JPH09189801A - 耐熱性反射防止膜付き光学部品 - Google Patents
耐熱性反射防止膜付き光学部品Info
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- JPH09189801A JPH09189801A JP8001566A JP156696A JPH09189801A JP H09189801 A JPH09189801 A JP H09189801A JP 8001566 A JP8001566 A JP 8001566A JP 156696 A JP156696 A JP 156696A JP H09189801 A JPH09189801 A JP H09189801A
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- Japan
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- antireflection film
- refractive index
- optical component
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２５０℃以上の高温下でも反射率が増加する
ことがなく、安定した光学特性が得られる耐熱性反射防
止膜付き光学部品を提供する。 【解決手段】 耐熱性反射防止膜付き光学部品は、２５
０℃以上に加熱される光学部品の少なくとも片面に、Ｔ
ｉＯX（Ｘは１．９〜２．２）薄膜２からなる反射防止
膜が形成されている。ＴｉＯX薄膜２にＳｉＯ2薄膜３が
積層されている。
ことがなく、安定した光学特性が得られる耐熱性反射防
止膜付き光学部品を提供する。 【解決手段】 耐熱性反射防止膜付き光学部品は、２５
０℃以上に加熱される光学部品の少なくとも片面に、Ｔ
ｉＯX（Ｘは１．９〜２．２）薄膜２からなる反射防止
膜が形成されている。ＴｉＯX薄膜２にＳｉＯ2薄膜３が
積層されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２５０℃以上の高温下
で使用可能な耐熱性反射防止膜が形成された光学部品に
関するものである。
で使用可能な耐熱性反射防止膜が形成された光学部品に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学ガラス、単結晶体、光学プラスチッ
クなどの光学部品は、一般に表面反射を減らすために反
射防止膜が設けられて使用される。反射防止膜は用途に
応じて単層または多層構造からなる。単層の場合は例え
ばＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5またはＺｒＯ2を原料とした薄膜層
で形成される。多層構造の場合は前記薄膜層の上にＳｉ
Ｏ2を原料とした低屈折な薄膜層が積層された構造にさ
れることが多い。反射防止膜は、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法、スパッタリング法などによって光学部
品に形成される。
クなどの光学部品は、一般に表面反射を減らすために反
射防止膜が設けられて使用される。反射防止膜は用途に
応じて単層または多層構造からなる。単層の場合は例え
ばＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5またはＺｒＯ2を原料とした薄膜層
で形成される。多層構造の場合は前記薄膜層の上にＳｉ
Ｏ2を原料とした低屈折な薄膜層が積層された構造にさ
れることが多い。反射防止膜は、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法、スパッタリング法などによって光学部
品に形成される。
【０００３】反射防止膜の反射率は、光源波長、光線入
射角、各層の光学膜厚（屈折率と膜厚の積）および積層
構造によって決定される。高屈折率の反射防止膜として
酸化チタン、例えばＴｉＯ2が使用される。酸化チタン
としては、ＴｉＯ、ＴｉＯ2、Ｔｉ3Ｏ5などがあり、光
学部品に形成されるＴｉＯXの組成（Ｘの値）は成膜技
術、成膜条件、原料組成に大きく依存する。ＴｉＯXか
らなる膜を形成する方法として、例えばK.Narasimha Ra
o,at.el,J.Vac.Sci.Technol.A11,394-397,(1993)には、
酸素イオンを基板に照射しながら２５０℃でＴｉＯを基
