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JPH0954116A - High temperature probe card - Google Patents

High temperature probe card

Info

Publication number
JPH0954116A
JPH0954116A JP22737395A JP22737395A JPH0954116A JP H0954116 A JPH0954116 A JP H0954116A JP 22737395 A JP22737395 A JP 22737395A JP 22737395 A JP22737395 A JP 22737395A JP H0954116 A JPH0954116 A JP H0954116A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
substrate
high temperature
probe card
temperature measurement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22737395A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Okubo
昌男 大久保
Nobuyuki Murakami
信行 村上
Koji Katahira
浩二 片平
Hiroshi Iwata
浩 岩田
Kazumasa Okubo
和正 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Electronic Materials Corp
Original Assignee
Japan Electronic Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Electronic Materials Corp filed Critical Japan Electronic Materials Corp
Priority to JP22737395A priority Critical patent/JPH0954116A/en
Publication of JPH0954116A publication Critical patent/JPH0954116A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent such failure that a probe is not allowed to be in contact with an electrode pad with accurately due to expansion of a substrate caused by a high temperature measurement. SOLUTION: Relating to the high temperature measuring probe card measuring various electrical characteristics of an LSI chip 610, being an object to be measured, under the heated condition, a probe 100 in contact with an electrode pad 611 of the LSI chip 610 and a substrate 400 to which the probe 100 is attached are provided, and the substrate 400 consists of multiple ceramics plates 410 laminated together.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、測定対象物である
LSIチップ等を加熱した状態で行われる電気的諸特性
の測定に用いられる高温測定用プローブカードに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high temperature measurement probe card used for measuring various electrical characteristics of an LSI chip or the like as an object to be measured in a heated state.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の高温測定用プローブカードについ
て図3を参照しつつ説明する。LSIチップ610の高
温測定は、ヒータ710が内蔵されたウエハ載置台70
0の上に複数個のLSIチップ610が形成されたウエ
ハ600を載置し、当該ウエハ600を約80℃〜16
0℃程度に加熱した状態で高温測定用プローブカードを
用いて行われる。
2. Description of the Related Art A conventional high temperature measurement probe card will be described with reference to FIG. The high temperature measurement of the LSI chip 610 is performed by the wafer mounting table 70 having the heater 710 built therein.
0, a wafer 600 having a plurality of LSI chips 610 formed thereon is placed, and the wafer 600 is placed at about 80 ° C. to 16 ° C.
It is performed using a probe card for high temperature measurement while being heated to about 0 ° C.

【0003】高温測定に用いられる従来の高温測定用プ
ローブカードは、配線パターン310が形成されたプリ
ント基板300と、このプリント基板300に取り付け
られるプローブ100とを有している。プリント基板3
00は、ガラスエポキシ系樹脂等から構成されたものが
多く、多数本のプローブ100に対応するために多層構
造となっているものが多い。
A conventional high-temperature measurement probe card used for high-temperature measurement has a printed circuit board 300 on which a wiring pattern 310 is formed, and a probe 100 attached to the printed circuit board 300. Printed circuit board 3
00 is often made of a glass epoxy resin or the like, and often has a multilayer structure in order to accommodate a large number of probes 100.

【0004】また、プリント基板300の例えば上面側
には、配線パターン310と接続されたコネクタ端子3
20が設けられている。さらに、このプリント基板30
0には、プローブ100の後端部と配線パターン310
とを接続するためのスルーホール210が開設されてい
る。
On the upper surface side of the printed circuit board 300, for example, connector terminals 3 connected to the wiring pattern 310 are provided.
20 are provided. Further, the printed circuit board 30
0, the rear end of the probe 100 and the wiring pattern 310
And a through-hole 210 for connecting the terminal to the terminal.

