JPH09218409A - Orientation treatment of oriented film and apparatus therefor - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば液晶ディ
スプレイの製造等に利用されるものであって、液晶分子
を所定方向に配向させるための配向膜に対して配向処理
を施す、配向膜の配向処理方法およびその装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used, for example, in the manufacture of liquid crystal displays and the like, in which an alignment treatment for aligning liquid crystal molecules in a predetermined direction is performed. The present invention relates to a processing method and an apparatus thereof.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶分子を基板の表面において所定方向
に配向させるために、基板の表面に、ポリイミド等の高
分子有機材料から成る配向膜を塗布することが行われて
いる。2. Description of the Related Art In order to align liquid crystal molecules on a surface of a substrate in a predetermined direction, an alignment film made of a high molecular organic material such as polyimide is applied to the surface of the substrate.
【０００３】この場合、基板の表面に単に配向膜を塗布
しただけでは、液晶分子が基板の表面に対して単に平行
に配列するだけで、液晶分子を所定方向に配列させるこ
とはできない。In this case, if the alignment film is simply applied to the surface of the substrate, the liquid crystal molecules are aligned in parallel with the surface of the substrate, but the liquid crystal molecules cannot be aligned in a predetermined direction.
【０００４】そこで従来は、配向膜に、その表面をナイ
ロンやレーヨン等のラビング布で一定方向に機械的にラ
ビングする（擦る）ことによって配向処理を施し、これ
によって液晶分子をラビングした方向に配列させること
が行われている。Therefore, conventionally, the alignment film is subjected to an alignment treatment by mechanically rubbing (rubbing) the surface of the alignment film with a rubbing cloth such as nylon or rayon, whereby the liquid crystal molecules are aligned in the rubbing direction. Is being done.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にラビングによって配向膜に配向処理を施す方法では、
ラビングの際にパーティクル（ゴミ）が発生して、これ
が液晶ディスプレイの特性を悪化させ、ひいては歩留ま
りを低下させる要因になるという問題がある。例えば、
パーティクルが発生してそれが配向膜に付着している
と、それによって表示むらが生じて表示品質が低下した
り、電気的にショートする個所が生じたりする。However, in the method of performing the alignment treatment on the alignment film by rubbing as described above,
There is a problem in that particles (dust) are generated during rubbing, which deteriorates the characteristics of the liquid crystal display and eventually reduces the yield. For example,
When particles are generated and adhere to the alignment film, display unevenness is caused thereby, display quality is deteriorated, and an electrically short-circuited portion is generated.
【０００６】そこでこの発明は、配向処理の際のパーテ
ィクルの発生を防止することができる配向処理方法およ
びその装置を提供することを主たる目的とする。Therefore, it is a main object of the present invention to provide an alignment treatment method and apparatus capable of preventing the generation of particles during the alignment treatment.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の配向処理方法は、液晶分子を配向させる
ための配向膜を基板上に形成した配向膜付基板の配向膜
に対して、イオンビームの照射と紫外線の照射とを行う
ことを特徴とする。In order to achieve the above object, the alignment treatment method of the present invention is directed to an alignment film of a substrate with an alignment film, wherein an alignment film for aligning liquid crystal molecules is formed on the substrate. It is characterized in that irradiation with an ion beam and irradiation with ultraviolet rays are performed.
【０００８】上記イオンビームの照射と紫外線の照射
は、どちらを先に行っても良いし、互いに同時に行って
も良い。Either of the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation may be performed first, or both may be performed simultaneously.
【０００９】配向膜にイオンビームを照射することで、
配向膜に配向処理を施すことができる。これは、イオ
ンビームを照射することで、配向膜表面が改質され、配
向膜を構成する高分子の主鎖または側鎖が一定方向に並
び、それに沿って液晶分子が配向するようになる、あ
るいはイオンビーム照射によるスパッタリングによって
配向膜の表面に多数の微小な溝状のものが形成され、そ
れに沿って液晶分子が配向するようになるためであると
考えられる。このようにこの発明の配向処理方法では、
従来のラビング布で擦るラビング法とは違って、非接触
で配向膜に配向処理を施すことができるため、パーティ
クルの発生を防止することができる。By irradiating the alignment film with an ion beam,
An alignment treatment can be applied to the alignment film. This is because by irradiating with an ion beam, the surface of the alignment film is modified, the main chains or side chains of the polymer forming the alignment film are aligned in a certain direction, and the liquid crystal molecules are aligned along it. Alternatively, it is considered that a large number of minute grooves are formed on the surface of the alignment film by the sputtering by the irradiation of the ion beam, and the liquid crystal molecules are aligned along the fine grooves. Thus, in the alignment treatment method of the present invention,
Unlike the conventional rubbing method of rubbing with a rubbing cloth, since the alignment film can be subjected to the alignment treatment without contact, the generation of particles can be prevented.
【００１０】しかも、紫外線照射を併用することによっ
て、イオンビーム照射のみでは小さかったプレティルト
角（液晶分子が配向膜表面より起き上がる角度）を大き
くすることができる。これは、紫外線照射によって配向
膜表面の濡れ性が変化し、それによって液晶分子が起き
上がりやすくなるからであると考えられる。Moreover, by using ultraviolet irradiation together, it is possible to increase the pretilt angle (the angle at which the liquid crystal molecules rise above the alignment film surface), which was small only by ion beam irradiation. It is considered that this is because the wettability of the surface of the alignment film is changed by the irradiation of ultraviolet rays, which makes it easier for the liquid crystal molecules to rise.
【００１１】また、この発明に係る配向処理装置は、上
記のような配向処理方法の実施に適している。Further, the alignment treatment apparatus according to the present invention is suitable for carrying out the above-described alignment treatment method.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】図１は、この発明に係る配向処理
方法を実施する配向処理装置の一例を示す断面図であ
る。1 is a sectional view showing an example of an alignment treatment apparatus for carrying out the alignment treatment method according to the present invention.
【００１３】この配向処理装置は、図示しない真空排気
装置によって所定の真空度に（例えば１０-5〜１０-7Ｔ
ｏｒｒ程度に）排気される真空容器２０と、この真空容
器２０内に設けられていて、配向処理を施こそうとする
配向膜付基板２を保持するホルダ８と、真空容器２０に
取り付けられていてこのホルダ８上の配向膜付基板２の
配向膜６にイオンビーム１４を照射するイオン源１２
と、この真空容器２０内に設けられていてホルダ８上の
配向膜付基板２の配向膜６に紫外線２４を照射する紫外
線源の一例としての紫外線ランプ２２とを備えている。
更にこの例では、真空容器２０内に、ホルダ８上の配向
膜付基板２の配向膜６に電子１８を供給するフィラメン
ト１６を設けている。This orientation processing apparatus is brought to a predetermined vacuum degree (for example, 10 -5 to 10 -7 T by an unillustrated vacuum exhaust apparatus).
a vacuum container 20 that is evacuated to about orr), a holder 8 that is provided in the vacuum container 20 and that holds the substrate 2 with an alignment film to be subjected to an alignment treatment, and a holder 8 that is attached to the vacuum container 20. An ion source 12 for irradiating the alignment film 6 of the substrate 2 with the alignment film on the holder 8 with the ion beam 14.