板に蒸着させることによりＴｉＯ2膜を形成する方法が
記載されており、H.Demiryont,J.R.Sites,J.Vac.Sci.Te
chnol.A2,1457-1460,(1984)には、アルゴン−酸素混合
物のイオンビームを基板に照射しながらＴｉＯ2を蒸着
させる方法が記載されている。
射角、各層の光学膜厚（屈折率と膜厚の積）および積層
構造によって決定される。高屈折率の反射防止膜として
酸化チタン、例えばＴｉＯ2が使用される。酸化チタン
としては、ＴｉＯ、ＴｉＯ2、Ｔｉ3Ｏ5などがあり、光
学部品に形成されるＴｉＯXの組成（Ｘの値）は成膜技
術、成膜条件、原料組成に大きく依存する。ＴｉＯXか
らなる膜を形成する方法として、例えばK.Narasimha Ra
o,at.el,J.Vac.Sci.Technol.A11,394-397,(1993)には、
酸素イオンを基板に照射しながら２５０℃でＴｉＯを基
板に蒸着させることによりＴｉＯ2膜を形成する方法が
記載されており、H.Demiryont,J.R.Sites,J.Vac.Sci.Te
chnol.A2,1457-1460,(1984)には、アルゴン−酸素混合
物のイオンビームを基板に照射しながらＴｉＯ2を蒸着
させる方法が記載されている。
【０００４】一方、光学部品は、他の光学部品や匡体と
接合固定する際に、はんだ、低融点ガラス等の金属、無
機物を用いて接合されることがある。はんだ、低融点ガ
ラスを用いて接合する場合には、それらの融点、ガラス
軟化点になるまでの加熱を必要とする。例えばＡｕ−Ｓ
ｎはんだの場合には２８０℃以上の加熱を必要とする。
接合固定する際に、はんだ、低融点ガラス等の金属、無
機物を用いて接合されることがある。はんだ、低融点ガ
ラスを用いて接合する場合には、それらの融点、ガラス
軟化点になるまでの加熱を必要とする。例えばＡｕ−Ｓ
ｎはんだの場合には２８０℃以上の加熱を必要とする。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この加熱によって光学
部品に形成された反射防止膜の光学膜厚が変化してしま
うため、ＴｉＯ2の反射防止膜付き光学部品を２８０℃
程度以上に加熱してはんだ等で接合固定すると、接合後
の反射防止膜の反射率が増加してしまうという問題があ
った。上記文献でも、ＴｉＯ2膜が２５０℃以上に加熱
されることは想定されていない。
部品に形成された反射防止膜の光学膜厚が変化してしま
うため、ＴｉＯ2の反射防止膜付き光学部品を２８０℃
程度以上に加熱してはんだ等で接合固定すると、接合後
の反射防止膜の反射率が増加してしまうという問題があ
った。上記文献でも、ＴｉＯ2膜が２５０℃以上に加熱
されることは想定されていない。
【０００６】本発明は前記の課題を解決するためなされ
たもので、２５０℃以上に加熱して接合したり、高温下
で使用しても反射率が増加することがなく、安定した光
学特性が得られる耐熱性反射防止膜付き光学部品を提供
することを目的とする。
たもので、２５０℃以上に加熱して接合したり、高温下
で使用しても反射率が増加することがなく、安定した光
学特性が得られる耐熱性反射防止膜付き光学部品を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めになされた本発明の耐熱性反射防止膜付き光学部品
は、図１に示すように、２５０℃以上に加熱される光学
部品の少なくとも片面に、ＴｉＯX（Ｘは１．９〜２．
２）薄膜２からなる反射防止膜が形成されている。
めになされた本発明の耐熱性反射防止膜付き光学部品
は、図１に示すように、２５０℃以上に加熱される光学
部品の少なくとも片面に、ＴｉＯX（Ｘは１．９〜２．
２）薄膜２からなる反射防止膜が形成されている。
【０００８】ＴｉＯX薄膜２にＳｉＯ2薄膜３が積層され
ていることが好ましい。光学部品１は、例えば光学ガラ
ス、単結晶体または光学プラスチックが挙げられる。
ていることが好ましい。光学部品１は、例えば光学ガラ
ス、単結晶体または光学プラスチックが挙げられる。
【０００９】
【作用】本発明の耐熱性反射防止膜付き光学部品は、Ｔ
ｉＯXの酸素の組成量がＸ＝１．９〜２．２からなる反
射防止膜が形成されているため、２５０℃以上の高温に
加熱しても、ＴｉＯXの組成が変化することがないため
光学膜厚が変化することがなく、反射防止膜の反射率が
増加してしまうことがない。
ｉＯXの酸素の組成量がＸ＝１．９〜２．２からなる反