【0005】プローブ100は、セラミックスからなる
保持部材240を用いてプリント基板300に取り付け
られている。保持部材240は、プリント基板300の
裏面側、すなわちLSIチップ610が形成されたウエ
ハ600に対向する面に取り付けられている。かかる保
持部材240には、傾斜面241が形成されており、当
該傾斜面241にエポキシ系樹脂270等を用いてプロ
ーブ100の中腹部が取り付けられるようになってい
る。なお、上述したようにプローブ100の後端部は、
スルーホール210を用いて配線パターン310、ひい
てはコネクタ端子320と接続されている。
The probe 100 is attached to the printed circuit board 300 using a holding member 240 made of ceramics. The holding member 240 is attached to the back surface side of the printed circuit board 300, that is, the surface facing the wafer 600 on which the LSI chip 610 is formed. An inclined surface 241 is formed on the holding member 240, and the middle part of the probe 100 is attached to the inclined surface 241 using an epoxy resin 270 or the like. As described above, the rear end of the probe 100 is
The through hole 210 is used to connect to the wiring pattern 310, and eventually to the connector terminal 320.

【0006】プローブ100の先端部である接触部11
0は、下向きに折曲形成されており、LSIチップ61
0の電極パッド611の位置に対応するように精密に位
置決めがなされている。
The contact portion 11 which is the tip of the probe 100
0 is bent downward, and the LSI chip 61
The positioning is precisely performed so as to correspond to the position of the zero electrode pad 611.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の高温測定用プローブカードには、以下のような
問題点がある。すなわち、ウエハが載置されたウエハ載
置台からの輻射熱がプリント基板に伝わり、プリント基
板が熱膨張で変形し、その結果プローブの接触部の位置
がずれるのである。かかる接触部の位置ずれは、LSI
チップの正確な電気的諸特性の測定を困難にする。
However, the above-mentioned conventional probe card for measuring high temperature has the following problems. That is, the radiant heat from the wafer mounting table on which the wafer is mounted is transmitted to the printed circuit board, the printed circuit board is deformed by thermal expansion, and as a result, the position of the contact portion of the probe is displaced. The displacement of the contact portion is
This makes it difficult to measure the accurate electrical characteristics of the chip.

【0008】ガラスエポキシ系樹脂からなるプリント基
板の熱膨張係数は、配合されるガラス繊維の量やエポキ
シ系樹脂の量によって多少は変化するが、約3.0×1
-5/℃である。これに対して、LSIチップに用いら
れる単結晶シリコンウエハの熱膨張係数は4.15×1
-6/℃である。すなわち、プリント基板の熱膨張係数
の方が、単結晶シリコンウエハの熱膨張係数よりほぼ1
桁大きいのである。
The thermal expansion coefficient of a printed circuit board made of a glass epoxy resin is about 3.0 × 1 although it varies somewhat depending on the amount of glass fiber and the amount of epoxy resin blended.
0 -5 / ° C. On the other hand, the thermal expansion coefficient of the single crystal silicon wafer used for the LSI chip is 4.15 × 1.
It is 0 -6 / ° C. That is, the coefficient of thermal expansion of the printed circuit board is approximately 1 than the coefficient of thermal expansion of the single crystal silicon wafer.
It is an order of magnitude larger.

【0009】ここで、LSIチップを約130℃に加熱
した状態で、複数個のLSIチップを同時に測定するこ
とができ、プローブの長さが10cmである高温測定用プ
ローブカードによる測定を行ったとすると、熱膨張のた
めにプリント基板は約30μm 膨張する。LSIチップ
の電極パッドは、約50μm 平方の大きさであり、プロ
ーブの接触部は電極パッドの中心に接触するように設計
されているので、プリント基板が約30μm も膨張する
と、プローブは電極パッドに接触することができないこ
とになる。
Here, it is assumed that a plurality of LSI chips can be measured at the same time while the LSI chips are heated to about 130 ° C., and a probe card for high temperature measurement having a probe length of 10 cm is used for the measurement. The PCB expands by about 30 μm due to thermal expansion. The electrode pad of the LSI chip is about 50 μm square, and the contact part of the probe is designed to contact the center of the electrode pad. Therefore, if the printed circuit board expands about 30 μm, the probe will not contact the electrode pad. You will not be able to contact them.

【0010】このため、高温測定に用いられる高温測定
用プローブカードは、高温測定の際の温度と同じ温度に
基板を加熱した状態でプローブの取り付け、すなわちプ
ローブの接触部の位置決めを行えばよいのであるが、そ
れもプローブの取り付けを熟練した人手に頼らざるをえ
ない現状では不可能である。
Therefore, in the high temperature measurement probe card used for high temperature measurement, the probe may be attached, that is, the contact portion of the probe may be positioned while the substrate is heated to the same temperature as the high temperature measurement. However, that is not possible in the present situation where the attachment of the probe has to rely on skilled personnel.

