JPH09204005A - 写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法 - Google Patents
写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法Info
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- JPH09204005A JPH09204005A JP8012982A JP1298296A JPH09204005A JP H09204005 A JPH09204005 A JP H09204005A JP 8012982 A JP8012982 A JP 8012982A JP 1298296 A JP1298296 A JP 1298296A JP H09204005 A JPH09204005 A JP H09204005A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複雑で品質安定性に難のある写真用ポリエス
テルフイルム支持体を効率よく、安定に製造すること。 【解決手段】 連続的に搬送されるウエブ状のポリエス
テル系支持体の少なくとも片面に対し、真空表面処理、
予備塗工処理及び該支持体をロール状に巻き取った状態
で50℃以上ガラス転移温度(Tg)以下、処理時間
0.1時間以上1500時間以下の条件に設定される熱
処理を連続的に施した後に、該ポリエステル系支持体の
ハロゲン化銀乳剤層形成面に下塗り層を塗工し、その
後、該ポリエステル系支持体のハロゲン化銀乳剤層非形
成面に、光透過磁気記録層及びオーバーコート層を、該
順序で連続して塗工する。
テルフイルム支持体を効率よく、安定に製造すること。 【解決手段】 連続的に搬送されるウエブ状のポリエス
テル系支持体の少なくとも片面に対し、真空表面処理、
予備塗工処理及び該支持体をロール状に巻き取った状態
で50℃以上ガラス転移温度(Tg)以下、処理時間
0.1時間以上1500時間以下の条件に設定される熱
処理を連続的に施した後に、該ポリエステル系支持体の
ハロゲン化銀乳剤層形成面に下塗り層を塗工し、その
後、該ポリエステル系支持体のハロゲン化銀乳剤層非形
成面に、光透過磁気記録層及びオーバーコート層を、該
順序で連続して塗工する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明磁気記録層を
有し、各種情報記録が可能な写真用フイルムに供される
写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法に関す
る。
有し、各種情報記録が可能な写真用フイルムに供される
写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、ポリエステル系支持体は力学
的特性に優れ、薄手化に適した支持体であることが知ら
れているが、写真用フイルムに供されるパトローネ等に
組み込まれた場合、その巻癖が回復しないという問題が
あった。本問題点に鑑み、米国特許第4141735号
等に示されるように、ポリエステル系支持体をロール形
態でガラス転移温度(以下Tgと称する)以下の温度で
熱処理することが提案されている。
的特性に優れ、薄手化に適した支持体であることが知ら
れているが、写真用フイルムに供されるパトローネ等に
組み込まれた場合、その巻癖が回復しないという問題が
あった。本問題点に鑑み、米国特許第4141735号
等に示されるように、ポリエステル系支持体をロール形
態でガラス転移温度(以下Tgと称する)以下の温度で
熱処理することが提案されている。
【0003】また、ポリエステル系支持体と写真感光層
等の間の密着性性付与、向上等を目的に、ポリエステル
系支持体表面に、特公昭60−166145号公報に記
載されたような真空中グロー放電処理あるいは紫外線照
射処理等を施すことが知られている。また、各種情報記
録が可能、かつ高品質な写真フイルムとするために、透
明磁気記録層を形成することが提案されている。
等の間の密着性性付与、向上等を目的に、ポリエステル
系支持体表面に、特公昭60−166145号公報に記
載されたような真空中グロー放電処理あるいは紫外線照
射処理等を施すことが知られている。また、各種情報記
録が可能、かつ高品質な写真フイルムとするために、透
明磁気記録層を形成することが提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
では巻癖を低減、解消することはできるが、熱処理中に
発生する支持体の不均一な熱変形により、特開平6−1
23937号公報に言及されているいわゆるきしみが発
生し、平面性が劣化し、写真用支持体として使用できな
いという問題があった。
では巻癖を低減、解消することはできるが、熱処理中に
発生する支持体の不均一な熱変形により、特開平6−1
23937号公報に言及されているいわゆるきしみが発
生し、平面性が劣化し、写真用支持体として使用できな
いという問題があった。
【0005】また、ポリエステル系支持体に上記表面処
理を施した後、熱処理を行うと、積層した支持体同士が
接着するいわゆるブロッキングが発生するという問題が
あった。また、近年の写真の更なる高画質化に対応し
て、製造工程のクリーン化、特に支持体表面の帯電によ
る塵埃の付着抑止は必須である。
理を施した後、熱処理を行うと、積層した支持体同士が
接着するいわゆるブロッキングが発生するという問題が
あった。また、近年の写真の更なる高画質化に対応し
て、製造工程のクリーン化、特に支持体表面の帯電によ
る塵埃の付着抑止は必須である。
【0006】更に、各種情報記録を可能にするため、ま
た最終的な写真フイルムとするために形成するハロゲン
化銀乳剤層とポリエステル系支持体との密着性付与層等
のために、いわゆる塗工処理による、目的に応じた機能
を有する塗工層の形成が必要である。
た最終的な写真フイルムとするために形成するハロゲン
化銀乳剤層とポリエステル系支持体との密着性付与層等
のために、いわゆる塗工処理による、目的に応じた機能
を有する塗工層の形成が必要である。
【0007】以上のように、所定の機能を有する写真フ
イルムの製造に際しては、真空表面処理、加熱処理、塗
工処理等、多くの処理が必要である。これらの処理、熱
処理、塗工処理等を工程毎に独立させて実施する、いわ
ゆるバッチ処理は設備設置コスト、半製品ロール等の運
搬設備コスト、処理時間等の点で製造適性は満足できる
ものではない。
イルムの製造に際しては、真空表面処理、加熱処理、塗
工処理等、多くの処理が必要である。これらの処理、熱
処理、塗工処理等を工程毎に独立させて実施する、いわ
ゆるバッチ処理は設備設置コスト、半製品ロール等の運
搬設備コスト、処理時間等の点で製造適性は満足できる
ものではない。
【0008】またこのような表面処理、塗工工程では、
処理及び塗工面の面状を安定に維持することは必須であ
り、各処理を独立して行った場合、それぞれの工程でポ
リエステル系支持体の搬送、ロール状巻取、ロール包
装、運搬、貯蔵、工程の掃除、ロール状になったポリエ
ステル系支持体のウエブ状での送り出し等が行われるこ
とになり、塗工面状不安定要因が多く内在し、その結果
に、各工程毎に検査が必須となり、品質維持という観点
からも改善すべき点が多い。
処理及び塗工面の面状を安定に維持することは必須であ
り、各処理を独立して行った場合、それぞれの工程でポ
リエステル系支持体の搬送、ロール状巻取、ロール包
装、運搬、貯蔵、工程の掃除、ロール状になったポリエ
ステル系支持体のウエブ状での送り出し等が行われるこ
とになり、塗工面状不安定要因が多く内在し、その結果
に、各工程毎に検査が必須となり、品質維持という観点
からも改善すべき点が多い。
【0009】そこで、本発明は上記の事情に鑑みてなさ
れたもので、効率、省人化、品質安定化を良好なレベル
で達成するものである。
れたもので、効率、省人化、品質安定化を良好なレベル
で達成するものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】連続的に搬送されるウエ
ブ状のポリエステル系支持体の少なくとも片面に対し、
真空表面処理、予備塗工処理及び該支持体をロール状に
巻き取った状態で50℃以上ガラス転移温度(Tg)以
下、処理時間0.1時間以上1500時間以下の条件に
設定される熱処理を連続的に施した後に、ポリエステル
系支持体のハロゲン化銀乳剤層形成面に下塗り層を塗工
し、その後、ポリエステル系支持体のハロゲン化銀乳剤
層非形成面に、光透過磁気記録層及びオーバーコート層
を、該順序で連続して塗工することを特徴とする写真用
ポリエステルフイルム支持体の製造方法を用いることに
より、上記の問題点は良好なレベルで解決されるもので
ある。
ブ状のポリエステル系支持体の少なくとも片面に対し、
真空表面処理、予備塗工処理及び該支持体をロール状に
巻き取った状態で50℃以上ガラス転移温度(Tg)以
下、処理時間0.1時間以上1500時間以下の条件に
設定される熱処理を連続的に施した後に、ポリエステル
系支持体のハロゲン化銀乳剤層形成面に下塗り層を塗工
し、その後、ポリエステル系支持体のハロゲン化銀乳剤
層非形成面に、光透過磁気記録層及びオーバーコート層
を、該順序で連続して塗工することを特徴とする写真用
ポリエステルフイルム支持体の製造方法を用いることに
より、上記の問題点は良好なレベルで解決されるもので
ある。
【0011】即ち、ウエブ状のポリエステル系支持体を
連続的に搬送し、ガラス転位温度(Tg)以下でロール
状に巻き取る写真用ポリエステルフイルム支持体の連続
熱処理方法であって、熱処理前に、搬送中のウエブ状の
ポリエステル系支持体を連続的に大気〜真空間で搬送
し、ポリエステル系支持体の少なくとも片面に真空中グ
ロー放電処理を、放電状態を監視、制御しながら、かつ
制御されたガスを導入しながら施す工程、更にグロー放
電処理と熱処理との間に、反乳剤層面に導電性の無機粒
子或いは有機粒子、界面活性剤、硬膜剤、バインダ等か
らなる水系塗液を溶存空気量、液温度を一定レベルに維
持、管理しながら塗布、乾燥することにより導電層を形
成する予備塗工を実施し、加えて熱処理を50℃以上ガ
ラス転移温度(Tg)以下で、処理時間0.1時間以上
1500時間以下の条件で連続的に施した後に、ポリエ
ステル系支持体の一方のハロゲン化銀乳剤層を形成する
側に下塗り層を、ゼラチン、有機溶剤及び結合剤、その
他の必要成分とともに、それぞれ所定量で調製された塗
