. VQS is the voltage between the gate and source of the MOS transistor; 1. Vt is the threshold voltage of the MOS transistor.
P M OS T +の正孔移動度はNMOST2の電
子移動度の約3分の1であり、バッファ回路の出力信号
の立ち上り立ち下り特性を同等にするには、P M O
S T +とN M OS T 2の駆動能力を等しく
する必要がある。このため立ち上り特性を左右するP
N OS T +のゲート幅を立ち下り特性を左右する
NMOST2のゲート幅と比較して約3倍の長さにして
いた。The hole mobility of P MOST + is about one-third of the electron mobility of NMOST2, and in order to equalize the rise and fall characteristics of the output signal of the buffer circuit, P M O
It is necessary to equalize the driving capabilities of S T + and N M OS T 2. For this reason, P which affects the rise characteristics
The gate width of NOST+ was made approximately three times as long as the gate width of NMOST2, which influences the falling characteristics.
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の従来、の構成では、バッファ回路の
P M OS T rのゲート幅がNMOST些のゲー
ト幅に比較して約3倍となり、PMOST+のレイアウ
ト面積が増加し、ひいては、チップ面積が増加するとい
う課題を有していた。Problems to be Solved by the Invention However, in the conventional configuration described above, the gate width of the PMOSTr of the buffer circuit is approximately three times that of the NMOST, and the layout area of the PMOST+ increases. As a result, there was a problem in that the chip area increased.
本発明は上記従来の課題を解決するもので、PMOST
、による出力信号の立ち上りを補助的に電流駆動能力が
PMOSTより約3倍大きいNMO3Tを用いることに
より、レイアウト面積を縮少させ、ひいてはチップ面積
を減少させることができるバッファ回路の半導体集積回
路を提供することを目的とするものである。The present invention solves the above-mentioned conventional problems.
By using NMO3T, which has a current drive capacity approximately three times larger than that of PMOST, to supplement the rise of an output signal due to , a semiconductor integrated circuit of a buffer circuit is provided, which can reduce the layout area and, by extension, the chip area. The purpose is to
課題を解決するための手段
本発明の半導体集積回路は、ドレインが出力端子に、ゲ
ートが第1の入力端子に、ソースが接地点に接続された
第1のNチャンネルMOSトランジスタと、ドレインが
電源端子に、ゲートが第2の入力端子に、ソースが前記
出力端子に接続された第2のNチャンネルMOSトラン
ジスタと、ソ−スが前記電源端子に、ゲートがインバー
タを介して前記第2の入力端子に、ドレインが前記出力
端子に接続されたPチャンネルMOSトランジスタとに
よりバッファ増幅器の出力段を構成するとともに、これ
らを同一半導体基板上に集積化するものである。Means for Solving the Problems The semiconductor integrated circuit of the present invention includes a first N-channel MOS transistor whose drain is connected to an output terminal, whose gate is connected to a first input terminal, and whose source is connected to a ground point, and whose drain is connected to a power supply terminal. a second N-channel MOS transistor having a gate connected to the second input terminal and a source connected to the output terminal; a second N-channel MOS transistor having a source connected to the power supply terminal and a gate connected to the second input terminal via an inverter; The output stage of the buffer amplifier is composed of a terminal and a P-channel MOS transistor whose drain is connected to the output terminal, and these are integrated on the same semiconductor substrate.
作用
この構成によって、バッファ回路の出力信号の立ち上り
特性をPチャンネルMOSトランジスタの駆動能力に比
較して約3倍大きいNチャンネルMOSトランジスタを
補助的に用いることによりレイアウト面積を小さく、ひ
いてはチップ面積を小さ(することができる。また従来
と同じ面積では次段回路の駆動能力を向上させることが
できる。Effect: With this configuration, the layout area can be reduced by using an auxiliary N-channel MOS transistor, which has a rise characteristic of the output signal of the buffer circuit that is approximately three times as large as the drive capability of the P-channel MOS transistor, and thus the chip area. (It is possible to do so. Also, the driving ability of the next stage circuit can be improved with the same area as the conventional one.