【0011】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、高温測定による基板の膨張によりプローブが電極パ
ッドに正確に接触しないという不具合が生じない高温測
定用プローブカードを提供することを目的としている。
The present invention was made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a probe card for high temperature measurement in which the problem that the probe does not accurately contact the electrode pad due to expansion of the substrate due to high temperature measurement does not occur. There is.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る高温測定
用プローブカードは、測定対象物を加熱した状態で電気
的諸特性を測定する高温測定用プローブカードにおい
て、測定対象物の電極パッドに接触するプローブと、こ
のプローブが取り付けられる基板とを具備しており、前
記基板はセラミックス板を積層したものである。
A probe card for high-temperature measurement according to claim 1 is a probe card for high-temperature measurement in which various electrical characteristics are measured while a measurement target is heated. It is provided with a probe to be in contact with and a substrate to which the probe is attached, and the substrate is a stack of ceramic plates.

【0013】また、請求項2に係る高温測定用プローブ
カードでは、基板に用いられるセラミックス板は、グリ
ーンシートである。
In the probe card for high temperature measurement according to claim 2, the ceramic plate used as the substrate is a green sheet.

【0014】さらに、請求項3に係る高温測定用プロー
ブカードでは、セラミックス板には、配線パターンが予
め形成されており、各セラミックス板を積層した状態で
各セラミックス板の配線パターンが接続手段で相互に接
続されている。
Furthermore, in the probe card for high temperature measurement according to the third aspect, the wiring patterns are formed in advance on the ceramic plates, and the wiring patterns of the respective ceramic plates are mutually connected by the connecting means in a state where the respective ceramic plates are laminated. It is connected to the.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図1は本発明の実施の形態に係る
高温測定用プローブカードに用いられる基板の概略的断
面図、図2は本発明の実施の形態に係る高温測定用プロ
ーブカードに用いられる基板を構成するセラミックス板
の概略的斜視図である。なお、従来のものと略同一の部
品等には同一の符号を付して説明を行う。
1 is a schematic sectional view of a substrate used in a high temperature measurement probe card according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a high temperature measurement probe card according to an embodiment of the present invention. It is a schematic perspective view of the ceramic plate which comprises the board | substrate used. It is to be noted that parts and the like that are substantially the same as those of the related art are denoted by the same reference numerals and described.

【0016】この高温測定用プローブカードは、測定対
象物であるLSIチップ610を加熱した状態で電気的
諸特性を測定する高温測定用プローブカードであって、
LSIチップ610の電極パッド611に接触するプロ
ーブ100と、このプローブ100が取り付けられる基
板400とを備えており、前記基板400は複数のセラ
ミックス板410を積層したものである。
This high temperature measurement probe card is a high temperature measurement probe card for measuring various electrical characteristics in a state where an LSI chip 610 which is an object to be measured is heated.
The probe 100 is in contact with the electrode pad 611 of the LSI chip 610 and the substrate 400 to which the probe 100 is attached. The substrate 400 is formed by laminating a plurality of ceramic plates 410.

【0017】プローブ100、LSIチップ610、電
極パッド611等は従来の技術の欄で図3を用いて説明
したものと同一であるのその詳細な説明は省略する。
The probe 100, the LSI chip 610, the electrode pad 611, etc. are the same as those described with reference to FIG. 3 in the section of the prior art, but their detailed description will be omitted.

【0018】前記セラミックス板410は、厚さが0.
3mmのアルミナグリーンシートである。このアルミナグ
リーンシートとは、セラミックスであるアルミナの粉末
と、少量の粘結材となる粘土とを混練したものを、ポリ
ビニールブチラールの如き樹脂と、アルコール、トルエ
ン等の有機溶剤とで練り、それをシート状に加工したも
のをいう。かかるアルミナグリーンシートは、常温では
柔軟であるので、加工が非常に容易であるという特質を
有している。
The ceramic plate 410 has a thickness of 0.
This is a 3 mm alumina green sheet. This alumina green sheet is obtained by kneading alumina powder which is ceramics and a small amount of clay which is a binder, and kneading it with a resin such as polyvinyl butyral and an organic solvent such as alcohol or toluene. It is processed into a sheet. Since such an alumina green sheet is flexible at room temperature, it has a characteristic that it is very easy to process.