工液を用いて、バー型塗布装置を用いて、その塗布量が
10〜40cc/m2 の範囲、その液の温度が15〜2
5℃の範囲で塗工し、その後、直ちに連続して、光透過
磁気記録層を、磁性体と有機溶剤、その他の必要成分と
ともに、それぞれ所定量で、予め均一に混ぜ合わされて
いる分散液を塗工液として、光透過磁気記録層塗工をス
ライドホッパ型塗布装置或いはバー型塗工装置を用い
て、その塗布量が10〜40cc/m2 、その液の温度
が15〜25℃の範囲で塗工し、その後、直ちに連続し
てオーバーコート層を、有機溶剤及び滑り剤、その他の
必要成分とともに、それぞれ所定量で、予め均一に混ぜ
合わされている分散液を塗工液として、バー型塗布装置
を用いて、その塗布量が10〜40cc/m2 、その液
の温度が15〜25℃の範囲で塗工し、併せて下塗り層
及び/又は光磁気記録層及び/又はオーバーコート層を
塗工するに際して、ポリエステル系支持体を予め20〜
30℃に維持することにより達成できる。
連続的に搬送し、ガラス転位温度(Tg)以下でロール
状に巻き取る写真用ポリエステルフイルム支持体の連続
熱処理方法であって、熱処理前に、搬送中のウエブ状の
ポリエステル系支持体を連続的に大気〜真空間で搬送
し、ポリエステル系支持体の少なくとも片面に真空中グ
ロー放電処理を、放電状態を監視、制御しながら、かつ
制御されたガスを導入しながら施す工程、更にグロー放
電処理と熱処理との間に、反乳剤層面に導電性の無機粒
子或いは有機粒子、界面活性剤、硬膜剤、バインダ等か
らなる水系塗液を溶存空気量、液温度を一定レベルに維
持、管理しながら塗布、乾燥することにより導電層を形
成する予備塗工を実施し、加えて熱処理を50℃以上ガ
ラス転移温度(Tg)以下で、処理時間0.1時間以上
1500時間以下の条件で連続的に施した後に、ポリエ
ステル系支持体の一方のハロゲン化銀乳剤層を形成する
側に下塗り層を、ゼラチン、有機溶剤及び結合剤、その
他の必要成分とともに、それぞれ所定量で調製された塗
工液を用いて、バー型塗布装置を用いて、その塗布量が
10〜40cc/m2 の範囲、その液の温度が15〜2
5℃の範囲で塗工し、その後、直ちに連続して、光透過
磁気記録層を、磁性体と有機溶剤、その他の必要成分と
ともに、それぞれ所定量で、予め均一に混ぜ合わされて
いる分散液を塗工液として、光透過磁気記録層塗工をス
ライドホッパ型塗布装置或いはバー型塗工装置を用い
て、その塗布量が10〜40cc/m2 、その液の温度
が15〜25℃の範囲で塗工し、その後、直ちに連続し
てオーバーコート層を、有機溶剤及び滑り剤、その他の
必要成分とともに、それぞれ所定量で、予め均一に混ぜ
合わされている分散液を塗工液として、バー型塗布装置
を用いて、その塗布量が10〜40cc/m2 、その液
の温度が15〜25℃の範囲で塗工し、併せて下塗り層
及び/又は光磁気記録層及び/又はオーバーコート層を
塗工するに際して、ポリエステル系支持体を予め20〜
30℃に維持することにより達成できる。
【0012】真空中グロー放電処理においては、減圧雰
囲気中で特開平7−3056号公報に示すように、水冷
された円筒電極間を支持体を搬送させ処理する方法を用
いる。電極本体の材質、表面仕上げは、放電雰囲気、強
度等により適宜選択されるが、SUS、Al等を用い、
バフ#250〜400程度に仕上げることが望ましい。
囲気中で特開平7−3056号公報に示すように、水冷
された円筒電極間を支持体を搬送させ処理する方法を用
いる。電極本体の材質、表面仕上げは、放電雰囲気、強
度等により適宜選択されるが、SUS、Al等を用い、
バフ#250〜400程度に仕上げることが望ましい。
【0013】対向する電極間の距離は100〜400m
mの望ましくは200〜300mmが、処理効果、支持
体への熱ダメージ等を勘案するとよい範囲である。処理
圧力は6.6Pa〜2.7kPa、より好ましくは1
3.3Pa〜270Paである。処理電圧は500〜5
000Vより好ましくは500〜3000Vである。
mの望ましくは200〜300mmが、処理効果、支持
体への熱ダメージ等を勘案するとよい範囲である。処理
圧力は6.6Pa〜2.7kPa、より好ましくは1
3.3Pa〜270Paである。処理電圧は500〜5
000Vより好ましくは500〜3000Vである。
【0014】処理周波数は直流から数1000MHz、
好ましくは1kHz〜1MHzである。これら、放電電
圧、電流、周波数等はモニタ制御されることが望まし
い。また、高周波領域では公知の如く、電源インピーダ
ンスと放電部のインピーダンスを整合させることが発生
電力を有効に消費するという観点及び電源の過度な昇温
防止という観点から望ましく、発生電力及び消費電力を
モニタし、消費電力/発生電力の比を0.9以上、好ま
しくは0.95以上になるよう諸元を制御することが必
須である。
好ましくは1kHz〜1MHzである。これら、放電電
圧、電流、周波数等はモニタ制御されることが望まし
い。また、高周波領域では公知の如く、電源インピーダ
ンスと放電部のインピーダンスを整合させることが発生
電力を有効に消費するという観点及び電源の過度な昇温
防止という観点から望ましく、発生電力及び消費電力を
モニタし、消費電力/発生電力の比を0.9以上、好ま
しくは0.95以上になるよう諸元を制御することが必
須である。
【0015】また電源を適切に空調管理された雰囲気に
設置することも有効である。真空中グロー放電において
は、特公昭60−16614号公報に示すように、ポリ
エステル系支持体を真空中グロー放電処理直前に予熱し
ておくことが望ましいが、その実施態様としては支持体
安定搬送の観点から、少なくとも2つ以上の加熱ロール
を用い逐次加熱すること、赤外線ヒータ等が適宜選択さ
れる。
設置することも有効である。真空中グロー放電において
は、特公昭60−16614号公報に示すように、ポリ
エステル系支持体を真空中グロー放電処理直前に予熱し
ておくことが望ましいが、その実施態様としては支持体
安定搬送の観点から、少なくとも2つ以上の加熱ロール
を用い逐次加熱すること、赤外線ヒータ等が適宜選択さ
れる。
【0016】ロール加熱手段は誘導加熱方式、蒸気等の
熱媒を用いたジャケット方式等の公知方式を適宜選択す
る。予熱温度は80〜180℃、望ましくは100〜T
gが良い。また予熱を施す場合、ポリエステル系支持体
巾方向の温度を±1℃以下より望ましくは±0.5℃以
下に維持、管理することが望ましい。
熱媒を用いたジャケット方式等の公知方式を適宜選択す
る。予熱温度は80〜180℃、望ましくは100〜T
gが良い。また予熱を施す場合、ポリエステル系支持体
巾方向の温度を±1℃以下より望ましくは±0.5℃以
下に維持、管理することが望ましい。
【0017】真空中グロー放電においては、特公平3−
39106号公報に示すように、グロー放電処理直後に
ポリエステル系支持体を直ちに冷却することが必須であ
るが、その実施態様としては、少なくとも2つ以上の水
冷ジャケット方式の冷却ロールを用い逐次冷却すること
等が適宜選択される。冷却温度は20℃〜50℃好まし
くは30〜40℃が良い。
39106号公報に示すように、グロー放電処理直後に
ポリエステル系支持体を直ちに冷却することが必須であ
るが、その実施態様としては、少なくとも2つ以上の水
冷ジャケット方式の冷却ロールを用い逐次冷却すること
等が適宜選択される。冷却温度は20℃〜50℃好まし
くは30〜40℃が良い。
【0018】加熱ロール、冷却ロール等はその効果が損
なわれないよう、真空処理装置内かつグロー放電処理部
直前/直後に設置することが望ましい。また、ポリエス
テル系支持体表面温度を放射温度計、接触式熱電対等の
公知手段で測定し、加熱、冷却手段を制御することが望
ましい。真空中グロー放電処理においては、ポリエステ
ル系支持体を大気空間〜減圧空間で連続的に導く工程と
処理を施す工程とを有することが連続適性付与上必須で
ある。
なわれないよう、真空処理装置内かつグロー放電処理部
直前/直後に設置することが望ましい。また、ポリエス
テル系支持体表面温度を放射温度計、接触式熱電対等の
公知手段で測定し、加熱、冷却手段を制御することが望
ましい。真空中グロー放電処理においては、ポリエステ
ル系支持体を大気空間〜減圧空間で連続的に導く工程と
処理を施す工程とを有することが連続適性付与上必須で
ある。
【0019】ポリエステル系支持体を大気空間〜減圧空
間で連続的に導く工程としては、特公昭61−3686
2号公報に示される対向する一対のロールで支持体をニ
ップし、複数の減圧室を形成する方式や、特公平1−5
2473号公報に示されるロールと対向するフレーム間
に狭い隙間を設け支持体を搬送し、徐々に減圧雰囲気に
搬送する方式、さらには特開平1−272767号公報
に示されるような非接触式の対向するロール群で支持体
を搬送しつつ、複数の減圧室を形成する方式が、支持体
種類、設置条件等により適宜選択される。
間で連続的に導く工程としては、特公昭61−3686
2号公報に示される対向する一対のロールで支持体をニ
ップし、複数の減圧室を形成する方式や、特公平1−5
2473号公報に示されるロールと対向するフレーム間
に狭い隙間を設け支持体を搬送し、徐々に減圧雰囲気に
搬送する方式、さらには特開平1−272767号公報
に示されるような非接触式の対向するロール群で支持体
を搬送しつつ、複数の減圧室を形成する方式が、支持体
種類、設置条件等により適宜選択される。
【0020】この工程を用いることにより、真空処理を
連続一貫処理の一部として組み込むことが可能である。
また、処理圧力雰囲気中のガス組成を制御するため、外
部より任意の種類の単体或いは混合状態のガスを、処理
圧力を一定に維持したまま任意量導入し、処理圧力雰囲
気を変化させることが必須である。
連続一貫処理の一部として組み込むことが可能である。
また、処理圧力雰囲気中のガス組成を制御するため、外
部より任意の種類の単体或いは混合状態のガスを、処理
圧力を一定に維持したまま任意量導入し、処理圧力雰囲
気を変化させることが必須である。
【0021】この場合のガス種としては、空気、酸素、
窒素、二酸化炭素、水、アンモニア、アルゴンまたこれ
らの混合物が用いられる。ガス導入方法としては、質量
流量制御装置および本装置に連動する自動バルブ等を用
いることが望ましい。上記のガス導入時に処理圧力を維
持、制御するためには、排気装置と処理室間に設定圧力
と実際の圧力を比較、修正する、圧力検出装置、自動バ
ルブ等からなる装置を設けることが必須である。
窒素、二酸化炭素、水、アンモニア、アルゴンまたこれ
らの混合物が用いられる。ガス導入方法としては、質量