And an ultraviolet lamp 22 as an example of an ultraviolet light source that is provided in the vacuum container 20 and irradiates the alignment film 6 of the alignment film-attached substrate 2 on the holder 8 with the ultraviolet light 24.
Further, in this example, a filament 16 for supplying electrons 18 to the alignment film 6 of the substrate 2 with an alignment film on the holder 8 is provided in the vacuum container 20.
【００１４】配向膜付基板２は、この例ではガラス基板
４の表面にポリイミド等の有機高分子材料から成る配向
膜６を塗布したものである。なお、液晶ディスプレイを
構成する場合は、ガラス基板４と配向膜６との間に、Ｉ
ＴＯ（スズをドープした酸化インジウム）等から成る透
明電極が形成される。In this example, the substrate 2 with an alignment film is a glass substrate 4 coated with an alignment film 6 made of an organic polymer material such as polyimide. In the case of configuring a liquid crystal display, the I film is formed between the glass substrate 4 and the alignment film 6.
A transparent electrode made of TO (tin-doped indium oxide) or the like is formed.
【００１５】ホルダ８は、この例では、配向膜６の表面
に対するイオンビーム１４の照射角度θを変えることが
できるように、中心軸１０を中心にして矢印Ａのように
回転可能にしている。ホルダ８は、固定でも良いけれど
も、この実施例のようにその傾き角度を可変にして配向
膜６の表面に対するイオンビーム１４の照射角度θを可
変にするのが好ましく、そのようにすれば後述する配向
秩序度およびプレティルト角を制御することができる。
照射角度θを可変にするには、ホルダ８の角度を可変に
する代わりに、あるいはそれと共に、イオン源１２の角
度を可変にしても良い。In this example, the holder 8 is rotatable about the central axis 10 as indicated by arrow A so that the irradiation angle θ of the ion beam 14 with respect to the surface of the alignment film 6 can be changed. Although the holder 8 may be fixed, it is preferable to change the tilt angle of the holder 8 to change the irradiation angle θ of the ion beam 14 with respect to the surface of the alignment film 6 as in this embodiment. The orientation order and the pretilt angle can be controlled.
In order to make the irradiation angle θ variable, the angle of the ion source 12 may be made variable instead of or at the same time as making the angle of the holder 8 variable.
【００１６】イオンビーム１４には、そのイオンが配向
膜６と反応して配向膜６の性質を変えないようにするた
めに、例えばヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガ
スイオンビームを用いるのが好ましい。As the ion beam 14, an inert gas ion beam of, for example, helium, neon, or argon is used so that the ions do not react with the alignment film 6 and change the properties of the alignment film 6. preferable.
【００１７】イオンビーム１４の加速エネルギーは、特
に限定はなく、例えば１００ｅＶ〜５００ｅＶ程度で良
い。The acceleration energy of the ion beam 14 is not particularly limited and may be about 100 eV to 500 eV, for example.
【００１８】紫外線２４の波長は、例えば１８５ｎｍ〜
４００ｎｍ程度であるが、これに限定されるものではな
い。The wavelength of the ultraviolet rays 24 is, for example, 185 nm to
The thickness is about 400 nm, but is not limited to this.
【００１９】配向膜６に対するイオンビーム照射の際に
は、それと同時に、フィラメント１６から引き出した電
子１８を配向膜６に供給して、イオンビーム１４による
正電荷を中和させるのが好ましい。これは、イオンビー
ム１４による正電荷が配向膜６の表面に溜まると、それ
がイオンビーム１４の飛来を邪魔して、配向膜６の処理
が困難になったり不均一になったりするので、更には配
向処理後に液晶セルを構成したときに電荷によって液晶
分子の配向が乱されたりするので、それを電子供給によ
って防止することができるからである。At the same time as the irradiation of the alignment film 6 with the ion beam, it is preferable to simultaneously supply the electrons 18 extracted from the filament 16 to the alignment film 6 to neutralize the positive charges generated by the ion beam 14. This is because if the positive charges due to the ion beam 14 are accumulated on the surface of the alignment film 6, it interferes with the flight of the ion beam 14 and the treatment of the alignment film 6 becomes difficult or uneven. The reason is that, when the liquid crystal cell is formed after the alignment treatment, the charge may disturb the alignment of the liquid crystal molecules, which can be prevented by supplying electrons.
【００２０】配向処理に際しては、配向膜付基板２の配
向膜６に対して、イオンビーム１４の照射と紫外線２４
の照射とを行う。その場合、配向膜６にイオンビーム
１４を照射した後に紫外線２４を照射しても良いし、
その逆に配向膜６に紫外線２４を照射した後にイオンビ
ーム１４を照射しても良いし、あるいはイオンビーム
１４の照射と紫外線２４の照射とを同時に行っても良
い。In the alignment treatment, the alignment film 6 of the substrate 2 with the alignment film is irradiated with the ion beam 14 and ultraviolet rays 24.
Irradiation. In that case, the alignment film 6 may be irradiated with the ion beam 14 and then irradiated with the ultraviolet rays 24,
On the contrary, the ion beam 14 may be irradiated after the alignment film 6 is irradiated with the ultraviolet ray 24, or the irradiation of the ion beam 14 and the irradiation of the ultraviolet ray 24 may be simultaneously performed.
【００２１】上記のようにして配向膜６にイオンビーム
１４を照射することで、配向膜６に配向処理を施すこと
ができる。これは、イオンビーム１４を照射すること
で、配向膜表面が改質され、配向膜６を構成する高分子
の主鎖または側鎖が一定方向に並び、それに沿って液晶
分子が配向するようになる、あるいはイオンビーム照
射によるスパッタリングによって配向膜６の表面に多数
の微小な溝状のものが形成され、それに沿って液晶分子
が配向するようになる、ためであると考えられる。By irradiating the alignment film 6 with the ion beam 14 as described above, the alignment film 6 can be subjected to an alignment treatment. By irradiating the ion beam 14, the surface of the alignment film is modified so that the main chains or side chains of the polymer forming the alignment film 6 are aligned in a certain direction, and the liquid crystal molecules are aligned along it. It is considered that this is because a lot of minute groove-like things are formed on the surface of the alignment film 6 by the sputtering by the ion beam irradiation, and the liquid crystal molecules are aligned along them.
