JPH0983324A - 共振ドライブ用mosゲートスイッチデバイス - Google Patents
共振ドライブ用mosゲートスイッチデバイスInfo
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- JPH0983324A JPH0983324A JP25472995A JP25472995A JPH0983324A JP H0983324 A JPH0983324 A JP H0983324A JP 25472995 A JP25472995 A JP 25472995A JP 25472995 A JP25472995 A JP 25472995A JP H0983324 A JPH0983324 A JP H0983324A
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- fet
- gate switch
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Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ゲート電圧の不要な振動を抑制してMOS−
FETのゲートに適正な電圧範囲のゲート電圧を印加
し、ドライブ損失が低く、ドライブ動作の誤動作やゲー
トの絶縁破壊の発生を防止した共振ドライブ用MOSゲ
ートスイッチデバイスを提供する。 【解決手段】 第1のダイオード3と第2のダイオード
4とコンデンサ5により振動抑制回路10を構成し、MO
S−FET2と振動抑制回路10を一体的にモールドパッ
ケージしてMOSゲートスイッチデバイス6を形成し共
振ドライブ回路12を接続する。振動抑制回路10が共振ド
ライブ回路12からのゲート電圧の不要振動を抑制する。
MOS−FET2と振動抑制回路10を一体的にモールド
パッケージしたので、振動抑制回路10とMOS−FET
2間の導通経路は非常に短く寄生インダクタンスが生じ
ず、寄生インダクタンスに起因した不要振動の発生を防
止する。
FETのゲートに適正な電圧範囲のゲート電圧を印加
し、ドライブ損失が低く、ドライブ動作の誤動作やゲー
トの絶縁破壊の発生を防止した共振ドライブ用MOSゲ
ートスイッチデバイスを提供する。 【解決手段】 第1のダイオード3と第2のダイオード
4とコンデンサ5により振動抑制回路10を構成し、MO
S−FET2と振動抑制回路10を一体的にモールドパッ
ケージしてMOSゲートスイッチデバイス6を形成し共
振ドライブ回路12を接続する。振動抑制回路10が共振ド
ライブ回路12からのゲート電圧の不要振動を抑制する。
MOS−FET2と振動抑制回路10を一体的にモールド
パッケージしたので、振動抑制回路10とMOS−FET
2間の導通経路は非常に短く寄生インダクタンスが生じ
ず、寄生インダクタンスに起因した不要振動の発生を防
止する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、MOSゲート構造
を有する共振ドライブ用MOSゲートスイッチデバイス
に関するものである。
を有する共振ドライブ用MOSゲートスイッチデバイス
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4の(b)にはMOSゲートスイッチ
素子として代表的なMOS−FET(MOS型電界効果
トランジスタ)2が示され、また、同図の(a)にはM
OS−FET2のゲート・ソース間の等価回路1が共振
ドライブ回路12と共に示されている。なお、図示の共振
ドライブ回路12は公知であるのでその説明は省略する。
素子として代表的なMOS−FET(MOS型電界効果
トランジスタ)2が示され、また、同図の(a)にはM
OS−FET2のゲート・ソース間の等価回路1が共振
ドライブ回路12と共に示されている。なお、図示の共振
ドライブ回路12は公知であるのでその説明は省略する。
【0003】MOS−FET2のゲート・ソース間の等
価回路1はゲート抵抗体7とコンデンサC0 の直列接続
体から成り、MOS−FET2がモールドパッケージさ
れてMOSゲートスイッチデバイス6を構成している場
合には、ゲート側がリード線14を介して共振ドライブ回
路12に接続され、また、ソース側がグランドに接地され
ている。MOS−FET2は、共振ドライブ回路12から
ゲート(G)に印加される矩形波形のゲート電圧V
G (電圧信号)によって、ドライブ動作が制御される。