流量制御装置および本装置に連動する自動バルブ等を用
いることが望ましい。上記のガス導入時に処理圧力を維
持、制御するためには、排気装置と処理室間に設定圧力
と実際の圧力を比較、修正する、圧力検出装置、自動バ
ルブ等からなる装置を設けることが必須である。
【0022】ガスは大気空間より質量流量導入装置によ
り、適量が導入される。また導入量のモニタ制御は、質
量分析装置、色彩色差計等により行うことができる。導
入ガス量は、ガス種、処理圧力条件、処理強度、ポリエ
ステル系支持体種類等と所望の密着力との関係による
が、質量流量に換算して、10〜300Pa・m3 /秒
が良いが好ましくは20〜200Pa・m3 /秒が所望
の効果、排気手段の効率等から望ましい。
り、適量が導入される。また導入量のモニタ制御は、質
量分析装置、色彩色差計等により行うことができる。導
入ガス量は、ガス種、処理圧力条件、処理強度、ポリエ
ステル系支持体種類等と所望の密着力との関係による
が、質量流量に換算して、10〜300Pa・m3 /秒
が良いが好ましくは20〜200Pa・m3 /秒が所望
の効果、排気手段の効率等から望ましい。
【0023】表面処理と熱処理との間には、反乳剤面
に、導電性の無機粒子或いは有機粒子、界面活性剤、硬
膜剤、バインダ等からなる導電層を塗布、乾燥すること
により形成することが必須である。上記の導電性無機微
粒子としては、特開平6−123937号公報に記述さ
れているように、ZnO、TiO2 、SnO2 、Al2
O3 、In2 O2 、SiO 2 、MgO、BaO、MoO
3 、V2 O5 等の中から選ばれた少なくとも1種の結晶
性の金属酸化物或いはこれらの複合酸化物の微粒子であ
る。
に、導電性の無機粒子或いは有機粒子、界面活性剤、硬
膜剤、バインダ等からなる導電層を塗布、乾燥すること
により形成することが必須である。上記の導電性無機微
粒子としては、特開平6−123937号公報に記述さ
れているように、ZnO、TiO2 、SnO2 、Al2
O3 、In2 O2 、SiO 2 、MgO、BaO、MoO
3 、V2 O5 等の中から選ばれた少なくとも1種の結晶
性の金属酸化物或いはこれらの複合酸化物の微粒子であ
る。
【0024】これらの中で特に好ましいのは、SnO2
を主成分とし酸化アンチモン約5〜20%含有させ及び
/又はは他成分(酸化珪素、ホウ酸、リン等)を含有さ
せた導電性材料である。上記の導電性有機微粒子として
は、イオン性の導電性ポリマ、又はラテックスを用い
る。
を主成分とし酸化アンチモン約5〜20%含有させ及び
/又はは他成分(酸化珪素、ホウ酸、リン等)を含有さ
せた導電性材料である。上記の導電性有機微粒子として
は、イオン性の導電性ポリマ、又はラテックスを用い
る。
【0025】また、界面活性剤、硬膜剤は公知のものを
適宜用いればよく、バインダは水溶性ポリマ、セルロー
スエステル、ラテックスポリマ等の親水性ポリマを用い
ることができる。このような導電性層は、抵抗が10e
xp3〜10exp12Ω好ましくは10exp4〜1
0exp11Ωになるように塗工することが望ましい。
適宜用いればよく、バインダは水溶性ポリマ、セルロー
スエステル、ラテックスポリマ等の親水性ポリマを用い
ることができる。このような導電性層は、抵抗が10e
xp3〜10exp12Ω好ましくは10exp4〜1
0exp11Ωになるように塗工することが望ましい。
【0026】また、これらの塗工はディップコート、ワ
イヤバーコート、カーテンコート等の公知の手段で行わ
れ、塗工量は0.1〜20cc/m2 好ましくは0.5
〜10cc/m2 である。また、液中の溶存空気が、塗
工中に析出し塗布層に故障を発生させることを防ぐた
め、液体の蒸気圧〜6.7kPa好ましくは、蒸気圧〜
2.7kPaの減圧雰囲気下で液中の溶存空気量を飽和
空気量の70%以下好ましくは50%以下にすることが
必須である。
イヤバーコート、カーテンコート等の公知の手段で行わ
れ、塗工量は0.1〜20cc/m2 好ましくは0.5
〜10cc/m2 である。また、液中の溶存空気が、塗
工中に析出し塗布層に故障を発生させることを防ぐた
め、液体の蒸気圧〜6.7kPa好ましくは、蒸気圧〜
2.7kPaの減圧雰囲気下で液中の溶存空気量を飽和
空気量の70%以下好ましくは50%以下にすることが
必須である。
【0027】また、液は20〜40℃好ましくは25〜
35℃に保温することが望ましい。
35℃に保温することが望ましい。
【0028】実施態様としては、塗布工程を含む送液系
を循環系とし、塗布工程に至る直前の液を減圧可能なタ
ンク内に貯蔵し、所定の溶存空気量になった液を送り出
す方式等が適宜選択できる。塗工後の乾燥は、アーチド
ライヤ式、エアーフローティング式等公知の乾燥方式を
適宜用いればよい。
を循環系とし、塗布工程に至る直前の液を減圧可能なタ
ンク内に貯蔵し、所定の溶存空気量になった液を送り出
す方式等が適宜選択できる。塗工後の乾燥は、アーチド
ライヤ式、エアーフローティング式等公知の乾燥方式を
適宜用いればよい。
【0029】本導電性層により、帯電による塵埃の支持
体への付着が抑止でき、またポリエステル系支持体に上
記表面処理を施した後、熱処理を行うと、積層した支持
体同士が接着する現象、いわゆるブロッキングを抑止で
きる。さらに、本導電性層によりきしみ値を特開平6−
123937号公報に記載されているような条件により
測定したところ、100〜250gの範囲となり良好な
平面性の維持が可能となる。
体への付着が抑止でき、またポリエステル系支持体に上
記表面処理を施した後、熱処理を行うと、積層した支持
体同士が接着する現象、いわゆるブロッキングを抑止で
きる。さらに、本導電性層によりきしみ値を特開平6−
123937号公報に記載されているような条件により
測定したところ、100〜250gの範囲となり良好な
平面性の維持が可能となる。
【0030】きしみ値の測定方法は、以下のようにして
行う。 1)支持体サンプルを、180mm(支持体幅方向)×
50mm(支持体長手方向)に切り出し、これを平滑な
板の上にハロゲン化銀塗工予定層と逆の面(以下BC面
と称する)を上にて張り付ける(サンプルA)。これ
を、水平になるように引張試験機の移動ステージに取り
付ける。
行う。 1)支持体サンプルを、180mm(支持体幅方向)×
50mm(支持体長手方向)に切り出し、これを平滑な
板の上にハロゲン化銀塗工予定層と逆の面(以下BC面
と称する)を上にて張り付ける(サンプルA)。これ
を、水平になるように引張試験機の移動ステージに取り
付ける。
【0031】2)支持体サンプルを80mm(支持体幅
方向)×18mm(支持体長手方向)に切り出し、これ
と同じ大きさで重量500gの平滑な板に、ハロゲン化
銀乳剤塗工予定面が上になるように張り付ける(サンプ
ルB)。さらに、この18mmの辺の中央に糸をつけ
る。 3)サンプルBをサンプルAの上に乗せた後、サンプル
Bの糸を引張試験機の移動ステージの滑車を介してロー
ドセルに固定する。 4)移動ステージを200mm/分の速度で下げる。
方向)×18mm(支持体長手方向)に切り出し、これ
と同じ大きさで重量500gの平滑な板に、ハロゲン化
銀乳剤塗工予定面が上になるように張り付ける(サンプ
ルB)。さらに、この18mmの辺の中央に糸をつけ
る。 3)サンプルBをサンプルAの上に乗せた後、サンプル
Bの糸を引張試験機の移動ステージの滑車を介してロー
ドセルに固定する。 4)移動ステージを200mm/分の速度で下げる。
【0032】この時の、ロードセルの検出した最大荷重
をきしみ値と呼ぶ。
をきしみ値と呼ぶ。
【0033】塗工処理と熱処理との間に、Tg付近以上
200℃以下でポリエステル系支持体を予備加熱処理す
ることがポリエステル系支持体製膜時に発生している内
部応力、厚み不均一等を解消する為に好ましい。この予
備加熱処理により、支持体の平面性が改善されると同時
に、次工程の熱処理時の巻すれ、陥没、たるみ等の解消
に寄与することができる。
200℃以下でポリエステル系支持体を予備加熱処理す
ることがポリエステル系支持体製膜時に発生している内
部応力、厚み不均一等を解消する為に好ましい。この予
備加熱処理により、支持体の平面性が改善されると同時
に、次工程の熱処理時の巻すれ、陥没、たるみ等の解消
に寄与することができる。
【0034】予備加熱処理時間は支持体種類、加熱温度
等により異なるが、10〜100秒、望ましくは20〜
60秒である。予備加熱手段としては、赤外線ヒータ、
空調風等が適宜選択できる。予備加熱工程においては、
ポリエステル系支持体を移送する複数のアイドルローラ
が適性位置に設置されている。
等により異なるが、10〜100秒、望ましくは20〜
60秒である。予備加熱手段としては、赤外線ヒータ、
空調風等が適宜選択できる。予備加熱工程においては、
ポリエステル系支持体を移送する複数のアイドルローラ
が適性位置に設置されている。
【0035】これらの表面処理、塗工処理、予備加熱処
理、熱処理等を連続一貫して行うために、これら全工程
にはロール状の処理に供される支持体が、先端よりウエ
ブ状に順次繰り出され、該ロール状支持体が搬送し終わ
る直前、または搬送終了と同時に、搬送中のウエブ端と
静止待機中のロール状支持体の先端ウエブとを接合搬送
するいわゆるターレット方式の送出装置と、接合装置が
設けられる。
理、熱処理等を連続一貫して行うために、これら全工程
にはロール状の処理に供される支持体が、先端よりウエ
ブ状に順次繰り出され、該ロール状支持体が搬送し終わ
る直前、または搬送終了と同時に、搬送中のウエブ端と
静止待機中のロール状支持体の先端ウエブとを接合搬送
するいわゆるターレット方式の送出装置と、接合装置が
設けられる。
【0036】接合方式は支持体同士を突き合わせて、接
着テープ等を用いて接合する方式が好ましく、その精度
は発明協会公開技報公技番号6−13721号に記載さ
れるように、支持体同士の屈曲が5mm/m以内、段違
いが5mm以内であることが望ましい。また、接合動作
をより安定に行うため、アキュームレータを設置しても
よい。
着テープ等を用いて接合する方式が好ましく、その精度
は発明協会公開技報公技番号6−13721号に記載さ
れるように、支持体同士の屈曲が5mm/m以内、段違
いが5mm以内であることが望ましい。また、接合動作
をより安定に行うため、アキュームレータを設置しても
よい。
【0037】熱処理は処理温度50℃以上Tg未満、よ
り好ましくはTg−20℃以上Tg未満、更に好ましく
はTg−15℃以上Tg未満が良い。熱処理時間は0.