【００２２】上記の場合、配向膜表面に対するイオンビ
ーム１４の照射角度θは小さい方が好ましい。そのよう
にすれば、イオンビーム照射によって大きな配向秩序度
が得られるからである。イオンビーム１４の照射角度θ
と液晶の配向秩序度との関係を測定した結果の一例を図
２に示す。この場合は紫外線照射は行っていない。配向
秩序度とは、どの程度の割合の液晶分子が同一方向に配
向しているかを示すものであり、１の場合が１００％で
ある。比較のために、ラビング法による結果も示した。In the above case, the irradiation angle θ of the ion beam 14 with respect to the surface of the alignment film is preferably small. By doing so, a large degree of orientational order can be obtained by ion beam irradiation. Irradiation angle θ of ion beam 14
FIG. 2 shows an example of the result of the measurement of the relationship between the liquid crystal and the alignment order of the liquid crystal. In this case, no ultraviolet irradiation was performed. The degree of orientational order indicates what proportion of liquid crystal molecules are oriented in the same direction, and is 100% in the case of 1. For comparison, the results obtained by the rubbing method are also shown.
【００２３】この図から、イオンビーム１４の照射角度
θが小さいほど、配向秩序度が大きくなることが分か
る。特に、照射角度θを６０度以下に、その内でも特に
３０度程度以下にすると、ラビング法に匹敵するほどの
大きな配向秩序度を得ることができることが分かる。こ
れは、イオンビーム１４の照射角度θが小さいほど、
配向膜６を構成する高分子の並び方に強い方向性を付け
ることができる、あるいはイオンビーム照射によるス
パッタリングによって配向膜６の表面に形成される多数
の微小な溝状のものがイオンビーム照射方向に細長くな
る、からであると考えられる。From this figure, it can be seen that the smaller the irradiation angle θ of the ion beam 14, the greater the degree of orientational order. In particular, it can be seen that when the irradiation angle θ is set to 60 degrees or less, and particularly, the irradiation angle θ is set to about 30 degrees or less, it is possible to obtain a large degree of orientational order comparable to the rubbing method. This is because the smaller the irradiation angle θ of the ion beam 14 is,
It is possible to give a strong directionality to the arrangement of the polymers that form the alignment film 6, or a large number of minute grooves formed on the surface of the alignment film 6 by the sputtering by ion beam irradiation are aligned in the ion beam irradiation direction. It is thought to be because it becomes slender.
【００２４】このようにこの発明の配向処理方法では、
従来のラビング布で擦るラビング法とは違って、非接触
で配向膜６に配向処理を施すことができるため、パーテ
ィクルの発生を防止することができる。As described above, in the alignment treatment method of the present invention,
Unlike the conventional rubbing method of rubbing with a rubbing cloth, since the alignment film 6 can be subjected to the alignment treatment without contact, the generation of particles can be prevented.
【００２５】しかもそれだけではなく、紫外線照射を併
用することによって、イオンビーム照射のみでは小さか
ったプレティルト角を大きくすることができる。プレテ
ィルト角は、液晶分子が配向膜の表面より起き上がる角
度のことを言い、液晶ディスプレイにおいては、特にＳ
ＴＮ−ＬＣＤ（スーパーツイストネマティック液晶ディ
スプレイ）においては、また最近ではＴＦＴ−ＬＣＤに
おいても、液晶の配向不良、更にはそれに起因する表示
むら等を防止するために、プレティルト角を大きくする
ことが重要である。Not only that, but by using ultraviolet irradiation in combination, it is possible to increase the pretilt angle, which was small only by ion beam irradiation. The pretilt angle means an angle at which liquid crystal molecules rise above the surface of the alignment film.
In the TN-LCD (super twist nematic liquid crystal display), and recently in the TFT-LCD, it is important to increase the pretilt angle in order to prevent the liquid crystal alignment defect and the display unevenness caused by the liquid crystal alignment defect. is there.
【００２６】紫外線照射の有無によるプレティルト角の
変化を測定した結果の一例を図３に示す。この図は、イ
オンビーム照射後に紫外線照射を行った結果を例示した
が、その逆の順序でも、あるいは同時照射でも、これと
ほぼ同様の結果が得られた。また比較のために、ラビン
グ法による結果も示した。FIG. 3 shows an example of the results of measurement of changes in the pretilt angle with and without irradiation of ultraviolet rays. This figure illustrates the result of UV irradiation after ion beam irradiation, but almost the same result was obtained in the reverse order or simultaneous irradiation. For comparison, the results obtained by the rubbing method are also shown.
【００２７】この図から、イオンビーム照射と紫外線照
射を併用すると、プレティルト角が大きくなることが分
かる。特に、イオンビーム１４の照射角度θを６０度以
下に、その内でも特に３０度程度以下にすると、ラビン
グ法に匹敵するほどの大きなプレティルト角を得ること
ができることが分かる。これは、紫外線照射によって配
向膜表面の濡れ性が良くなり、それによって液晶分子が
起き上がりやすくなるからであると考えられる。なお、
上記イオンビーム照射による配向処理作用と、紫外線照
射によるプレティルト角増大作用とは、互いに相手の作
用を減殺することはないので、どちらを先に行っても、
また同時に行っても良いのは前述のとおりである。From this figure, it is understood that the pretilt angle becomes large when the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation are used together. In particular, it can be seen that when the irradiation angle θ of the ion beam 14 is set to 60 degrees or less, and particularly, about 30 degrees or less, a large pretilt angle comparable to the rubbing method can be obtained. It is considered that this is because the wettability of the surface of the alignment film is improved by the irradiation of ultraviolet rays, which makes it easier for liquid crystal molecules to rise. In addition,
The alignment treatment effect by the ion beam irradiation and the pretilt angle increasing effect by the ultraviolet irradiation do not cancel each other's actions, so whichever is performed first,
As described above, the steps may be performed simultaneously.