【0019】このようなアルミナグリーンシートである
セラミックス板410を例えば、図2に示すように、開
口411を有する所定の形状に加工し、所定の配線パタ
ーン412を形成する。この配線パターン412は、銀
パラジュームの厚膜で形成する。さらに、各セラミック
ス板410には、積層される他のセラミックス板410
の配線パターン412との接続を考慮した接続手段であ
るスルーホール413或いはバイアホール等が形成され
ている。
The ceramic plate 410, which is such an alumina green sheet, is processed into a predetermined shape having an opening 411, for example, as shown in FIG. 2, to form a predetermined wiring pattern 412. The wiring pattern 412 is formed of a thick film of silver palladium. Further, each ceramic plate 410 has another ceramic plate 410 to be stacked.
A through hole 413 or a via hole, which is a connecting means in consideration of connection with the wiring pattern 412, is formed.

【0020】このように構成された複数枚のセラミック
ス板410を所定の順番で積層し、加圧プレスした後、
乾燥させて約1000℃で焼成して基板400を形成す
る。このセラミックス板410を積層して焼成して得ら
れた基板400は、アルミナグリーンシートのときの状
態とは違って硬くなっている。なお、各セラミックス板
410の積層の際、上下のセラミックス板410の配線
パターン412との接続を確保することは勿論である。
A plurality of ceramic plates 410 having the above-mentioned structure are laminated in a predetermined order and pressed, and thereafter,
The substrate 400 is formed by drying and firing at about 1000 ° C. The substrate 400 obtained by stacking and firing the ceramic plates 410 is hard unlike the state of the alumina green sheet. Of course, when the ceramic plates 410 are stacked, the connection with the wiring patterns 412 of the upper and lower ceramic plates 410 is secured.

【0021】前記開口411は、すべてのセラミックス
板410に同様に形成されており、セラミックス板41
0を積層した際に基板400の開口部となる。この開口
部は不良のLSIチップ610にインクマーク等を付す
る際に利用される。
The openings 411 are formed in all the ceramic plates 410 in the same manner.
When 0 is stacked, it becomes an opening of the substrate 400. This opening is used when an ink mark or the like is attached to the defective LSI chip 610.

【0022】このようにして構成された基板400の裏
面側に保持部材240を取り付けるとともに、この保持
部材240にプローブ100の中腹部を樹脂270で取
り付ける。
The holding member 240 is attached to the back surface side of the substrate 400 thus constructed, and the middle part of the probe 100 is attached to the holding member 240 with the resin 270.

【0023】また、当該基板400の上面に配線パター
ン412と接続されたコネクタ端子320(図3参照)
を取り付ける。さらに、当該プローブ100の後端部
を、最も下層のセラミックス板410に形成されたスル
ーホール413或いは配線パターン412に接続して高
温測定用プローブカードを完成させる。
Further, connector terminals 320 connected to the wiring pattern 412 on the upper surface of the substrate 400 (see FIG. 3).
Attach. Further, the rear end of the probe 100 is connected to the through hole 413 or the wiring pattern 412 formed in the lowermost ceramics plate 410 to complete the high temperature measurement probe card.

【0024】例えば、アルミナグリーンシートからなる
セラミックス板410を10枚積層した基板400を使
用した高温測定用プローブカードで、16個のLSIチ
ップ610を同時に測定することができる高温測定用プ
ローブカードによる実験結果について説明する。
For example, in a high temperature measurement probe card using a substrate 400 in which ten ceramic plates 410 made of alumina green sheets are laminated, an experiment using a high temperature measurement probe card capable of simultaneously measuring 16 LSI chips 610 is performed. The results will be described.

【0025】この基板400の熱膨張係数は6.0×1
-6/℃であり、単結晶シリコンウエハの熱膨張係数
4.15×10-6/℃にきわめて近くなっている。
The thermal expansion coefficient of this substrate 400 is 6.0 × 1.
It is 0 −6 / ° C., which is very close to the thermal expansion coefficient of 4.15 × 10 −6 / ° C. of the single crystal silicon wafer.