1時間以上1500時間より好ましくは2時間以上10
00時間以下、更に好ましくは5時間以上400時間以
下であることが好ましい。熱処理はポリエステル系支持
体をロール状に連続して巻取りながら行うか、熱処理を
施されながら、次工程に搬送される。
り好ましくはTg−20℃以上Tg未満、更に好ましく
はTg−15℃以上Tg未満が良い。熱処理時間は0.
1時間以上1500時間より好ましくは2時間以上10
00時間以下、更に好ましくは5時間以上400時間以
下であることが好ましい。熱処理はポリエステル系支持
体をロール状に連続して巻取りながら行うか、熱処理を
施されながら、次工程に搬送される。
【0038】巻き取られる場合には、この動作を行うい
わゆる巻取装置はターレット方式であり、ポリエステル
系支持体が所定の長さで、ロール形状に巻取られたと同
時に、搬送中のウエブを巾方向に、トラバースカッタ等
で切断し、該ウエブの先端を回転待機中の巻芯に巻きつ
けロール状に巻取る等公知化された卷き替え工程を有す
る。
わゆる巻取装置はターレット方式であり、ポリエステル
系支持体が所定の長さで、ロール形状に巻取られたと同
時に、搬送中のウエブを巾方向に、トラバースカッタ等
で切断し、該ウエブの先端を回転待機中の巻芯に巻きつ
けロール状に巻取る等公知化された卷き替え工程を有す
る。
【0039】また、巻取、巻付動作をより安定に行うた
め、アキュームレータを設置してもよい。また熱処理時
の巻取り条件として巻径に応じてテンションが漸減する
いわゆるテーパテンションおよび/または順次巻取られ
る支持体表面に弾性ロールを適切圧で接圧させる、或い
は適切な条件に加圧、加熱した空気を吹き付ける方式を
必要に応じて組み合わせ設定てもよい。
め、アキュームレータを設置してもよい。また熱処理時
の巻取り条件として巻径に応じてテンションが漸減する
いわゆるテーパテンションおよび/または順次巻取られ
る支持体表面に弾性ロールを適切圧で接圧させる、或い
は適切な条件に加圧、加熱した空気を吹き付ける方式を
必要に応じて組み合わせ設定てもよい。
【0040】これらに供する巻芯の直径は100mm以
上400mm以下が好ましく、材質は耐熱 性に優れた
ものであれば特に限定しないが、FRP、FWP、SU
S、繊維含侵樹脂等が適宜用いられる。また、巻芯はロ
ール状支持体への熱伝搬を改善するため、特願平5−3
50670号公報に示すように、中空構造とし巻芯内部
に加熱手段を設けてもよい。
上400mm以下が好ましく、材質は耐熱 性に優れた
ものであれば特に限定しないが、FRP、FWP、SU
S、繊維含侵樹脂等が適宜用いられる。また、巻芯はロ
ール状支持体への熱伝搬を改善するため、特願平5−3
50670号公報に示すように、中空構造とし巻芯内部
に加熱手段を設けてもよい。
【0041】また、熱処理は特願平5−350677号
公報に示すように熱処理温度条件下の巻取装置で支持体
を巻取り、次に処理温度と同じ条件の恒温室に移送して
もよい。巻取時の巻姿を良好に保つため、熱処理を施す
前に、ウエブ状のポリエステル系支持体の両端に高さ1
〜50μm、より好ましくは3〜25μmのローレット
加工を施す工程を有することが好ましい。
公報に示すように熱処理温度条件下の巻取装置で支持体
を巻取り、次に処理温度と同じ条件の恒温室に移送して
もよい。巻取時の巻姿を良好に保つため、熱処理を施す
前に、ウエブ状のポリエステル系支持体の両端に高さ1
〜50μm、より好ましくは3〜25μmのローレット
加工を施す工程を有することが好ましい。
【0042】ローレットの巾は2〜50mm、より好ま
しくは7〜20mmである。このようなローレットは片
面でも両面でもよく、Tg以上の温度で、ローレット形
状を有する一対のロールを用いて形成する。
しくは7〜20mmである。このようなローレットは片
面でも両面でもよく、Tg以上の温度で、ローレット形
状を有する一対のロールを用いて形成する。
【0043】以上のような、表面処理、塗工処理、加熱
処理を施されたポリエステル系支持体は、ロール状に加
熱保存された後、或いはウエブ状に搬送されながら、下
塗り層塗工処理工程に案内される。塗工処理工程には、
ロール状の処理に供される支持体が、先端よりウエブ状
に順次繰り出され、該ロール状支持体が搬送し終わる直
前、または搬送終了と同時に、搬送中のウエブ端と静止
待機中のロール状支持体の先端ウエブとを接合搬送する
いわゆるターレット方式の送出装置と、接合装置が設け
られていてもよい。
処理を施されたポリエステル系支持体は、ロール状に加
熱保存された後、或いはウエブ状に搬送されながら、下
塗り層塗工処理工程に案内される。塗工処理工程には、
ロール状の処理に供される支持体が、先端よりウエブ状
に順次繰り出され、該ロール状支持体が搬送し終わる直
前、または搬送終了と同時に、搬送中のウエブ端と静止
待機中のロール状支持体の先端ウエブとを接合搬送する
いわゆるターレット方式の送出装置と、接合装置が設け
られていてもよい。
【0044】ポリエステル系支持体のハロゲン化銀乳剤
層を形成する側に下塗り層を形成するに際しては、ゼラ
チン、有機溶剤、その他必要成分を所定量、均一に調製
した塗布用液を15〜25℃、望ましくは18〜22℃
に管理し、バー型塗布装置で塗布量10〜40cc/m
2 、望ましくは25〜30cc/m2 の範囲で塗布され
る。
層を形成する側に下塗り層を形成するに際しては、ゼラ
チン、有機溶剤、その他必要成分を所定量、均一に調製
した塗布用液を15〜25℃、望ましくは18〜22℃
に管理し、バー型塗布装置で塗布量10〜40cc/m
2 、望ましくは25〜30cc/m2 の範囲で塗布され
る。
【0045】塗布されたポリエステル系支持体は直ち
に、適切な温湿度に管理されたアーチドライヤ式、エア
ーフローティング式等公知の乾燥方式により乾燥、搬送
される。その後、ポリエステル系支持体は搬送されなが
ら、直ちにハロゲン化銀乳剤層を形成しない側に、光透
過磁気記録層を形成する。
に、適切な温湿度に管理されたアーチドライヤ式、エア
ーフローティング式等公知の乾燥方式により乾燥、搬送
される。その後、ポリエステル系支持体は搬送されなが
ら、直ちにハロゲン化銀乳剤層を形成しない側に、光透
過磁気記録層を形成する。
【0046】光透過磁気記録層の形成に際しては、磁性
体、有機溶剤、その他必要成分を所定量、均一に調製し
た塗布用液を15〜25℃、望ましくは18〜22℃に
管理し、バー型塗布装置或いはスライドホッパ型塗布装
置で、塗布量10〜40cc/m2 、望ましくは25〜
30cc/m2 の範囲で塗布される。光透過磁気記録層
が塗布されたポリエステル系支持体は、搬送されながら
直ちに、適切な温湿度に管理されたアーチドライヤ式、
エアーフローティング式等公知の乾燥方式により乾燥、
搬送される。
体、有機溶剤、その他必要成分を所定量、均一に調製し
た塗布用液を15〜25℃、望ましくは18〜22℃に
管理し、バー型塗布装置或いはスライドホッパ型塗布装
置で、塗布量10〜40cc/m2 、望ましくは25〜
30cc/m2 の範囲で塗布される。光透過磁気記録層
が塗布されたポリエステル系支持体は、搬送されながら
直ちに、適切な温湿度に管理されたアーチドライヤ式、
エアーフローティング式等公知の乾燥方式により乾燥、
搬送される。
【0047】必要成分としては、公知の潤滑剤、滑り
剤、分散剤、硬膜剤、帯電防止剤、研磨剤等が適宜選択
される。その後、ポリエステル系支持体は搬送されなが
ら、直ちにハロゲン化銀乳剤層を形成しない側に、オー
バーコート層を形成する。
剤、分散剤、硬膜剤、帯電防止剤、研磨剤等が適宜選択
される。その後、ポリエステル系支持体は搬送されなが
ら、直ちにハロゲン化銀乳剤層を形成しない側に、オー
バーコート層を形成する。
【0048】オーバーコート層の形成に際しては、有機
溶剤その他必要成分を所定量、均一に調製した塗布用液
を15〜25℃、望ましくは18〜22℃に管理し、バ
ー型塗布装置で、塗布量10〜40cc/m2 、望まし
くは25〜30cc/m2 の範囲で塗布される。オーバ
ーコート層が塗布されたポリエステル系支持体は、搬送
されながら直ちに、適切な温湿度に管理されたアーチド
ライヤ式、エアーフローティング式等公知の乾燥方式に
より乾燥、搬送される。
溶剤その他必要成分を所定量、均一に調製した塗布用液
を15〜25℃、望ましくは18〜22℃に管理し、バ
ー型塗布装置で、塗布量10〜40cc/m2 、望まし
くは25〜30cc/m2 の範囲で塗布される。オーバ
ーコート層が塗布されたポリエステル系支持体は、搬送
されながら直ちに、適切な温湿度に管理されたアーチド
ライヤ式、エアーフローティング式等公知の乾燥方式に
より乾燥、搬送される。
【0049】必要成分としては、公知の滑り剤、界面活
性剤、分散剤等が適宜選択される。
性剤、分散剤等が適宜選択される。
【0050】滑り剤は塗布液に添加するに際して、滑り
剤、分散剤及びその他必要成分とともに必要量、均一、
所定の粒子サイズになるまで超音波分散装置、高圧ホモ
ジナイザー等を用いて、適切な温度、処理流量に管理さ
れ適切に分散されたものを用いる。
剤、分散剤及びその他必要成分とともに必要量、均一、
所定の粒子サイズになるまで超音波分散装置、高圧ホモ
ジナイザー等を用いて、適切な温度、処理流量に管理さ
れ適切に分散されたものを用いる。
【0051】本発明になる塗工工程に供される支持体
は、その温度が15〜30℃、望ましくは18〜25℃
に設定されていることが必須である。これは、塗工液中
の溶存空気の析出による面状故障防止、塗り付け安定性
といった観点からは、塗工液の温度と支持体の温度差は
小さいほうが望ましい。この温度差は塗工液性状、塗工
速度等にもよるが、5℃以下とすることがよい。
は、その温度が15〜30℃、望ましくは18〜25℃
に設定されていることが必須である。これは、塗工液中
の溶存空気の析出による面状故障防止、塗り付け安定性
といった観点からは、塗工液の温度と支持体の温度差は
小さいほうが望ましい。この温度差は塗工液性状、塗工
速度等にもよるが、5℃以下とすることがよい。
【0052】ポリエステル系支持体の温度設定制御はポ
リエステル系支持体を回転支持するローラをジャケット
構造とし、適温の冷媒を通水させる等の公知の手段を用
い、必要な時間になるように、必要台数のローラ上を、
適切な張力で搬送させればよい。これらの塗工に際して
は、塗布初期区間に必然的に発生する過剰膜厚に対応す
る手段として、特願平7−104308号公報に示され
るように、外周がステンレス線でランダムに被覆された
ローラをポリエステル系支持体に適圧、適切なタイミン
グで接触させ、過剰塗布液を吸収させる方法を採用する
ことがよい。
リエステル系支持体を回転支持するローラをジャケット
構造とし、適温の冷媒を通水させる等の公知の手段を用
い、必要な時間になるように、必要台数のローラ上を、
適切な張力で搬送させればよい。これらの塗工に際して
は、塗布初期区間に必然的に発生する過剰膜厚に対応す
る手段として、特願平7−104308号公報に示され