【００２８】以上のようにこの発明の配向処理方法によ
れば、イオンビーム照射と紫外線照射を併用することに
よって、ラビング法とは違って、パーティクルの発生を
防止することができる。その結果、液晶ディスプレイの
歩留りの向上および表示品質の向上を図ることができ
る。しかも、イオンビーム照射単独の場合よりもプレテ
ィルト角を大きくすることができるので、液晶の配向不
良、それに起因する表示むら等を防止することができ、
この意味からも表示品質の向上を図ることができる。As described above, according to the alignment treatment method of the present invention, by using the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation together, it is possible to prevent the generation of particles unlike the rubbing method. As a result, it is possible to improve the yield and display quality of the liquid crystal display. Moreover, since the pretilt angle can be made larger than in the case of ion beam irradiation alone, it is possible to prevent alignment failure of liquid crystal, display unevenness and the like due to it,
Also in this sense, the display quality can be improved.
【００２９】また、図１に示した実施例の配向処理装置
によれば、一つの真空容器２０内で配向膜付基板２に対
するイオンビーム照射と紫外線照射とを行うことができ
るので、装置を非常に小型化かつ簡略化することができ
る。Further, according to the alignment treatment apparatus of the embodiment shown in FIG. 1, since the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation can be performed on the alignment film-coated substrate 2 in one vacuum container 20, the apparatus is extremely useful. It can be miniaturized and simplified.
【００３０】次に、上記のような配向処理方法の実施に
適している配向処理装置の他の実施例を説明する。図４
は、この発明に係る配向処理装置の他の例を示す横断面
図である。図５は、図４の線ａ−ａに沿う縦断面図であ
る。Next, another embodiment of the alignment treatment apparatus suitable for carrying out the above-described alignment treatment method will be described. FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing another example of the alignment treatment device according to the present invention. FIG. 5 is a vertical cross-sectional view taken along the line aa of FIG.
【００３１】この配向処理装置は、前述したような配向
膜付基板２に真空中で紫外線２４を照射する紫外線照射
装置３０と、同配向膜付基板２に真空中でイオンビーム
１４を照射するイオンビーム照射装置５０と、この紫外
線照射装置３０とイオンビーム照射装置５０との間に設
けられていて真空雰囲気中において配向膜付基板２を紫
外線照射装置３０とイオンビーム照射装置５０との間で
可逆的に搬送する基板搬送装置４０とを備えている。更
にこの実施例では、基板搬送装置４０に接続されていて
基板搬送装置４０との間で基板２を受け渡しする基板供
給装置６０を備えている。This alignment treatment apparatus includes an ultraviolet ray irradiation apparatus 30 for irradiating the substrate 2 with an alignment film as described above with ultraviolet rays 24 in a vacuum, and an ion beam 14 for irradiating the substrate 2 with an alignment film with an ion beam 14 in a vacuum. The beam irradiation device 50 is provided between the ultraviolet irradiation device 30 and the ion beam irradiation device 50, and the substrate 2 with an alignment film is reversible between the ultraviolet irradiation device 30 and the ion beam irradiation device 50 in a vacuum atmosphere. And a substrate transfer device 40 for effectively transferring. Further, in this embodiment, there is provided a substrate supply device 60 which is connected to the substrate transfer device 40 and transfers the substrate 2 to and from the substrate transfer device 40.
【００３２】紫外線照射装置３０は、この実施例では、
真空排気装置３４によって真空に（例えば１０-5〜１０
-7Ｔｏｒｒ程度に）排気される真空容器３２と、この真
空容器３２内に設けられていて配向膜付基板２を保持す
るホルダ３６と、このホルダ３６上の配向膜付基板２の
配向膜６（図１参照。以下同じ）に紫外線２４を照射す
る前述したような紫外線ランプ２２とを有している。The ultraviolet irradiator 30 is, in this embodiment,
The evacuation device 34 evacuates (for example, 10 −5 to 10 −5).
A vacuum container 32 that is evacuated to about -7 Torr), a holder 36 that is provided in the vacuum container 32 and holds the substrate 2 with an alignment film, and an alignment film 6 on the substrate 2 with an alignment film on the holder 36. (See FIG. 1, the same applies to the following), and the ultraviolet lamp 22 as described above for irradiating the ultraviolet rays 24.
【００３３】イオンビーム照射装置５０は、この実施例
では、真空排気装置５４によって真空に（例えば１０-5
〜１０-7Ｔｏｒｒ程度に）排気される真空容器５２と、
この真空容器５２内に設けられていて基板２を保持する
前述したようなホルダ８と、このホルダ８の上方にホル
ダ８に向けて設けられていて、ホルダ８上の配向膜付基
板２の配向膜６にイオンビーム１４を照射する前述した
ようなイオン源１２と、同配向膜６に電子１８を供給す
る前述したようなフィラメント１６とを有している。In the present embodiment, the ion beam irradiation device 50 is evacuated (for example, 10 −5 by an evacuation device 54).
A vacuum container 52 that is evacuated to about -10 -7 Torr),
The holder 8 as described above, which is provided inside the vacuum container 52 and holds the substrate 2, and the orientation film-provided substrate 2 provided on the holder 8 above the holder 8 toward the holder 8. The film 6 has the ion source 12 as described above for irradiating the ion beam 14 and the filament 16 as described above for supplying the electrons 18 to the alignment film 6.
【００３４】ホルダ８は、この実施例では、真空シール
部５７を介して真空容器５２を貫通する連結部５８の一
端部に取り付けられており、この連結部５８の他端部に
はホルダ駆動装置５６が接続されている。ホルダ駆動装
置５６によってホルダ８を、その回転軸１０を中心にし
て矢印Ａのように可逆的に回転可能である。ホルダ駆動
装置５６は、電動式が好ましいが、手動式等でも良い。In this embodiment, the holder 8 is attached to one end of a connecting portion 58 penetrating the vacuum container 52 via a vacuum seal portion 57, and the other end of the connecting portion 58 has a holder driving device. 56 is connected. The holder drive device 56 can reversibly rotate the holder 8 about the rotation axis 10 as shown by an arrow A. The holder driving device 56 is preferably an electric type, but may be a manual type or the like.
【００３５】ホルダ８は、固定でも良いけれども、この
実施例のようにその傾き角度を可変にして配向膜６の表
面に対するイオンビーム１４の照射角度θを可変にする
のが好ましく、そのようにすれば前述した配向秩序度お
よびプレティルト角を制御することができる。照射角度
θを可変にするには、ホルダ８の角度を可変にする代わ
りに、あるいはそれと共に、イオン源１２の角度を可変
にしても良いのは前述のとおりである。The holder 8 may be fixed, but it is preferable to change the inclination angle of the holder 8 to change the irradiation angle θ of the ion beam 14 with respect to the surface of the alignment film 6 as in this embodiment. For example, the degree of orientational order and the pretilt angle described above can be controlled. As described above, in order to make the irradiation angle θ variable, the angle of the ion source 12 may be made variable instead of or together with the angle of the holder 8.