【0026】この高温測定用プローブカードは、8個×
2列の16個のLSIチップ610を同時に測定するこ
とができるものであり、656本のプローブ100が使
用されている。かかるプローブ100のうち、最も離れ
たプローブ100の間の距離は126mmである。
This high temperature measurement probe card has 8 pieces ×
It is possible to measure 16 LSI chips 610 in two rows at the same time, and 656 probes 100 are used. Among such probes 100, the distance between the furthest probes 100 is 126 mm.

【0027】かかる高温測定用プローブカードでは、常
温において各プローブ100の接触部110の位置決め
がなされている。すなわち、各プローブ100の接触部
110が、常温において各LSIチップ610の各電極
パッド611の中心に接触するように各プローブ100
の基板400に対する位置を決定するのである。
In this high temperature measurement probe card, the contact portion 110 of each probe 100 is positioned at room temperature. That is, each probe 100 is arranged so that the contact portion 110 of each probe 100 contacts the center of each electrode pad 611 of each LSI chip 610 at room temperature.
Of the substrate 400 relative to the substrate 400.

【0028】125℃まで上昇させたウエハ600に含
まれるLSIチップ610の電気的諸特性の測定をこの
ような高温測定用プローブカードで行った場合、基板4
00は熱膨張するので、各プローブ100の接触部11
0は初めに設定した位置(電極パッド611の中心)か
らずれるが、上述したようにその熱膨張係数は単結晶シ
リコンウエハの熱膨張係数にきわめて近いので、そのず
れは最大のものでも2μm 以内であることが実験によっ
て確認された。
When the electrical characteristics of the LSI chip 610 contained in the wafer 600 heated to 125 ° C. are measured by such a high temperature measurement probe card, the substrate 4
00 undergoes thermal expansion, so the contact portion 11 of each probe 100
Although 0 deviates from the initially set position (center of the electrode pad 611), its thermal expansion coefficient is extremely close to that of the single crystal silicon wafer as described above, and therefore the deviation is within 2 μm even at the maximum. It was confirmed by experiments that there is.

【0029】すなわち、基板400も加熱されることに
よって膨張するが、ウエハ600も加熱されることによ
って膨張する。ここで、ウエハ600(単結晶シリコン
ウエハ)の熱膨張係数は基板400の熱膨張係数にきわ
めて近いため、基板400のウエハ600に対する相対
的な膨張の度合いが小さくなり、プローブ100の接触
部110の電極パッド611に対するずれが小さくなる
のである。
That is, the substrate 400 also expands when heated, but the wafer 600 also expands when heated. Here, since the thermal expansion coefficient of the wafer 600 (single crystal silicon wafer) is extremely close to the thermal expansion coefficient of the substrate 400, the degree of relative expansion of the substrate 400 with respect to the wafer 600 becomes small, and the contact portion 110 of the probe 100 is less likely to expand. The displacement with respect to the electrode pad 611 is reduced.

【0030】電極パッド611は、約50μm 平方の大
きさがあるのであるから、基板400の熱膨張によるプ
ローブ100の接触部110の位置ずれは実用上まった
く問題にならない程度のものである。
Since the electrode pad 611 has a size of about 50 μm square, the positional displacement of the contact portion 110 of the probe 100 due to the thermal expansion of the substrate 400 does not pose any problem in practical use.

【0031】また、日本電気硝子株式会社の型番MLS
−1000という厚さ約0.2mmの粉末ガラス性グリー
ンシートをセラミックス板410として14枚積層して
基板400を形成した。この基板400の熱膨張係数は
4.5×10-6/℃で、単結晶シリコンウエハの熱膨張
係数は6.0×10-6/℃にきわめて近いものとなって
いる。従って、この粉末ガラス性グリーンシートをセラ
ミックス板410として積層して構成した基板400を
用いた高温測定用プローブカードでも、ほぼアルミナグ
リーンシートをセラミックス板410として用いたもの
と同様に、各プローブ100の接触部110のずれは実
用上まったく問題にならない程度のものであることが判
る。
The model number MLS of Nippon Electric Glass Co., Ltd.
A substrate 400 was formed by laminating 14 powdery glassy green sheets with a thickness of -1000 of about 0.2 mm as a ceramic plate 410. The thermal expansion coefficient of this substrate 400 is 4.5 × 10 −6 / ° C., and the thermal expansion coefficient of the single crystal silicon wafer is very close to 6.0 × 10 −6 / ° C. Therefore, even in the probe card for high temperature measurement using the substrate 400 configured by laminating the powdery glassy green sheets as the ceramic plate 410, the probe card of each probe 100 is almost the same as the one using the alumina green sheet as the ceramic plate 410. It can be seen that the displacement of the contact portion 110 does not cause any problem in practical use.

