[go: up one dir, main page]

JPH09185058A - Liquid crystal display device and its production - Google Patents

Liquid crystal display device and its production

Info

Publication number
JPH09185058A
JPH09185058A JP7304381A JP30438195A JPH09185058A JP H09185058 A JPH09185058 A JP H09185058A JP 7304381 A JP7304381 A JP 7304381A JP 30438195 A JP30438195 A JP 30438195A JP H09185058 A JPH09185058 A JP H09185058A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
alignment film
display device
crystal display
regions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7304381A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2999955B2 (en
Inventor
Hiroaki Kono
広明 河野
Yoshihiro Furuta
喜裕 古田
Eiji Tamaoka
英二 玉岡
Kazuhiro Inoue
和弘 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP30438195A priority Critical patent/JP2999955B2/en
Publication of JPH09185058A publication Critical patent/JPH09185058A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2999955B2 publication Critical patent/JP2999955B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device with which the improvement in its visual field angle characteristic is possible by orienting the liquid crystal parts corresponding to plural regions varying in imidization rates at different pretilt angles meeting the imidization rates. SOLUTION: This liquid crystal display device has liquid crystals 4 and polyimide oriented films 7, 8 for orienting these liquid crystals 4. The polyimide oriented films 7, 8 have the plural regions varying in the imidization rates and the liquid crystal parts corresponding to the respective regions are thereby oriented at the pretilt angles varying in accordance with the imidization rates. The threshold voltage for driving the liquid crystals 4 is varied by varying these pretilt angles, by which the changing of the visual field angle is made possible. The regions having the different visual field angles may, therefore, be arranged over the entire part of the display region. Then, the regions having the different preferential visual field angles are formable within one pixel by forming the plural regions varying in the imidization rates within the pixel.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関するものであり、特に、液晶のプレチ
ルト角を変化させることにより視野角を改善させた液晶
表示装置の構造及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a structure of a liquid crystal display device having a viewing angle improved by changing a pretilt angle of liquid crystal and a manufacturing method thereof. It is a thing.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置としては、従来より、TN
型液晶表示装置、STN型液晶表示装置、または強誘電
性液晶を用いた液晶表示装置など種々の液晶表示装置が
知られており、また液晶表示装置の駆動方式について
も、単純マトリクス型液晶表示装置、及びアクティブマ
トリクス型液晶表示装置などが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a liquid crystal display device, a TN has been used.
Type liquid crystal display devices, such as liquid crystal display devices of STN type, STN type liquid crystal display device, and liquid crystal display device using ferroelectric liquid crystal, are known, and a driving method of the liquid crystal display device is also a simple matrix type liquid crystal display device. , And active matrix type liquid crystal display devices are known.

【0003】これらの液晶表示装置において、一般に、
液晶は一対の基板間に挟まれ保持されており、基板の内
側には液晶を配向させるための配向膜が設けられてい
る。このような配向膜により、液晶分子は一定のプレチ
ルト角を持つように配向される。
In these liquid crystal display devices, in general,
The liquid crystal is sandwiched and held between a pair of substrates, and an alignment film for aligning the liquid crystal is provided inside the substrate. With such an alignment film, liquid crystal molecules are aligned so as to have a constant pretilt angle.

【0004】従来の液晶表示装置においては、表示領域
全体がほぼ同じプレチルト角となるように設定されてお
り、このため表示内容を明確に観察できる角度が制限さ
れ、いわゆる視野角が狭いという問題があった。
In the conventional liquid crystal display device, the entire display area is set to have substantially the same pretilt angle, so that the angle at which the display contents can be clearly observed is limited and the so-called viewing angle is narrow. there were.

【0005】本発明の目的は、視野角特性を改善するこ
とができる液晶表示装置及びその製造方法を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of improving viewing angle characteristics and a manufacturing method thereof.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の局面に従
う液晶表示装置は、液晶と、液晶を配向させるためのポ
リイミド配向膜とを備え、ポリイミド配向膜がイミド化
率の異なる複数の領域を有し、これによって各領域に対
応する液晶部分がイミド化率に応じた異なるプレチルト
角で配向している。
A liquid crystal display device according to a first aspect of the present invention includes a liquid crystal and a polyimide alignment film for aligning the liquid crystal, and the polyimide alignment film has a plurality of regions having different imidization ratios. Therefore, the liquid crystal portion corresponding to each region is aligned with different pretilt angles according to the imidization ratio.

【0007】第1の局面において、ポリイミド配向膜の
イミド化率の異なる複数の領域は、各画素内に形成され
ていることが好ましい。第1の局面に従えば、ポリイミ
ド配向膜のイミド化率を異ならせることにより、液晶の
プレチルト角をイミド化率に応じて変化させている。液
晶表示装置において、液晶分子のプレチルト角と液晶を
駆動させるためのしきい値電圧との間には相互に依存性
が認められる。このため、プレチルト角を異ならせるこ
とにより、液晶を駆動させるためのしきい値電圧を異な
らせ、視野角を変化させることができる。このため、異
なる視野角を有する領域を表示領域全体に配置すること
ができる。画素内にイミド化率の異なる複数の領域を形
成することにより、1つの画素内に異なる優先視野角を
有する領域を形成することができる。
In the first aspect, it is preferable that a plurality of regions having different imidization ratios of the polyimide alignment film be formed in each pixel. According to the first aspect, by varying the imidization ratio of the polyimide alignment film, the pretilt angle of the liquid crystal is changed according to the imidization ratio. In a liquid crystal display device, mutual dependence is recognized between the pretilt angle of liquid crystal molecules and the threshold voltage for driving the liquid crystal. Therefore, by changing the pretilt angle, it is possible to change the threshold voltage for driving the liquid crystal and change the viewing angle. Therefore, regions having different viewing angles can be arranged in the entire display region. By forming a plurality of regions having different imidization ratios within a pixel, regions having different preferential viewing angles can be formed within one pixel.

【0008】本発明の第2の局面に従う製造方法は、上
記本発明の第1の局面の液晶表示装置を製造することが
できる方法である。第2の局面に従う製造方法は、液晶
を配向させるためのポリイミド配向膜を有する液晶表示
装置の製造方法であり、ポリイミド配向膜を形成する工
程と、ポリイミド配向膜をプリベークする工程と、ポリ
イミド配向膜にレーザを照射し、照射領域のイミド化率
を変化させる工程とを備えている。
A manufacturing method according to a second aspect of the present invention is a method capable of manufacturing the liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention. A manufacturing method according to the second aspect is a manufacturing method of a liquid crystal display device having a polyimide alignment film for aligning liquid crystals, which includes a step of forming a polyimide alignment film, a step of prebaking the polyimide alignment film, and a polyimide alignment film. And irradiating it with a laser to change the imidization ratio of the irradiation region.

【0009】ポリイミド配向膜としては、通常、ポリア
ミック酸及び可溶性ポリイミドが出発材料として用いら
れる。ポリアミック酸は、加熱してイミド化率を高める
ことによりポリイミド化合物となる化合物である。可溶
性ポリイミドは、部分的にイミド化がなされていないポ
リイミド化合物であり、特定の溶媒にのみ可溶性を呈す
る。従って、このようなポリアミック酸または可溶性ポ
リイミドを用いてポリイミド配向膜を形成し、このポリ
イミド配向膜にレーザを照射することより、照射領域の
イミド化率を変化させることができる。従って、特定の
領域にのみレーザを照射することにより、照射領域のイ
ミド化率を変化させ、ポリイミド配向膜にイミド化率の
異なる複数の領域を形成することができる。
As the polyimide alignment film, polyamic acid and soluble polyimide are usually used as starting materials. Polyamic acid is a compound that becomes a polyimide compound by heating to increase the imidization ratio. Soluble polyimide is a polyimide compound that is not partially imidized, and is soluble only in a specific solvent. Therefore, by forming a polyimide alignment film using such a polyamic acid or soluble polyimide and irradiating the polyimide alignment film with a laser, the imidization ratio of the irradiation region can be changed. Therefore, by irradiating only a specific region with laser, the imidization ratio of the irradiation region can be changed, and a plurality of regions having different imidization ratios can be formed in the polyimide alignment film.

【0010】本発明で使用するポリアミック酸は、もと
もとイミド化率が低い(約50%以下)ので、イミド化
率を大きく変化させることができる。また、本発明で使
用する可溶性ポリイミドは、ポリアミック酸に比べイミ
ド化率がもともと高い(約50%以上)ので、僅かな加
熱処理で高いイミド化率のポリイミド配向膜とすること
ができる。
Since the polyamic acid used in the present invention originally has a low imidization ratio (about 50% or less), the imidization ratio can be greatly changed. Further, since the soluble polyimide used in the present invention originally has a higher imidization ratio than polyamic acid (about 50% or more), a polyimide alignment film having a high imidization ratio can be obtained by a slight heat treatment.

【0011】本局面において、プリベークの温度は50
〜150℃が好ましく、さらに好ましくは100〜15
0℃である。プリベークにより、ポリイミド配向膜を所
定のイミド化率に到達させることができる。
In this aspect, the prebaking temperature is 50.
-150 degreeC is preferable, More preferably, it is 100-15.
0 ° C. By prebaking, the polyimide alignment film can reach a predetermined imidization ratio.

【0012】またプリベークは、レーザ照射によりなさ
れてもよい。レーザ照射によりプリベークを行うことに
より、プリベーク後のイミド化率を変化させるためのレ
ーザ照射と連続して行うことが可能になる。
The prebaking may be performed by laser irradiation. By performing the pre-baking by the laser irradiation, it becomes possible to continuously perform the laser irradiation for changing the imidization ratio after the pre-baking.

【0013】イミド化率の変化は、使用するレーザの波
長またはエネルギー密度を適宜選択することにより、イ
ミド化率を増加させたり、あるいはイミド化率を減少さ
せたりすることができる。
The imidization ratio can be changed by increasing the imidization ratio or decreasing the imidization ratio by appropriately selecting the wavelength or energy density of the laser used.

【0014】イミド化率を増加させるために照射するレ
ーザの波長は、400nm以上であることが好ましい。
波長がこれよりも短いと、後述のするように、ポリイミ
ド配向膜中のポリイミド結合などの高分子結合が切断さ
れたり、配向膜自体が破壊される場合がある。エネルギ
ー密度としては、0.01〜1J/cm2 が好ましく、
さらに好ましくは、0.01〜0.1J/cm2 であ
る。
The wavelength of the laser irradiated to increase the imidization ratio is preferably 400 nm or more.
If the wavelength is shorter than this, polymer bonds such as polyimide bonds in the polyimide alignment film may be broken or the alignment film itself may be broken, as described later. The energy density is preferably 0.01 to 1 J / cm 2 ,
More preferably, it is 0.01 to 0.1 J / cm 2 .

【0015】イミド化率を減少させるために照射するレ
ーザの波長としては、300〜400nmが好ましい。
波長が300nm未満であると、配向膜自体が破壊され
易くなり、液晶を配向させる性能が低下するおそれがあ
る。また波長が400nmより大きくなると、配向膜中
のイミド結合などの結合が十分に切断されず、イミド化
率を十分に減少させることができない場合がある。エネ
ルギー密度としては、1〜90mJ/cm2 が好まし
く、より好ましくは30〜70mJ/cm2 である。
The wavelength of the laser irradiated to reduce the imidization ratio is preferably 300 to 400 nm.
If the wavelength is less than 300 nm, the alignment film itself may be easily broken, and the performance of aligning the liquid crystal may be deteriorated. If the wavelength is longer than 400 nm, the bonds such as imide bonds in the alignment film may not be sufficiently broken, and the imidization ratio may not be sufficiently reduced. The energy density is preferably 1~90mJ / cm 2, more preferably 30~70mJ / cm 2.

【0016】本発明の第3の局面に従う製造方法は、液
晶を配向させるためのポリイミド配向膜を有する液晶表
示装置の製造方法であり、ポリイミド配向膜の前駆体と
なるポリアミック酸の膜を形成する工程と、ポリアミッ
ク酸の膜を加熱処理によりプリベークしイミド化する工
程と、イミド化した膜の一部にレーザを照射し、照射領
域のイミド化率を増加させる工程とを備えている。ポリ
アミック酸を加熱しイミド化するための加熱処理の温度
は、100〜150℃程度が好ましい。
The manufacturing method according to the third aspect of the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal display device having a polyimide alignment film for aligning liquid crystals, and forms a film of polyamic acid as a precursor of the polyimide alignment film. The method includes a step, a step of prebaking the polyamic acid film by heat treatment to imidize it, and a step of irradiating a part of the imidized film with a laser to increase the imidization rate of the irradiation region. The temperature of the heat treatment for heating the polyamic acid to imidize it is preferably about 100 to 150 ° C.

【0017】またイミド化率を増加させるため照射する
レーザの波長は、400nm以上であることが好まし
い。レーザの波長がこれより短いと、膜中の結合が切断
されたり、あるいは膜が破壊されたりするおそれがあ
る。エネルギー密度としては、0.01〜1J/cm2
が好ましく、0.01〜0.1J/cm2 がさらに好ま
しい。ポリアミック酸の膜の加熱処理は、特に限定され
るものではなく、例えばレーザ照射により加熱処理を施
してもよい。
Further, the wavelength of the laser to be irradiated to increase the imidization ratio is preferably 400 nm or more. If the wavelength of the laser is shorter than this, the bond in the film may be broken or the film may be broken. The energy density is 0.01 to 1 J / cm 2.
Is preferred, and 0.01 to 0.1 J / cm 2 is more preferred. The heat treatment of the polyamic acid film is not particularly limited, and the heat treatment may be performed by laser irradiation, for example.

【0018】本発明の第4の局面に従う製造方法は、液
晶を配向させるためのポリイミド配向膜を有する液晶表
示装置の製造方法であり、ポリイミド配向膜を形成する
工程と、ポリイミド配向膜の一部にレーザを照射し、照
射領域のイミド化率を減少させる工程とを備えている。
A manufacturing method according to a fourth aspect of the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal display device having a polyimide alignment film for aligning liquid crystals, which comprises a step of forming a polyimide alignment film and a part of the polyimide alignment film. Laser irradiation to reduce the imidization ratio of the irradiation region.

【0019】この第4の局面において用いられるポリイ
ミド配向膜としては、第2の局面と同様に、ポリアミッ
ク酸及び可溶性ポリイミドを用いることができる。従っ
て、ポリイミド配向膜を形成した後、プリベークし、そ
の後に、レーザを照射し、照射領域のイミド化率を減少
させてもよい。
As the polyimide alignment film used in the fourth aspect, a polyamic acid and a soluble polyimide can be used as in the second aspect. Therefore, after the polyimide alignment film is formed, it may be pre-baked and then irradiated with laser to reduce the imidization ratio of the irradiation region.

【0020】本発明の第5の局面に従う液晶表示装置
は、液晶と、液晶を配向させるための感光性高分子配向
膜とを備え、感光性高分子配向膜が重合度の異なる複数
の領域を有し、これによって各領域に対応する液晶部分
が重合度に応じた異なるプレチルト角で配向している。
A liquid crystal display device according to a fifth aspect of the present invention comprises a liquid crystal and a photosensitive polymer alignment film for aligning the liquid crystal, and the photosensitive polymer alignment film has a plurality of regions having different degrees of polymerization. Thus, the liquid crystal portions corresponding to the respective regions are aligned with different pretilt angles according to the degree of polymerization.