るように、外周がステンレス線でランダムに被覆された
ローラをポリエステル系支持体に適圧、適切なタイミン
グで接触させ、過剰塗布液を吸収させる方法を採用する
ことがよい。
【0053】また、処理温度50℃以上ポリエステル系
支持体のガラス転位温度(Tg)未満、処理時間0.1
時間以上1500時間以下で行われる加熱処理等に代表
される支持体への熱付加を与える処理においては、処理
中或いはロール状に巻き取る場合において、支持体の側
端部または両端部に局所的な変形が生じ、平面性、塗布
性、搬送性の劣化が生じ、さらには製品ロスとなるの
で、特願平7−19021号公報に示されるように、支
持体の略端部のみを(Tg−40)〜融点で1〜600
秒加熱する手段を、連続塗工工程において、適切な位置
に配置してもよい。
支持体のガラス転位温度(Tg)未満、処理時間0.1
時間以上1500時間以下で行われる加熱処理等に代表
される支持体への熱付加を与える処理においては、処理
中或いはロール状に巻き取る場合において、支持体の側
端部または両端部に局所的な変形が生じ、平面性、塗布
性、搬送性の劣化が生じ、さらには製品ロスとなるの
で、特願平7−19021号公報に示されるように、支
持体の略端部のみを(Tg−40)〜融点で1〜600
秒加熱する手段を、連続塗工工程において、適切な位置
に配置してもよい。
【0054】本発明により供される写真用ポリエステル
フイルム支持体においては、そのクリーン性が要求され
るのは言うまでもないことであり、工程全体を洗滌に保
つとともに、本連続塗工工程の適切な位置に、必要な数
の公知の除塵装置、除電装置を設置することが必須であ
る。また、本発明による連続表面処理、予備塗工、熱処
理、塗工処理工程においては、支持体の蛇行修正装置、
速度制御ならびに、工程毎のテンション制御用のダンサ
ローラ、サクション方式、ゴムライニング方式のフィー
ドローラが適宜設置されることはいうまでもない。
フイルム支持体においては、そのクリーン性が要求され
るのは言うまでもないことであり、工程全体を洗滌に保
つとともに、本連続塗工工程の適切な位置に、必要な数
の公知の除塵装置、除電装置を設置することが必須であ
る。また、本発明による連続表面処理、予備塗工、熱処
理、塗工処理工程においては、支持体の蛇行修正装置、
速度制御ならびに、工程毎のテンション制御用のダンサ
ローラ、サクション方式、ゴムライニング方式のフィー
ドローラが適宜設置されることはいうまでもない。
【0055】また、本発明になる連続表面処理、予備塗
工、熱処理、塗工処理工程においては、塗工面の性状を
監視し、異常の有無をオンラインで検査する公知の検査
装置が適所に設置されてもよい。本発明に供されるポリ
エステル系支持体としては、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリエチレンテレフタレート等であり、これらのポ
リエステルは公知の方法で重合したポリマをペレット化
した後、十分乾燥し、ダイで溶融押出した後、未延伸フ
イルムに製膜し、公知の二軸延伸方法で所定の二軸配向
フイルムとし、必要に応じて、必要幅に長手方向でスリ
ットしたものが用いられる。
工、熱処理、塗工処理工程においては、塗工面の性状を
監視し、異常の有無をオンラインで検査する公知の検査
装置が適所に設置されてもよい。本発明に供されるポリ
エステル系支持体としては、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリエチレンテレフタレート等であり、これらのポ
リエステルは公知の方法で重合したポリマをペレット化
した後、十分乾燥し、ダイで溶融押出した後、未延伸フ
イルムに製膜し、公知の二軸延伸方法で所定の二軸配向
フイルムとし、必要に応じて、必要幅に長手方向でスリ
ットしたものが用いられる。
【0056】本発明に供するポリエステル系支持体は、
厚みが85〜120μm、幅が1000〜2000m
m、好ましくは厚み50〜110μm、幅1000〜1
500mmである。本発明により処理された写真用ポリ
エステルフイルム支持体は、この後ハロゲン化銀乳剤
層、反射防止層、保護層等最終的に写真フイルムとして
必要な層を、公知の方法により形成したのち、所定幅に
スリットし、カートリッジ内のスプールに必要長巻き付
けられる
厚みが85〜120μm、幅が1000〜2000m
m、好ましくは厚み50〜110μm、幅1000〜1
500mmである。本発明により処理された写真用ポリ
エステルフイルム支持体は、この後ハロゲン化銀乳剤
層、反射防止層、保護層等最終的に写真フイルムとして
必要な層を、公知の方法により形成したのち、所定幅に
スリットし、カートリッジ内のスプールに必要長巻き付
けられる
【0057】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1乃至図3は本発明に係わる写
真用ポリエステルフイルム支持体を製造するための各処
理工程を示している。すなわち、所定の長さに巻回され
たPEN支持体101は、二軸ターレット式の送出装置
103の一方軸に装着され、連続的に送出される。一方
軸に装着されたPEN支持体101の送出が完了する
と、接合装置105は、一方軸に装着されたPEN支持
体101のウエブ後端と、他方軸に巻回された状態で装
着され、静止待機している新たなPEN支持体のウエブ
先端とを接合テープにより突き合わせ接合し、これによ
り送出が続行される。
を参照して説明する。図1乃至図3は本発明に係わる写
真用ポリエステルフイルム支持体を製造するための各処
理工程を示している。すなわち、所定の長さに巻回され
たPEN支持体101は、二軸ターレット式の送出装置
103の一方軸に装着され、連続的に送出される。一方
軸に装着されたPEN支持体101の送出が完了する
と、接合装置105は、一方軸に装着されたPEN支持
体101のウエブ後端と、他方軸に巻回された状態で装
着され、静止待機している新たなPEN支持体のウエブ
先端とを接合テープにより突き合わせ接合し、これによ
り送出が続行される。
【0058】PEN支持体101は、除塵、除電装置1
07、図示しない蛇行修正装置及びフィードローラ10
9を経て、PEN支持体101を大気空間と減圧空間と
の間で連続的に導出導入する導出導入部111へ搬送さ
れる。導出導入部111は、縦列構成された複数のフィ
ードローラ111a及び複数のアイドルローラ111b
から成り、圧力計113をモニタしてバルブ115を制
御する圧力検出、制御装置117及び排気手段119に
より徐々に減圧される。
07、図示しない蛇行修正装置及びフィードローラ10
9を経て、PEN支持体101を大気空間と減圧空間と
の間で連続的に導出導入する導出導入部111へ搬送さ
れる。導出導入部111は、縦列構成された複数のフィ
ードローラ111a及び複数のアイドルローラ111b
から成り、圧力計113をモニタしてバルブ115を制
御する圧力検出、制御装置117及び排気手段119に
より徐々に減圧される。
【0059】真空表面処理されるべく減圧雰囲気中に導
入されたPEN支持体101は、加熱手段である加熱ロ
ーラ121で加熱された後、円筒水冷電極123により
処理される。円筒水冷電極123は、特開平7−305
6号公報に示された構造を有するものであり、複数の対
向電極によりグロー放電を発生し、PEN支持体101
を低温プラズマ雰囲気中で処理する。その後、冷却手段
である冷却ロール125に搬送されて所定温度まで冷却
され、再び導入導出部111に搬送され徐々に加圧され
て大気圧空間に導出される。
入されたPEN支持体101は、加熱手段である加熱ロ
ーラ121で加熱された後、円筒水冷電極123により
処理される。円筒水冷電極123は、特開平7−305
6号公報に示された構造を有するものであり、複数の対
向電極によりグロー放電を発生し、PEN支持体101
を低温プラズマ雰囲気中で処理する。その後、冷却手段
である冷却ロール125に搬送されて所定温度まで冷却
され、再び導入導出部111に搬送され徐々に加圧され
て大気圧空間に導出される。
【0060】なお、加熱ローラ121による加熱及び冷
却ローラ125による冷却を制御するために、加熱冷却
後の温度を熱電対127で検知し、この検知結果に基づ
いて加熱ローラ121及び冷却ローラ125の温度を帰
還制御する加熱ローラ制御手段129及び冷却ローラ制
御手段131が設けられている。また、真空表面処理の
ケーシングには、隔室に導入されるガスの質量及び流量
を制御するための質量流量設定導入装置135が設けら
れている。隔室内のガスは、質量分析計136により
は、その質量が分析測定され、質量流量設定導入装置1
35は、分析測定結果に基づいて、隔室内に導入するガ
スの流量を設定する。
却ローラ125による冷却を制御するために、加熱冷却
後の温度を熱電対127で検知し、この検知結果に基づ
いて加熱ローラ121及び冷却ローラ125の温度を帰
還制御する加熱ローラ制御手段129及び冷却ローラ制
御手段131が設けられている。また、真空表面処理の
ケーシングには、隔室に導入されるガスの質量及び流量
を制御するための質量流量設定導入装置135が設けら
れている。隔室内のガスは、質量分析計136により
は、その質量が分析測定され、質量流量設定導入装置1
35は、分析測定結果に基づいて、隔室内に導入するガ
スの流量を設定する。
【0061】PEN支持体101は、その後、適宜、図
示せぬ除塵装置、除電装置、蛇行修正装置及びフィード
ローラ133等を経て、反乳剤面に導電性の無機粒子或
いは有機粒子、界面活性剤、硬膜剤、バインダ等からな
り、一定条件の溶存空気量、一定条件の液温度を保持し
た水系塗液の塗布処理に移行する。塗布処理は、バーコ
ータ137により実行される。
示せぬ除塵装置、除電装置、蛇行修正装置及びフィード
ローラ133等を経て、反乳剤面に導電性の無機粒子或
いは有機粒子、界面活性剤、硬膜剤、バインダ等からな
り、一定条件の溶存空気量、一定条件の液温度を保持し
た水系塗液の塗布処理に移行する。塗布処理は、バーコ
ータ137により実行される。
【0062】塗布処理後、PEN支持体101は、断熱
ケーシング139内に搬送されて乾燥処理される。PE
N支持体101は、その後、温度Tg付近から200℃
以下で図示せぬ加熱手段により予備加熱処理される。な
お、予備加熱処理に先立ち、PEN支持体101は、ロ
ーレット加工手段141により、その両端に対して所定
高さのローレットが付与される。
ケーシング139内に搬送されて乾燥処理される。PE
N支持体101は、その後、温度Tg付近から200℃
以下で図示せぬ加熱手段により予備加熱処理される。な
お、予備加熱処理に先立ち、PEN支持体101は、ロ
ーレット加工手段141により、その両端に対して所定
高さのローレットが付与される。
【0063】予備加熱処理終了後、PEN支持体101
は、図示せぬ加熱手段により、温度50℃以上Tg未満
で熱処理される。熱処理中、PEN支持体101は、巻