【００３６】基板搬送装置４０は、この実施例では、真
空排気装置４４によって真空に（例えば１０-5〜１０-7
Ｔｏｒｒ程度に）排気される真空容器４２と、この真空
容器４２内に設けられていて多関節のアーム４８を有す
る搬送ロボット４６とを有している。搬送ロボット４６
は、この例では、上下方向に１自由度と、水平面内で３
自由度とを有する、合計４自由度のロボットである。In this embodiment, the substrate transfer device 40 is evacuated by the evacuation device 44 (for example, 10 -5 to 10 -7).
It has a vacuum container 42 to be evacuated (to about Torr) and a transfer robot 46 provided in the vacuum container 42 and having an articulated arm 48. Transport robot 46
Is, in this example, one degree of freedom in the vertical direction and three in the horizontal plane.
It is a robot having a total of 4 degrees of freedom and having a degree of freedom.
【００３７】この搬送ロボット４６によって、基板供給
装置６０内の後述するカセット６６から未処理の基板２
を１枚取り出してそれを紫外線照射装置３０内のホルダ
３６上に装着し、紫外線照射後の配向膜付基板２をホル
ダ３６から取り外してそれをイオンビーム照射装置５０
内のホルダ８上に装着し、イオンビーム照射後の配向膜
付基板２をホルダ８から取り外してそれを基板供給装置
６０内のカセット６６に戻すことができる。またこれと
は逆に、カセット６６から取り出した未処理の配向膜付
基板２をイオンビーム照射装置５０内のホルダ８に装着
し、イオンビーム照射後の配向膜付基板２をホルダ８か
ら取り外してそれを紫外線照射装置３０内のホルダ３６
に装着し、紫外線照射後の配向膜付基板２をカセット６
６に戻すことも可能である。いずれの場合も、配向膜付
基板２の搬送は全て真空雰囲気中で行われる。但し、配
向膜付基板２の搬送方向は、上記二つの内、いずれか一
方のみとしても良い。By the transfer robot 46, the unprocessed substrate 2 is transferred from the cassette 66, which will be described later, in the substrate supply device 60.
One is taken out and mounted on the holder 36 in the ultraviolet irradiation device 30, the substrate 2 with the alignment film after ultraviolet irradiation is removed from the holder 36, and the substrate is attached to the ion beam irradiation device 50.
It can be mounted on the holder 8 in the inside and the substrate 2 with the alignment film after the ion beam irradiation can be removed from the holder 8 and returned to the cassette 66 in the substrate supply device 60. On the contrary, the unprocessed substrate with alignment film 2 taken out from the cassette 66 is attached to the holder 8 in the ion beam irradiation apparatus 50, and the substrate with alignment film 2 after ion beam irradiation is removed from the holder 8. The holder 36 in the ultraviolet irradiation device 30
The substrate 2 with the alignment film after being irradiated with ultraviolet rays is mounted on the cassette 6
It is also possible to return to 6. In any case, the transportation of the substrate 2 with an alignment film is performed in a vacuum atmosphere. However, the substrate 2 with the alignment film may be conveyed in either one of the above two directions.
【００３８】基板供給装置６０は、この実施例では、真
空排気装置６４によって真空に（例えば１０-2〜１０-3
Ｔｏｒｒ程度に）排気される真空容器６２を有してお
り、この真空容器６２内に、複数枚の配向膜付基板２を
収納したカセット６６が装着される。６８はカセット６
６の出し入れ用の扉である。In this embodiment, the substrate supply device 60 is evacuated by the vacuum evacuation device 64 (for example, 10 -2 to 10 -3).
It has a vacuum container 62 that is evacuated (to about Torr), and a cassette 66 accommodating a plurality of substrates 2 with an alignment film is mounted in the vacuum container 62. 68 is a cassette 6
6 is a door for taking in and out.
【００３９】上記真空容器３２、４２、５２および６２
は、真空弁７０〜７２を介して図４に示すように互いに
Ｔ字状に接続されている。各真空弁７０〜７２は、そこ
を、配向膜付基板２を載置したアーム４８が通過可能な
ものである。The vacuum vessels 32, 42, 52 and 62 described above.
Are connected to each other in a T-shape via vacuum valves 70 to 72 as shown in FIG. Each of the vacuum valves 70 to 72 is one through which the arm 48 on which the substrate 2 with an alignment film is mounted can pass.
【００４０】この実施例の配向処理装置によれば、前述
した配向処理方法の実施が可能である。しかも、紫外線
照射とイオンビーム照射の連続処理が可能であり、かつ
両処理および基板搬送の全てを真空雰囲気中において行
うことができるので、スループット（配向膜付基板２の
単位時間当たりの処理能力）が高く、量産性に富んでい
る。また、イオンビーム照射と紫外線照射とを互いに別
の部屋で行うので、一方の処理の際に雰囲気が変化して
も、それが他方の処理に全く影響を与えないという利点
がある。例えば、紫外線照射の際に配向膜６からガス
（アウトガス）が放出され、それが真空容器３２内の真
空度低下をもたらしても、それが真空容器５２の真空度
低下にはつながらないので、真空容器５２内におけるイ
オンビーム照射に何の悪影響も及ぼさない。According to the alignment treatment apparatus of this embodiment, the above-mentioned alignment treatment method can be carried out. Moreover, since the ultraviolet irradiation and the ion beam irradiation can be continuously performed, and both the processing and the substrate transportation can be performed in a vacuum atmosphere, the throughput (the processing capacity of the substrate 2 with an alignment film per unit time) is achieved. Is high and rich in mass productivity. Further, since the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation are performed in different rooms, there is an advantage that even if the atmosphere changes during one process, it does not affect the other process at all. For example, even if a gas (outgas) is released from the alignment film 6 during the irradiation of ultraviolet rays and this causes a decrease in the degree of vacuum in the vacuum container 32, it does not lead to a decrease in the degree of vacuum in the vacuum container 52. It has no adverse effect on the ion beam irradiation within 52.
【００４１】なお、基板供給装置６０内にカセット６６
を装着するようにしていて、複数枚の配向膜付基板２を
真空を破らずに連続処理することができるので、この意
味からもスループットが向上する。ただし、このように
せずに、基板供給装置６０を単なる真空予備室（エアロ
ック室）にして、そこを通して配向膜付基板２を１枚ず
つ大気中との間で搬出入するようにしても良い。A cassette 66 is provided in the substrate supply device 60.