【0021】感光性高分子配向膜としては、フォトリソ
グラフィ法等に用いられているネガ型またはポジ型の感
光性高分子を用いることができる。このような感光性高
分子配向膜の重合度を異ならせることにより、重合度に
応じた異なるプレチルト角で液晶を配向させることがで
き、プレチルト角の異なる領域を形成し、これによって
視野角を改善することができる。
As the photosensitive polymer alignment film, a negative or positive photosensitive polymer used in photolithography or the like can be used. By varying the degree of polymerization of such a photosensitive polymer alignment film, it is possible to align the liquid crystal with different pretilt angles according to the degree of polymerization, forming regions with different pretilt angles, thereby improving the viewing angle. can do.

【0022】第5の局面に従えば、液晶表示装置の画素
の構造を変更することなく、配向膜として感光性高分子
配向膜を用い、感光性高分子配向膜の重合度を異ならせ
ることにより、異なるプレチルト角で液晶を配向させる
ことができる。従って、画素を分割する従来の方法など
に比べ、より簡単に視野角を改善することができる。
According to the fifth aspect, the photosensitive polymer alignment film is used as the alignment film and the degree of polymerization of the photosensitive polymer alignment film is changed without changing the pixel structure of the liquid crystal display device. The liquid crystal can be aligned with different pretilt angles. Therefore, the viewing angle can be improved more easily than the conventional method of dividing the pixels.

【0023】本発明の第6の局面に従う製造方法は、上
記本発明の第5の局面の液晶表示装置を製造することが
できる方法であり、感光性高分子配向膜を形成する工程
と、感光性高分子配向膜に紫外線を照射し、照射領域の
重合度を変化させる工程とを備えている。
A manufacturing method according to a sixth aspect of the present invention is a method capable of manufacturing the liquid crystal display device according to the fifth aspect of the present invention, which comprises a step of forming a photosensitive polymer alignment film, and a photosensitive layer. And irradiating the functional polymer alignment film with ultraviolet rays to change the degree of polymerization in the irradiated region.

【0024】感光性高分子配向膜の一部に紫外線を照射
し、照射領域のみの重合度を変化させることにより、感
光性高分子配向膜に重合度の異なる複数の領域を形成す
ることができる。このような重合度の異なる複数の領域
は、各画素内において形成されていることが好ましい。
By irradiating a part of the photosensitive polymer alignment film with ultraviolet rays and changing the degree of polymerization only in the irradiated region, a plurality of regions having different degrees of polymerization can be formed in the photosensitive polymer alignment film. . It is preferable that a plurality of regions having different degrees of polymerization are formed in each pixel.

【0025】また、第6の局面において、紫外線を照射
した後、感光性高分子配向膜を現像処理することが好ま
しい。このように現像処理を行うことにより、重合度に
応じて表面粗さなどの表面形状を異ならせることがで
き、これによってプレチルト角の異なる領域を形成する
ことができる。
Further, in the sixth aspect, it is preferable that the photosensitive polymer alignment film is subjected to a development treatment after being irradiated with ultraviolet rays. By carrying out the development treatment in this way, the surface shape such as the surface roughness can be made different according to the degree of polymerization, whereby regions having different pretilt angles can be formed.

【0026】本発明の第7の局面に従う液晶表示装置
は、液晶と、液晶を配向させるための配向膜とを備え、
配向膜の表面に凹凸形状が形成されており、これによっ
て液晶が凹凸形状に応じた異なるプレチルト角で配向し
ている。液晶のプレチルト角は、このように配向膜の凹
凸形状によっても影響を受ける。
A liquid crystal display device according to a seventh aspect of the present invention includes a liquid crystal and an alignment film for aligning the liquid crystal,
An uneven shape is formed on the surface of the alignment film, whereby the liquid crystal is aligned at different pretilt angles according to the uneven shape. The pretilt angle of the liquid crystal is also affected by the uneven shape of the alignment film as described above.

【0027】配向膜の表面に凹凸形状を形成する方法と
しては、配向膜内に微粒子を分散する方法がある。この
ような方法によれば、微粒子の形状に沿って配向膜の表
面に凹凸形状が形成される。微粒子の粒径は、ほぼ均一
な粒径のものを用いてもよいし、異なる粒径のものを混
合し粒径分布を広くした微粒子を用いてもよい。この方
法によれば、液晶表示装置の画素構造を変更することな
く、配向膜内に添加する微粒子の粒径を変えることによ
り、容易にプレチルト角を変更することができる。
As a method for forming unevenness on the surface of the alignment film, there is a method of dispersing fine particles in the alignment film. According to such a method, an uneven shape is formed on the surface of the alignment film along the shape of the fine particles. Regarding the particle size of the particles, particles having a substantially uniform particle size may be used, or particles having different particle sizes may be mixed to have a wide particle size distribution. According to this method, the pretilt angle can be easily changed by changing the particle size of the fine particles added to the alignment film without changing the pixel structure of the liquid crystal display device.

【0028】また配向膜として、多孔質の配向膜を形成
し、表面に凹凸が形成された配向膜としてもよい。この
ような場合、液晶と接する表面に形成された孔の内部に
液晶分子が侵入したような状態であってもよい。
Further, as the alignment film, a porous alignment film may be formed, and the alignment film may have unevenness on the surface. In such a case, it may be in a state in which liquid crystal molecules have entered the inside of the hole formed on the surface in contact with the liquid crystal.

【0029】また配向膜の下方に下地層を設け、この下
地層の表面に凹凸形状を形成し、配向膜の表面に下地層
の表面形状を反映した凹凸形状を形成させてもよい。こ
のような下地層としては、基板表面、または基板の上方
に設けられる補助容量電極、絶縁膜、及び透明電極など
を挙げることができる。
It is also possible to provide a base layer below the alignment film, form a concavo-convex shape on the surface of the base layer, and form a concavo-convex shape that reflects the surface shape of the base layer on the surface of the alignment film. Examples of such an underlayer include an auxiliary capacitance electrode, an insulating film, and a transparent electrode provided on the surface of the substrate or above the substrate.

【0030】また配向膜の表面に形成する凹凸形状は、
テーパ状の凸部を有する凹凸形状としてもよい。下地層
の凹凸形状を配向膜の凹凸形状に反映させる場合には、
下地層の凹凸形状をテーパ状の凸部を有する凹凸形状と
することにより、配向膜の表面の凹凸形状をテーパ状の
凸部を有する凹凸形状とすることができる。
Further, the uneven shape formed on the surface of the alignment film is
An uneven shape having a tapered convex portion may be used. When reflecting the uneven shape of the underlayer on the uneven shape of the alignment film,
By making the uneven shape of the underlying layer an uneven shape having a tapered convex portion, the uneven shape of the surface of the alignment film can be made an uneven shape having a tapered convex portion.

【0031】本発明の第8の局面に従う液晶表示装置
は、液晶と、液晶を配向させるための配向膜とを備え、
配向膜の表面に、溝形状及び溝の形成方向のうちの少な
くとも一方が異なる溝が配列して形成された複数の溝領
域が形成されており、これによって各溝領域に対応する
液晶部分が異なるプレチルト角で配向している。
A liquid crystal display device according to an eighth aspect of the present invention includes a liquid crystal and an alignment film for aligning the liquid crystal,
On the surface of the alignment film, there are formed a plurality of groove regions formed by arranging grooves having different groove shapes and / or groove forming directions. The liquid crystal portion corresponding to each groove region is different. Oriented with a pretilt angle.

【0032】第8の局面では、このように溝形状または
溝の形成方向を異ならせることにより、液晶のプレチル
ト角を異ならせている。第8の局面においては、配向膜
の表面に形成される溝の形状、すなわち溝の深さ、溝の
幅及び溝のピッチ並びに溝の形成方向により、その上に
導入される液晶のプレチルト角が異なることを利用し、
各溝領域に対応する液晶部分において異なるプレチルト
角で配向させている。
In the eighth aspect, the pretilt angle of the liquid crystal is changed by changing the groove shape or the groove forming direction. In the eighth aspect, depending on the shape of the groove formed on the surface of the alignment film, that is, the groove depth, the groove width and the groove pitch, and the groove forming direction, the pretilt angle of the liquid crystal introduced onto the groove is determined. Take advantage of different things,
The liquid crystal parts corresponding to the respective groove regions are aligned with different pretilt angles.

【0033】第8の局面においても、配向膜の下方に設
けられる下地層に溝領域を形成し、これによって配向膜
の表面に下地層の溝領域の形状を反映した溝領域を形成
することができる。
Also in the eighth aspect, it is possible to form a groove region in the underlying layer provided below the alignment film and thereby form a groove region on the surface of the alignment film that reflects the shape of the groove region of the underlying layer. it can.

【0034】このような下地層として、同様に、基板表
面、または補助容量電極、絶縁膜、及び透明電極等を挙
げることができる。本発明において、イミド化率の定量
は、IRスペクトルを測定し、次式によって算出するこ
とができる。
As such an underlayer, a substrate surface, an auxiliary capacitance electrode, an insulating film, a transparent electrode or the like can be similarly mentioned. In the present invention, the imidization ratio can be quantitatively calculated by measuring an IR spectrum and using the following formula.

【0035】[0035]

【数1】 [Equation 1]

【0036】従って、上記算出式では、295℃で加熱
処理したものをイミド化率100%としてイミド化率を
算出していることになる。さらに本発明には、以下の技
術内容が含まれる。
Therefore, in the above calculation formula, the imidation rate is calculated by setting the imidation rate as 100% for the one heat-treated at 295 ° C. Further, the present invention includes the following technical contents.

【0037】(1)液晶を配向させるための配向膜を有
する液晶表示装置において、前記配向膜上の複数の液晶
領域のうち、少なくとも一つの液晶領域におけるプレチ
ルト角が他の液晶領域のプレチルト角と異なることを特
徴とする、液晶表示装置。
(1) In a liquid crystal display device having an alignment film for aligning liquid crystals, the pretilt angle in at least one liquid crystal region among a plurality of liquid crystal regions on the alignment film is the same as the pretilt angle in another liquid crystal region. A liquid crystal display device characterized by being different.

【0038】(2)前記配向膜は、イミド化率の異なる
複数の領域を有するポリイミド配向膜から構成されてお
り、プレチルト角の異なる複数の前記液晶領域が、前記
配向膜のイミド化率の異なる複数の領域上に対応して形
成されていることを特徴とする、上記(1)に記載の液
晶表示装置。
(2) The alignment film is composed of a polyimide alignment film having a plurality of regions having different imidization ratios, and the plurality of liquid crystal regions having different pretilt angles have different imidization ratios of the alignment film. The liquid crystal display device according to (1) above, which is formed so as to correspond to a plurality of regions.

【0039】(3)液晶層を介して対向して配置された
一対の前記配向膜の少なくとも一方が、イミド化率の異
なる前記複数の領域を有することを特徴とする、上記
(2)に記載の液晶表示装置。
(3) The above-mentioned (2), wherein at least one of the pair of alignment films arranged so as to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween has the plurality of regions having different imidization ratios. Liquid crystal display device.

【0040】(4)一対の前記配向膜は、イミド化率の
異なる複数の領域が前記液晶層を挟んで互いに対称な位
置に形成されていることを特徴とする、上記(3)に記
載の液晶表示装置。
(4) The pair of the alignment films is characterized in that a plurality of regions having different imidization ratios are formed at positions symmetrical to each other with the liquid crystal layer sandwiched therebetween. Liquid crystal display device.

【0041】(5)液晶を配向させるための配向膜を有
する液晶表示装置の製造方法であって、ポリイミド配向
膜を形成した後、部分的にイミド化率を変化させること
を特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
(5) A method of manufacturing a liquid crystal display device having an alignment film for aligning a liquid crystal, wherein the imidization ratio is partially changed after the polyimide alignment film is formed. Manufacturing method of display device.

【0042】(6)前記ポリイミド配向膜表面にレーザ
を照射することにより、部分的にイミド化率を変化させ
ることを特徴とする、上記(5)に記載の液晶表示装置
の製造方法。
(6) The method for producing a liquid crystal display device according to (5), wherein the imidization ratio is partially changed by irradiating the surface of the polyimide alignment film with a laser.

【0043】(7)前記レーザ照射は、前記ポリイミド
配向膜の高分子結合を切断しないレーザ強度で行うこと
によって部分的にイミド化率を増加させることを特徴と
する、上記(6)に記載の液晶表示装置の製造方法。
(7) The laser irradiation is performed with a laser intensity that does not break the polymer bond of the polyimide alignment film, thereby partially increasing the imidization rate, and the above (6) is described. Liquid crystal display device manufacturing method.

【0044】(8)前記レーザ照射は、前記ポリイミド
配向膜の高分子結合を切断し得るレーザ強度で行うこと
によってイミド化率を減少させることを特徴とする、上
記(6)に記載の液晶表示装置の製造方法。
(8) The liquid crystal display according to the above (6), wherein the laser irradiation is performed at a laser intensity that can break the polymer bond of the polyimide alignment film to reduce the imidization ratio. Device manufacturing method.

【0045】(9)前記配向膜は、重合度の異なった複
数の領域を有する感光性高分子配向膜から構成されてお
り、プレチルト角の異なる複数の前記液晶領域が、前記
配向膜の重合度の異なる複数の領域上に対応して形成さ
れていることを特徴とする、上記(1)に記載の液晶表
示装置。
(9) The alignment film is composed of a photosensitive polymer alignment film having a plurality of regions having different degrees of polymerization, and the plurality of liquid crystal regions having different pretilt angles have a degree of polymerization of the alignment film. The liquid crystal display device according to (1) above, which is formed corresponding to a plurality of different regions.

【0046】(10)液晶を配向させるための配向膜を有
する液晶表示装置の製造方法であって、前記配向膜とし
て感光性高分子配向膜を形成した後、紫外線を照射し、
前記感光性高分子配向膜を選択的に感光させることによ
って前記感光性高分子配向膜の重合度を変化させること
を特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
(10) A method of manufacturing a liquid crystal display device having an alignment film for aligning liquid crystals, comprising forming a photosensitive polymer alignment film as the alignment film, and then irradiating with ultraviolet rays,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein the degree of polymerization of the photosensitive polymer alignment film is changed by selectively exposing the photosensitive polymer alignment film to light.

【0047】(11)選択的に重合度の異なる領域が形成
された前記感光性高分子配向膜を現像することにより、
前記感光性高分子配向膜表面に表面形状の異なる領域を
形成することを特徴とする、上記(10)に記載の液晶表
示装置の製造方法。
(11) By selectively developing the photosensitive polymer alignment film in which regions having different degrees of polymerization are formed,
The method for producing a liquid crystal display device according to (10) above, wherein regions having different surface shapes are formed on the surface of the photosensitive polymer alignment film.