取り装置143によりロール状に連続して巻取られる。
この巻取りは、ウエブ状のPEN支持体を巾方向にトラ
バースカッタ等で切断し、ウエブ先端を回転待機中の巻
芯に巻付ける巻付装置145及び巻芯に巻付けられたP
EN支持体を巻取る二軸ターレット装置147により達
成される。
は、図示せぬ加熱手段により、温度50℃以上Tg未満
で熱処理される。熱処理中、PEN支持体101は、巻
取り装置143によりロール状に連続して巻取られる。
この巻取りは、ウエブ状のPEN支持体を巾方向にトラ
バースカッタ等で切断し、ウエブ先端を回転待機中の巻
芯に巻付ける巻付装置145及び巻芯に巻付けられたP
EN支持体を巻取る二軸ターレット装置147により達
成される。
【0064】なお、乾燥処理、予備加熱処理及び熱処理
する各隔室内を温調するために、断熱ケーシング139
に沿って温調風発生、送排気手段149が設けられる。
また、各隔室間には気体の移動を遮断するための隔壁が
設けられており、PEN支持体101は、この隔壁の一
部に設けられた搬送口を介して搬送される。
する各隔室内を温調するために、断熱ケーシング139
に沿って温調風発生、送排気手段149が設けられる。
また、各隔室間には気体の移動を遮断するための隔壁が
設けられており、PEN支持体101は、この隔壁の一
部に設けられた搬送口を介して搬送される。
【0065】ロール状に巻取られたPEN支持体101
は、さらに先の送出装置103と同様の二軸ターレット
式の送出装置203に装着されて連続的に送出される。
PEN支持体101の送出が完了すると、接合装置20
5は、先の接合装置105と同様にしてPEN支持体1
01のウエブ後端と、新たなPEN支持体のウエブ先端
とを接合テープにより突き合わせ接合して送出を続行す
る。
は、さらに先の送出装置103と同様の二軸ターレット
式の送出装置203に装着されて連続的に送出される。
PEN支持体101の送出が完了すると、接合装置20
5は、先の接合装置105と同様にしてPEN支持体1
01のウエブ後端と、新たなPEN支持体のウエブ先端
とを接合テープにより突き合わせ接合して送出を続行す
る。
【0066】PEN支持体101は、除塵、除電装置1
07及び冷却ローラ209を経て、PEN支持体101
のハロゲン化銀乳剤層が形成される側に下塗り層を塗工
するためのバーコータ237に搬送される。下塗層塗工
処理後、PEN支持体101は、アーチドライヤ239
に搬送されて乾燥処理される。
07及び冷却ローラ209を経て、PEN支持体101
のハロゲン化銀乳剤層が形成される側に下塗り層を塗工
するためのバーコータ237に搬送される。下塗層塗工
処理後、PEN支持体101は、アーチドライヤ239
に搬送されて乾燥処理される。
【0067】PEN支持体101は、その後、除塵、除
電装置107及び冷却ローラ209を経て、PEN支持
体101のハロゲン化銀乳剤層が形成されない側に光透
過磁気記録層を塗工するためのバーコータ337に搬送
される。光透過磁気記録層塗工処理後、PEN支持体1
01は、アーチドライヤ239に搬送されて乾燥処理さ
れる。
電装置107及び冷却ローラ209を経て、PEN支持
体101のハロゲン化銀乳剤層が形成されない側に光透
過磁気記録層を塗工するためのバーコータ337に搬送
される。光透過磁気記録層塗工処理後、PEN支持体1
01は、アーチドライヤ239に搬送されて乾燥処理さ
れる。
【0068】PEN支持体101は、その後、除塵、除
電装置107及び冷却ローラ209を経て、PEN支持
体101の光透過磁気記録層が塗工された側に、さら
に、オーバーコート層を塗工するためのバーコータ43
7に搬送される。オーバーコート層塗工処理後、PEN
支持体101は、アーチドライヤ239に搬送されて乾
燥処理される。
電装置107及び冷却ローラ209を経て、PEN支持
体101の光透過磁気記録層が塗工された側に、さら
に、オーバーコート層を塗工するためのバーコータ43
7に搬送される。オーバーコート層塗工処理後、PEN
支持体101は、アーチドライヤ239に搬送されて乾
燥処理される。
【0069】一方に下塗層、他方に光透過磁気記録層及
びオーバーコート層が塗工されたPEN支持体101
は、巻付装置245及び二軸ターレット装置247で、
先の巻付装置145及び二軸ターレット装置147と同
様にして巻取られる。
びオーバーコート層が塗工されたPEN支持体101
は、巻付装置245及び二軸ターレット装置247で、
先の巻付装置145及び二軸ターレット装置147と同
様にして巻取られる。
【0070】
(1)実施条件 支持体として、幅1100mm、厚み95μmのPEN
を用い、処理速度を25m/分とした。
を用い、処理速度を25m/分とした。
【0071】(2)表面処理工程 φ30、面長1500、材質SUSの特開平7−305
6号公報に示されるような、複数の対向する円筒水冷電
極を支持体搬送方向に、かつ支持体に150mmの距離
で正対するように4対絶縁部に固定した。ポリエステル
系支持体は、巾方向で120℃(分布±1℃)まで誘導
加熱ロールにて 予備加熱し、直ちに処理圧力20P
a、酸素ガス150Pa・m3 /秒導入の雰囲気で、処
理速度25m/分、放電周波数20kHzで放電処理を
行った。
6号公報に示されるような、複数の対向する円筒水冷電
極を支持体搬送方向に、かつ支持体に150mmの距離
で正対するように4対絶縁部に固定した。ポリエステル
系支持体は、巾方向で120℃(分布±1℃)まで誘導
加熱ロールにて 予備加熱し、直ちに処理圧力20P
a、酸素ガス150Pa・m3 /秒導入の雰囲気で、処
理速度25m/分、放電周波数20kHzで放電処理を
行った。
【0072】放電処理強度は放電処理電圧1000V若
しくは3000Vとした。放電処理電圧、電流、電力は
公知の方法でモニタ制御した。放電処理後、直ちに40
℃までポリエステル系支持体を、水冷ロールにて冷却処
理した。尚、処理中ポリエステル系支持体表面温度を放
射温度計で測定し、加熱冷却手段を制御した。
しくは3000Vとした。放電処理電圧、電流、電力は
公知の方法でモニタ制御した。放電処理後、直ちに40
℃までポリエステル系支持体を、水冷ロールにて冷却処
理した。尚、処理中ポリエステル系支持体表面温度を放
射温度計で測定し、加熱冷却手段を制御した。
【0073】更に、処理雰囲気の圧力をバラトロン型真
空計で測定し、排気手段の能力を制御した。加えて、酸
素ガスはマスフローコントローラで設定、導入し、質量
分析計でモニタ制御した。
空計で測定し、排気手段の能力を制御した。加えて、酸
素ガスはマスフローコントローラで設定、導入し、質量
分析計でモニタ制御した。
【0074】(3)塗工工程 真空グロー放電処理と熱処理の間に、反乳剤面に導電性
の無機粒子或いは有機粒子、界面活性剤、硬膜剤、バイ
ンダ等からなる塗布液をバーコータにより塗工、アーチ
式ドライヤにより乾燥させた。塗布液は、導電性微粒子
として、SnO2 を主成分としたものを用い、公知の界
面活性剤、硬膜剤をゼラチン水溶液中に調合した。
の無機粒子或いは有機粒子、界面活性剤、硬膜剤、バイ
ンダ等からなる塗布液をバーコータにより塗工、アーチ
式ドライヤにより乾燥させた。塗布液は、導電性微粒子
として、SnO2 を主成分としたものを用い、公知の界
面活性剤、硬膜剤をゼラチン水溶液中に調合した。
【0075】塗布液は、3kPaまで減圧した減圧タン
ク中で、溶存酸素量を飽和溶存酸素量に比べて50%に
減らし、30℃に保温したものを直ちに用いた。塗布液
の送液系は循環方式とし、連続して減圧タンク内に戻し
た。塗布量は7cc/m2 、塗布速度は25m/分、乾
燥温度は120℃とした。
ク中で、溶存酸素量を飽和溶存酸素量に比べて50%に
減らし、30℃に保温したものを直ちに用いた。塗布液
の送液系は循環方式とし、連続して減圧タンク内に戻し
た。塗布量は7cc/m2 、塗布速度は25m/分、乾
燥温度は120℃とした。
【0076】(4)ローレット付与工程 ポリエステル系支持体の両端に巾10mm、高さ10μ
mのローレットを全長に渡り付与した。この時の、押し
型(一対の凹凸を持ったロール)の温度は150℃と
し、押しつけ圧は2kgfとした。
mのローレットを全長に渡り付与した。この時の、押し
型(一対の凹凸を持ったロール)の温度は150℃と
し、押しつけ圧は2kgfとした。
【0077】(5)予備加熱処理 温風により140℃に設定したケーシング内を搬送速度
20m/分で、ポリエステル系支持体をアイドルローラ
で回転支持させながら20秒間通過させた。
20m/分で、ポリエステル系支持体をアイドルローラ
で回転支持させながら20秒間通過させた。
【0078】(6)加熱処理 ポリエステル系支持体を、Tg−20℃の雰囲気下で、
直径300mmの耐熱性を有する巻芯にロール状に連続
して、巻取り長さ2500mで巻取った。巻取装置はタ
ーレット方式であり、ポリエステル系支持体が所定の長
さで、ロール形状に巻取られたと同時に、搬送中のウエ
ブを巾方向に、トラバースカッタ等で切断し、該ウエブ
の先端を回転待機中の巻芯に巻きつけロール状に巻取る
卷き替える動作を順次繰り返し、巻取られたロールは次
に処理温度と同じ条件の恒温室に直ちに移送した。
直径300mmの耐熱性を有する巻芯にロール状に連続
して、巻取り長さ2500mで巻取った。巻取装置はタ
ーレット方式であり、ポリエステル系支持体が所定の長
さで、ロール形状に巻取られたと同時に、搬送中のウエ
ブを巾方向に、トラバースカッタ等で切断し、該ウエブ
の先端を回転待機中の巻芯に巻きつけロール状に巻取る
卷き替える動作を順次繰り返し、巻取られたロールは次
に処理温度と同じ条件の恒温室に直ちに移送した。
【0079】熱処理時間を50時間とし、その後室温ま
で徐々に冷却した。
で徐々に冷却した。
【0080】(7)下塗り層塗工処理 ロール状で熱処理されたPEN支持体に、ハロゲン化銀
乳剤層を形成する側に、ゼラチン、有機溶剤、その他公
知の必要成分を所定量、均一に調製した塗布用液を20
〜22℃に管理し、バー型塗布装置で塗布量28cc/
m2 の範囲で塗布した。
乳剤層を形成する側に、ゼラチン、有機溶剤、その他公
知の必要成分を所定量、均一に調製した塗布用液を20
〜22℃に管理し、バー型塗布装置で塗布量28cc/
m2 の範囲で塗布した。
【0081】塗布されたPEN支持体は直ちに、温度1
20±2℃に管理されたアーチドライヤにより乾燥し
た。
20±2℃に管理されたアーチドライヤにより乾燥し
た。
【0082】(8)光透過磁気記録層塗工処理 ロール状で熱処理されたPEN支持体を、搬送しなが
ら、直ちにハロゲン化銀乳剤層を形成しない側に、磁性
体、有機溶剤、その他必要成分を所定量、均一に調製し
た塗布用液を、20〜22℃に管理し、バー塗布装置で
塗布量25cc/m2 で塗布した。
ら、直ちにハロゲン化銀乳剤層を形成しない側に、磁性
体、有機溶剤、その他必要成分を所定量、均一に調製し
た塗布用液を、20〜22℃に管理し、バー塗布装置で