実施例
本発明の半導体集積回路の実施例について第1図に示し
たバッファ回路の回路図を参照して説明する。Embodiment An embodiment of the semiconductor integrated circuit of the present invention will be described with reference to the circuit diagram of the buffer circuit shown in FIG.
この回路は、制御信号入力端子C3がNAND回路AI
とA2のそれぞれの一方の入力端子に接続され、信号入
力端子DIofJ4NAND回路A、の他方の入力端子
に、信号入力端子■がNAND回路A2の他方の入力端
子に接続され、NAND回路A+の出力端子がインバー
タ回路りと■2を介して、ソースを電源端子に、ドレイ
ンを出力端子0に接続したPチャンネルMOS)ランリ
スタT+(PMOST+)のゲートに接続され、NAN
D回路A2の出力端子がインバータI3を介して、ドレ
インを出力端子0に、ソースを接地点に接続したNチャ
ンネルMOS)ランリスタT2(NMOST2)のゲー
トに接続され、NチャンネルMOSトランジスタT3
(NMOS T3)のドレインが電源端子に、ゲートが
インバータ回路!1の出力端子に、ソースが出力端子O
に接続さた構成である。In this circuit, the control signal input terminal C3 is connected to the NAND circuit AI.
and A2, and the signal input terminal DIofJ4 is connected to the other input terminal of NAND circuit A, and the signal input terminal ■ is connected to the other input terminal of NAND circuit A2, and the output terminal of NAND circuit A+ is connected to the gate of a P-channel MOS (P-channel MOS) run lister T+ (PMOST+) whose source is connected to the power supply terminal and drain is connected to the output terminal 0 through the inverter circuit 2 and the NAN
The output terminal of the D circuit A2 is connected via an inverter I3 to the gate of an N-channel MOS (N-channel MOS) run lister T2 (NMOST2) whose drain is connected to the output terminal 0 and whose source is connected to the ground point.
The drain of (NMOS T3) is the power supply terminal, and the gate is the inverter circuit! 1 output terminal, the source is output terminal O
This is a configuration connected to the
以上のように構成された半導体集積回路のバッファ回路
について、以下その動作を説明する。The operation of the buffer circuit of the semiconductor integrated circuit configured as described above will be described below.
制御信号入力端子C8からNAND回路AI とA2に
入力されている信号がハイレベルの場合において、信号
入力端子D inに入力される信号がノ1イレベル、信
号入力端子D inの逆相が入力される信号入力端子D
inがロウレベルのとき、NAND回路AIの出力は
ロウレベル、NAND回路A2の出力はハイレベルとな
る。NAND回路AIのロウレベル出力信号は、インバ
ータ■1を介してN M OS T 3のゲート電圧を
ハイレベルに、NAND回路A2のハイレベル出力信号
はインバータI3を介してN M OS T 2のゲー
ト電圧をロウレベルにする。この結果NMO3T3は導
通状態に、NMOST2は遮断状態となり出力端子0の
電位は電源電圧よりN M OS T 3のしきい値電
圧だけ低い電位となる。インバータ■1のノ\イレベル
出力信−号は、インバータI2を経てP M OS T
+のゲート電圧をロウレベルとしてP M OS T
Iを導通状態にする。P M OS T Iは出力端
子Oの電位をNMO3T3により補助的に電源電圧より
N M OS T 3のしきい値電圧だけ低い電位から
電源電圧まで上昇させる働きをする。同様にして、制御
信号入力端子C8がハイレベルの場合において、信号入
力端子Dinに入力される信号がロウレベル、信号入力
端子D inに入力される信号がハイレベルのとき出力
端子0のレベルはロウレベルとなる。When the signals input from the control signal input terminal C8 to the NAND circuits AI and A2 are at high level, the signal input to the signal input terminal D in is at a level of 1, and the opposite phase of the signal input terminal D in is input. signal input terminal D
When in is at a low level, the output of the NAND circuit AI is at a low level, and the output of the NAND circuit A2 is at a high level. The low level output signal of the NAND circuit AI changes the gate voltage of NMOS T 3 to high level through the inverter 1, and the high level output signal of the NAND circuit A2 changes the gate voltage of NMOS T 2 through the inverter I3. to low level. As a result, NMO3T3 becomes conductive, NMOST2 becomes cut off, and the potential of output terminal 0 becomes a potential lower than the power supply voltage by the threshold voltage of NMOS T3. The noise level output signal of inverter ■1 passes through inverter I2 to PMOS T
+ gate voltage as low level P M OS T
Make I conductive. PMOS T I serves to raise the potential of the output terminal O from a potential lower than the power supply voltage by the threshold voltage of NMOS T 3 to the power supply voltage auxiliary by NMO3T3. Similarly, when the control signal input terminal C8 is at a high level, the signal input to the signal input terminal Din is at a low level, and when the signal input to the signal input terminal Din is at a high level, the level at the output terminal 0 is at a low level. becomes.