価回路1はゲート抵抗体7とコンデンサC0 の直列接続
体から成り、MOS−FET2がモールドパッケージさ
れてMOSゲートスイッチデバイス6を構成している場
合には、ゲート側がリード線14を介して共振ドライブ回
路12に接続され、また、ソース側がグランドに接地され
ている。MOS−FET2は、共振ドライブ回路12から
ゲート(G)に印加される矩形波形のゲート電圧V
G (電圧信号)によって、ドライブ動作が制御される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記リ
ード線14は例えば1cm以上と長く、リード線14には寄生
インダクタンス8(例えば10〜15nH)が生じるために、
寄生インダクタンス8によって、共振ドライブ回路12か
ら出力された矩形波形のゲート電圧VG およびゲート電
流IG に図5の(c)および(d)に示すような不要な
振動が生じてしまう。図4に示すような共振ドライブ回
路12が接続されるMOS−FET2は、ゲート入力抵抗
を小さくするためにメタルゲート構造(ゲートに金属体
が並列に接続されゲート抵抗体7の抵抗値を小さくする
ための構造)を有しているので、ゲート抵抗体7の抵抗
値が非常に小さく、このため、前記ゲート電圧信号は不
要振動が減衰せず、図5の(c)に示すようなゲート電
圧VG としてMOS−FET2のゲートに印加してしま
う。
ード線14は例えば1cm以上と長く、リード線14には寄生
インダクタンス8(例えば10〜15nH)が生じるために、
寄生インダクタンス8によって、共振ドライブ回路12か
ら出力された矩形波形のゲート電圧VG およびゲート電
流IG に図5の(c)および(d)に示すような不要な
振動が生じてしまう。図4に示すような共振ドライブ回
路12が接続されるMOS−FET2は、ゲート入力抵抗
を小さくするためにメタルゲート構造(ゲートに金属体
が並列に接続されゲート抵抗体7の抵抗値を小さくする
ための構造)を有しているので、ゲート抵抗体7の抵抗
値が非常に小さく、このため、前記ゲート電圧信号は不
要振動が減衰せず、図5の(c)に示すようなゲート電
圧VG としてMOS−FET2のゲートに印加してしま
う。
【0005】上記のようにゲート電圧VG が不要振動し
ているために、MOS−FET2のドライブ動作が誤動
作してしまうという問題や、MOS−FETの適正なド
ライブ電圧範囲(例えば0V〜10V)を越えたオーバー
シュートあるいはアンダーシュートのゲート電圧がゲー
トに印加してMOS−FET2のドライブ損失が増加す
るという問題や、ゲートに過大な電圧(例えば20V以
上)が印加されてゲートが絶縁破壊(静電破壊)を起こ
す虞れがある等の問題が生じる。
ているために、MOS−FET2のドライブ動作が誤動
作してしまうという問題や、MOS−FETの適正なド
ライブ電圧範囲(例えば0V〜10V)を越えたオーバー
シュートあるいはアンダーシュートのゲート電圧がゲー
トに印加してMOS−FET2のドライブ損失が増加す
るという問題や、ゲートに過大な電圧(例えば20V以
上)が印加されてゲートが絶縁破壊(静電破壊)を起こ
す虞れがある等の問題が生じる。
【0006】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、その目的は、ゲート電圧の不要振動を抑
制してMOSゲートスイッチ素子を適正なドライブ電圧
範囲のゲート電圧でドライブ動作させドライブ損失を低
減し、また、ドライブ動作の誤動作やゲートの絶縁破壊
の発生を防止できる共振ドライブ用MOSゲートスイッ
チデバイスを提供することにある。
たものであり、その目的は、ゲート電圧の不要振動を抑
制してMOSゲートスイッチ素子を適正なドライブ電圧
範囲のゲート電圧でドライブ動作させドライブ損失を低
減し、また、ドライブ動作の誤動作やゲートの絶縁破壊
の発生を防止できる共振ドライブ用MOSゲートスイッ
チデバイスを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は次のような構成をもって前記課題を解決す
る手段としている。すなわち、本発明は、MOSゲート
スイッチ素子のゲートとソース間にソース側をアノード
として接続された第1のダイオードと、前記MOSゲー
トスイッチ素子のゲート側をアノードとして接続された
第2のダイオードと、前記第1のダイオードのアノード
と第2のダイオードのカソード間に接続されたコンデン