射防止膜が形成されているため、２５０℃以上の高温に
加熱しても、ＴｉＯXの組成が変化することがないため
光学膜厚が変化することがなく、反射防止膜の反射率が
増加してしまうことがない。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明を適用する耐熱性反射防止膜
付き光学部品の実施例を示す断面図である。同図に示す
ように、耐熱性反射防止膜付き光学部品は、光学部品１
の両面に高屈折率層２および低屈折率層３からなる耐熱
性反射防止膜４が形成されている。この耐熱性反射防止
膜付き光学部品は、他の光学部品と接合される際、はん
だや低融点ガラスを使用して、２５０℃以上に加熱して
接合される。
付き光学部品の実施例を示す断面図である。同図に示す
ように、耐熱性反射防止膜付き光学部品は、光学部品１
の両面に高屈折率層２および低屈折率層３からなる耐熱
性反射防止膜４が形成されている。この耐熱性反射防止
膜付き光学部品は、他の光学部品と接合される際、はん
だや低融点ガラスを使用して、２５０℃以上に加熱して
接合される。
【００１１】図２は、光学部品に耐熱性反射防止膜を形
成する真空蒸着装置を示す概略図である。同図に示すよ
うに、チャンバー６には、酸素導入口７および排気口８
が設けられ不図示の弁を開閉して密閉できるようになっ
ている。チャンバー６内の底部には電子銃９およびイオ
ン銃１１が配置されており、電子銃９の上には耐熱性反
射防止膜の蒸着原料１０を入れるためのるつぼ１２が配
置されている。チャンバー６内の上部には光学部品１を
保持するための保持具１３が配置され、保持具１３には
チャンバー６外部から貫通して光学膜厚計１４が取り付
けられている。尚、光学膜厚とは屈折率と膜厚の積であ
る。
成する真空蒸着装置を示す概略図である。同図に示すよ
うに、チャンバー６には、酸素導入口７および排気口８
が設けられ不図示の弁を開閉して密閉できるようになっ
ている。チャンバー６内の底部には電子銃９およびイオ
ン銃１１が配置されており、電子銃９の上には耐熱性反
射防止膜の蒸着原料１０を入れるためのるつぼ１２が配
置されている。チャンバー６内の上部には光学部品１を
保持するための保持具１３が配置され、保持具１３には
チャンバー６外部から貫通して光学膜厚計１４が取り付
けられている。尚、光学膜厚とは屈折率と膜厚の積であ
る。
【００１２】この真空蒸着装置は、所定の圧力になるま
で排気口８から排気した後、酸素導入口７から酸素を導
入し、保持具１３に光学部品１を取り付け、光学部品１
を加熱しながら電子銃９でるつぼ１２内の蒸着原料１０
を蒸発させ光学部品１に蒸着させ高屈折率層２を形成さ
せる。このとき、必要に応じてイオン銃１１を作動して
酸素イオンを光学部品１に照射しても良い。次に別にチ
ャンバー６内に用意した低屈折率層３の蒸着原料を蒸発
させ、高屈折率層２が蒸着された光学部品１に重ねて蒸
着させる。
で排気口８から排気した後、酸素導入口７から酸素を導
入し、保持具１３に光学部品１を取り付け、光学部品１
を加熱しながら電子銃９でるつぼ１２内の蒸着原料１０
を蒸発させ光学部品１に蒸着させ高屈折率層２を形成さ
せる。このとき、必要に応じてイオン銃１１を作動して
酸素イオンを光学部品１に照射しても良い。次に別にチ
ャンバー６内に用意した低屈折率層３の蒸着原料を蒸発
させ、高屈折率層２が蒸着された光学部品１に重ねて蒸
着させる。
【００１３】上記した装置を使用して光学部品１に耐熱
性反射防止膜４を形成した。実施例１および２は本発明
を適用した方法で光学部品１に耐熱性反射防止膜４を形
成し、比較例１は本発明を適用外の方法で反射防止膜を
形成した。
性反射防止膜４を形成した。実施例１および２は本発明
を適用した方法で光学部品１に耐熱性反射防止膜４を形
成し、比較例１は本発明を適用外の方法で反射防止膜を
形成した。
【００１４】実施例１ 光学部品１として厚さ０．５ｍｍの石英ガラス基板１
（波長１．３１μｍでの屈折率１．４４）、高屈折率層
２の蒸着原料１０としてＴｉ3Ｏ5を使用し、チャンバー
６内が３００℃を保つように加熱しながら１×１０-5To
rr以下の圧力に排気した後、チャンバー１１内に圧力が
２×１０-4Torrとなるように酸素ガスを導入した。電子
銃９を作動させてＴｉ3Ｏ5を蒸発させ蒸着速度０．３ｎ
ｍ／ｓで、光学膜厚計１４を観察しながら石英ガラス基
板１の両面に光学膜厚が８９ｎｍの高屈折率層２を形成
させた。次に酸素ガスの導入を停止し、低屈折率層３の