【0032】なお、前記粉末ガラス性グリーンシートと
は、上述したアルミナグリーンシートにおけるアルミナ
粉末の代わりにガラス粉末を用いたものをいう。
The powdery glassy green sheet refers to one in which glass powder is used instead of the alumina powder in the above-mentioned alumina green sheet.

【0033】[0033]

【発明の効果】請求項1に係る高温測定用プローブカー
ドは、測定対象物を加熱した状態で電気的諸特性を測定
する高温測定用プローブカードであって、測定対象物の
電極パッドに接触するプローブと、このプローブが取り
付けられる基板とを具備しており、前記基板はセラミッ
クス板を積層したものである。
EFFECT OF THE INVENTION The probe card for high temperature measurement according to claim 1 is a probe card for high temperature measurement which measures various electrical characteristics in a state in which the measurement target is heated, and contacts the electrode pad of the measurement target. The probe includes a probe and a substrate to which the probe is attached. The substrate is formed by laminating ceramic plates.

【0034】従来のガラスエポキシ系樹脂からなるプリ
ント基板より、セラミックスからなる基板の方が、熱膨
張係数は測定対象物であるLSIチップを構成する単結
晶シリコンウエハに近いので、基板の熱膨張に起因する
プローブの接触部の電極パッドに対するずれは従来のも
のより格段に小さくすることができる。
Since a substrate made of ceramics has a thermal expansion coefficient closer to that of a single crystal silicon wafer forming an LSI chip as an object to be measured, a thermal expansion coefficient of the substrate made of ceramics is more than that of a conventional printed circuit board made of glass epoxy resin. The resulting displacement of the contact portion of the probe with respect to the electrode pad can be made significantly smaller than the conventional one.

【0035】従って、この高温測定用プローブカードで
は、常温で各プローブの接触部の位置決めを行っても、
プローブの接触部が確実にLSIチップの電極パッドに
接触するので、通常のプローブカードと同様の製造工
程、すなわち常温での製造が可能となる。
Therefore, in this high temperature measurement probe card, even if the contact portion of each probe is positioned at room temperature,
Since the contact portion of the probe surely contacts the electrode pad of the LSI chip, the manufacturing process similar to that of a normal probe card, that is, the manufacturing at normal temperature becomes possible.

【0036】また、請求項2に係る高温測定用プローブ
カードでは、基板に用いられるセラミックス板は、グリ
ーンシートである。このグリーンシートは、上述したよ
うに、常温では柔軟であるので加工が非常に容易であ
る。従って、測定対象物に応じた形状にすることが容易
で、簡単に基板を形成することができる。しかも、この
グリーンシートは、混在されるセラミックスである粉末
アルミナや粉末ガラスを適宜選択することによってLS
Iチップに用いられる単結晶シリコンウエハときわめて
近い熱膨張係数を有する基板とすることができる。
In the probe card for high temperature measurement according to claim 2, the ceramic plate used as the substrate is a green sheet. As described above, this green sheet is flexible at room temperature, and thus is very easy to process. Therefore, it is easy to form the substrate according to the object to be measured, and the substrate can be easily formed. Moreover, this green sheet can be obtained by properly selecting powdered alumina or powdered glass, which is a mixed ceramic, as LS.
A substrate having a coefficient of thermal expansion extremely close to that of the single crystal silicon wafer used for the I chip can be used.