【0048】(12)前記配向膜の前記液晶と接する表面
に凹凸が形成されており、前記配向膜の凹凸表面上に配
置された前記液晶領域が前記凹凸表面形状に対応して異
なるプレチルト角を有することを特徴とする、上記
(1)に記載の液晶表示装置。
(12) Concavities and convexities are formed on the surface of the alignment film in contact with the liquid crystal, and the liquid crystal regions arranged on the concave and convex surface of the alignment film have different pretilt angles corresponding to the concavo-convex surface shape. The liquid crystal display device according to (1) above.

【0049】(13)前記配向膜は、多孔質の配向膜から
構成されていることを特徴とする、上記(12)に記載の
液晶表示装置。 (14)前記配向膜は、粘着性を有することを特徴とす
る、上記(13)に記載の液晶表示装置。
(13) The liquid crystal display device according to the above (12), wherein the alignment film is composed of a porous alignment film. (14) The liquid crystal display device according to (13), wherein the alignment film has adhesiveness.

【0050】(15)前記配向膜の前記液晶と接する表面
に形成された孔の内部に前記液晶分子が侵入しているこ
とを特徴とする、上記(13)または(14)に記載の液晶
表示装置。
(15) The liquid crystal display as described in (13) or (14) above, wherein the liquid crystal molecules penetrate into the holes formed in the surface of the alignment film in contact with the liquid crystal. apparatus.

【0051】(16)前記配向膜内には、微粒子が分散さ
れており、分散された前記微粒子の形状に沿って前記配
向膜の表面に凹凸が形成されていることを特徴とする、
上記(12)に記載の液晶表示装置。
(16) Fine particles are dispersed in the alignment film, and irregularities are formed on the surface of the alignment film along the shape of the dispersed fine particles.
The liquid crystal display device according to (12).

【0052】(17)前記配向膜中に分散された前記微粒
子は、ほぼ均一な粒径を有することを特徴とする、上記
(16)に記載の液晶表示装置。 (18)前記配向膜中に分散された前記微粒子は、複数の
異なる粒径を有することを特徴とする、上記(16)に記
載の液晶表示装置。
(17) The liquid crystal display device according to the above (16), wherein the fine particles dispersed in the alignment film have a substantially uniform particle size. (18) The liquid crystal display device according to (16) above, wherein the fine particles dispersed in the alignment film have a plurality of different particle sizes.

【0053】(19)透光性基板と、前記透光性基板の表
面上の画素領域毎に形成された透明電極とを備えてお
り、前記透明電極は、テーパ状の凸部を有する表面形状
に形成されており、前記透明電極の表面を覆う前記配向
膜の表面は、前記透明電極の表面形状を反映したテーパ
状の凸部を有する形状に形成されていることを特徴とす
る、上記(12)に記載の液晶表示装置。
(19) A transparent substrate and a transparent electrode formed in each pixel region on the surface of the transparent substrate, wherein the transparent electrode has a surface shape having a tapered convex portion. And the surface of the alignment film that covers the surface of the transparent electrode is formed in a shape having a tapered convex portion that reflects the surface shape of the transparent electrode. The liquid crystal display device according to 12).

【0054】(20)透光性基板と、前記透光性基板表面
上の画素領域毎に順次積層された補助容量電極と、絶縁
膜と、透明電極とを有し、前記透光性基板、前記補助容
量電極、前記絶縁膜、前記透明電極のうち、いずれか一
つの層の表面が、テーパ状の凸部を有する凹凸形状に形
成されており、前記透明電極を覆う配向膜の表面は、前
記一つの層の表面形状を反映したテーパ状の凸部を有す
る凹凸形状に形成されていることを特徴とする、上記
(12)に記載の液晶表示装置。
(20) The translucent substrate, which has a translucent substrate, an auxiliary capacitance electrode sequentially laminated for each pixel region on the surface of the translucent substrate, an insulating film, and a transparent electrode, Of the auxiliary capacitance electrode, the insulating film, the transparent electrode, the surface of any one layer is formed in an uneven shape having a tapered convex portion, the surface of the alignment film covering the transparent electrode, The liquid crystal display device according to (12) above, wherein the liquid crystal display device is formed in a concavo-convex shape having a tapered convex part that reflects the surface shape of the one layer.

【0055】(21)前記配向膜表面にラビング処理が施
されていることを特徴とする、上記(2)〜(4)、
(9)、(12)〜(20)のいずれかに記載の液晶表示装
置。 (22)前記配向膜の表面には、溝の深さまたは溝方向の
少なくとも一方が異なる複数の溝が配列された複数の溝
領域が形成されており、プレチルト角の異なる複数の前
記液晶領域が、前記複数の溝領域上に対応して形成され
ていることを特徴とする、上記(1)に記載の液晶表示
装置。
(21) The above-mentioned (2) to (4), characterized in that the surface of the alignment film is subjected to a rubbing treatment.
(9) The liquid crystal display device according to any one of (12) to (20). (22) On the surface of the alignment film, a plurality of groove regions in which a plurality of grooves having different groove depths or groove directions are arranged are formed, and a plurality of liquid crystal regions having different pretilt angles are formed. The liquid crystal display device according to (1), wherein the liquid crystal display device is formed so as to correspond to the plurality of groove regions.

【0056】(23)透光性基板と、前記透光性基板の表
面上の画素領域毎に形成された透明電極とを備えてお
り、前記透明電極の表面は、溝の深さ、または溝方向の
少なくとも一方が異なる複数の溝が配列された溝領域が
形成されており、前記透明電極の表面を覆う前記配向膜
の表面は、前記透明電極の表面形状を反映した溝形状に
形成されていることを特徴とする、上記(22)に記載の
液晶表示装置。
(23) A transparent substrate and a transparent electrode formed for each pixel region on the surface of the transparent substrate are provided, and the surface of the transparent electrode has a groove depth or a groove. A groove region is formed in which a plurality of grooves in which at least one of the directions is different is arranged, and the surface of the alignment film that covers the surface of the transparent electrode is formed in a groove shape that reflects the surface shape of the transparent electrode. The liquid crystal display device according to (22) above.

【0057】(24)透光性基板と、前記透光性基板表面
上の画素領域毎に順次積層された補助容量電極と、絶縁
膜と、透明電極とを有し、前記透光性基板、前記補助容
量電極、前記絶縁膜、前記透明電極のうち、いずれか一
つの層の表面が、溝の深さ、または溝方向の少なくとも
一方が異なる複数の溝が配列された溝領域が形成されて
おり、前記透明電極を覆う配向膜の表面は、前記一つの
層の表面形状を反映した溝形状が形成されていることを
特徴とする、上記(22)に記載の液晶表示装置。
(24) The transparent substrate, which has a transparent substrate, an auxiliary capacitance electrode sequentially laminated for each pixel region on the surface of the transparent substrate, an insulating film, and a transparent electrode. The surface of any one of the auxiliary capacitance electrode, the insulating film, and the transparent electrode has a groove region in which a plurality of grooves having different groove depths or groove directions are arranged. The liquid crystal display device according to (22) above, wherein the surface of the alignment film that covers the transparent electrode is formed with a groove shape that reflects the surface shape of the one layer.

【0058】(25)液晶と、前記液晶を配向させるため
の配向膜とを備え、前記配向膜の表面に凹凸形状が形成
されており、これによって前記液晶が凹凸形状に応じた
異なるプレチルト角で配向している液晶表示装置。
(25) A liquid crystal and an alignment film for orienting the liquid crystal are provided, and an uneven shape is formed on the surface of the alignment film, whereby the liquid crystal has different pretilt angles according to the uneven shape. Aligned liquid crystal display device.

【0059】(26)前記配向膜内に分散される微粒子を
さらに備え、前記微粒子の形状に沿って前記配向膜の表
面の凹凸形状が形成されている上記(25)に記載の液晶
表示装置。
(26) The liquid crystal display device according to the above (25), further comprising fine particles dispersed in the alignment film, and the uneven shape of the surface of the alignment film is formed along the shape of the fine particles.

【0060】(27)前記配向膜の下方に設けられる下地
層をさらに備え、前記下地層の表面に凹凸形状が形成さ
れ、これによって前記配向膜の表面に前記下地層の表面
形状を反映した凹凸形状が形成されている上記(25)に
記載の液晶表示装置。
(27) An underlayer provided below the alignment film is further provided, and an uneven shape is formed on the surface of the underlayer, whereby the unevenness on the surface of the alignment film reflects the surface shape of the underlayer. The liquid crystal display device according to (25), wherein the liquid crystal display device has a shape.

【0061】(28)前記下地層の凹凸形状が、各画素内
のそのほぼ中央に凸なテーパ状の凸部形状である上記
(27)に記載の液晶表示装置。 (29)液晶と、前記液晶を配向させるための配向膜とを
備え、前記配向膜の表面に、溝形状及び溝の形成方向の
うちの少なくとも一方が異なる溝が配列形成された複数
の溝領域が形成されており、これによって各溝領域に対
応する前記液晶部分が異なるプレチルト角で配向してい
る液晶表示装置。
(28) The liquid crystal display device according to the above (27), wherein the uneven shape of the underlayer is a tapered convex shape that is convex in substantially the center of each pixel. (29) A plurality of groove regions, each of which has a liquid crystal and an alignment film for aligning the liquid crystal, and in which a groove in which at least one of a groove shape and a groove forming direction is different is arranged on the surface of the alignment film A liquid crystal display device in which the liquid crystal portions corresponding to the respective groove regions are aligned with different pretilt angles.

【0062】(30)前記配向膜の下方に設けられる下地
層をさらに備え、前記下地層の表面に溝形状及び溝の形
成方向のうちの少なくとも一方が異なる溝が配列して形
成された複数の溝領域が形成されており、これによって
前記配向膜の表面に前記下地層の溝領域の形状を反映し
た溝領域が形成されている上記(29)に記載の液晶表示
装置。
(30) A base layer provided below the alignment film is further provided, and a plurality of grooves are formed on the surface of the base layer in which at least one of the groove shape and the groove forming direction is arranged differently. The liquid crystal display device according to (29), wherein a groove region is formed, and thereby a groove region reflecting the shape of the groove region of the underlying layer is formed on the surface of the alignment film.

【0063】[0063]

【発明の実施の形態】図1は、液晶表示装置の表示部の
構造の一例を示す断面図である。図1を参照して、液晶
表示装置1においては、ガラスなどの透明材料からなる
基板2,3間に液晶4が注入されている。基板2,3の
液晶4側の表面には、液晶に電圧を印加するための電極
として透明導電膜5,6が設けられている。透明導電膜
5,6の上には、液晶4を配向させるための配向膜7,
8が形成されている。透明導電膜5,6は、例えばIT
O(インジウム錫酸化物)から形成されている。また配
向膜7,8はポリイミドなどの合成樹脂から形成されて
いる。
1 is a sectional view showing an example of the structure of a display portion of a liquid crystal display device. Referring to FIG. 1, in liquid crystal display device 1, liquid crystal 4 is injected between substrates 2 and 3 made of a transparent material such as glass. Transparent conductive films 5 and 6 are provided on the surfaces of the substrates 2 and 3 on the liquid crystal 4 side as electrodes for applying a voltage to the liquid crystals. An alignment film 7 for aligning the liquid crystal 4 is formed on the transparent conductive films 5 and 6.
8 are formed. The transparent conductive films 5 and 6 are, for example, IT
It is formed of O (indium tin oxide). The alignment films 7 and 8 are made of synthetic resin such as polyimide.

【0064】従来の液晶表示装置においては、配向膜
7,8が表示領域の全面において均一に形成されてお
り、従って液晶分子のプレチルト角も表示領域全体にお
いて同一となるように設定されている。
In the conventional liquid crystal display device, the alignment films 7 and 8 are uniformly formed on the entire surface of the display region, and therefore the pretilt angles of the liquid crystal molecules are set to be the same in the entire display region.

【0065】本発明の第1の局面、第2の局面、第3の
局面、及び第4の局面に従えば、配向膜としてポリイミ
ド配向膜を用い、ポリイミド配向膜にイミド化率の異な
る複数の領域を形成している。これによって、各領域に
対応する液晶部分をイミド化率に応じた異なるプレチル
ト角で配向させている。
According to the first aspect, the second aspect, the third aspect, and the fourth aspect of the present invention, a polyimide alignment film is used as the alignment film, and the polyimide alignment film has a plurality of different imidization ratios. Forming a region. Thereby, the liquid crystal portion corresponding to each region is aligned with different pretilt angles according to the imidization ratio.

【0066】本発明の第5の局面及び第6の局面に従え
ば、配向膜として感光性高分子配向膜を用い、感光性高
分子配向膜に重合度の異なる複数の領域を形成してい
る。これによって、各領域に対応する液晶部分を重合度
に応じた異なるプレチルト角で配向させている。
According to the fifth and sixth aspects of the present invention, a photosensitive polymer alignment film is used as the alignment film, and a plurality of regions having different degrees of polymerization are formed in the photosensitive polymer alignment film. . Thereby, the liquid crystal portions corresponding to the respective regions are aligned with different pretilt angles according to the degree of polymerization.

【0067】本発明の第7の局面に従えば、配向膜の表
面に凹凸形状を形成し、これによって凹凸形状に応じた
異なるプレチルト角で液晶を配向させている。本発明の
第8の局面に従えば、配向膜の表面に溝形状及び溝の形
成方向のうちの少なくとも一方が異なる溝を複数配列し
て溝領域とし、この溝領域を複数形成している。これに
よって各溝領域に対応する液晶部分を異なるプレチルト
角で配向させている。
According to the seventh aspect of the present invention, a concave-convex shape is formed on the surface of the alignment film, whereby the liquid crystal is aligned at different pretilt angles according to the concave-convex shape. According to the eighth aspect of the present invention, a plurality of grooves having different groove shapes and / or different groove forming directions are arranged on the surface of the alignment film to form groove areas, and the groove areas are formed in plural. As a result, the liquid crystal portions corresponding to the respective groove regions are aligned with different pretilt angles.

【0068】以下、本発明の上記各局面に従う実施形態
について説明する。まず、本発明の第1の局面〜第4の
局面に従う実施形態について説明する。図2は、本発明
の第1の局面に従う実施形態の液晶表示装置の要部を示
す断面図である。図2を参照して、液晶表示装置は、ガ
ラスや透光性の合成樹脂などから構成される透光性基板
10と、透光性基板10の表面上に形成された導電膜2
0と、さらにその表面上に形成された配向膜30とを備
えている。配向膜30の上には液晶40が注入されてい
る。なお、図示が省略されているが、液晶40の上面に
は上記の配向膜30、導電膜20及び透光性基板10と
同一の構成が対称的に上方に設けられている。
Embodiments according to the above aspects of the present invention will be described below. First, an embodiment according to the first aspect to the fourth aspect of the present invention will be described. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the main parts of the liquid crystal display device of the embodiment according to the first aspect of the present invention. Referring to FIG. 2, the liquid crystal display device includes a transparent substrate 10 made of glass or a transparent synthetic resin, and a conductive film 2 formed on the surface of the transparent substrate 10.
0, and an alignment film 30 formed on the surface thereof. Liquid crystal 40 is injected on the alignment film 30. Although not shown, the same configuration as the alignment film 30, the conductive film 20, and the translucent substrate 10 is symmetrically provided on the upper surface of the liquid crystal 40 above.