原料として粒状のＳｉＯ2を使用して、電子銃９を作動
させてＳｉＯ2を蒸発させ蒸着速度０．５ｎｍ／ｓで、
高屈折率層２の上に光学膜厚が４２７ｎｍの低屈折率層
３を形成させ、石英ガラス基板１に光源波長１．３１μ
ｍ用の２層の耐熱性反射防止膜４が形成された。
（波長１．３１μｍでの屈折率１．４４）、高屈折率層
２の蒸着原料１０としてＴｉ3Ｏ5を使用し、チャンバー
６内が３００℃を保つように加熱しながら１×１０-5To
rr以下の圧力に排気した後、チャンバー１１内に圧力が
２×１０-4Torrとなるように酸素ガスを導入した。電子
銃９を作動させてＴｉ3Ｏ5を蒸発させ蒸着速度０．３ｎ
ｍ／ｓで、光学膜厚計１４を観察しながら石英ガラス基
板１の両面に光学膜厚が８９ｎｍの高屈折率層２を形成
させた。次に酸素ガスの導入を停止し、低屈折率層３の
原料として粒状のＳｉＯ2を使用して、電子銃９を作動
させてＳｉＯ2を蒸発させ蒸着速度０．５ｎｍ／ｓで、
高屈折率層２の上に光学膜厚が４２７ｎｍの低屈折率層
３を形成させ、石英ガラス基板１に光源波長１．３１μ
ｍ用の２層の耐熱性反射防止膜４が形成された。
【００１５】実施例２ 光学部品１として厚さ０．５ｍｍの石英ガラス基板１
（波長１．３１μｍでの屈折率１．４４）、高屈折率層
２の蒸着原料１０としてＴｉＯ2を使用し、チャンバー
６内が１００℃を保つように加熱しながら１×１０-5To
rr以下の圧力に排気した後、チャンバー１１内に圧力が
１×１０-4Torrとなるように酸素ガスを導入した。イオ
ン銃１１を作動させてイオンエネルギー７５０ｅＶ、イ
オン電流密度１０μＡ／ｃｍ2の酸素イオンを石英ガラ
ス基板１に照射しながら、電子銃９を作動させてＴｉＯ
2を蒸発させ蒸着速度０．３ｎｍ／ｓで、光学膜厚計１
４を観察しながら石英ガラス基板１の両面に光学膜厚が
８９ｎｍの高屈折率層２を形成させた。次に酸素ガスの
導入を停止し、低屈折率層３の原料として粒状のＳｉＯ
2を使用して、電子銃９を作動させてＳｉＯ2を蒸発させ
蒸着速度０．５ｎｍ／ｓで、高屈折率層２の上に光学膜
厚が４２７ｎｍの低屈折率層３を形成させ、石英ガラス
基板１に光源波長１．３１μｍ用の２層の耐熱性反射防
止膜４が形成された。
（波長１．３１μｍでの屈折率１．４４）、高屈折率層
２の蒸着原料１０としてＴｉＯ2を使用し、チャンバー
６内が１００℃を保つように加熱しながら１×１０-5To
rr以下の圧力に排気した後、チャンバー１１内に圧力が
１×１０-4Torrとなるように酸素ガスを導入した。イオ
ン銃１１を作動させてイオンエネルギー７５０ｅＶ、イ
オン電流密度１０μＡ／ｃｍ2の酸素イオンを石英ガラ
ス基板１に照射しながら、電子銃９を作動させてＴｉＯ
2を蒸発させ蒸着速度０．３ｎｍ／ｓで、光学膜厚計１
４を観察しながら石英ガラス基板１の両面に光学膜厚が
８９ｎｍの高屈折率層２を形成させた。次に酸素ガスの
導入を停止し、低屈折率層３の原料として粒状のＳｉＯ
2を使用して、電子銃９を作動させてＳｉＯ2を蒸発させ
蒸着速度０．５ｎｍ／ｓで、高屈折率層２の上に光学膜
厚が４２７ｎｍの低屈折率層３を形成させ、石英ガラス
基板１に光源波長１．３１μｍ用の２層の耐熱性反射防
止膜４が形成された。
【００１６】比較例１ 高屈折率層２の原料としてＴｉＯ2を使用したことを除
き、実施例１と同様にして石英ガラス基板１に光源波長
１．３１μｍ用の２層の反射防止膜を形成した。
き、実施例１と同様にして石英ガラス基板１に光源波長
１．３１μｍ用の２層の反射防止膜を形成した。
【００１７】性能試験 実施例１、２および比較例１において、それぞれ３個の
石英ガラス基板１を使用して、ＳｉＯ2を原料とした低
屈折率層３は形成させずに、高屈折率層２のみからなる
反射防止膜を形成させ、それぞれ試料１、試料２、試料
３とした。これらの試料について石英ガラス基板１に形
成された反射防止膜２のＴｉＯX組成を光電子分光法に
より分析し、その結果を表１に示す。
石英ガラス基板１を使用して、ＳｉＯ2を原料とした低
屈折率層３は形成させずに、高屈折率層２のみからなる
反射防止膜を形成させ、それぞれ試料１、試料２、試料
３とした。これらの試料について石英ガラス基板１に形
成された反射防止膜２のＴｉＯX組成を光電子分光法に
より分析し、その結果を表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】次に、実施例１、実施例２および比較例１
の方法で形成した２層の反射防止膜の試料を２４０℃か