サとによって振動抑制回路が形成され、この振動抑制回
路は前記MOSゲートスイッチ素子と一体的にモールド
パッケージされて形成されている構成をもって前記課題
を解決する手段としている。
に、本発明は次のような構成をもって前記課題を解決す
る手段としている。すなわち、本発明は、MOSゲート
スイッチ素子のゲートとソース間にソース側をアノード
として接続された第1のダイオードと、前記MOSゲー
トスイッチ素子のゲート側をアノードとして接続された
第2のダイオードと、前記第1のダイオードのアノード
と第2のダイオードのカソード間に接続されたコンデン
サとによって振動抑制回路が形成され、この振動抑制回
路は前記MOSゲートスイッチ素子と一体的にモールド
パッケージされて形成されている構成をもって前記課題
を解決する手段としている。
【0008】上記構成の本発明において、MOSゲート
スイッチ素子は振動抑制回路を介して共振ドライブ回路
に接続される。例えば、MOSゲートスイッチ素子の適
正なドライブ電圧範囲がVL 〜VH であるとき、共振ド
ライブ回路からの印加電圧(電圧信号)によってゲート
電圧が前記VH に達すると第2のダイオードがクランプ
してゲート電圧をVH に安定させ、また、ゲート電圧が
前記VL まで下がると第1のダイオードがクランプして
ゲート電圧をVL に安定させる。共振ドライブ回路から
の電圧信号に寄生インダクタンスに起因した不要な振動
が生じていたとしても、上記のように、振動抑制回路に
よって前記不要振動は抑制(除去)される。また、前記
不要振動による過大な電圧が振動抑制回路に入力する
と、コンデンサにチャージされて降圧すると共に、上記
の如く、第2のダイオードがクランプして過大な電圧を
抑制する。
スイッチ素子は振動抑制回路を介して共振ドライブ回路
に接続される。例えば、MOSゲートスイッチ素子の適
正なドライブ電圧範囲がVL 〜VH であるとき、共振ド
ライブ回路からの印加電圧(電圧信号)によってゲート
電圧が前記VH に達すると第2のダイオードがクランプ
してゲート電圧をVH に安定させ、また、ゲート電圧が
前記VL まで下がると第1のダイオードがクランプして
ゲート電圧をVL に安定させる。共振ドライブ回路から
の電圧信号に寄生インダクタンスに起因した不要な振動
が生じていたとしても、上記のように、振動抑制回路に
よって前記不要振動は抑制(除去)される。また、前記
不要振動による過大な電圧が振動抑制回路に入力する
と、コンデンサにチャージされて降圧すると共に、上記
の如く、第2のダイオードがクランプして過大な電圧を
抑制する。
【0009】本発明では、振動抑制回路とMOSゲート
スイッチ素子は一体的にモールドパッケージされて形成
されるので、振動抑制回路からMOSゲートスイッチ素
子までの導通経路を非常に短くでき、振動抑制回路とM
OSゲートスイッチ素子との間に寄生インダクタンスが
生じない。したがって、振動抑制回路を通った電圧信号
に不要な振動が発生することはなく、不要振動のないゲ
ート電圧がMOSゲートスイッチ素子に供給される。こ
のことから、MOSゲートスイッチ素子を適正なドライ
ブ電圧範囲のゲート電圧で動作させることができてドラ
イブ損失が低減し、また、ドライブ動作の誤動作がなく
なる。さらに、過大な電圧がゲートに印加するのが防止
され、ゲートの絶縁保護が図られる。
スイッチ素子は一体的にモールドパッケージされて形成
されるので、振動抑制回路からMOSゲートスイッチ素
子までの導通経路を非常に短くでき、振動抑制回路とM
OSゲートスイッチ素子との間に寄生インダクタンスが
生じない。したがって、振動抑制回路を通った電圧信号
に不要な振動が発生することはなく、不要振動のないゲ
ート電圧がMOSゲートスイッチ素子に供給される。こ
のことから、MOSゲートスイッチ素子を適正なドライ
ブ電圧範囲のゲート電圧で動作させることができてドラ
イブ損失が低減し、また、ドライブ動作の誤動作がなく
なる。さらに、過大な電圧がゲートに印加するのが防止
され、ゲートの絶縁保護が図られる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る実施の形態
例を図面に基づき説明する。なお、本実施の形態例の説
明において、従来例と同一名称部分には同一符号を付
し、その重複説明は省略する。
例を図面に基づき説明する。なお、本実施の形態例の説
明において、従来例と同一名称部分には同一符号を付
し、その重複説明は省略する。
【0011】本実施の形態例において特徴的なことは、