Since a plurality of substrates 2 with an alignment film can be continuously processed without breaking the vacuum, the throughput is improved also in this sense. However, instead of this, the substrate supply device 60 may be a simple vacuum reserve chamber (air lock chamber), and the alignment film-attached substrates 2 may be carried in and out one by one through the atmosphere. .
【００４２】また、基板搬送手段として、搬送ロボット
４６の代わりに、配向膜付基板２を載置して搬送する可
逆転式の搬送ベルトを設けても良い。As the substrate transfer means, instead of the transfer robot 46, a reversible transfer belt for mounting and transferring the substrate 2 with an alignment film may be provided.
【００４３】図６は、この発明に係る配向処理装置の更
に他の例を示す縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing still another example of the alignment treatment apparatus according to the present invention.
【００４４】この配向処理装置は、真空（例えば１０-5
〜１０-7Ｔｏｒｒ程度）に排気される処理室８０と、こ
の処理室８０の左右両側に真空弁９１、９２をそれぞれ
介して隣接されていて、処理室８０と大気中との間で配
向膜付基板２の出し入れを行うための二つの真空予備室
８２、８４とを備えている。真空予備室８２、８４と大
気中との間には真空弁９０、９３が設けられており、両
真空予備室８２、８４は例えば１０-2〜１０-3Ｔｏｒｒ
程度に真空排気される。This orienting apparatus uses a vacuum (for example, 10 -5
The processing chamber 80 is evacuated to about 10 −7 Torr) and the processing chamber 80 is adjacent to the processing chamber 80 via vacuum valves 91 and 92, respectively, and an alignment film is formed between the processing chamber 80 and the atmosphere. Two vacuum preliminary chambers 82 and 84 are provided for loading and unloading the attached substrate 2. Vacuum valves 90 and 93 are provided between the vacuum preliminary chambers 82 and 84 and the atmosphere, and both vacuum preliminary chambers 82 and 84 are, for example, 10 -2 to 10 -3 Torr.
It is evacuated to a degree.
【００４５】処理室８０、真空予備室８２および８４内
には、基板搬送手段の一例として、配向膜付基板２を例
えば矢印Ｂ方向に搬送する搬送ベルト８６〜８８が設け
られている。但し、配向膜付基板２の搬送方向は、上記
矢印Ｂとは逆方向でも良いし、あるいは可逆転式にして
上記Ｂ方向とその逆方向の両方向に搬送可能にしても良
い。In the processing chamber 80 and the vacuum preparatory chambers 82 and 84, as an example of substrate carrying means, carrying belts 86 to 88 for carrying the substrate 2 with an alignment film in the direction of arrow B are provided. However, the substrate 2 with an alignment film may be conveyed in the opposite direction to the arrow B, or may be reversible so that it can be conveyed in both the B direction and the opposite direction.
【００４６】処理室８０における搬送ベルト８７の搬送
経路上には、搬送中の配向膜付基板２の配向膜６にイオ
ンビーム１４を照射する前述したようなイオン源１２が
設けられている。このイオン源１２は、固定でも良いけ
れども、その傾き角度を可変にするのが好ましく、その
ようにすれば、配向膜６の表面に対するイオンビーム１
４の照射角度θを可変にすることができ、それによって
前述した配向秩序度およびプレティルト角を制御するこ
とができる。On the transport path of the transport belt 87 in the processing chamber 80, the above-mentioned ion source 12 for irradiating the alignment film 6 of the substrate with alignment film 2 being transported with the ion beam 14 is provided. The ion source 12 may be fixed, but it is preferable to make the tilt angle variable, and by doing so, the ion beam 1 with respect to the surface of the alignment film 6 is formed.
The irradiation angle θ of No. 4 can be made variable, and thereby the degree of orientational order and the pretilt angle described above can be controlled.
【００４７】更に、処理室８０における搬送ベルト８７
の搬送経路上には、搬送中の配向膜付基板２の配向膜６
に紫外線２４を照射する前述したような紫外線ランプ２
２が設けられている。Further, the conveyor belt 87 in the processing chamber 80
The alignment film 6 of the substrate 2 with the alignment film being transported is on the transport path of
UV lamp 2 for irradiating UV 24 to
2 are provided.
【００４８】この配向処理装置によれば、搬送方向を
上記矢印Ｂ方向にすることによって、搬送ベルト８７上
の配向膜付基板２の配向膜６にイオンビーム１４を照射
した後に紫外線２４を照射する処理を、あるいは搬送
方向を上記Ｂとは逆方向にすることによって、紫外線２
４を照射した後にイオンビーム１４を照射する処理を、
更にはイオン源１２と紫外線ランプ２２とを互いに近
づけることによって、搬送方向に拘わらず、イオンビー
ム１４の照射と紫外線２４の照射とを同時に行う処理
を、それぞれ実施することができる。According to this alignment treatment apparatus, the transport direction is set to the direction of the arrow B, so that the alignment film 6 on the alignment film-attached substrate 2 on the transport belt 87 is irradiated with the ion beam 14 and then the ultraviolet rays 24. By processing or by changing the transport direction to the opposite direction to the above B, the ultraviolet rays 2
The process of irradiating the ion beam 14 after irradiating 4
Furthermore, by bringing the ion source 12 and the ultraviolet lamp 22 closer to each other, it is possible to perform the processing of simultaneously performing the irradiation of the ion beam 14 and the irradiation of the ultraviolet ray 24 regardless of the transport direction.
【００４９】このようにこの実施例の配向処理装置によ
れば、前述した配向処理方法の実施が可能である。しか
も、紫外線照射とイオンビーム照射の連続処理が可能で
あり、かつ両処理および基板搬送の全てを真空雰囲気中
において行うことができるので、スループットが高く、
量産性に富んでいる。また、一つの処理室８０内で配向
膜付基板２に対するイオンビーム照射と紫外線照射とを
行うことができるので、装置を小型化することができ
る。As described above, according to the alignment treatment apparatus of this embodiment, the above-mentioned alignment treatment method can be carried out. Moreover, since the ultraviolet irradiation and the ion beam irradiation can be continuously performed, and both the processing and the substrate transfer can be performed in a vacuum atmosphere, the throughput is high,
It is highly productive. Moreover, since the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation can be performed on the substrate 2 with an alignment film in one processing chamber 80, the apparatus can be downsized.
【００５０】なお、基板搬送手段として、上記搬送ベル
ト８６〜８８の代わりに、多数のローラを設けても良
い。また、必要に応じて、配向膜付基板２をトレイに入
れて搬送するようにしても良い。As the substrate carrying means, a large number of rollers may be provided instead of the carrying belts 86 to 88. In addition, the substrate 2 with an alignment film may be put in a tray and transported, if necessary.