次に制御信号入力端子C8が、ロウレベルの場合、信号
入力端子D inとDinに入力される信号がどのよう
な信号であっても、NAND回路A、とA2に出力され
る信号は、ともにハイレベルとなる。’NAND回路A
IとA2のハイレベル出力信号は、それぞれインバータ
I、と13を経てNMOST2とMO3T3のゲート電
圧をロウレベルにし、NMOST2とN M OS T
sを遮断状態にする。また、インバータ回路11のロ
ウレベル出力信号はインバータ回路I2を経てPMOS
T、のゲート電圧をハイレベルにしてP M OS T
Iも遮断状態にする。PMO3T+とNMO3T2お
よびN M OS T sがすべて遮断状態となるため
、出力端子Oは電源電圧端子および接地端子より電気的
に分離した状態となり、高インピーダンス状態となる。Next, when the control signal input terminal C8 is at a low level, no matter what kind of signals are input to the signal input terminals D in and Din, the signals output to the NAND circuits A and A2 are both high. level. 'NAND circuit A
The high level output signals of I and A2 make the gate voltages of NMOST2 and MO3T3 low level through inverters I and 13, respectively, and the gate voltages of NMOST2 and NMOST2 and NMOST3 become low level.
s is turned off. Furthermore, the low level output signal of the inverter circuit 11 is passed through the inverter circuit I2 to the PMOS
By setting the gate voltage of T to high level, PMOS T
I is also turned off. Since PMO3T+, NMO3T2, and NMOS Ts are all cut off, the output terminal O is electrically isolated from the power supply voltage terminal and the ground terminal, and is in a high impedance state.
制御信号入力端子C3がハイレベルで、信号入力端子D
inがハイレベル、信号入力端子D inがロウレベ
ルの場合、立ち上り特性はPMOST、およびP M
OS T +の補助用トランジスタであるN M OS
T 3の電流駆動能力によって決まる。Control signal input terminal C3 is at high level, signal input terminal D
When in is high level and signal input terminal D in is low level, the rise characteristics are PMOST and PM
NMOS, which is an auxiliary transistor for OS T+
Determined by the current drive capability of T3.
P M OS T +とN M OS T 3のゲート
幅をともに等しくW゛とすると式(1)よりP M O
S T +の電流駆動能力をlogとすれば、NMOS
T3の電流駆動能力は、約3X1osとなる。If the gate widths of P M O S T + and N M O S T 3 are both equal and W, then from equation (1)
If the current drive capability of S T + is log, then NMOS
The current driving capability of T3 is approximately 3×1 os.