【0069】導電膜20は、液晶40に電圧を印加する
ための電極として機能するものであり、例えばITOな
どの透明導電材料により構成されている。配向膜30
は、ポリイミド樹脂から構成され、その表面にはラビン
グ処理が施されている。ポリイミドの配向膜30は、互
いにイミド化率の異なる領域30a,30bを有してい
る。ポリイミド配向膜のイミド化率が異なると、その表
面上に注入される液晶40の初期配列状態におけるプレ
チルト角が異なる。例えば、図2に示すように、イミド
化率の高い領域30a上の液晶のプレチルト角Aは、イ
ミド化率の低い領域30b上の液晶のプレチルト角Bよ
りも大きくなる。
The conductive film 20 functions as an electrode for applying a voltage to the liquid crystal 40, and is made of a transparent conductive material such as ITO. Alignment film 30
Is made of a polyimide resin, and its surface is subjected to a rubbing treatment. The polyimide alignment film 30 has regions 30a and 30b having different imidization ratios. If the imidization ratio of the polyimide alignment film is different, the pretilt angle in the initial alignment state of the liquid crystal 40 injected on the surface is different. For example, as shown in FIG. 2, the pretilt angle A of the liquid crystal on the region 30a having a high imidization ratio is larger than the pretilt angle B of the liquid crystal on the region 30b having a low imidization ratio.

【0070】次に、本発明の第2の局面及び第3の局面
に従う液晶表示装置の製造方法について説明する。図3
を参照して、透光性基板10の表面上にITO膜などの
透明導電材料からなる導電膜を形成し、パターニングす
る(S10)。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the second and third aspects of the present invention will be described. FIG.
Referring to, a conductive film made of a transparent conductive material such as an ITO film is formed on the surface of the transparent substrate 10 and patterned (S10).

【0071】次に、導電膜20の表面上に配向膜の材料
を塗布する。ここでは、配向膜材料として第3の局面に
従いポリアミック酸を用いる例と、第2の局面に従い可
溶性ポリイミドを用いる例について説明する。
Next, the material of the alignment film is applied on the surface of the conductive film 20. Here, an example of using a polyamic acid as the alignment film material according to the third aspect and an example of using soluble polyimide according to the second aspect will be described.

【0072】まず、ポリアミック酸を用いる場合には、
導電膜20表面上にポリアミック酸膜を成膜する(S1
2)。その後、低温、例えば50℃でプリベーキングを
行い、全体に亘って所定のイミド化率になるまでイミド
化を行う(S14)。
First, in the case of using polyamic acid,
A polyamic acid film is formed on the surface of the conductive film 20 (S1).
2). After that, prebaking is performed at a low temperature, for example, 50 ° C., and imidization is performed over the whole until a predetermined imidization rate is reached (S14).

【0073】また、可溶性ポリイミドを用いる場合に
は、導電膜20の表面上に可溶性ポリイミドをコーティ
ングした後(S12)、所定の温度、例えば50〜70
℃でプリベーキング処理を行う(S14)。
When soluble polyimide is used, after the soluble polyimide is coated on the surface of the conductive film 20 (S12), a predetermined temperature, for example, 50 to 70 is used.
A pre-baking process is performed at C (S14).

【0074】次に、導電膜20上に形成された配向膜に
対し、レーザ照射を行う。レーザの種類としては、ポリ
イミドの高分子結合を切断しない程度の強度のレーザが
選ばれる。具体的には、波長400nm以上のレーザが
好ましく、例えば、CO2 レーザが用いられる。下記の
表1に、ポリイミドに含まれる分子間の平均結合エネル
ギーを示す。
Next, the alignment film formed on the conductive film 20 is irradiated with laser. As the type of laser, a laser having an intensity that does not break the polymer bond of polyimide is selected. Specifically, a laser having a wavelength of 400 nm or more is preferable, and for example, a CO 2 laser is used. Table 1 below shows the average bond energy between the molecules contained in the polyimide.

【0075】[0075]

【表1】 [Table 1]

【0076】表1に示すような結合エネルギーに対し
て、CO2 レーザの強度は、例えばレーザ波長10.6
μm、エネルギー0.12eVが設定される。このよう
な条件で、配向膜30表面にレーザ照射を行うと、レー
ザ照射された領域が加熱され、その部分のイミド化率が
変化する。この加熱処理によるイミド化反応とは、ポリ
アミック酸からポリイミドに変化する反応であり、一般
に下式で表現される。この反応によって、イミド結合
(イミド環)が増加し、イミド化率が高くなる。
With respect to the binding energies shown in Table 1, the CO 2 laser intensity is, for example, 10.6
μm and energy of 0.12 eV are set. When the surface of the alignment film 30 is irradiated with laser under such conditions, the region irradiated with laser is heated, and the imidization ratio of that portion changes. The imidization reaction by the heat treatment is a reaction in which polyamic acid is changed to polyimide, and is generally expressed by the following formula. This reaction increases the imide bond (imide ring) and increases the imidization ratio.

【0077】[0077]

【化1】 Embedded image

【0078】例えば、図4(a)は、ポリアミック酸P
A−1及び可溶性ポリイミドPI−1から成膜したポリ
イミド膜の加熱温度とイミド化率との関係を示してい
る。両者とも加熱温度が上昇するに伴ってイミド化率が
向上することが示されている。特に、その傾向はポリア
ミック酸を用いた場合に顕著である。
For example, FIG. 4A shows a polyamic acid P.
The relationship between the heating temperature and the imidization ratio of the polyimide film formed from A-1 and the soluble polyimide PI-1 is shown. It has been shown that the imidization ratio of both increases as the heating temperature increases. In particular, this tendency is remarkable when a polyamic acid is used.

【0079】また、配向膜30のイミド化率の程度に応
じて、その表面上に注入される液晶の初期配向状態のプ
レチルト角が異なる。このことを、図4(b)に示す。
例えば、温度150℃でみると、図4(a)に示すよう
に可溶性ポリイミドを用いた場合のイミド化率96%に
対してのプレチルト角が7.5°となるのに対し、ポリ
アミック酸を用いた場合には、イミド化率20%に対し
てプレチルト角が約2.8°となる。また、プレチルト
角はベーキング温度(加熱温度)に従って変化する。な
お、図4(b)から明らかなように、ポリアミック酸膜
に関しては、ベーキング温度を上昇させるとともにプレ
チルト角が大きくなるが、逆に可溶性ポリイミド膜の場
合には温度上昇とともにプレチルト角が減少している。
従って、いずれの膜材料を用いるかに応じて、レーザ照
射によってプレチルト角を変更させる領域を選択する必
要がある(S16)。
The pretilt angle of the initial alignment state of the liquid crystal injected onto the surface of the alignment film 30 varies depending on the degree of imidization of the alignment film 30. This is shown in FIG.
For example, when viewed at a temperature of 150 ° C., as shown in FIG. 4A, the pretilt angle is 7.5 ° for an imidization ratio of 96% when a soluble polyimide is used, whereas polyamic acid is used. When used, the pretilt angle is about 2.8 ° for an imidization ratio of 20%. Further, the pretilt angle changes according to the baking temperature (heating temperature). As is clear from FIG. 4B, in the case of the polyamic acid film, the pretilt angle increases as the baking temperature rises, but conversely in the case of the soluble polyimide film, the pretilt angle decreases as the temperature rises. There is.
Therefore, it is necessary to select a region in which the pretilt angle is changed by laser irradiation, depending on which film material is used (S16).

【0080】また図5は、異なる種類の可溶性ポリイミ
ド(PI−2)のベーキング温度とイミド化率及びプレ
チルト角の関係を示す図である。なお図5(a)では、
イミド化率の変化を見やすくするため、縦軸のイミド化
率のスケールを大きくしている。図5(a)及び(b)
からも明らかなように、ベーキング温度が高くなるにつ
れて、イミド化率が高くなり、プレチルト角が小さくな
っていることがわかる。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the baking temperature, the imidization ratio, and the pretilt angle of different types of soluble polyimide (PI-2). In addition, in FIG.
The scale of the imidization ratio on the vertical axis is enlarged to make it easier to see the change in imidization ratio. FIG. 5 (a) and (b)
As is clear from the results, as the baking temperature increases, the imidization ratio increases and the pretilt angle decreases.

【0081】上記のレーザ加熱によるイミド化処理が終
了すると、配向膜14の表面上にラビング処理を施し、
配向膜の形成工程が終了する(S18)。なお、配向膜
のラビング処理は、レーザ照射によるイミド化処理を行
う前に行っても構わない。さらに、この後、液晶パネル
の組み立て及び液晶の注入工程が行われるが、ここでの
詳細な説明は省略する。
When the imidization treatment by the above laser heating is completed, the surface of the alignment film 14 is rubbed,
The process of forming the alignment film is completed (S18). Note that the rubbing treatment of the alignment film may be performed before the imidization treatment by laser irradiation. Further, after that, the process of assembling the liquid crystal panel and the process of injecting the liquid crystal are performed, but the detailed description is omitted here.

【0082】以上のような工程により製造された液晶表
示装置においては、レーザ照射によってイミド化処理が
行われた領域が、他の領域に比べて異なるイミド化率を
有している。そして、イミド化率が異なれば、上述した
ように、この表面上に注入される液晶の初期配向状態に
おけるプレチルト角が異なる。また、プレチルト角が異
なると、導電膜に所定の電圧を印加させた場合、各々の
領域におけるしきい値電圧が変化する。この様子を図6
(a),(b)に示す。ここで、図6(a)の縦軸は、
輝度100%から10%まで変化した場合のしきい値電
圧V10を示し、図6(b)の縦軸は輝度が90%まで変
化した場合のしきい値電圧V90を示している。両図にお
いて、温度を一定とすると、いずれにおいてもプレチル
ト角が大きくなるにつれてしきい値電圧V10,V90の値
が低下している。このことから分かるように、複数のプ
レチルト角の異なる領域においては、導電膜から均一な
電圧が印加されたとしても、各々のしきい値電圧が異な
ることにより、実効的な液晶の駆動が異なることとな
る。このため、各領域での視野角が異なり、特に優先視
野角が各々異なる値を持つことになる。従って、液晶表
示装置全体としては、視野角が拡大し、表示画面の見や
すい範囲が拡大する。
In the liquid crystal display device manufactured by the above steps, the area imidized by laser irradiation has a different imidization rate compared to other areas. Then, if the imidization ratio is different, as described above, the pretilt angle in the initial alignment state of the liquid crystal injected on the surface is different. Further, when the pretilt angles are different, the threshold voltage in each region changes when a predetermined voltage is applied to the conductive film. This state is shown in FIG.
(A) and (b) show. Here, the vertical axis of FIG.
The threshold voltage V 10 is shown when the luminance changes from 100% to 10%, and the vertical axis of FIG. 6B shows the threshold voltage V 90 when the luminance is changed to 90%. In both figures, when the temperature is constant, the values of the threshold voltages V 10 and V 90 decrease as the pretilt angle increases in both cases. As can be seen from this, in the regions having different pretilt angles, even if a uniform voltage is applied from the conductive film, the effective driving of the liquid crystal is different due to the different threshold voltages. Becomes For this reason, the viewing angles in the respective areas are different, and in particular, the priority viewing angles have different values. Therefore, in the liquid crystal display device as a whole, the viewing angle is widened and the viewable range of the display screen is widened.

【0083】なお、上記実施例においては、レーザ照射
によって照射領域のイミド化率を増大させることによ
り、配向膜の各領域のイミド化率を種々変化させる場合
について説明したが、本発明の第4の局面に従い、レー
ザ強度を強くし、イミド化した高分子間の結合を切断す
ることによりイミド化率を低下させ、配向膜の各領域の
イミド化率を種々変化させてもよい。この場合、レーザ
の強度は、ポリイミドの高分子結合の結合エネルギーよ
りも大きいエネルギー値が選ばれる。第4の局面に従う
実施形態については、後に説明する。
In the above embodiment, the case where the imidization ratio of each region of the alignment film is variously changed by increasing the imidization ratio of the irradiation region by laser irradiation has been described. According to this aspect, the laser intensity may be increased, the bond between the imidized polymers may be cut to reduce the imidization ratio, and the imidization ratio in each region of the alignment film may be variously changed. In this case, the laser intensity is selected to be larger than the binding energy of the polymer bond of polyimide. The embodiment according to the fourth aspect will be described later.

【0084】さらに、以下では、液晶表示装置の平面表
示領域において、プレチルト角の異なる領域、すなわち
配向膜のイミド化率の異なる領域の配置例について説明
する。
Further, an example of arrangement of regions having different pretilt angles, that is, regions having different imidization ratios of the alignment film in the flat display region of the liquid crystal display device will be described below.

【0085】例えば、図7(a)は、画素内にイミド化
率の異なる領域を形成した場合の平面図を示している。
この例では、画素131内において、イミド化率の最も
高い領域131Aが中央部においてストライプ状に形成
され、その両側にストライプ状に、領域131Aよりイ
ミド化率の低い領域131B,131Cが形成されてい
る。また、さらにその両側に、さらにイミド化率の低い
領域131D,131Eが形成されている。
For example, FIG. 7A shows a plan view when regions having different imidization ratios are formed in a pixel.
In this example, in the pixel 131, a region 131A having the highest imidization ratio is formed in a stripe shape in the central portion, and regions 131B and 131C having a lower imidization ratio than the region 131A are formed in stripes on both sides thereof. There is. Further, regions 131D and 131E having a lower imidization ratio are formed on both sides thereof.

【0086】また、図7(b)に示す例では、画素13
2内に、相対的にイミド化率の高い領域132A,13
2Bと、相対的にイミド化率の低い領域132D,13
2Cとが交互にストライプ状に形成されている。このよ
うな構成は、視野角の増大に寄与するのみならず、階調
表示に利用することも可能である。すなわち、プレチル
ト角の相違は、各領域のコントラストの相違となって表
れる。従って、画素領域内に設定した各ストライプ領域
のプレチルト角を適宜段階的に設定することにより、そ
の設定に応じた階調表示を行わせることが可能となる。
In the example shown in FIG. 7B, the pixel 13
2, regions 132A, 13 having a relatively high imidization ratio
2B and regions 132D, 13 having a relatively low imidization ratio
2C and 2C are alternately formed in a stripe shape. Such a structure not only contributes to an increase in the viewing angle but can also be used for gradation display. That is, the difference in pretilt angle appears as the difference in contrast between the regions. Therefore, by setting the pretilt angle of each stripe area set in the pixel area in a stepwise manner, it is possible to perform gradation display according to the setting.

【0087】また、図8(a)及び図8(b)に示す例
も、図7の場合と同様に、画素内の分割領域の他の例を
示すものである。すなわち、図8(a)では、画素13
3の中央部において、イミド化率の最も高い領域133
A〜133Dが形成され、その外側に次にイミド化率の
高い領域133E〜133Lが形成されており、画素の
コーナー部分にはイミド化率の最も低い領域133M〜
133Pが形成されている。この構成においては、イミ
ド化率が3段階に設定されている。
Further, the example shown in FIGS. 8A and 8B also shows another example of the divided area in the pixel, as in the case of FIG. That is, in FIG.
Region 133 having the highest imidization ratio in the central part of 3
A to 133D are formed, and regions 133E to 133L with the next highest imidization ratio are formed on the outside thereof, and regions 133M to with the lowest imidization ratio are formed at the corners of the pixel.
133P is formed. In this structure, the imidization ratio is set in three stages.