図1に示すような振動抑制回路10が設けられ、かつ、振
動抑制回路10とMOSゲートスイッチ素子(MOS−F
ET2)とが一体的にモールドパッケージされてMOS
ゲートスイッチデバイス6を構成したことであり、MO
S−FET2のゲート側は振動抑制回路10を介して共振
ドライブ回路12に接続される。振動抑制回路10は、第1
のダイオード3と、第2のダイオード4と、コンデンサ
5とを有して構成されており、図1に示すように、第1
のダイオード3はMOS−FET2のゲート・ソース間
にアノードをソース側にして接続され、また、第2のダ
イオード4のアノードはMOS−FET2のゲート側に
接続され、前記第1のダイオード3のアノードと第2の
ダイオードのカソード間にコンデンサ5が接続されてい
る。上記振動抑制回路10とMOS−FET2とは半導体
技術を用いて共通の基板に形成されてモールドパッケー
ジされる。
図1に示すような振動抑制回路10が設けられ、かつ、振
動抑制回路10とMOSゲートスイッチ素子(MOS−F
ET2)とが一体的にモールドパッケージされてMOS
ゲートスイッチデバイス6を構成したことであり、MO
S−FET2のゲート側は振動抑制回路10を介して共振
ドライブ回路12に接続される。振動抑制回路10は、第1
のダイオード3と、第2のダイオード4と、コンデンサ
5とを有して構成されており、図1に示すように、第1
のダイオード3はMOS−FET2のゲート・ソース間
にアノードをソース側にして接続され、また、第2のダ
イオード4のアノードはMOS−FET2のゲート側に
接続され、前記第1のダイオード3のアノードと第2の
ダイオードのカソード間にコンデンサ5が接続されてい
る。上記振動抑制回路10とMOS−FET2とは半導体
技術を用いて共通の基板に形成されてモールドパッケー
ジされる。
【0012】本実施の形態例では、共振ドライブ回路12
からの印加電圧(電圧信号)によりゲート電圧VG が図
2の(c)に示すVH (例えば10V)に達すると第2の
ダイオード4がクランプしてゲート電圧VG をVH に安
定させ、また、ゲート電圧VG が図2の(c)に示すV
L (例えば0V)まで下がると第1のダイオード3がク
ランプしてゲート電圧VG をVL に安定させるように第
1のダイオード3と第2のダイオード4の回路条件が設
定されている。
からの印加電圧(電圧信号)によりゲート電圧VG が図
2の(c)に示すVH (例えば10V)に達すると第2の
ダイオード4がクランプしてゲート電圧VG をVH に安
定させ、また、ゲート電圧VG が図2の(c)に示すV
L (例えば0V)まで下がると第1のダイオード3がク
ランプしてゲート電圧VG をVL に安定させるように第
1のダイオード3と第2のダイオード4の回路条件が設
定されている。
【0013】振動抑制回路10とMOS−FET2とが一
体的にモールドパッケージされたMOSゲートスイッチ
デバイス6は、通常、リード線14を介して共振ドライブ
回路12に接続される。リード線14は例えば1cm以上と長
く、従来例で述べたようにリード線14には寄生インダク
タンス8が生じ、この寄生インダクタンス8によって共
振ドライブ回路12からの出力電圧(ゲート電圧信号)に
不要振動が発生する。この不要振動しているゲート電圧
信号が前記振動抑制回路10に入力すると、前記の如く、
振動抑制回路10はゲート電圧VG の上限をVH に下限を
VL にクランプして上記不要振動を抑制(除去)する。
図2には本発明者が実験等により求めた図1の回路にお
ける各部の電圧や電流の波形が示されており、同図の
(c)に示すように、振動抑制回路10によって不要振動
が抑制され、整った矩形波形のゲート電圧VG がMOS
−FET2に供給される。また、前記寄生インダクタン
ス8によって過大な電圧(例えば20V以上)が発生して
も、振動抑制回路10のコンデンサ5にチャージされて降
圧すると共に、前記の如く、第2のダイオード4がクラ
ンプしてゲート電圧VG をVH に安定させ、MOS−F
ET2の絶縁破壊が防止される。
体的にモールドパッケージされたMOSゲートスイッチ
デバイス6は、通常、リード線14を介して共振ドライブ
回路12に接続される。リード線14は例えば1cm以上と長
く、従来例で述べたようにリード線14には寄生インダク
タンス8が生じ、この寄生インダクタンス8によって共
振ドライブ回路12からの出力電圧(ゲート電圧信号)に
不要振動が発生する。この不要振動しているゲート電圧