以上のように本実施例によれば、PMOSTIおよび補
助用トランジスタNMOST3のゲート幅がそれぞれW
″であるから、合計2W’となり、バッファ回路の立ち
上り特性の電流駆動能力は、約4XIosとなる。P
M OS T tのみで立ち上り特性が上記と同等の電
流駆動能力を実現する場合は、ゲート幅が4W’必要と
なり、補助用N M OS T 3を用いることにより
出力信号立ち上り用のトランジスタのゲート幅を全体で
半分にすることができ、半導体集積回路のレイアウト面
積を縮小させることができる。As described above, according to this embodiment, the gate widths of PMOSTI and auxiliary transistor NMOST3 are each W.
'', the total is 2W', and the current drive capability of the buffer circuit's rise characteristic is approximately 4XIos.P
If you want to achieve a current drive capability with the rise characteristic equivalent to the above with only MOS Tt, the gate width will be 4W', and by using the auxiliary NMOS T3, you can reduce the gate width of the transistor for output signal rise. can be halved in total, and the layout area of the semiconductor integrated circuit can be reduced.
発明の効果
以上のように本発明の半導体集積回路によれば、バッフ
ァ回路の出力段のPチャンネルMOSトランジスタにN
チャンネルMOSトランジスタを補助的に設けることに
より、PチャンネルMOSトランジスタのみで同等の電
流駆動能力を実現する場合にくらべ半導体集積回路のレ
イアウト面積を縮小することができ、ひいてはチップ面
積を小さくすることができ、高集積化を図ることができ
る。Effects of the Invention As described above, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the P-channel MOS transistor in the output stage of the buffer circuit has N
By providing an auxiliary channel MOS transistor, the layout area of the semiconductor integrated circuit can be reduced compared to the case where equivalent current driving capability is achieved only with a P-channel MOS transistor, and the chip area can also be reduced. , high integration can be achieved.
第1図は本発明の半導体集積回路の実施例を示すバッフ
ァ回路の回路図、第2図は従来のバッファ回路の回路図
である。
D ill + D ill・・・・・・信号入力端子
、C3・・・・・・制御信号入力端子、0・・・・・・
出力端子、AI、 A2・・・・・・NAND回路、I
l〜I3・・・・・・インバータ回路、TV・・・・・
PチャンネルMOSトランジスタ、T2゜T3・・・・
・・NチャンネルMOSトランジスタ。FIG. 1 is a circuit diagram of a buffer circuit showing an embodiment of the semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of a conventional buffer circuit. Dill + Dill...Signal input terminal, C3...Control signal input terminal, 0...
Output terminal, AI, A2...NAND circuit, I
l~I3...Inverter circuit, TV...
P channel MOS transistor, T2゜T3...
...N-channel MOS transistor.
Claims (1)
ソースが接地点に接続された第1のNチャンネルMOS
トランジスタと、ドレインが電源端子に、ゲートが第2
の入力端子に、ソースが前記出力端子に接続された第2
のNチャンネルMOSトランジスタと、ソースが前記電
源端子に、ゲートがインバータを介して前記第2の入力
端子に、ドレインが前記出力端子に接続されたPチャン
ネルMOSトランジスタとによりバッファ増幅器の出力
段を構成するとともに、これらを同一半導体基板上に集
積化することを特徴とする半導体集積回路。The drain is the output terminal, the gate is the first input terminal,
First N-channel MOS with source connected to ground
transistor, the drain is the power supply terminal, and the gate is the second
a second one whose source is connected to the input terminal of the second
An output stage of the buffer amplifier is configured by an N-channel MOS transistor having a source connected to the power supply terminal, a gate connected to the second input terminal via an inverter, and a P-channel MOS transistor having a drain connected to the output terminal. and a semiconductor integrated circuit characterized in that these are integrated on the same semiconductor substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63035769A JPH01212025A (en) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63035769A JPH01212025A (en) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01212025A true JPH01212025A (en) | 1989-08-25 |
Family
ID=12451074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63035769A Pending JPH01212025A (en) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01212025A (en) |
-
1988
- 1988-02-18 JP JP63035769A patent/JPH01212025A/en active Pending
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