【0088】また、図8(b)では、1つの画素134
内において、その中央部にイミド化率の高い領域134
Aが形成され、その周囲にイミド化率の低い領域134
Bが形成されている。
Further, in FIG. 8B, one pixel 134
In the inner part of the
A is formed, and a region 134 having a low imidization ratio is formed around it.
B is formed.

【0089】また、本発明におけるイミド化率の異なる
領域は、画素領域内で設定されるもののみならず、液晶
表示装置の表示パネル全領域を対象に設定しても構わな
い。図9は、パネル135全体に対し、その中央部に、
その周辺領域135Bに対して相対的にイミド化率の高
い領域135Aを設けるものである。
The regions having different imidization ratios according to the present invention may be set not only in the pixel region but also in the entire display panel region of the liquid crystal display device. FIG. 9 shows that the central portion of the panel 135 is
A region 135A having a relatively high imidization ratio is provided with respect to the peripheral region 135B.

【0090】図10は、画素内におけるレーザ照射領
域、すなわちイミド化率の異なる領域の配置例を説明す
るための斜視図である。図10を参照して、配向膜13
6及び137は、TFTなどの駆動部が設けられた基板
側の配向膜である。配向膜138及び139は、それぞ
れ対向基板側の配向膜である。配向膜138は、配向膜
136と対向する画素領域内に位置しており、配向膜1
39は、配向膜137と対向する画素領域内に位置して
いる。なお配向膜138及び139は共通電極の上に形
成されているものであり、実際には全面に連続して形成
されているものである。図10においては、画素内にお
ける対応関係を見やすくするため分割した状態で図示し
ている。
FIG. 10 is a perspective view for explaining an arrangement example of laser irradiation regions in a pixel, that is, regions having different imidization ratios. Referring to FIG. 10, alignment film 13
Reference numerals 6 and 137 are alignment films on the substrate side on which a driving unit such as a TFT is provided. The alignment films 138 and 139 are alignment films on the counter substrate side, respectively. The alignment film 138 is located in the pixel region facing the alignment film 136, and
39 is located in the pixel region facing the alignment film 137. The alignment films 138 and 139 are formed on the common electrode, and are actually formed continuously on the entire surface. In FIG. 10, the correspondence between the pixels is shown in a divided state for easy viewing.

【0091】図10において、レーザを照射し、配向膜
のイミド化率を変化させた領域はハッチングを付して示
されている。配向膜136及び137においては、TF
Tから離れた分割領域にそれぞれレーザ照射領域136
A及び137Aが形成されている。対向する配向膜13
8及び139においても、レーザ照射領域136A及び
137Aに対向する領域にレーザ照射領域138A及び
139Aが形成されている。
In FIG. 10, the region where the imidization ratio of the alignment film is changed by laser irradiation is shown by hatching. In the alignment films 136 and 137, TF is used.
A laser irradiation area 136 is provided in each of the divided areas distant from T.
A and 137A are formed. Opposing alignment film 13
Also in 8 and 139, laser irradiation regions 138A and 139A are formed in regions facing the laser irradiation regions 136A and 137A.

【0092】レーザ照射は、配向膜の一端から他端まで
連続して照射しながら走査してもよいし、レーザ照射の
必要な部分のみ照射し、レーザ照射が必要でない部分に
は照射しないように、照射と非照射とを繰り返して行い
ながら走査してもよい。例えば、画素領域内の配向膜の
部分においてのみ照射し、画素間のブラックマトリクス
部分においては照射しないようにしながらレーザを走査
してもよい。レーザのスポット径及びスポットの形状は
特に限定されるものではなく、画素の大きさや形状等に
応じて適宜選択することができる。例えばレーザのスポ
ット径としては、数μmから5cm平方の大きさまで変
えることが可能である。例えばスポット径30μmのレ
ーザ光を周波数50Hzで照射しながら走査する場合に
は、1.5mm/秒の速度で走査することができる。
The laser irradiation may be performed while continuously irradiating from one end to the other end of the alignment film, or the laser irradiation may be performed only on the portion where the laser irradiation is necessary and not on the portion where the laser irradiation is not necessary. Alternatively, scanning may be performed while repeating irradiation and non-irradiation. For example, the laser may be scanned while irradiating only the alignment film portion in the pixel region and not irradiating the black matrix portion between the pixels. The laser spot diameter and the spot shape are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the size and shape of the pixel. For example, the spot diameter of the laser can be changed from several μm to a size of 5 cm square. For example, when scanning is performed while irradiating a laser beam having a spot diameter of 30 μm at a frequency of 50 Hz, the scanning can be performed at a speed of 1.5 mm / sec.

【0093】図11は、画素内でのレーザ照射領域の他
の例を示す斜視図である。ここでは、配向膜136及び
137のレーザ照射領域136A及び137Aと、対向
する配向膜138及び139のレーザ照射領域138A
及び139Aを対向させないように配置している。従っ
て、レーザ照射領域136A及び137Aは、対向する
配向膜138及び139のレーザが照射されていない領
域と対向している。またレーザ照射領域138A及び1
39Aは、対向する配向膜136及び137のレーザが
照射されていない領域と対向している。
FIG. 11 is a perspective view showing another example of the laser irradiation area in the pixel. Here, the laser irradiation regions 136A and 137A of the alignment films 136 and 137, and the laser irradiation regions 138A of the alignment films 138 and 139 facing each other.
And 139A are arranged so as not to face each other. Therefore, the laser irradiation regions 136A and 137A face the regions of the facing alignment films 138 and 139 which are not irradiated with the laser. Also, laser irradiation areas 138A and 1
39A faces the regions of the facing alignment films 136 and 137 which are not irradiated with the laser.

【0094】図12は、画素内におけるレーザ照射領域
のさらに他の例を示す斜視図である。ここでは、配向膜
136と、対向する配向膜138との間で、レーザ照射
領域136A及び138Aが対向しないように形成され
ている。一方、配向膜137と、対向する配向膜139
の間では、レーザ照射領域137Aとレーザ照射領域1
39Aが対向するように配置されている。本実施形態で
は、画素の1つおきにこのようなレーザ照射領域の位置
関係となるように構成される。
FIG. 12 is a perspective view showing still another example of the laser irradiation area in the pixel. Here, the laser irradiation regions 136A and 138A are formed so as not to face each other between the alignment film 136 and the facing alignment film 138. On the other hand, the alignment film 137 and the alignment film 139 facing each other
Between the laser irradiation area 137A and the laser irradiation area 1
39A are arranged so as to face each other. In this embodiment, every other pixel is configured to have such a laser irradiation region positional relationship.

【0095】図13は、画素内におけるレーザ照射領域
のさらに他の例を示す斜視図である。ここでは、配向膜
136と、対向する配向膜138の間で、レーザ照射領
域136A及び138Aが対向しており、一方、配向膜
137と、対向する配向膜139の間では、レーザ照射
領域137Aと139Aが対向しないように構成されて
いる。
FIG. 13 is a perspective view showing still another example of the laser irradiation area in the pixel. Here, the laser irradiation regions 136A and 138A face each other between the alignment film 136 and the facing alignment film 138, while the laser irradiation region 137A moves between the alignment film 137 and the facing alignment film 139. The 139A are configured so as not to face each other.

【0096】図14は、画素内におけるレーザ照射領域
のさらに他の例を示す斜視図である。本実施形態では、
上記実施形態のレーザ照射領域の方向と垂直な方向にレ
ーザ照射領域が形成されている。配向膜136と、対向
する配向膜138の間では、レーザ照射領域136Aと
138Aとが対向するように形成されている。同様に配
向膜137と、対向する配向膜139との間において
も、レーザ照射領域137Aと139Aが対向するよう
に形成されている。
FIG. 14 is a perspective view showing still another example of the laser irradiation area in the pixel. In this embodiment,
The laser irradiation region is formed in the direction perpendicular to the direction of the laser irradiation region of the above embodiment. Between the alignment film 136 and the facing alignment film 138, the laser irradiation regions 136A and 138A are formed to face each other. Similarly, between the alignment film 137 and the facing alignment film 139, the laser irradiation regions 137A and 139A are formed to face each other.

【0097】図15は、画素内におけるレーザ照射領域
のさらに他の例を示す斜視図である。本実施形態では、
配向膜136及び137に形成されるレーザ照射領域1
36A及び137Aの方向と、対向する配向膜138及
び139のレーザ照射領域138A及び139Aの方向
とが垂直方向になるように、それぞれのレーザ照射領域
が形成されている。従って、レーザ照射領域136Aと
レーザ照射領域138Aとは部分的に重なり対向してい
る。同様に、レーザ照射領域137Aとレーザ照射領域
139Aとは部分的に重なり対向している。従って、互
いに対向する配向膜の両方がレーザ照射される領域と、
一方または他方のみがレーザ照射領域である領域と、両
方ともにレーザ照射領域でない3種類の領域が形成され
ることになる。従って、プレチルト角の異なる領域を3
種類形成することができ、さらに視角特性を改善するこ
とができる。
FIG. 15 is a perspective view showing still another example of the laser irradiation area in the pixel. In this embodiment,
Laser irradiation region 1 formed on the alignment films 136 and 137
The laser irradiation regions are formed so that the directions of 36A and 137A and the laser irradiation regions 138A and 139A of the facing alignment films 138 and 139 are perpendicular to each other. Therefore, the laser irradiation region 136A and the laser irradiation region 138A partially overlap and face each other. Similarly, the laser irradiation region 137A and the laser irradiation region 139A partially overlap and face each other. Therefore, both the regions where both alignment films facing each other are irradiated with laser,
A region in which only one or the other is a laser irradiation region and three types of regions in which neither is a laser irradiation region are formed. Therefore, the areas with different pretilt angles are
Types can be formed, and the viewing angle characteristics can be further improved.

【0098】次に、図11に示すようなレーザ照射領域
の配置状態となるように、各画素の配向膜を二分割し、
一方の領域のみにレーザを照射し、レーザ照射領域のイ
ミド化率を、レーザ非照射領域のイミド化率よりも高く
した液晶表示装置を作製した。具体的には、可溶性ポリ
イミドを塗布してポリイミド配向膜を形成し、これを5
0℃でプリベークした後、150℃で加熱処理し、イミ
ド化率を96.2%とした。次に、波長632.8nm
のHe−Neレーザを用い、スポット径を30μmと
し、60μm×60μmの大きさの画素の半分の領域を
2回の発振でレーザ照射した。なおレーザの周波数は5
0Hzとし、レーザの走査速度は0.75mm/秒とし
た。このようなレーザ照射により、レーザ照射領域のイ
ミド化率は98.6%まで増加した。なお、レーザのス
ポット形状が30μm×60μmの大きさの長方形状で
ある場合には、1回の発振で画素の半分の領域をレーザ
照射することができる。
Next, the alignment film of each pixel is divided into two so that the laser irradiation region is arranged as shown in FIG.
A liquid crystal display device was manufactured in which only one region was irradiated with laser and the imidization ratio of the laser irradiation region was higher than that of the laser non-irradiation region. Specifically, soluble polyimide is applied to form a polyimide alignment film,
After prebaking at 0 ° C, heat treatment was performed at 150 ° C to adjust the imidization ratio to 96.2%. Next, wavelength 632.8 nm
The He-Ne laser of was used, the spot diameter was set to 30 μm, and a half region of a pixel having a size of 60 μm × 60 μm was irradiated with laser light twice. The laser frequency is 5
The laser scanning speed was 0.7 Hz and the laser scanning speed was 0.75 mm / sec. By such laser irradiation, the imidization ratio in the laser irradiation region increased to 98.6%. Note that when the laser spot shape is a rectangular shape with a size of 30 μm × 60 μm, half the region of a pixel can be irradiated with laser by one oscillation.

【0099】以上のようにして画素領域内の一部に、イ
ミド化率の高い領域を形成した配向膜を備えるTN型の
液晶表示装置を作製し、視角特性を評価した。また比較
として、同じ可溶性ポリイミドを用い、ポリイミド配向
膜を形成後、50℃でプリベークした後、150℃で加
熱処理した全体に均一なイミド化率である配向膜(イミ
ド化率96.2%)を備えるTN型液晶表示装置を作製
し、同様に評価した。
As described above, a TN type liquid crystal display device having an alignment film in which a region having a high imidization ratio was formed in a part of the pixel region was produced, and the viewing angle characteristics were evaluated. For comparison, the same soluble polyimide was used to form a polyimide alignment film, which was then prebaked at 50 ° C. and then heat-treated at 150 ° C. An alignment film having a uniform imidization ratio (imidization ratio 96.2%). A TN type liquid crystal display device having the above was manufactured and evaluated in the same manner.

【0100】図16は、以上のようにして得られた液晶
表示装置の視角特性を示す図である。横軸は視野角を示
しており、縦軸は階調輝度を示している。実線は本発明
に従う液晶表示装置を示し、点線は比較例の液晶表示装
置を示している。
FIG. 16 is a diagram showing the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device obtained as described above. The horizontal axis represents the viewing angle, and the vertical axis represents the gradation brightness. The solid line shows the liquid crystal display device according to the present invention, and the dotted line shows the liquid crystal display device of the comparative example.

【0101】図16から明らかなように、画素内の配向
膜の一部のイミド化率を異ならせ、画素内にプレチルト
角の異なる領域を形成した本発明に従う液晶表示装置で
は、比較の液晶表示装置に比べ、視角特性が改善され、
ディスプレイと対面して観察した際の視角方向のずれに
よる輝度及びコントラスト比の低下が少なくなっている
ことがわかる。
As is apparent from FIG. 16, in the liquid crystal display device according to the present invention in which the imidization ratio of a part of the alignment film in the pixel is made different and the regions having different pretilt angles are formed in the pixel, the comparative liquid crystal display Compared with the device, the viewing angle characteristics are improved,
It can be seen that the decrease in the luminance and the contrast ratio due to the shift in the viewing angle direction when observed facing the display is small.

【0102】また、上記の実施例において、可溶性ポリ
イミドに代えて、ポリアミック酸を用いてポリイミド配
向膜を形成し、その一部の領域にレーザを照射した場合
にも、同様の視角特性の改善が観察された。
Further, in the above embodiment, when the polyimide alignment film is formed by using polyamic acid instead of the soluble polyimide and a part of the region is irradiated with the laser, the similar viewing angle characteristics are improved. Was observed.

【0103】上記実施形態では、プリベークの加熱処理
を、加熱炉等の炉内での加熱処理により行っているが、
プリベークをレーザ照射により行ってもよい。この場
合、プリベークのレーザ照射と、イミド化率を変化させ
るためのレーザ照射とを連続して一連の工程として行う
ことが可能となる。またレーザ照射により加熱するた
め、トランジスタ部分など加熱されることが望ましくな
い部分を加熱せずに、配向膜のみを加熱処理することが
可能になる。
In the above embodiment, the heat treatment of the pre-bake is performed by the heat treatment in the furnace such as a heating furnace.
Prebaking may be performed by laser irradiation. In this case, the laser irradiation for prebaking and the laser irradiation for changing the imidization ratio can be continuously performed as a series of steps. Further, since heating is performed by laser irradiation, only the alignment film can be heat-treated without heating a portion which is not desired to be heated such as a transistor portion.