ら３６０℃まで加熱しながら、波長１．３１μｍのレー
ザ光による透過率Ｔを測定し、反射率Ｒを次式（１）に
より算出した。
の方法で形成した２層の反射防止膜の試料を２４０℃か
ら３６０℃まで加熱しながら、波長１．３１μｍのレー
ザ光による透過率Ｔを測定し、反射率Ｒを次式（１）に
より算出した。
【００２０】 １００−２Ｒ＝Ｔ ・・・（１） その結果を図３に示す。同図に示すように実施例１およ
び実施例２のように反射防止膜のＴｉＯX組成がＸ≦
２．２のときには、２５０℃を超えて加熱を行っても反
射率が増加することはなかった。これに対し、比較例１
のようにＴｉＯXの組成がＸ＞２．２のときには、２５
０℃を超えた加熱を行うと反射率が増大してしまった。
び実施例２のように反射防止膜のＴｉＯX組成がＸ≦
２．２のときには、２５０℃を超えて加熱を行っても反
射率が増加することはなかった。これに対し、比較例１
のようにＴｉＯXの組成がＸ＞２．２のときには、２５
０℃を超えた加熱を行うと反射率が増大してしまった。
【００２１】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明の耐
熱性反射防止膜付き光学部品は、はんだや低融点ガラス
を使用して２５０℃以上に加熱して接合したり、高温下
で使用しても反射率が増加することがなく、安定した光
学特性を得ることができる。
熱性反射防止膜付き光学部品は、はんだや低融点ガラス
を使用して２５０℃以上に加熱して接合したり、高温下
で使用しても反射率が増加することがなく、安定した光
学特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用する耐熱性反射防止膜付き光学部
品の実施例を示す断面図である。
品の実施例を示す断面図である。
【図２】光学部品に耐熱性反射防止膜を形成する真空蒸
着装置を示す概略図である。
着装置を示す概略図である。
【図３】実施例および比較例における反射防止膜付き光
学部品の加熱温度と反射率の関係を示す図である。
学部品の加熱温度と反射率の関係を示す図である。
１は石英ガラス基板、２は高屈折率層、３は低屈折率
層、４は耐熱性反射防止膜、６はチャンバー、７は酸素
導入口、８は排気口、９は電子銃、１０は蒸着原料、１
１はイオン銃、１２はるつぼ、１３は保持具、１４は光
学膜厚計である。
層、４は耐熱性反射防止膜、６はチャンバー、７は酸素
導入口、８は排気口、９は電子銃、１０は蒸着原料、１
１はイオン銃、１２はるつぼ、１３は保持具、１４は光
学膜厚計である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 流王 俊彦 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ２５０℃以上に加熱される光学部品の少
なくとも片面に、ＴｉＯX（Ｘは１．９〜２．２）薄膜
からなる反射防止膜が形成されていることを特徴とする
耐熱性反射防止膜付き光学部品。 - 【請求項２】 前記ＴｉＯX薄膜にＳｉＯ2薄膜が積層さ
れていることを特徴とする請求項１に記載の耐熱性反射
防止膜付き光学部品。 - 【請求項３】 前記光学部品が、光学ガラス、単結晶体
または光学プラスチックであることを特徴とする請求項
１に記載の耐熱性反射防止膜付き光学部品。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8001566A JPH09189801A (ja) | 1996-01-09 | 1996-01-09 | 耐熱性反射防止膜付き光学部品 |
| EP00113469A EP1072925B1 (en) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | Optical element having heat-resistant anti-reflection coating |
| US08/768,292 US5872652A (en) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | Optical isolator and optical part having heat-resistant anti-reflection coating |