【００５１】[0051]
【発明の効果】この発明は、上記のとおり構成されてい
るので、次のような効果を奏する。Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.
【００５２】請求項１記載の配向処理方法によれば、イ
オンビーム照射と紫外線照射を併用することによって、
ラビング法とは違って、パーティクルの発生を防止する
ことができる。その結果、液晶ディスプレイの歩留りの
向上および表示品質の向上を図ることができる。しか
も、イオンビーム照射単独の場合よりもプレティルト角
を大きくすることができるので、液晶の配向不良、それ
に起因する表示むら等を防止することができ、この意味
からも表示品質の向上を図ることができる。According to the alignment treatment method of the first aspect, by using the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation together,
Unlike the rubbing method, it is possible to prevent the generation of particles. As a result, it is possible to improve the yield and display quality of the liquid crystal display. Moreover, since the pretilt angle can be made larger than in the case where only the ion beam irradiation is performed, it is possible to prevent the liquid crystal alignment defect, the display unevenness and the like due to the liquid crystal alignment defect, and in this sense, the display quality can be improved. it can.
【００５３】請求項２記載の配向処理方法によれば、配
向膜表面に対するイオンビームの照射角度を６０度以下
にすることによって、より大きな配向秩序度およびプレ
ティルト角を得ることができるという更なる効果を奏す
る。According to the alignment treatment method of the second aspect, by further setting the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film to 60 degrees or less, it is possible to obtain a larger degree of alignment order and a pretilt angle. Play.
【００５４】請求項３記載の配向処理装置によれば、請
求項１記載の配向処理方法を実施することができ、しか
も一つの真空容器内で配向膜付基板に対するイオンビー
ム照射と紫外線照射を行うことができるので、装置を非
常に小型化かつ簡略化することができる。According to the alignment treatment apparatus of the third aspect, the alignment treatment method of the first aspect can be carried out, and furthermore, the ion beam irradiation and the ultraviolet ray irradiation are performed on the substrate with the alignment film in one vacuum container. Therefore, the device can be made very small and simple.
【００５５】請求項４記載の配向処理装置によれば、配
向膜表面に対するイオンビームの照射角度を可変にした
ので、配向膜の配向秩序度およびプレティルト角を制御
することができるという更なる効果を奏する。According to the alignment treatment apparatus of the fourth aspect, since the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film is made variable, it is possible to control the alignment order degree and the pretilt angle of the alignment film. Play.
【００５６】請求項５記載の配向処理装置によれば、請
求項１記載の配向処理方法を実施することができ、しか
も紫外線照射とイオンビーム照射の連続処理が可能であ
り、かつ両処理および基板搬送の全てを真空雰囲気中に
おいて行うことができるので、スループットが高く、量
産性に富んでいる。また、イオンビーム照射と紫外線照
射とを互いに別の部屋で行うので、一方の処理の際に雰
囲気が変化しても、それが他方の処理に全く影響を与え
ないという利点がある。According to the alignment treatment apparatus of the fifth aspect, the alignment treatment method of the first aspect can be carried out, and further, the ultraviolet irradiation and the ion beam irradiation can be continuously performed, and both the treatment and the substrate can be performed. Since all the transportation can be performed in a vacuum atmosphere, the throughput is high and the mass productivity is high. Further, since the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation are performed in different rooms, there is an advantage that even if the atmosphere changes during one process, it does not affect the other process at all.
【００５７】請求項６記載の配向処理装置によれば、配
向膜表面に対するイオンビームの照射角度を可変にした
ので、配向膜の配向秩序度およびプレティルト角を制御
することができるという更なる効果を奏する。According to the alignment treatment apparatus of the sixth aspect, since the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film is made variable, it is possible to control the alignment order degree and the pretilt angle of the alignment film. Play.
【００５８】請求項７記載の配向処理装置によれば、請
求項１記載の配向処理方法を実施することができ、しか
も紫外線照射とイオンビーム照射の連続照射が可能であ
り、かつ両処理および基板搬送の全てを真空雰囲気中に
おいて行うことができるので、スループットが高く、量
産性に富んでいる。また、一つの真空容器内で配向膜付
基板に対するイオンビーム照射と紫外線照射とを行うこ
とができるので、装置を小型化することができる。According to the alignment treatment apparatus of the seventh aspect, the alignment treatment method of the first aspect can be carried out, and further ultraviolet irradiation and ion beam irradiation can be continuously performed, and both treatments and the substrate can be performed. Since all the transportation can be performed in a vacuum atmosphere, the throughput is high and the mass productivity is high. Moreover, since the ion beam irradiation and the ultraviolet irradiation can be performed on the substrate with the alignment film in one vacuum container, the device can be downsized.
【００５９】請求項８記載の配向処理装置によれば、配
向膜表面に対するイオンビームの照射角度を可変にした
ので、配向膜の配向秩序度およびプレティルト角を制御
することができるという更なる効果を奏する。According to the alignment treatment apparatus of the eighth aspect, since the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film is made variable, it is possible to further control the alignment order degree and the pretilt angle of the alignment film. Play.
【図１】この発明に係る配向処理方法を実施する配向処
理装置の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an example of an alignment treatment apparatus for carrying out an alignment treatment method according to the present invention.
【図２】イオンビームの照射角度と配向秩序度との関係
を測定した結果の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a result obtained by measuring a relationship between an irradiation angle of an ion beam and an alignment order degree.
【図３】紫外線照射の有無によるプレティルト角の変化
を測定した結果の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of a result of measuring a change in pretilt angle depending on the presence or absence of ultraviolet irradiation.
【図４】この発明に係る配向処理装置の他の例を示す横
断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing another example of the alignment treatment apparatus according to the present invention.
【図５】図４の線ａ−ａに沿う縦断面図である。5 is a vertical cross-sectional view taken along the line aa of FIG.
【図６】この発明に係る配向処理装置の更に他の例を示
す縦断面図である。FIG. 6 is a vertical sectional view showing still another example of the alignment treatment apparatus according to the present invention.