【0104】次に、本発明の第4の局面に従う実施形態
について説明する。第4の局面に従えば、ポリイミド配
向膜の一部にレーザを照射することにより、照射領域の
イミド化率を減少させる。このようなレーザとしては、
上述のように、波長300〜400nmのレーザ光が好
ましい。例えば、XeFレーザ(波長353nm)、及
びXeClレーザ(波長308nm)などを挙げること
ができる。
Next, an embodiment according to the fourth aspect of the present invention will be described. According to the fourth aspect, by irradiating a part of the polyimide alignment film with a laser, the imidization ratio of the irradiation region is reduced. Such lasers include:
As described above, laser light having a wavelength of 300 to 400 nm is preferable. For example, a XeF laser (wavelength 353 nm), a XeCl laser (wavelength 308 nm), etc. can be mentioned.

【0105】以下、具体的な実験例について説明する。
可溶性ポリイミドから形成したポリイミド配向膜を50
℃でプリベークした後、180℃で加熱処理し、イミド
化率96.8%のポリイミド配向膜とした。このポリイ
ミド配向膜に、XeFレーザを、エネルギー密度50m
J/cm2 で照射したところ、イミド化率は85%に減
少した。従って、XeFレーザを照射することにより、
イミド化率を減少させることができた。
Specific experimental examples will be described below.
A polyimide alignment film formed from soluble polyimide is used.
After prebaking at 180 ° C., heat treatment was performed at 180 ° C. to obtain a polyimide alignment film having an imidization ratio of 96.8%. An XeF laser with an energy density of 50 m is applied to this polyimide alignment film.
Upon irradiation with J / cm 2 , the imidization ratio decreased to 85%. Therefore, by irradiating the XeF laser,
The imidization rate could be reduced.

【0106】図17は、このようにしてレーザ照射した
ポリイミド配向膜の上に液晶を導入し、ある一方の基板
の液晶と配向膜との界面における偏光レーザ光による液
晶の反射輝度ピーク強度を測定した結果を示す図であ
る。横軸は液晶の配向角であり、縦軸は反射輝度ピーク
強度の相対値を表している。実線はレーザ照射前の配向
膜を表し、点線はレーザ照射後の配向膜を表している。
図17から明らかなように、レーザ処理前も、レーザ処
理後とほとんど変わらない配向性を示しており、配向膜
の機能が失われていないことがわかる。
In FIG. 17, liquid crystal was introduced onto the polyimide alignment film thus laser-irradiated, and the reflection luminance peak intensity of the liquid crystal by the polarized laser light at the interface between the liquid crystal of one substrate and the alignment film was measured. It is a figure which shows the result. The horizontal axis represents the orientation angle of the liquid crystal, and the vertical axis represents the relative value of the reflection luminance peak intensity. The solid line represents the alignment film before laser irradiation, and the dotted line represents the alignment film after laser irradiation.
As is clear from FIG. 17, before the laser treatment, the orientation which is almost the same as that after the laser treatment is shown, and it can be seen that the function of the orientation film is not lost.

【0107】また、プレチルト角は、レーザ照射前の配
向膜を用いた場合4.9°であり、レーザ照射後の配向
膜を用いた場合には5.6°となった。従って、イミド
化率が減少することにより、プレチルト角が高くなって
いることがわかる。
The pretilt angle was 4.9 ° when the alignment film before laser irradiation was used and 5.6 ° when the alignment film after laser irradiation was used. Therefore, it is understood that the pretilt angle is increased due to the reduction of the imidization ratio.

【0108】また、比較として、波長300nm以下の
レーザであるKrFレーザ(波長248nm)を用い
て、エネルギー密度70mJ/cm2 で上記と同様にし
てポリイミド配向膜にレーザを照射したところ、膜自体
が崩壊し、膜が飛散した。従って、レーザとしては、波
長300〜400nm程度のものを用いることが好まし
いことがわかる。
As a comparison, a KrF laser (wavelength 248 nm) having a wavelength of 300 nm or less was used to irradiate the polyimide alignment film with a laser at an energy density of 70 mJ / cm 2 in the same manner as above. It collapsed and the film was scattered. Therefore, it is understood that it is preferable to use a laser having a wavelength of about 300 to 400 nm.

【0109】次に、本発明の第5の局面及び第6の局面
に従う実施形態について説明する。図18は、本発明の
第5の局面に従う実施形態の液晶表示装置の要部を示す
断面図である。液晶表示装置は、ガラスや透光性の合成
樹脂などから構成される透光性基板10と、透光性基板
10の表面上に形成された導電膜20と、さらにその表
面上に形成された配向膜31とを備えている。そして、
配向膜31の上には液晶40が注入されている。また、
図示が省略されているが、液晶40の上面には上記の配
向膜31、導電膜20及び透光性基板10と同一の構成
が対称的に上方に設けられている。
Next, embodiments according to the fifth aspect and the sixth aspect of the present invention will be described. FIG. 18 is a cross-sectional view showing the main parts of the liquid crystal display device of the embodiment according to the fifth aspect of the present invention. The liquid crystal display device includes a translucent substrate 10 made of glass or translucent synthetic resin, a conductive film 20 formed on the surface of the translucent substrate 10, and further formed on the surface. The alignment film 31 is provided. And
Liquid crystal 40 is injected on the alignment film 31. Also,
Although not shown, the same structure as the alignment film 31, the conductive film 20, and the transparent substrate 10 is symmetrically provided on the upper surface of the liquid crystal 40 above.

【0110】配向膜31は、感光性高分子配向膜材料、
例えばアクリル樹脂系の感光性材料などから構成され、
その表面にはラビング処理が施されている。感光性高分
子材料の配向膜31は、後述する方法によって形成され
た互いに重合度の異なる領域31a,31bを有してい
る。配向膜の重合度が異なると、その表面上に注入され
る液晶40の初期配向状態におけるプレチルト角が異な
る。例えば、図18において、重合度の高い領域31a
の液晶40aのプレチルト角Aは、重合度の低い領域3
1b上の液晶40bのプレチルト角Bよりも大きく設定
される。
The alignment film 31 is a photosensitive polymer alignment film material,
For example, it is composed of acrylic resin type photosensitive material,
The surface is rubbing treated. The alignment film 31 made of a photosensitive polymer material has regions 31a and 31b formed by a method described later and having different degrees of polymerization. If the degree of polymerization of the alignment film is different, the pretilt angle in the initial alignment state of the liquid crystal 40 injected on the surface is different. For example, in FIG. 18, a region 31a having a high degree of polymerization is
The pretilt angle A of the liquid crystal 40a of
It is set to be larger than the pretilt angle B of the liquid crystal 40b on 1b.

【0111】ここで、図18に示される液晶表示装置の
製造方法について図19及び図20を参照して説明す
る。まず、透光性基板10の表面上にITO膜などの透
明導電材料を成膜し、パターニングする(S20)。
Now, a method of manufacturing the liquid crystal display device shown in FIG. 18 will be described with reference to FIGS. 19 and 20. First, a transparent conductive material such as an ITO film is formed on the surface of the transparent substrate 10 and patterned (S20).

【0112】次に、導電膜20の表面上に配向膜材料を
塗布する。配向膜材料としては、ネガ型あるいはポジ型
の感光性高分子材料が用いられる。ネガ型の感光性高分
子材料は、紫外線などの光照射によって感光した領域の
重合度が向上し、またポジ型の感光性高分子材料は、光
照射によって感光した領域の重合度が低下する。このよ
うな感光性高分子材料は、導電膜20が形成された透光
性基板10の表面上にスピンコートあるいはロールコー
トにより塗布される(S22)。
Next, an alignment film material is applied on the surface of the conductive film 20. As the alignment film material, a negative type or positive type photosensitive polymer material is used. The negative photosensitive polymer material improves the degree of polymerization in the region exposed to light such as ultraviolet rays, and the positive photosensitive polymer material decreases the degree of polymerization in the region exposed to light. Such a photosensitive polymer material is applied by spin coating or roll coating on the surface of the transparent substrate 10 on which the conductive film 20 is formed (S22).

【0113】そして、感光性高分子配向膜に対してプリ
ベーキング処理が成された後、配向膜の表面上に異なる
透過率を有する階調マスク210が形成される。階調マ
スク210は、図20に示すように、異なる膜厚領域2
10a,210bを形成することにより、あるいは部分
的に異なる材料を組み合わせることにより、照射光線に
対して異なる透過率を有する領域を構成している(S2
4)。
Then, after pre-baking the photosensitive polymer alignment film, a gradation mask 210 having different transmittances is formed on the surface of the alignment film. As shown in FIG. 20, the gradation mask 210 has different thickness regions 2
By forming 10a and 210b, or by partially combining different materials, a region having different transmittance with respect to the irradiation light beam is formed (S2).
4).

【0114】その後、紫外線などの照射光線220を階
調マスク210を透過して感光性高分子配向膜31表面
に照射し、感光性高分子配向膜31を露光する。例え
ば、図20において、階調マスク210の膜厚の小さい
領域210aの下に位置する配向膜領域31aは、階調
マスク210の膜厚の厚い領域210bの下に位置する
配向膜領域31bに比べ露光量が大きくなる。そして、
露光量に応じて各々重合度の高い領域及び低い領域が配
向膜31中に形成される。すなわち、ネガ型の配向膜材
料を用いた場合には、露光量の多い領域31aが、露光
量の少ない領域31bに比べ重合度の高い領域となる。
また、ポジ型の配向膜材料を用いた場合には、逆に露光
量の多い領域31aの重合度が、露光量の少ない領域3
1bの重合度に比べて低くなる。
After that, an irradiation light beam 220 such as an ultraviolet ray is transmitted through the gradation mask 210 to irradiate the surface of the photosensitive polymer alignment film 31 to expose the photosensitive polymer alignment film 31. For example, in FIG. 20, the alignment film region 31a located under the thin film thickness region 210a of the grayscale mask 210 is smaller than the alignment film region 31b located under the thick film thickness region 210b of the grayscale mask 210. The exposure amount becomes large. And
Regions having a high degree of polymerization and regions having a low degree of polymerization are formed in the alignment film 31 depending on the exposure amount. That is, when the negative type alignment film material is used, the region 31a having a large exposure amount has a higher degree of polymerization than the region 31b having a small exposure amount.
On the other hand, when a positive type alignment film material is used, conversely, the degree of polymerization of the region 31a having a large exposure amount is low in the region 3 having a small exposure amount.
It is lower than the polymerization degree of 1b.

【0115】上記の露光処理が行われた後、配向膜31
に対してポストベーキング処理を行う(S26)。さら
に、配向膜31の表面にラビング処理を行い(S2
8)、配向膜31の形成工程が終了する。
After the above exposure processing is performed, the alignment film 31 is formed.
A post-baking process is performed on (S26). Further, the surface of the alignment film 31 is rubbed (S2
8) The process of forming the alignment film 31 is completed.

【0116】以上の工程により、重合度の異なる複数の
領域が感光性高分子配向膜31に形成される。また、本
実施形態において、露光された感光性高分子配向膜を、
さらに現像処理を行った後、ポストベーキング処理を行
うようにしてもよい。現像処理を行うと、露光量の大小
に応じて残膜率が異なるなどして、表面形状等、表面状
態が異なる領域が感光性高分子配向膜31に形成され
る。
Through the above steps, a plurality of regions having different degrees of polymerization are formed in the photosensitive polymer alignment film 31. Further, in the present embodiment, the exposed photosensitive polymer alignment film,
Post-baking processing may be performed after further development processing. When the developing process is performed, the residual film rate varies depending on the amount of exposure, and thus regions having different surface states such as the surface shape are formed in the photosensitive polymer alignment film 31.

【0117】ここで、さらに感光性高分子配向膜材料と
して、ネガ型のアクリル系樹脂を用いた配向膜形成の具
体例について説明する。導電膜20の表面上に感光性高
分子材料(商品名「JNPC−10」;日本合成ゴム社
製)の溶液を滴下し、スピンコートにより所定の膜厚の
配向膜材料の薄膜を形成する。次に、温度80℃で3分
間プリベーク処理を行う。さらに、配向膜材料薄膜の表
面上に、光透過率の異なる複数の領域を有する階調マス
ク210を配置する。ここで、階調マスク210の各領
域は、配向膜材料への露光量が50〜1000mJ/c
2 となるように予め調節されている。
A specific example of forming an alignment film using a negative acrylic resin as a photosensitive polymer alignment film material will be described below. A solution of a photosensitive polymer material (trade name “JNPC-10”; manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) is dropped on the surface of the conductive film 20, and a thin film of an alignment film material having a predetermined thickness is formed by spin coating. Next, prebaking treatment is performed at a temperature of 80 ° C. for 3 minutes. Further, a gradation mask 210 having a plurality of regions having different light transmittances is arranged on the surface of the alignment film material thin film. Here, in each region of the gradation mask 210, the exposure amount to the alignment film material is 50 to 1000 mJ / c.
It was previously adjusted to be m 2 .

【0118】階調マスク210を配置した後、水銀ショ
ートアークランプなどにより波長450nmの紫外線2
20を10秒間、階調マスク210を透過して配向膜材
料薄膜へ照射し、配向膜材料を感光させる。この露光処
理により、配向膜材料薄膜には階調マスクの膜厚に対応
して各々露光量の異なる領域が形成される。
After arranging the gradation mask 210, an ultraviolet ray 2 having a wavelength of 450 nm is provided by a mercury short arc lamp or the like.
20 is transmitted through the gradation mask 210 for 10 seconds to irradiate the alignment film material thin film to expose the alignment film material to light. By this exposure processing, regions having different exposure amounts are formed in the alignment film material thin film corresponding to the film thickness of the gradation mask.

【0119】さらに、階調マスク210を除去した後、
温度180℃で30分間ポストベーク処理を行い、配向
膜31の製造工程を終了する。また、他の実施形態にお
いては、階調マスク210を用いて露光された配向膜材
料薄膜に対して現像処理を行うことができる。これによ
って配向膜の表面粗さなどの表面状態に違いを生じさせ
た後、温度180℃で30分間ポストベーキング処理を
行い、配向膜31の製造工程を終了する。
Further, after removing the gradation mask 210,
Post baking treatment is performed at a temperature of 180 ° C. for 30 minutes, and the manufacturing process of the alignment film 31 is completed. In another embodiment, the development process can be performed on the alignment film material thin film exposed by using the gradation mask 210. This causes a difference in the surface condition such as the surface roughness of the alignment film, and then a post-baking process is performed at a temperature of 180 ° C. for 30 minutes to complete the manufacturing process of the alignment film 31.

【0120】感光性高分子材料として、ネガ型のアクリ
ル系樹脂を用いた場合には、露光量の多い部分の重合度
が露光量の少ない部分の重合度に比べて高くなる。この
結果、液晶パネル製造後の液晶の初期配向状態におい
て、重合度の高い領域上の液晶のプレチルト角は、重合
度の低い領域上に配向される液晶のプレチルト角に比べ
て大きく設定される。
When a negative acrylic resin is used as the photosensitive polymer material, the degree of polymerization of the portion exposed to a large amount of light is higher than the degree of polymerization of the portion exposed to a small amount of light. As a result, in the initial alignment state of the liquid crystal after manufacturing the liquid crystal panel, the pretilt angle of the liquid crystal on the region having a high degree of polymerization is set to be larger than the pretilt angle of the liquid crystal aligned on the region having a low degree of polymerization.