| DE69631495T DE69631495D1 (de) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | Optisches Element mit einer hitzebeständigen Antireflexionsschicht |
| EP96309199A EP0780717B1 (en) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | Optical isolator and optical part having heat-resistant anti-reflection coating |
| DE69616957T DE69616957T2 (de) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | Optischer Isolator und optisches Bauteil mit einer hitzebeständigen antireflektierenden Beschichtung |
| US09/193,128 US6163404A (en) | 1995-12-18 | 1998-11-17 | Optical isolator and optical part having heat-resistant anti-reflection coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8001566A JPH09189801A (ja) | 1996-01-09 | 1996-01-09 | 耐熱性反射防止膜付き光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09189801A true JPH09189801A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11505078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8001566A Pending JPH09189801A (ja) | 1995-12-18 | 1996-01-09 | 耐熱性反射防止膜付き光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09189801A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6468402B1 (en) | 1996-01-05 | 2002-10-22 | Bekaert Vds | Process for coating a substrate with titanium dioxide |
| US7294404B2 (en) | 2003-12-22 | 2007-11-13 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| US7604865B2 (en) | 2004-07-12 | 2009-10-20 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| JP2009244583A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子の製造方法、光学素子ユニット及び撮像ユニット |
| JPWO2010004879A1 (ja) * | 2008-07-11 | 2012-01-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子、光学素子の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
| US9738967B2 (en) | 2006-07-12 | 2017-08-22 | Cardinal Cg Company | Sputtering apparatus including target mounting and control |
| US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
-
1996
- 1996-01-09 JP JP8001566A patent/JPH09189801A/ja active Pending
Cited By (10)
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