JPH011972A - ウェーハ検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、シリコンウェーハ、拡散層、エピタキシャル
層、イオン注入層などの比抵抗（抵抗率）。

シート抵抗を測定する比抵抗測定器に係り、特に光遮断
機構を有する比抵抗測定器に関する。

〔従来の技術〕

測定の対象となるシリコンウェーハの比抵抗。

シート抵抗を測定する時、シリコンウェーハの一部に光
が当たると光電流がウェーハに流れ、正確な測定値が得
られない、測定値のばらつきが大きいなどの悪影響を受
ける。

このためシリコンウェーへの比抵抗、シート抵抗を測定
する時は、シリコンウェー八周辺を暗くする必要がある
。そのためには、ウェーハを暗室の中へ入れて測定する
方法と、ウェーハの周辺を測定時のみ暗室状態にしてや
る方法がある。いずれの方法においても、最終的に完全
な暗室とするには何らかの機構が必要となる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来は、ウェーハの比抵抗、シート抵抗を測定するため
、測定室にウェーハを搬入し、測定後、搬出する機構を
、測定中の測定室を暗室状態に保つこと、ウェーハの搬
入、搬出が容易であること等の条件により簡単に得るこ
とができないという問題点があった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明測定器は上記の問題点を解決するため、ウェーハ
１をセットするステージ２と、このステージ２を測定室
６内に搬入し、これより搬出するステージ移動機構３と
、この移動機構３により搬入されたステージ２上のウェ
ーハ１の比抵抗、シート抵抗の測定に用いる４探針プロ
ーブ７を内設した測定室６と、この測定室６と外部を遮
断するシャッタ４と、このシャッタ４を開閉するシャッ
タ開閉機構５とよりなる光遮断機構を有する構成とした
ものである。

〔作　用〕

まず、ウェーハ１をステージ２上にセントし、シャッタ
４をシャッタ開閉機構５により開く。次にウェーハ１を
セットしたステージ２をステージ移動機構３により測定
室６内に搬入する。搬入後、シャッタ４をシャッタ開閉
機構５により閉じ、測定室６を暗室状態にする。そして
ステージ２上のウェーハ１の比抵抗、シート抵抗を４探
針プローブ７により測定する。測定後、シャッタ４をシ
ャッタ開閉機構５により開き、ウェーハ１をセントした
ステージ２をステージ移動機構３により測定室６より搬
出する。

〔実施例〕

以下図面により本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明測定器の一実施例を示す簡略斜視図、第
２図はその側面図である。

第１．第２図において１はウェーハ、２はつ工−ハ１を
上面にセットするステージである。３はステージ移動機
構で、ウェーハ１をセットしたステージ２を測定室６の
出入口８から室内に搬入したり、これより搬出したりす
るものである。

６は測定室で、ステージ移動機構３により室内に搬入さ
れたステージ２上のウェーハ１の比抵抗。

シート抵抗の測定に用いる４探針プローブ７が内設され
ている。測定室６は外部からの光を通さない材質・構造
で構成されている。４はシャッタで、この測定室６と外
部を、換言すれば出入口８を遮断したり、開放したりす
る役目を果たすものである。５はシャッタ開閉機構で、
このシャッタ４を開閉するものである。

９はステージ２を支えるステージ゛移動機構３の一部が
搬入、搬出時に邪魔にならず、ガイドとなるガイド溝で
ある。

光遮断機構は、シャッタ４．ステージ移動機構３の一部
及び測定室６等により構成される。

まず、ウェーハ１を第１図、第３図示のようにステージ
２上にセントし、シャッタ４をシャッタ開閉機構５によ
り測定室６の出入口８を開く　（第１図、第３図参照）
。第２図はシャッタ４が開く途中、または閉じる途中の
状態を示している。次にウェーハＩをセットしたステー
ジ２をステージ移動機構３によりガイド溝９に沿って測
定室６内に搬入する。搬入後、シャフタ４をシャッタ開
閉機構５により閉じ測定室６の出入口８を閉じて測定室
６を暗室状態にする（第４図参照）、そしてステージ２
上のウェーハ１の比抵抗、シート抵抗を４探針プローブ
７により測定する。測定後、シャッタ４をシャッタ開閉
機構５により開き、測定室６の出入口８を開いてウェー
ハ１をセットしたステージ２をステージ移動機構３によ
りガイド７Ｒ９に沿って測定室６より搬出する。

〔発明の効果〕

上述のように本発明によれば、測定時に測定室６内を暗
室状態にすることができ、外部からの光を遮断できるた
め、ウェーハ１に光電流が流れることがなく、ウェーハ
１の比抵抗、シート抵抗を正確に測定でき、測定値のば
らつきも少なくできる。

また、暗室状態をシャッタ４．ステージ移動機構３の一
部及び測定室６等により容易に保つことができ、ウェー
ハ１の搬入・搬出もステージ移動機構３により簡単にで
きるものである。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明測定器の一実施例を示す簡略斜視図、第
２図はその側面図、第３図及び第４図はその作用説明用
側面図である。 １・・・・・・ウェーハ、２・・・・・・ステージ、３
・・・・・・ステージ移動機構、４・・・・・・シャッ
タ、５・・・・・・シャッタ開閉機構、６・・・・・・
測定室、７・・・・・・４探針プローブ、Ｓ１劇 箋３自 答’２虚

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ウェーハをセットするステージと、このステージを測
   定室内に搬入し、これより搬出するステージ移動機構と
   、この移動機構により搬入されたステージ上のウェーハ
   の比抵抗、シート抵抗の測定に用いる４探針プローブを
   内設した測定室と、この測定室と外部を遮断するシャッ
   タと、このシャッタを開閉するシャッタ開閉機構とより
   なる光遮断機構を有する比抵抗測定器。