【0121】なお、図18及び図20に示す液晶表示装
置の断面構造は、1つの画素領域に着目して表示したも
のであり、重合度の異なる領域は表示された1つの画素
領域の内部において種々設定されている。この重合度の
異なる領域の配置については、第1〜第4の実施形態に
おける図7及び図8並びに図10〜15に示す配置を適
用することが可能である。さらに、1つの画素領域内に
限定されることなく、例えば、図9に示すような領域設
定を行うことも可能である。そして、この第5の局面に
よる液晶表示装置においては、第1〜第4の局面と同様
に、配向膜の重合度を所定の領域毎に適宜変化させるこ
とによって液晶の初期配向状態のプレチルト角を種々設
定することができる。これによって優先視野角を異なら
せ、結果的に視角特性を改善させる効果を発揮させるこ
とができる。
The cross-sectional structure of the liquid crystal display device shown in FIGS. 18 and 20 is shown by focusing on one pixel region, and regions having different degrees of polymerization are displayed inside one pixel region. Various settings are made. As for the arrangement of the regions having different degrees of polymerization, the arrangements shown in FIGS. 7 and 8 and FIGS. 10 to 15 in the first to fourth embodiments can be applied. Further, without being limited to one pixel area, for example, area setting as shown in FIG. 9 can be performed. Then, in the liquid crystal display device according to the fifth aspect, similarly to the first to fourth aspects, the pretilt angle of the initial alignment state of the liquid crystal is changed by appropriately changing the degree of polymerization of the alignment film for each predetermined region. Various settings can be made. As a result, the preferential viewing angles can be changed, and as a result, the effect of improving the viewing angle characteristics can be exhibited.

【0122】なお、第5の局面による配向膜は、液晶層
を介して対向する2つの配向膜の一方にのみ適用しても
よく、あるいは対向する両方の配向膜に適用してもよ
い。次に、本発明の第7の局面に従う実施形態について
説明する。
The alignment film according to the fifth aspect may be applied to only one of the two alignment films facing each other with the liquid crystal layer in between, or may be applied to both of the alignment films facing each other. Next, an embodiment according to the seventh aspect of the present invention will be described.

【0123】図21は、本発明の第7の局面に従う実施
形態の液晶表示装置の要部を示す断面図である。液晶表
示装置は、ガラスや透光性の合成樹脂などから構成され
る透光性基板10,70と、透光性基板10,70の上
に形成された導電膜20,60と、さらにその上に形成
された配向膜32,52とを備えている。そして、一対
の配向膜32,52の間には液晶40が注入されてい
る。一対の導電膜20,60は液晶40に電圧を印加す
るための一対の対向電極として機能する。
FIG. 21 is a sectional view showing a main part of a liquid crystal display device of an embodiment according to the seventh aspect of the present invention. The liquid crystal display device includes translucent substrates 10 and 70 made of glass or translucent synthetic resin, conductive films 20 and 60 formed on the translucent substrates 10 and 70, and further above them. And the alignment films 32 and 52 formed on. The liquid crystal 40 is injected between the pair of alignment films 32 and 52. The pair of conductive films 20 and 60 function as a pair of counter electrodes for applying a voltage to the liquid crystal 40.

【0124】配向膜32,52は、少なくともその表面
に小孔を有する薄膜から構成されている。配向膜32,
52の表面の小孔は配向膜表面に凹凸を形成する働きを
成しており、この凹凸形状に沿って液晶40の初期配向
状態が規定される。すなわち、液晶の初期配向状態にお
いて、液晶は配向膜表面の凹凸形状に沿って配向するた
め、凹凸形状に対応した微小な領域で液晶のプレチルト
角が種々異なるドメインが形成される。各ドメインにお
ける優先視野角は各々異なっており、また一画素として
は、ドメインが平均化されて見えるため、広い視野角を
得ることができる。
The orientation films 32 and 52 are composed of a thin film having small holes on at least the surface thereof. Alignment film 32,
The small holes on the surface of 52 have a function of forming unevenness on the surface of the alignment film, and the initial alignment state of the liquid crystal 40 is defined along the uneven shape. That is, in the initial alignment state of the liquid crystal, the liquid crystal is aligned along the uneven shape on the surface of the alignment film, so that domains having different pretilt angles of the liquid crystal are formed in a minute region corresponding to the uneven shape. The preferential viewing angles are different in each domain, and the domains appear to be averaged as one pixel, so that a wide viewing angle can be obtained.

【0125】表面に凹凸を有する配向膜32,52は、
種々の材料及び方法により形成される。その第1の例
は、液晶と高分子との混合材料から溶媒蒸発法を用いて
形成される高分子配向膜である。この高分子配向膜は、
例えばCPHOB(4−シアノフェニル4´−ヘキシロ
キシベンゾエート)、5OCB(4−シアノ4´−ペン
トキシビフェニル)、7OCB(4−シアノ4´−ヘプ
トキシビフェニル)、HPPB(4−ヘキシロキシフェ
ニル4´−ペンチルベンゾエート)などの液晶と、例え
ばポリ塩化ビニル,PMMA(ポリメチルメタクリレー
ト),ポリスチレン、ポリジイソプロピルフマレート,
アクリルニトリルブタジエンゴム,ポリイミドなどの高
分子とを混合して導電膜20,60の上に塗布した後、
液晶のみを溶解する溶媒、例えばエタノールやアセトン
などに浸漬することにより、液晶成分のみを抽出して形
成される。膜内の液晶成分のみが抽出された部分には多
数の小孔が形成される。特に、配向膜表面には微小な凹
凸が形成される。この凹凸の大きさは、液晶分子よりも
大きく、画素サイズよりも小さい範囲、好ましくは数μ
mオーダーに形成される。そして、液晶パネル内に液晶
40が注入された初期配向状態において、液晶が配向膜
32,52の表面の凹凸の内部に、さらに好ましくは、
膜内の孔の内部にも注入される。表面の凹凸部内に液晶
分子が注入されることにより、表面の凹凸形状に沿って
液晶分子の配向がばらつき、各々が異なるプレチルト角
に設定される。また、膜内の孔の内部に液晶が注入され
ると、画素電極間に電圧が印加されない場合に光の散乱
を生じ、光の透過率を向上させる効果を得ることができ
る。
The alignment films 32 and 52 having irregularities on the surface are
It is formed by various materials and methods. The first example is a polymer alignment film formed from a mixed material of liquid crystal and polymer by a solvent evaporation method. This polymer alignment film is
For example, CPHOB (4-cyanophenyl 4'-hexyloxybenzoate), 5OCB (4-cyano 4'-pentoxybiphenyl), 7OCB (4-cyano 4'-heptoxybiphenyl), HPPB (4-hexyloxyphenyl 4 '. -Pentylbenzoate) and other liquid crystals, for example polyvinyl chloride, PMMA (polymethylmethacrylate), polystyrene, polydiisopropyl fumarate,
After mixing a polymer such as acrylonitrile-butadiene rubber or polyimide and applying it on the conductive films 20 and 60,
It is formed by extracting only the liquid crystal component by immersing it in a solvent that dissolves only the liquid crystal, such as ethanol or acetone. Many small holes are formed in the portion of the film where only the liquid crystal component is extracted. In particular, minute irregularities are formed on the surface of the alignment film. The size of the unevenness is larger than the liquid crystal molecule and smaller than the pixel size, preferably a few μm.
It is formed in the m order. Then, in the initial alignment state in which the liquid crystal 40 is injected into the liquid crystal panel, the liquid crystal is more preferably inside the irregularities on the surfaces of the alignment films 32 and 52, and more preferably,
It is also injected inside the pores in the membrane. By injecting the liquid crystal molecules into the uneven portion of the surface, the orientation of the liquid crystal molecules varies along the uneven shape of the surface, and the pretilt angles are set differently. Further, when the liquid crystal is injected into the holes in the film, light scattering occurs when a voltage is not applied between the pixel electrodes, and the effect of improving the light transmittance can be obtained.

【0126】なお、配向膜形成の際の液晶と高分子材料
との混合割合を調整することにより、配向膜の凹凸の大
きさあるいは形成密度を制御することができる。また、
高分子材料として紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を用
いた場合には、粘着性を有する配向膜を形成することが
できる。このため、配向膜の粘着性を利用して、基板や
スペーサーの固定を行うことができる。
By adjusting the mixing ratio of the liquid crystal and the polymer material at the time of forming the alignment film, it is possible to control the size or formation density of the unevenness of the alignment film. Also,
When an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is used as the polymer material, it is possible to form an adhesive alignment film. Therefore, the adhesiveness of the alignment film can be used to fix the substrate and the spacer.

【0127】配向膜32,52の第2の例は、発泡性樹
脂を用いて形成される。この場合、発泡性樹脂材料とし
て、発泡ポリスチレン樹脂、発泡ポリエチレン樹脂、発
泡ポリ塩化ビニル樹脂などが用いられる。導電膜20
(60)の表面上に発泡性樹脂材料を塗布した後、発泡
処理を行うことにより、少なくとも配向膜表面に多数の
小孔からなる凹凸面を形成することができる。
The second example of the alignment films 32 and 52 is formed by using a foaming resin. In this case, expanded polystyrene resin, expanded polyethylene resin, expanded polyvinyl chloride resin or the like is used as the expandable resin material. Conductive film 20
By applying a foaming resin material on the surface of (60) and then performing a foaming treatment, a concavo-convex surface having a large number of small holes can be formed at least on the surface of the alignment film.

【0128】上記の第1及び第2の例により形成された
配向膜32,52は、その表面にラビング処理が施され
る。しかしながら、このラビング処理は必ずしも必要と
されるものではない。
The alignment films 32 and 52 formed by the first and second examples described above are subjected to rubbing treatment on their surfaces. However, this rubbing process is not always necessary.

【0129】なお、表面の凹凸は、液晶層40の上下両
面に配置される配向膜32,52に対してそれぞれ形成
することが好ましいが、いずれか一方のみに形成しても
同様の効果を得ることができる。
The surface irregularities are preferably formed on the alignment films 32 and 52 arranged on both upper and lower surfaces of the liquid crystal layer 40, but the same effect can be obtained by forming only one of them. be able to.

【0130】図22は、本発明の第7の局面に従う他の
実施形態の液晶表示装置の要部を示す断面図である。図
示された構造は、1画素に相当する領域を模式的に示し
ている。液晶表示装置は、ガラスや透光性の合成樹脂な
どから構成される透光性基板10と、透光性基板10の
上に形成された導電膜20と、さらにその上に形成され
た配向膜33とを備えている。そして、配向膜33の上
には液晶40が注入されている。また、図示が省略され
ているが、液晶40の上面には上記の配向膜33、導電
膜20及び透光性基板10と同一の構成が対称的に上方
に形成されている。
FIG. 22 is a sectional view showing a main portion of a liquid crystal display device of another embodiment according to the seventh aspect of the present invention. The illustrated structure schematically shows a region corresponding to one pixel. The liquid crystal display device includes a transparent substrate 10 made of glass, a transparent synthetic resin, or the like, a conductive film 20 formed on the transparent substrate 10, and an alignment film formed on the conductive film 20. And 33. Then, the liquid crystal 40 is injected on the alignment film 33. Although not shown, the same configuration as the alignment film 33, the conductive film 20 and the transparent substrate 10 is symmetrically formed on the upper surface of the liquid crystal 40 above.

【0131】この液晶表示装置においては、配向膜中に
スペーサーを混入させることによって配向膜33の表面
に凹凸を形成している。スペーサー330a,330b
としては、シリカやポリスチレン樹脂、ポリオレフィン
樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの球状のスペーサーが
用いられる。スペーサーのサイズは均一なものでもよ
く、あるいは数種類のものを混在させてもよい。球径と
しては、0.3〜1.5μmの範囲のものが好ましい。
本実施形態では、2種類の球状スペーサー330a,3
30b、例えばその球径が0.5μmと1.0μmのス
ペーサーを用いている。この配向膜33は、ポリイミ
ド、ポリアミド、PVA、ポリエステル、ポリエチレン
等の材料からなる高分子配向膜材料の溶液中に球状スペ
ーサー330a,330bを混入し混ぜ合わせた後、導
電膜20の表面上にスピンコートあるいは印刷により塗
布し、加熱して形成される。その後、ラビング処理が行
われる。
In this liquid crystal display device, unevenness is formed on the surface of the alignment film 33 by mixing spacers into the alignment film. Spacers 330a, 330b
As the spacer, a spherical spacer such as silica, polystyrene resin, polyolefin resin, or benzoguanamine resin is used. The size of the spacer may be uniform, or several types may be mixed. The spherical diameter is preferably in the range of 0.3 to 1.5 μm.
In the present embodiment, two types of spherical spacers 330a, 3
30b, for example, spacers having spherical diameters of 0.5 μm and 1.0 μm are used. The alignment film 33 is formed by spin-coating on the surface of the conductive film 20 after mixing spherical spacers 330a and 330b into a solution of a polymer alignment film material made of a material such as polyimide, polyamide, PVA, polyester, or polyethylene, and mixing them. It is formed by applying by coating or printing and heating. Then, a rubbing process is performed.

【0132】このようにして形成された配向膜33の表
面は、導電膜20の表面上に分散された球状スペーサー
330a,330bの形状に沿った凹凸面が形成されて
いる。従って、その凹凸表面上に配置される液晶は、凹
凸面の形状に応じて各々異なるプレチルト角A,Bを持
って配向される。例えば、図示の例では、凸部の大きさ
が大きくなるに従ってプレチルト角が大きく設定され
る。この結果、図示の1画素領域内においても種々のプ
レチルト角を有する液晶領域40a,40b,40cが
形成されることにより、各領域の優先視野角に違いが生
じ、全体として広い視野角が得られる。
On the surface of the alignment film 33 thus formed, uneven surfaces are formed along the shapes of the spherical spacers 330a and 330b dispersed on the surface of the conductive film 20. Therefore, the liquid crystal arranged on the uneven surface is oriented with different pretilt angles A and B depending on the shape of the uneven surface. For example, in the illustrated example, the pretilt angle is set larger as the size of the convex portion increases. As a result, the liquid crystal regions 40a, 40b, 40c having various pretilt angles are formed even in the illustrated one pixel region, so that the preferential viewing angles of the respective regions are different from each other, and a wide viewing angle is obtained as a whole. .

【0133】また、この実施形態の他の例を図23に示
す。この変形例における液晶表示装置は、導電膜(透明
電極)20の表面上に絶縁膜80が形成されている。こ
の絶縁膜80は、液晶層40を挟んで対向する両面に形
成されており、一対の導電膜20間のショートを防止す
るため設けられている。このような液晶表示装置におい
ては、絶縁膜80中に球状スペーサー330a,330
bを混入して凹凸表面を形成させている。
FIG. 23 shows another example of this embodiment. In the liquid crystal display device according to this modification, an insulating film 80 is formed on the surface of the conductive film (transparent electrode) 20. The insulating films 80 are formed on both surfaces facing each other with the liquid crystal layer 40 in between, and are provided to prevent a short circuit between the pair of conductive films 20. In such a liquid crystal display device, spherical spacers 330a, 330 are formed in the insulating film 80.
b is mixed to form an uneven surface.