信号が前記振動抑制回路10に入力すると、前記の如く、
振動抑制回路10はゲート電圧VG の上限をVH に下限を
VL にクランプして上記不要振動を抑制(除去)する。
図2には本発明者が実験等により求めた図1の回路にお
ける各部の電圧や電流の波形が示されており、同図の
(c)に示すように、振動抑制回路10によって不要振動
が抑制され、整った矩形波形のゲート電圧VG がMOS
−FET2に供給される。また、前記寄生インダクタン
ス8によって過大な電圧(例えば20V以上)が発生して
も、振動抑制回路10のコンデンサ5にチャージされて降
圧すると共に、前記の如く、第2のダイオード4がクラ
ンプしてゲート電圧VG をVH に安定させ、MOS−F
ET2の絶縁破壊が防止される。
【0014】ところで、振動抑制回路10をMOS−FE
T2と一体的にモールドパッケージせずにMOSゲート
スイッチデバイス6に外付けすることが考えられるが、
この場合には、振動抑制回路10とMOS−FET2とが
リード線を介して接続され、このリード線の長さを寄生
インダクタンスを発生させない長さまで短くできないた
めに、振動抑制回路10とMOS−FET2との間に寄生
インダクタンスが生じてしまう。このため、振動抑制回
路10を設け共振ドライブ回路12と振動抑制回路10間で発
生したゲート電圧信号の不要振動を抑制しても、振動抑
制回路10とMOS−FET2の間で再びゲート電圧信号
に不要振動が発生してしまう。図3には、振動抑制回路
10をMOSゲートスイッチデバイス6に外付けした場合
における回路の各部の動作波形が実験等により求め示さ
れており、同図の(c)に示すように、不要振動してい
るゲート電圧VG がMOS−FET2に供給されてしま
う。
T2と一体的にモールドパッケージせずにMOSゲート
スイッチデバイス6に外付けすることが考えられるが、
この場合には、振動抑制回路10とMOS−FET2とが
リード線を介して接続され、このリード線の長さを寄生
インダクタンスを発生させない長さまで短くできないた
めに、振動抑制回路10とMOS−FET2との間に寄生
インダクタンスが生じてしまう。このため、振動抑制回
路10を設け共振ドライブ回路12と振動抑制回路10間で発
生したゲート電圧信号の不要振動を抑制しても、振動抑
制回路10とMOS−FET2の間で再びゲート電圧信号
に不要振動が発生してしまう。図3には、振動抑制回路
10をMOSゲートスイッチデバイス6に外付けした場合
における回路の各部の動作波形が実験等により求め示さ
れており、同図の(c)に示すように、不要振動してい
るゲート電圧VG がMOS−FET2に供給されてしま
う。
【0015】これに対し、本実施の形態例では、前記の
如く、振動抑制回路10とMOS−FET2は一体的にモ
ールドパッケージされ形成されるので、振動抑制回路10
からMOS−FET2までの導通経路を非常に短く形成
でき、振動抑制回路10とMOS−FET2の間に寄生イ
ンダクタンスが生じず、上記問題は回避される。
如く、振動抑制回路10とMOS−FET2は一体的にモ
ールドパッケージされ形成されるので、振動抑制回路10
からMOS−FET2までの導通経路を非常に短く形成
でき、振動抑制回路10とMOS−FET2の間に寄生イ
ンダクタンスが生じず、上記問題は回避される。
【0016】本実施の形態例によれば、振動抑制回路10
とMOS−FET2を一体的にモールドパッケージして
形成したので、非常に取り扱い易く、また、振動抑制回
路10とMOS−FET2の間の導通経路が非常に短いた
めに寄生インダクタンスが生じないことから、振動抑制
回路10によって不要振動が抑制(除去)された電圧信号
をその良好な状態のままゲート電圧VG としてMOS−
FET2のゲートに供給することができる。このよう
に、ゲート電圧VG の不要振動を抑制することができる
ことから、MOS−FET2を適正なドライブ電圧範囲
のゲート電圧でドライブ動作させることが可能となり、
ドライブ損失を低減させることができる。また、ゲート
電圧VG の不要振動によるドライブ動作の誤動作を回避
することができ、MOS−FET2のドライブ動作の信
頼性が向上する。さらに、不要振動による過大な電圧が
MOS−FET2のゲートに印加するのが防止され、ゲ
ートの絶縁保護を図ることができる。
とMOS−FET2を一体的にモールドパッケージして
形成したので、非常に取り扱い易く、また、振動抑制回
路10とMOS−FET2の間の導通経路が非常に短いた