２ 配向膜付基板 ４ ガラス基板 ６ 配向膜 ８ ホルダ １２ イオン源 １４ イオンビーム ２０ 真空容器 ２２ 紫外線ランプ ２４ 紫外線 ３０ 紫外線照射装置 ４０ 基板搬送装置 ５０ イオンビーム照射装置 ８０ 処理室 ８２，８４ 真空予備室 ８６〜８８ 搬送ベルト 2 substrate with alignment film 4 glass substrate 6 alignment film 8 holder 12 ion source 14 ion beam 20 vacuum container 22 ultraviolet lamp 24 ultraviolet light 30 ultraviolet light irradiation device 40 substrate transfer device 50 ion beam irradiation device 80 processing chamber 82, 84 vacuum reserve chamber 86 ~ 88 Conveyor belt
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 創 京都府京都市右京区梅津高畝町47番地 日 新電機株式会社内 (72)発明者 江原 泰蔵 東京都日野市日野1164番地 株式会社イ ー・エッチ・シー内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor So Kuwabara 47 Umezu Takaunecho, Ukyo-ku, Kyoto City, Kyoto Prefecture Nissin Electric Co., Ltd. (72) Inventor Taizo Tahara 1164, Hino, Hino, Tokyo E-Co. Inside H-C
Claims (8)
板上に形成した配向膜付基板の配向膜に対して、イオン
ビームの照射と紫外線の照射とを行うことを特徴とする
配向膜の配向処理方法。1. An alignment film comprising an alignment film and a substrate on which an alignment film for aligning liquid crystal molecules is formed, and the alignment film is irradiated with an ion beam and ultraviolet rays. Alignment treatment method.
角度を６０度以下（０度を含まない）にする請求項１記
載の配向膜の配向処理方法。2. The alignment treatment method for an alignment film according to claim 1, wherein the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film is 60 degrees or less (not including 0 degrees).
容器内に設けられていて配向膜付基板を保持するホルダ
と、このホルダ上の配向膜付基板の配向膜にイオンビー
ムを照射するイオン源と、前記ホルダ上の配向膜付基板
の配向膜に紫外線を照射する紫外線源とを備えることを
特徴とする配向処理装置。3. A vacuum container evacuated to a vacuum, a holder provided in the vacuum container for holding a substrate with an alignment film, and an alignment film on the substrate with an alignment film on the holder is irradiated with an ion beam. An alignment treatment apparatus comprising: an ion source; and an ultraviolet ray source for irradiating the alignment film of the substrate with an alignment film on the holder with ultraviolet rays.
一方の角度を可変にして、前記配向膜表面に対するイオ
ンビームの照射角度を可変にしている請求項３記載の配
向処理装置。4. The alignment treatment apparatus according to claim 3, wherein the angle of at least one of the holder and the ion source is variable so that the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film is variable.
の真空容器内に設けられていて配向膜付基板を保持する
ホルダと、このホルダ上の配向膜付基板の配向膜にイオ
ンビームを照射するイオン源とを有するイオンビーム照
射装置と、 （ロ）真空に排気される真空容器と、この真空容器内に
設けられていて配向膜付基板を保持するホルダと、この
ホルダ上の配向膜付基板の配向膜に紫外線を照射する紫
外線源とを有する紫外線照射装置と、 （ハ）真空雰囲気中において前記配向膜付基板を前記イ
オンビーム照射装置から前記紫外線照射装置へまたはそ
の逆に搬送する基板搬送装置とを備えることを特徴とす
る配向処理装置。5. A vacuum container evacuated to a vacuum, a holder provided in the vacuum container for holding a substrate with an alignment film, and an ion beam on the alignment film of the substrate with the alignment film on the holder. Ion beam irradiation device having an ion source for irradiating the substrate, (b) a vacuum container evacuated to a vacuum, a holder provided in the vacuum container for holding a substrate with an alignment film, and an alignment on the holder. An ultraviolet irradiation device having an ultraviolet source for irradiating the alignment film of the film-coated substrate with ultraviolet light; and (c) transporting the alignment film-coated substrate from the ion beam irradiation device to the ultraviolet irradiation device or vice versa in a vacuum atmosphere. An alignment treatment apparatus comprising:
びイオン源の少なくとも一方の角度を可変にして、配向
膜表面に対するイオンビームの照射角度を可変にしてい
る請求項５記載の配向処理装置。6. The alignment treatment apparatus according to claim 5, wherein the angle of at least one of the holder and the ion source of the ion beam irradiation device is made variable to make the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film variable.
内に設けられていて配向膜付基板を搬送する基板搬送手
段と、この基板搬送手段の搬送経路上に設けられていて
搬送中の配向膜付基板の配向膜にイオンビームを照射す
るイオン源と、前記基板搬送手段の搬送経路上に設けら
れていて搬送中の配向膜付基板の配向膜に紫外線を照射
する紫外線源と、前記処理室に真空弁を介して隣接され
ていて当該処理室と大気中との間で前記配向膜付基板の
出し入れを行うための真空予備室とを備えることを特徴
とする配向処理装置。7. A processing chamber which is evacuated to a vacuum, a substrate transfer means which is provided in the processing chamber and which transfers an alignment film-attached substrate, and a transfer path which is provided on the substrate transfer means and is being transferred. An ion source for irradiating the alignment film of the alignment film-attached substrate with an ion beam, and an ultraviolet ray source for irradiating the alignment film of the alignment film-attached substrate being conveyed with ultraviolet rays, which is provided on the transfer path of the substrate transfer means, and An alignment treatment apparatus, comprising: a vacuum preparatory chamber that is adjacent to a processing chamber via a vacuum valve and that is used for loading and unloading the substrate with the alignment film between the processing chamber and the atmosphere.
膜表面に対するイオンビームの照射角度を可変にしてい
る請求項７記載の配向処理装置。8. The alignment treatment apparatus according to claim 7, wherein the angle of the ion source is variable, and the irradiation angle of the ion beam with respect to the surface of the alignment film is variable.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5103196A JPH09218409A (en) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | Orientation treatment of oriented film and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5103196A JPH09218409A (en) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | Orientation treatment of oriented film and apparatus therefor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09218409A true JPH09218409A (en) | 1997-08-19 |
Family
ID=12875449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5103196A Pending JPH09218409A (en) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | Orientation treatment of oriented film and apparatus therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09218409A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6673127B1 (en) * | 1997-01-22 | 2004-01-06 | Denora S.P.A. | Method of forming robust metal, metal oxide, and metal alloy layers on ion-conductive polymer membranes |
| US6912031B2 (en) | 2002-07-18 | 2005-06-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
-
1996
- 1996-02-13 JP JP5103196A patent/JPH09218409A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6673127B1 (en) * | 1997-01-22 | 2004-01-06 | Denora S.P.A. | Method of forming robust metal, metal oxide, and metal alloy layers on ion-conductive polymer membranes |
| US6912031B2 (en) | 2002-07-18 | 2005-06-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
| US7164459B2 (en) | 2002-07-18 | 2007-01-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for fabricating a liquid crystal display device having inorganic alignment film made of crystalline conductive film |
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