塗布量25cc/m2 で塗布した。
【0083】磁気記録層が塗布されたPEN支持体は直
ちに、温度120±2℃に管理されたアーチドライヤに
より乾燥した。
ちに、温度120±2℃に管理されたアーチドライヤに
より乾燥した。
【0084】(9)オーバーコート層塗工処理 その後、PEN支持体を搬送しながら、直ちに滑り剤、
有機溶剤その他必要成分を所定量、均一に調製した塗布
用液を20℃に管理し、バー型塗布装置で、塗布量28
cc/m2 で塗布した。オーバーコート層が塗布された
PEN支持体は、搬送されながら直ちに、温度120±
2℃に管理されたアーチドライヤにより乾燥した。
有機溶剤その他必要成分を所定量、均一に調製した塗布
用液を20℃に管理し、バー型塗布装置で、塗布量28
cc/m2 で塗布した。オーバーコート層が塗布された
PEN支持体は、搬送されながら直ちに、温度120±
2℃に管理されたアーチドライヤにより乾燥した。
【0085】滑り剤は塗布液に添加するに際して、滑り
剤、分散剤及びその他必要成分とともに必要量、均一、
所定の粒子サイズになるまで超音波分散装置で繰り返し
分散したものを用いた。これら連続塗工工程において、
支持体温度は、水冷ジャケットローラを用いて25℃に
管理した。
剤、分散剤及びその他必要成分とともに必要量、均一、
所定の粒子サイズになるまで超音波分散装置で繰り返し
分散したものを用いた。これら連続塗工工程において、
支持体温度は、水冷ジャケットローラを用いて25℃に
管理した。
【0086】(10) 評価 本発明による、連続一貫製造方法により作成した写真用
ポリエステルフイルム支持体に感光層を形成した、写真
フイルムの評価結果を表1に示す。
ポリエステルフイルム支持体に感光層を形成した、写真
フイルムの評価結果を表1に示す。
【0087】
【表1】
【0088】(10−1)ブロッキング評価 熱処理後のロールを送り出しながら目視で評価し、ブロ
ッキングが発生しないものを○、ブロッキングしたが、
切断には至らないものを△、ブロッキングが生じ切断が
発生したものを×とした。○が実用に供することができ
るレベルである。
ッキングが発生しないものを○、ブロッキングしたが、
切断には至らないものを△、ブロッキングが生じ切断が
発生したものを×とした。○が実用に供することができ
るレベルである。
【0089】(10−2)密着評価 公知方法により下塗り層塗布、感光層を同時多層塗布し
たあと、感光層表面に縦横6mm間隔で6本の切れ目を
設け、粘着テープ(日東電工(株)製、ニットテープ)
を貼付け、180度方向に引き剥がし、剥離面積が1%
未満を◎、3%未満を○、剥離面積が5%未満を△、剥
離面積が5%以上を×と評価した。◎〜○が実用に供す
ることのできるレベルである。
たあと、感光層表面に縦横6mm間隔で6本の切れ目を
設け、粘着テープ(日東電工(株)製、ニットテープ)
を貼付け、180度方向に引き剥がし、剥離面積が1%
未満を◎、3%未満を○、剥離面積が5%未満を△、剥
離面積が5%以上を×と評価した。◎〜○が実用に供す
ることのできるレベルである。
【0090】表1において、水準1及び2は本発明によ
る処理により製造されたものである。水準3は、各処理
を従来技術により各々別工程とした従来のバッチ処理に
より製造されたものである。水準3においては、良好な
結果を得ることはできるが、工程が複数となったため、
各工程毎に送出工程、巻取工程が必要となり、真空処理
においては、水準毎に真空排気/大気解放が必要、また
各処理工程間での半製品ロールの運搬等の設備が必要で
あり設備設置コスト、設置スペース、所要時間等におい
て著しく不利であった。
る処理により製造されたものである。水準3は、各処理
を従来技術により各々別工程とした従来のバッチ処理に
より製造されたものである。水準3においては、良好な
結果を得ることはできるが、工程が複数となったため、
各工程毎に送出工程、巻取工程が必要となり、真空処理
においては、水準毎に真空排気/大気解放が必要、また
各処理工程間での半製品ロールの運搬等の設備が必要で
あり設備設置コスト、設置スペース、所要時間等におい
て著しく不利であった。
【0091】水準4、5は従来技術により、別工程で真
空グロー処理のみを行い、熱処理したものである。本発
明による製造方法においては、ブロッキング、密着何れ
も良好な結果を得ることができた。
空グロー処理のみを行い、熱処理したものである。本発
明による製造方法においては、ブロッキング、密着何れ
も良好な結果を得ることができた。
【0092】本実施例では、処理速度を25m/分と
し、巻取り長さを2500mとし、導入ガス種を酸素と
した場合について言及し、更に支持体のグロー処理前の
加熱温度を120℃、冷却温度を40℃とした場合につ
いて言及した。加えて、塗工工程については、溶存酸素
量を飽和溶存酸素量に比べて50%に減らし、30℃に
保温した塗液を、バーコータで塗布量7cc/m2 、塗
布速度20m/分で塗布する条件を採用した場合につい
て詳細を言及した。
し、巻取り長さを2500mとし、導入ガス種を酸素と
した場合について言及し、更に支持体のグロー処理前の
加熱温度を120℃、冷却温度を40℃とした場合につ
いて言及した。加えて、塗工工程については、溶存酸素
量を飽和溶存酸素量に比べて50%に減らし、30℃に
保温した塗液を、バーコータで塗布量7cc/m2 、塗
布速度20m/分で塗布する条件を採用した場合につい
て詳細を言及した。
【0093】しかし、本発明はこれに限定されるもので
はなく、処理速度を20〜200m/分、巻取り長を5
00〜6000m、ガス種を空気、アンモニア等、支持
体の加熱温度を80〜180℃、冷却温度を20〜50
℃とし、更に塗工条件では溶存酸素量を飽和溶存酸素量
に比べて10〜70%の範囲で減らし、液温度は20〜
40℃、塗布量を0.1〜20cc/分とした場合で
も、良好な結果を得ることができた。
はなく、処理速度を20〜200m/分、巻取り長を5
00〜6000m、ガス種を空気、アンモニア等、支持
体の加熱温度を80〜180℃、冷却温度を20〜50
℃とし、更に塗工条件では溶存酸素量を飽和溶存酸素量
に比べて10〜70%の範囲で減らし、液温度は20〜
40℃、塗布量を0.1〜20cc/分とした場合で
も、良好な結果を得ることができた。
【0094】(10−3)所要時間評価 真空表面処理を連続一貫処理した場合と、バッチ式で処
理した時間を比較するとバッチ式ではターレット式送り
出し装置が真空装置内に設置できず、塗工、加熱処理工
程に支持体を連続的に搬送できない点で著しく効率が悪
い。表2に本発明に係る連続塗工処理に要した時間と同
一の塗工装置を繰り返し共用して、塗工層を処理した場
合の1ロールでの所要時間の比較結果を示す。
理した時間を比較するとバッチ式ではターレット式送り
出し装置が真空装置内に設置できず、塗工、加熱処理工
程に支持体を連続的に搬送できない点で著しく効率が悪
い。表2に本発明に係る連続塗工処理に要した時間と同
一の塗工装置を繰り返し共用して、塗工層を処理した場
合の1ロールでの所要時間の比較結果を示す。
【0095】
【表2】
【0096】尚、何れの場合も塗工液の調製時間及びド
ライヤ昇温時間並びに冷却ロールが所定の温度になる時
間は含まない。表2に示すように、発明による連続塗工
処理によれば、所要時間の顕著な短縮が可能となる。
ライヤ昇温時間並びに冷却ロールが所定の温度になる時
間は含まない。表2に示すように、発明による連続塗工
処理によれば、所要時間の顕著な短縮が可能となる。
【0097】(10−4)塗工面の面状評価 表3に写真用ポリエステルフイルム支持体の面状を、す
りきず、巻きずれきずに限定して目視による官能検査を
行った結果を、本発明に係る連続塗工処理にて作成した
場合と同一の塗工装置を繰り返し共用して作成した場合
に分けて比較した結果を示す。面状評価は、塗工処理後
の支持体を200m毎に全幅で1m長でサンプリングし
た。
りきず、巻きずれきずに限定して目視による官能検査を
行った結果を、本発明に係る連続塗工処理にて作成した
場合と同一の塗工装置を繰り返し共用して作成した場合
に分けて比較した結果を示す。面状評価は、塗工処理後
の支持体を200m毎に全幅で1m長でサンプリングし
た。
【0098】
【表3】
【0099】 ○ まったく発生なし △ 若干の発生はあるが、最終的な写真フイルムとしての使用は可能 ▲ 発生頻度が多く、使用限界に近く、最終的な写真フイルムとして使用す るには、何らかの対応が必要 × 最終的な写真フイルムとして使用不可
【0100】表3に示されるように、連続塗工処理は、
繰り返し塗工処理に比べて安定である。
繰り返し塗工処理に比べて安定である。
【0101】(10−5)塗り付け安定性評価 表4に、支持体温度−塗布液温度で定義されるΔTと塗
布液の塗り付け安定性の結果を示す。
布液の塗り付け安定性の結果を示す。
【0102】
【表4】
【0103】 ○ 安定 △ やや不安定 ▲ 不安定 × 著しく不安定
【0104】以上説明した本実施例では、工程条件の諸
元を説明のために限定して示したが、本発明に係わる写
真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法は、これに
限定はされず、例えば処理速度については10〜100
m/分の間で良好な結果を得ることができる。
元を説明のために限定して示したが、本発明に係わる写
真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法は、これに
限定はされず、例えば処理速度については10〜100
m/分の間で良好な結果を得ることができる。
【0105】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る写真
用ポリエステルフイルム支持体の製造方法によれば、連
続塗工処理を採用することにより、複雑で品質安定性に
難のある写真用ポリエステルフイルム支持体を効率よ
く、安定に製造することができる。
用ポリエステルフイルム支持体の製造方法によれば、連
続塗工処理を採用することにより、複雑で品質安定性に
難のある写真用ポリエステルフイルム支持体を効率よ
く、安定に製造することができる。
【図1】写真用ポリエステルフイルム支持体の製造に係
わる各処理を示す工程図。
わる各処理を示す工程図。
【図2】写真用ポリエステルフイルム支持体の製造に係
わる各処理を示す工程図。
わる各処理を示す工程図。
【図3】本発明の写真用ポリエステルフイルム支持体の
製造方法に係わる連続塗工処理を示す工程図。
製造方法に係わる連続塗工処理を示す工程図。