めに寄生インダクタンスが生じないことから、振動抑制
回路10によって不要振動が抑制(除去)された電圧信号
をその良好な状態のままゲート電圧VG としてMOS−
FET2のゲートに供給することができる。このよう
に、ゲート電圧VG の不要振動を抑制することができる
ことから、MOS−FET2を適正なドライブ電圧範囲
のゲート電圧でドライブ動作させることが可能となり、
ドライブ損失を低減させることができる。また、ゲート
電圧VG の不要振動によるドライブ動作の誤動作を回避
することができ、MOS−FET2のドライブ動作の信
頼性が向上する。さらに、不要振動による過大な電圧が
MOS−FET2のゲートに印加するのが防止され、ゲ
ートの絶縁保護を図ることができる。
【0017】なお、本発明は上記実施の形態例に限定さ
れるものではなく、様々な実施の形態を採り得る。例え
ば、上記実施の形態例は、MOSゲートスイッチ素子と
してMOS−FET2を例にして説明したが、本発明は
MOSゲート構造を有するIGBT(Insulated Gate B
ipolar Transistor )等の他のMOSゲートスイッチ素
子にも適用されるものであり、上記実施の形態例同様の
効果を奏することができる。また、本発明の共振ドライ
ブ用MOSゲートスイッチデバイスのMOSゲートスイ
ッチ素子は、図1や図4に示す共振ドライブ回路12に限
定してドライブ制御が行われるものではなく、他の回路
構成の共振ドライブ回路によってドライブ制御を行って
もよい。
れるものではなく、様々な実施の形態を採り得る。例え
ば、上記実施の形態例は、MOSゲートスイッチ素子と
してMOS−FET2を例にして説明したが、本発明は
MOSゲート構造を有するIGBT(Insulated Gate B
ipolar Transistor )等の他のMOSゲートスイッチ素
子にも適用されるものであり、上記実施の形態例同様の
効果を奏することができる。また、本発明の共振ドライ
ブ用MOSゲートスイッチデバイスのMOSゲートスイ
ッチ素子は、図1や図4に示す共振ドライブ回路12に限
定してドライブ制御が行われるものではなく、他の回路
構成の共振ドライブ回路によってドライブ制御を行って
もよい。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば、振動抑制回路を設けた
ので、該振動抑制回路よりも共振ドライブ回路側で生じ
たゲート電圧信号の不要振動を振動抑制回路によって抑
制することができる。かつ、振動抑制回路とMOSゲー
トスイッチ素子とを一体的にモールドパッケージして形
成したので、振動抑制回路とMOSゲートスイッチ素子
間の導通経路を極めて短く形成できる結果、振動抑制回
路とMOSゲートスイッチ素子との間に寄生インダクタ
ンスが生じないことから、振動抑制回路を通ったゲート
電圧信号に再び不要な振動が発生してしまうのが防止さ
れる。したがって、不要な振動が抑制されたゲート電圧
を確実にMOSゲートスイッチ素子のゲートに印加する
ことができる。
ので、該振動抑制回路よりも共振ドライブ回路側で生じ
たゲート電圧信号の不要振動を振動抑制回路によって抑
制することができる。かつ、振動抑制回路とMOSゲー
トスイッチ素子とを一体的にモールドパッケージして形
成したので、振動抑制回路とMOSゲートスイッチ素子
間の導通経路を極めて短く形成できる結果、振動抑制回
路とMOSゲートスイッチ素子との間に寄生インダクタ
ンスが生じないことから、振動抑制回路を通ったゲート
電圧信号に再び不要な振動が発生してしまうのが防止さ
れる。したがって、不要な振動が抑制されたゲート電圧
を確実にMOSゲートスイッチ素子のゲートに印加する
ことができる。
【0019】このように、ゲート電圧の不要振動が完璧
に抑制されるので、MOSゲートスイッチ素子を適正な
ドライブ電圧範囲のゲート電圧で動作させることが可能
となり、ドライブ損失が低減する。また、MOSゲート
スイッチ素子のドライブ動作における誤動作が防止さ
れ、MOSゲートスイッチ素子のドライブ動作の信頼性
が向上する。さらに、不要振動に起因した過大な電圧が
MOSゲートスイッチ素子のゲートに印加することがな
くなり、ゲートの絶縁破壊を回避することができる。さ
らにまた、上記の如く、振動抑制回路とMOSゲートス
イッチ素子を一体的にモールドパッケージして形成した
ので、振動抑制回路をMOSゲートスイッチ素子と一体
的にモールドパッケージしない場合に比べて、非常に取
り扱い易くすることができる。