【0037】さらに、請求項3に係る高温測定用プロー
ブカードでは、セラミックス板には、配線パターンが予
め形成されており、各セラミックス板を積層した状態で
各セラミックス板の配線パターンが接続手段で相互に接
続されている。このため、より多くのプローブを必要に
対応することができる。すなわち、より多数個の測定対
象物を同時に測定することができる高温測定用プローブ
カードを提供することが可能となる。
Further, in the probe card for high temperature measurement according to the third aspect, the wiring patterns are formed in advance on the ceramic plates, and the wiring patterns of the respective ceramic plates are mutually connected by the connecting means in a state where the respective ceramic plates are laminated. It is connected to the. Therefore, a larger number of probes can be dealt with as needed. That is, it becomes possible to provide a high temperature measurement probe card capable of simultaneously measuring a larger number of measurement objects.

【0038】従来のように、ガラスエポキシ系樹脂等か
ら構成された多層構造の基板では、各層を構成する板を
相互に密着させるための接着剤等が必要となり、この接
着剤等の熱膨張係数も考慮に入れる必要があったが、こ
の高温測定用プローブカードでは、グリーンシートから
なるセラミックス板を積層して焼成することによって基
板が構成されるため、従来のような接着剤等が不要とな
り、その接着剤等の熱膨張係数まて考慮する必要がな
く、より設計が容易になる。
As in the prior art, a substrate having a multi-layer structure made of glass epoxy resin or the like requires an adhesive agent or the like for closely adhering the plates constituting each layer to each other, and the thermal expansion coefficient of this adhesive agent or the like is required. Although it was necessary to take into consideration, in this probe card for high temperature measurement, since the substrate is constructed by stacking and firing ceramic plates made of green sheets, the conventional adhesives are unnecessary, It is not necessary to consider the thermal expansion coefficient of the adhesive or the like, and the design becomes easier.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る高温測定用プローブ
カードに用いられる基板の概略的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a substrate used in a high temperature measurement probe card according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態に係る高温測定用プローブ
カードに用いられる基板を構成するセラミックス板の概
略的斜視図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view of a ceramic plate that constitutes a substrate used in the probe card for high temperature measurement according to the embodiment of the present invention.

【図3】従来の高温測定用プローブカードの概略的断面
図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a conventional high-temperature measurement probe card.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 プローブ 400 基板 410 セラミックス板 610 LSIチップ(測定対象物) 611 電極パッド 100 probe 400 substrate 410 ceramic plate 610 LSI chip (measurement target) 611 electrode pad

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 浩 兵庫県尼崎市西長洲町2丁目5番13号 日 本電子材料株式会社内 (72)発明者 大久保 和正 兵庫県尼崎市西長洲町2丁目5番13号 日 本電子材料株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Hiroshi Iwata 2-5-13 Nishi-Nagasu-cho, Amagasaki-shi, Hyogo Nihon Electronic Materials Co., Ltd. (72) Inventor Kazumasa Okubo 2-chome, Nishi-Nagasu-cho, Amagasaki-shi, Hyogo 5th-13th Japan Electronics Materials Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 測定対象物を加熱した状態で電気的諸特
性を測定する高温測定用プローブカードにおいて、測定
対象物の電極パッドに接触するプローブと、このプロー
ブが取り付けられる基板とを具備しており、前記基板は
セラミックス板を積層したものであることを特徴とする
高温測定用プローブカード。
1. A high-temperature measurement probe card for measuring various electrical characteristics in a state where a measurement target is heated, comprising: a probe in contact with an electrode pad of the measurement target; and a substrate on which the probe is mounted. The probe card for high temperature measurement, wherein the substrate is formed by laminating ceramic plates.
【請求項2】 前記基板に用いられるセラミックス板
は、グリーンシートであることを特徴とする請求項2記
載の高温測定用プローブカード。
2. The probe card for high temperature measurement according to claim 2, wherein the ceramic plate used as the substrate is a green sheet.
【請求項3】 前記セラミックス板には、配線パターン
が予め形成されており、各セラミックス板を積層した状
態で各セラミックス板の配線パターンが接続手段で相互
に接続されていることを特徴とする請求項1又は2記載
の高温測定用プローブカード。
3. A wiring pattern is formed on the ceramic plate in advance, and the wiring patterns of the ceramic plates are connected to each other by connecting means in a state where the ceramic plates are stacked. Item 3. The probe card for high temperature measurement according to item 1 or 2.
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