101 PEN支持体 103、203 送出装置 105、205 結合装置 107 除塵、除電装置 109、133 フィードローラ 111 導入導出装置 113 圧力計 115 バルブ 117 圧力検出、制御装置 119 排気手段 121 加熱ローラ 123 円筒水冷電極 125 水冷ローラ 127 熱電対 129 加熱ローラ制御手段 131 冷却ローラ制御手段 135 質量流量設定導入装置 136 質量分析計 137 バーコータ 139 断熱ケーシング 141 ローレット加工手段 143 巻取り装置 145、245 巻付け装置 147、247 二軸ターレット装置 149 温調風発生、送排気手段 209 冷却ロール 239 アーチドライヤ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08J 7/04 CFD C08J 7/04 CFDG C09D 5/24 PQW C09D 5/24 PQW G03C 1/00 G03C 1/00 E 1/81 1/81 1/91 1/91
Claims (22)
- 【請求項1】 連続的に搬送されるウエブ状のポリエス
テル系支持体の少なくとも片面に対し、真空表面処理、
予備塗工処理及び該支持体をロール状に巻き取った状態
で50℃以上ガラス転移温度(Tg)以下、処理時間
0.1時間以上1500時間以下の条件に設定される熱
処理を連続的に施した後に、該ポリエステル系支持体の
ハロゲン化銀乳剤層形成面に下塗り層を塗工し、その
後、該ポリエステル系支持体のハロゲン化銀乳剤層非形
成面に、光透過磁気記録層及びオーバーコート層を、該
順序で連続して塗工することを特徴とする写真用ポリエ
ステルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項2】 前記真空表面処理が、真空中グロー放電
処理であることを特徴とする請求項1記載の写真用ポリ
エステルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項3】 前記予備塗工処理が、反乳剤塗布面への
導電性の無機粒子或いは有機粒子、界面活性剤、硬膜
剤、バインダ、その他必要成分とともにそれぞれ所定量
で調製された水系塗液を塗布、乾燥し、導電層とするこ
とを特徴とする請求項1記載の写真用ポリエステルフイ
ルム支持体の製造方法。 - 【請求項4】 前記真空グロー放電処理を施す際に、前
記ポリエステル系支持体を大気空間〜真空空間で連続的
に導く工程と真空グロー放電処理を施す工程とを有する
ことを特徴とする請求項1若しくは2記載の写真用ポリ
エステルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項5】 前記真空グロー放電処理を施す工程にお
いて、放電用電源での発生電力、放電部での消費電力を
モニタし、発生電力に対する消費電力の比が、0.9以
上に維持できるよう監視、制御することを特徴とする請
求項1、2若しくは4記載の写真用ポリエステルフイル
ム支持体の製造方法。 - 【請求項6】 前記真空グロー放電処理を施す工程にお
いて、外部より任意の種類の単体或いは混合状態のガス
を、処理圧力を一定に維持したまま10〜300Pa・
m3 /秒導入し、処理圧力雰囲気を変化させ、該処理圧
力雰囲気を監視、制御することを特徴とする請求項1、
2、4若しくは5記載の写真用ポリエステルフイルム支
持体の製造方法。 - 【請求項7】 前記真空グロー放電処理を施す工程にお
いて、該真空グロー放電処理の直前のポリエステル系支
持体を加熱し、更に該真空グロー放電処理直後のポリエ
ステル系支持体を冷却することを特徴とする特許請求範
囲1、2、4、5若しくは6記載の写真用ポリエステル
フイルム支持体の製造方法。 - 【請求項8】 前記塗工工程において、溶存空気量を飽
和空気量の70%以下にし、また、液温度を20〜40
℃に維持、制御された水系塗液を用いることを特徴とす
る請求項1若しくは3記載の写真用ポリエステルフイル
ム支持体の製造方法。 - 【請求項9】 前記導電層の抵抗が10exp3〜10
exp12Ωとすることを特徴とする請求項1、3若し
くは8記載の写真用ポリエステルフイルム支持体の製造
方法。 - 【請求項10】 前記導電層に用いる微粒子がZn、T
i、Sn、Al、In、Si、Mg、Ba、Mo、W、
Vを主成分とし、その体積抵抗率が0Ω/cm以上10
exp7Ω/cm以下であることを特徴とする請求項
1、3、8若しくは9記載の写真用ポリエステルフイル
ム支持体の製造方法。 - 【請求項11】 前記熱処理が、2時間以上1000時
間以下であることを特徴とする請求項1記載の写真用ポ
リエステルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項12】 前記下塗り層の塗工に供する液が、ゼ
ラチン、有機溶剤及び結合剤、その他の必要成分ととも
に、それぞれ所定量で調製されたものであって、該下塗
り層塗工処理がバー型塗布装置を用いるものであって、
その塗布量が10〜40cc/m2 の範囲であって、そ
の液の温度が15〜25℃であることを特徴とする請求
項1記載の写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方
法。 - 【請求項13】 前記光透過磁気記録層の塗工に供する
液が、磁性体と有機溶剤、その他の必要成分とともに、
それぞれ所定量で、予め均一に混ぜ合わされている分散
液からなるものであって、該光透過磁気記録層塗工処理
がスライドホッパ型塗布装置或いはバー型塗工装置を用
いるものであって、その塗布量が10〜40cc/m2
の範囲であって、その液の温度が15〜25℃てあるこ
とを特徴とする請求項1記載の写真用ポリエステルフイ
ルム支持体の製造方法。 - 【請求項14】 前記オーバーコート層の塗工に供する
液が、有機溶剤及び滑り剤、その他の必要成分ととも
に、それぞれ所定量で、予め均一に混ぜ合わされている
分散液からなるものであって、該オーバーコート層塗工
処理がバー型塗布装置を用いて行うものであって、その
塗布量が10〜40cc/m2 の範囲であって、その液
の温度が15〜25℃であることを特徴とする請求項1
記載の写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項15】 前記下塗り層及び/又は前記光磁気記
録層及び/又は前記オーバーコート層を塗工するに際
し、前記ポリエステル系支持体を予め20〜30℃に維
持することを特徴とする請求項1、12、13若しくは
14記載の写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方
法。 - 【請求項16】 連続的に搬送処理中のウエブ状のポリ
エステル系支持体において表面に付着した塵埃を除去す
る塵埃除去装置を少なくとも一式設置したことを特徴と
する1乃至15の何れか1項に記載の写真用ポリエステ
ルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項17】 連続的に搬送処理中のウエブ状のポリ
エステル系支持体において、表面に印加された電荷を除
去する除電装置を少なくとも一式設置したことを特徴と
する1乃至16の何れか1項記載の写真用ポリエステル
フイルム支持体の製造方法。 - 【請求項18】 前記加熱処理を施す前に、ウエブ状の
ポリエステル系支持体の両端に高さ1〜50μmのロー
レット加工を施す工程を有することを特徴とする請求項
1記載の写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方
法。 - 【請求項19】 前記ポリエステル系支持体の厚みが8
5〜120μm、幅が1000〜1500mmであるこ
とを特徴とする請求項1記載の写真用ポリエステルフイ
ルム支持体の製造方法。 - 【請求項20】 連続的に搬送されるウエブ状のポリエ
ステル系支持体を所定温度で熱処理する写真フイルム用
支持体の製造方法において、前記ポリエステル系支持体
の少なくとも片面に対し、真空グロー放電処理、塗工処
理及び前記熱処理を該順序で連続して実行し、かつ前記
熱処理は該支持体をロール状に巻き取った状態で施さ
れ、前記真空グロー放電処理において外部より任意の種
類の単体或いは混合状態のガスを、処理圧力を一定に維
持したまま10〜300Pa・m 3 /秒導入して処理圧
力雰囲気を変化させることを特徴とする写真用ポリエス
テルフイルム支持体の製造方法。 - 【請求項21】 前記真空グロー放電処理が、該ポリエ
ステル系支持体を連続的に大気中から真空中に導入し、
導入された支持体に対して真空グロー放電処理すること
を特徴とする請求項20記載の写真用ポリエステルフイ
ルム支持体の製造方法。 - 【請求項22】 前記真空グロー放電処理において、放
電用電源の発生電力及び放電部の消費電力をモニタし、
発生電力に対する消費電力の比を、0.9以上に維持す
ることを特徴とする請求項20若しくは21記載の写真
用ポリエステルフイルム支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8012982A JPH09204005A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8012982A JPH09204005A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09204005A true JPH09204005A (ja) | 1997-08-05 |
Family
ID=11820421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8012982A Pending JPH09204005A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 写真用ポリエステルフイルム支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09204005A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100189998A1 (en) * | 2006-02-09 | 2010-07-29 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Manufacturing process for polyester film exhibiting low thermal shrinkage |
-
1996
- 1996-01-29 JP JP8012982A patent/JPH09204005A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US8591998B2 (en) * | 2006-02-09 | 2013-11-26 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Manufacturing process for polyester film exhibiting low thermal shrinkage |
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