に抑制されるので、MOSゲートスイッチ素子を適正な
ドライブ電圧範囲のゲート電圧で動作させることが可能
となり、ドライブ損失が低減する。また、MOSゲート
スイッチ素子のドライブ動作における誤動作が防止さ
れ、MOSゲートスイッチ素子のドライブ動作の信頼性
が向上する。さらに、不要振動に起因した過大な電圧が
MOSゲートスイッチ素子のゲートに印加することがな
くなり、ゲートの絶縁破壊を回避することができる。さ
らにまた、上記の如く、振動抑制回路とMOSゲートス
イッチ素子を一体的にモールドパッケージして形成した
ので、振動抑制回路をMOSゲートスイッチ素子と一体
的にモールドパッケージしない場合に比べて、非常に取
り扱い易くすることができる。
【図1】本実施の形態例を示す回路図である。
【図2】MOSゲートスイッチ素子と振動抑制回路を一
体的にモールドパッケージして形成した場合の動作波形
を示す波形図である。
体的にモールドパッケージして形成した場合の動作波形
を示す波形図である。
【図3】MOSゲートスイッチ素子と振動抑制回路とを
一体的に形成しなかった場合の動作波形を示す波形図で
ある。
一体的に形成しなかった場合の動作波形を示す波形図で
ある。
【図4】従来例を示す説明図である。
【図5】振動抑制回路を設けない場合の動作波形を示す
波形図である。
波形図である。
2 MOS−FET 3 第1のダイオード 4 第2のダイオード 5 コンデンサ 6 MOSゲートスイッチデバイス 10 振動抑制回路
Claims (1)
- 【請求項1】 MOSゲートスイッチ素子のゲートとソ
ース間にソース側をアノードとして接続された第1のダ
イオードと、前記MOSゲートスイッチ素子のゲート側
をアノードとして接続された第2のダイオードと、前記
第1のダイオードのアノードと第2のダイオードのカソ
ード間に接続されたコンデンサとによって振動抑制回路
が形成され、この振動抑制回路は前記MOSゲートスイ
ッチ素子と一体的にモールドパッケージされて形成され
ていることを特徴とする共振ドライブ用MOSゲートス
イッチデバイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25472995A JPH0983324A (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 共振ドライブ用mosゲートスイッチデバイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25472995A JPH0983324A (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 共振ドライブ用mosゲートスイッチデバイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0983324A true JPH0983324A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17269050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25472995A Pending JPH0983324A (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 共振ドライブ用mosゲートスイッチデバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0983324A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013502186A (ja) * | 2009-08-14 | 2013-01-17 | ザット コーポレーション | 低歪みのプログラマブルゲインアンプ用の動的スイッチドライバ |
-
1995
- 1995-09-06 JP JP25472995A patent/JPH0983324A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013502186A (ja) * | 2009-08-14 | 2013-01-17 | ザット コーポレーション | 低歪みのプログラマブルゲインアンプ用の動的スイッチドライバ |
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