【0134】すなわち、導電膜20の表面上にSiO2
膜を形成するための塗布液の中に、大きさの異なる球状
スペーサーを混入し、スピンコートにより形成すること
により、凹凸表面を有する絶縁膜80を形成することが
できる。その後、絶縁膜80の表面上に高分子配向膜3
3を形成する。この場合、高分子配向膜33の表面は、
下層の絶縁膜80の表面の凹凸形状にならって凹凸形状
が形成される。従って、図22に示す実施形態と同様に
プレチルト角の異なる領域40a〜40cを形成するこ
とができる。
That is, SiO 2 is formed on the surface of the conductive film 20.
By mixing spherical spacers of different sizes in the coating liquid for forming the film and forming them by spin coating, the insulating film 80 having an uneven surface can be formed. Then, the polymer alignment film 3 is formed on the surface of the insulating film 80.
Form 3 In this case, the surface of the polymer alignment film 33 is
The uneven shape is formed following the uneven shape of the surface of the lower insulating film 80. Therefore, it is possible to form the regions 40a to 40c having different pretilt angles as in the embodiment shown in FIG.

【0135】なお、球状スペーサーの材料やサイズ等の
選択については、上記の実施形態と同様に適用すること
ができる。さらに、上記の実施形態及びその変形例によ
る凹凸形状は、液晶40を介して対向配置される一対の
配向膜(あるいは絶縁膜)のいずれか一方に適用しても
よく、また両方に適用してもよい。
The selection of the material, size and the like of the spherical spacer can be applied in the same manner as in the above embodiment. Further, the uneven shape according to the above-described embodiment and its modification may be applied to either one of a pair of alignment films (or insulating films) that are opposed to each other with the liquid crystal 40 interposed therebetween, or to both. Good.

【0136】図27は、本発明の第7の局面に従うさら
に他の実施形態における液晶パネルの構造を模式的に示
す斜視図である。液晶パネルは、液晶40を介して対向
して配置される一対の透光性基板10,70と、透光性
基板10,70の上に各々形成される一対の対向電極を
構成する導電膜20,60と、さらにその表面上に形成
される配向膜(図示省略)とを備えている。さらに、対
向電極側の透光性基板70の上にはカラーフィルタ90
が設けられている。
FIG. 27 is a perspective view schematically showing a structure of a liquid crystal panel in still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention. The liquid crystal panel includes a pair of translucent substrates 10 and 70 arranged to face each other with a liquid crystal 40 interposed therebetween, and a conductive film 20 forming a pair of counter electrodes formed on the translucent substrates 10 and 70, respectively. , 60, and an alignment film (not shown) formed on the surface thereof. Further, a color filter 90 is provided on the transparent substrate 70 on the counter electrode side.
Is provided.

【0137】この液晶表示装置は、配向膜の表面を円錐
や四角錐などの傾斜面を持つ形状に形成したことを特徴
としている。図28ないし図30は、傾斜面は持った配
向膜の形状の種々の例を示している。
This liquid crystal display device is characterized in that the surface of the alignment film is formed in a shape having an inclined surface such as a cone or a quadrangular pyramid. 28 to 30 show various examples of the shape of the alignment film having the inclined surface.

【0138】まず、図28(a),(b)に示すよう
に、ゲートラインGL及びデータラインDLによって区
画された1画素領域において、補助容量電極SCが円錐
形、四角錐形などの錐形に形成されている。そして、補
助容量電極SCの上に積層して形成された絶縁膜81
a、導電膜20及び配向膜37aは、各々補助容量電極
SCの表面形状にならってその表面が錐形に形成されて
いる。また、配向膜表面にはラビング処理が施される。
ラビング方向はゲートラインGLあるいはデータライン
DLに対して平行にあるいは45度の傾きを持って行わ
れる。
First, as shown in FIGS. 28A and 28B, in one pixel region defined by the gate line GL and the data line DL, the auxiliary capacitance electrode SC has a conical shape such as a conical shape or a quadrangular pyramid shape. Is formed in. The insulating film 81 formed by stacking on the auxiliary capacitance electrode SC
The surface of each of the a, the conductive film 20, and the alignment film 37a is formed in a pyramid shape according to the surface shape of the auxiliary capacitance electrode SC. Also, the surface of the alignment film is subjected to rubbing treatment.
The rubbing direction is performed in parallel with the gate line GL or the data line DL or with an inclination of 45 degrees.

【0139】上記の構成により、配向膜37aの表面上
の液晶は、配向膜37aの傾斜表面に沿って各々異なる
プレチルト角で配向される。これによって、各領域の優
先視野角が各々異なり、広い視野角を得ることができ
る。ここで、配向膜表面の傾斜面と、その傾斜面の上の
液晶のプレチルト角の関係を表2に示す。
With the above structure, the liquid crystals on the surface of the alignment film 37a are aligned at different pretilt angles along the inclined surface of the alignment film 37a. As a result, the preferential viewing angles of the respective areas are different, and a wide viewing angle can be obtained. Table 2 shows the relationship between the inclined surface of the alignment film surface and the pretilt angle of the liquid crystal on the inclined surface.

【0140】[0140]

【表2】 [Table 2]

【0141】表2から明らかなように、傾斜面の傾斜角
度に応じて液晶が異なるプレチルト角を持って配向され
る。次に、図29に示す例においては、画素電極(導電
膜)20のみが傾斜面を有する錐形に形成されている。
従ってその表面上に形成される配向膜37bは画素電極
20の表面形状にならって同様に錐形に形成されてい
る。
As is clear from Table 2, the liquid crystal is oriented with different pretilt angles depending on the tilt angle of the tilted surface. Next, in the example shown in FIG. 29, only the pixel electrode (conductive film) 20 is formed in a pyramid shape having an inclined surface.
Therefore, the alignment film 37b formed on the surface of the pixel electrode 20 has a pyramid shape similarly to the surface shape of the pixel electrode 20.

【0142】また、図30に示す例においては、補助容
量電極SCと画素電極20との間に積層される絶縁膜8
1aが上記の例と同様に錐形に形成されており、その表
面上に形成される画素電極20及び配向膜37cはその
表面形状にならった錐形に形成されている。
Further, in the example shown in FIG. 30, the insulating film 8 laminated between the auxiliary capacitance electrode SC and the pixel electrode 20.
1a is formed in a pyramid shape as in the above example, and the pixel electrode 20 and the alignment film 37c formed on the surface thereof are formed in a pyramid shape conforming to the surface shape.

【0143】この図28ないし図30に示すいずれの例
においても、結果的に配向膜表面は傾斜面を持つ錐形に
形成され、その結果、傾斜面毎に異なるプレチルト角を
持って液晶を配向させることができる。
In any of the examples shown in FIGS. 28 to 30, as a result, the surface of the alignment film is formed into a pyramid having an inclined surface, and as a result, the liquid crystal is aligned with a different pretilt angle for each inclined surface. Can be made.

【0144】上記の補助容量電極SC、絶縁膜81、画
素電極20の各々は、成膜後にテーパエッチングを用い
てテーパ状に形成される。テーパエッチング方法として
は、以下のような方法が適用可能である。
Each of the above-mentioned auxiliary capacitance electrode SC, insulating film 81, and pixel electrode 20 is formed into a taper shape by taper etching after film formation. As a taper etching method, the following method can be applied.

【0145】例えば、エッチングマスクと被エッチング
膜とのエッチング選択比を調整し、エッチング過程でエ
ッチングマスクがサイドエッチングされ、側面が後退し
つつエッチングが進行することにより、被エッチング膜
の側面をテーパ状にエッチングする方法がある。
For example, by adjusting the etching selection ratio between the etching mask and the film to be etched, the etching mask is side-etched in the etching process, and the side surface of the film to be etched is tapered as the side surface recedes and the etching proceeds. There is a method of etching.

【0146】あるいは、多段のエッチングプロセスを利
用する方法がある。この方法は、被エッチング膜の成膜
とエッチングとを交互に繰り返し、徐々にエッチングマ
スク幅を狭めることによって被エッチング膜をピラミッ
ド状に積層する方法である。
Alternatively, there is a method of utilizing a multi-step etching process. In this method, film formation and etching of an etching target film are alternately repeated, and the etching mask width is gradually narrowed to stack the etching target film in a pyramid shape.

【0147】さらには、重合膜の側壁形成を利用する方
法がある。この方法は、ドライエッチングなどの反応性
ガスの中に重合膜形成成分を混合してエッチングを行う
ことにより、エッチング進行過程においてエッチングマ
スクの側壁に重合膜が形成され、マスクの幅が広がるこ
とによって被エッチング膜の側面をテーパ状に形成する
方法である。
Further, there is a method of utilizing the side wall formation of the polymer film. In this method, a polymer film forming component is mixed with a reactive gas such as dry etching to perform etching, so that a polymer film is formed on the sidewall of the etching mask in the course of etching and the width of the mask is widened. This is a method in which the side surface of the film to be etched is tapered.

【0148】なお、テーパエッチングによる傾斜面を有
する円錐等の表面形状は、図28ないし図30に示すよ
うに、画素単位で行ってもよく、また1画素領域を超え
てさらに広い領域に対して形成してもよい。また、図示
の画素電極20側の各層に対してのみならず、対向電極
側の導電膜、絶縁膜などに形成してもよい。さらには、
対向する両側の各層に形成してもよい。
The surface shape of a cone or the like having an inclined surface formed by taper etching may be performed on a pixel-by-pixel basis as shown in FIGS. 28 to 30, and a wider area beyond one pixel area may be formed. You may form. Further, it may be formed not only on each layer on the pixel electrode 20 side in the drawing but also on a conductive film, an insulating film or the like on the counter electrode side. Moreover,
You may form in each layer of both sides which oppose.

【0149】さらには、図31に示すように、カラーフ
ィルタ90の表面に錐形の傾斜面を形成してもよい。さ
らに、表面形状は錐形のみならず、円錐台や角錐台のよ
うな形状であってもよい。
Further, as shown in FIG. 31, a conical inclined surface may be formed on the surface of the color filter 90. Further, the surface shape is not limited to the conical shape, and may be a shape such as a truncated cone or a truncated pyramid.

【0150】図32は、第7の局面に従うさらに他の実
施形態を示す断面図である。本実施形態では、隣接する
4つの画素において1つのピラミッド状の凸部が形成さ
れている。従って、図32に示すように、中央のデータ
ラインDLに向かって高くなるように、配向膜37d及
び配向膜37eが形成されている。本実施形態では、各
画素の絶縁膜81aが傾斜面を有するように形成されて
おり、これによってその上に形成される配向膜37d及
び配向膜37eが傾斜している。このように、配向膜の
テーパ状の凸部は、必ずしも1画素内に形成されなくと
もよく、隣接する複数の画素領域内に1つのテーパ状の
凸部を形成させてもよい。
FIG. 32 is a cross sectional view showing still another embodiment according to the seventh aspect. In the present embodiment, one pyramid-shaped convex portion is formed in four adjacent pixels. Therefore, as shown in FIG. 32, the alignment films 37d and 37e are formed so as to be higher toward the central data line DL. In this embodiment, the insulating film 81a of each pixel is formed so as to have an inclined surface, and thus the alignment film 37d and the alignment film 37e formed thereon are inclined. As described above, the tapered convex portion of the alignment film does not necessarily have to be formed in one pixel, and one tapered convex portion may be formed in a plurality of adjacent pixel regions.

【0151】上記実施形態では、絶縁膜に傾斜面を形成
することにより配向膜を傾斜させているが、画素電極ま
たは補助容量電極に傾斜面を形成することにより配向膜
を傾斜させてもよい。
In the above embodiment, the alignment film is tilted by forming the tilted surface on the insulating film, but the alignment film may be tilted by forming the tilted surface on the pixel electrode or the auxiliary capacitance electrode.

【0152】次に、本発明の第8の局面に従う実施形態
について説明する。図24は、本発明の第8の局面に従
う実施形態の液晶表示装置の要部を示す断面図であり、
1画素相当の領域の構造を模式的に示している。この液
晶表示装置は、ガラスや透光性の合成樹脂などから構成
される透光性基板10と、透光性基板10の上に形成さ
れた導電膜20と、さらにその上に形成された配向膜3
4とを備えている。そして、配向膜34の上には液晶4
0が注入されている。また、図示が省略されているが、
液晶40の上面には上記の配向膜34、導電膜20及び
透光性基板10と同一の構成が対称的に上方に設けられ
ている。
Next, an embodiment according to the eighth aspect of the present invention will be described. FIG. 24 is a cross-sectional view showing the main parts of the liquid crystal display device of the embodiment according to the eighth aspect of the present invention.
The structure of a region corresponding to one pixel is schematically shown. This liquid crystal display device includes a translucent substrate 10 made of glass or translucent synthetic resin, a conductive film 20 formed on the translucent substrate 10, and an alignment formed on the conductive film 20. Membrane 3
4 is provided. The liquid crystal 4 is formed on the alignment film 34.
0 is injected. Although not shown,
On the upper surface of the liquid crystal 40, the same configuration as the alignment film 34, the conductive film 20, and the translucent substrate 10 is symmetrically provided above.

【0153】この液晶表示装置では、配向膜34の表面
に形状の異なるマイクログルーブ領域34a,34bが
形成されている。マイクログルーブ領域34a,34b
は、ほぼV字状の複数の溝が配向膜34表面に沿って形
成されており、各領域によって溝ピッチ、溝の深さ、溝
の幅あるいは溝の延びる方向が各々異なるように形成さ
れている。配向膜34表面に互いに形状の異なるマイク
ログルーブ領域34a,34bを形成すると、液晶40
は初期配向状態におけるプレチルト角が互いに異なるよ
うに配向される。例えば、図示されるように、溝の形成
密度が高い領域34aでは、溝の形成密度が相対的に低
い領域34bに比べてプレチルト角が大きく設定される
(A>B)。これにより、プレチルト角の相違に対応し
た優先視野角の異なる種々の領域を形成することによ
り、広い視野角を得ることができる。
In this liquid crystal display device, microgroove regions 34a and 34b having different shapes are formed on the surface of the alignment film 34. Micro groove areas 34a, 34b
Has a plurality of V-shaped grooves formed along the surface of the alignment film 34, and the groove pitch, the groove depth, the groove width, or the extending direction of the grooves is different depending on each region. There is. When the micro-groove regions 34a and 34b having different shapes are formed on the surface of the alignment film 34, the liquid crystal 40 is formed.
Are oriented so that the pretilt angles in the initial alignment state are different from each other. For example, as shown in the figure, in the region 34a where the groove formation density is high, the pretilt angle is set to be larger than that in the region 34b where the groove formation density is relatively low (A> B). Thereby, a wide viewing angle can be obtained by forming various regions having different preferential viewing angles corresponding to the different pretilt angles.

【0154】このマイクログルーブ領域は、以下のよう
な方法により形成することができる。その1つは、形状
転写を用いる方法である。この方法は、まず表面に所望
のマイクログルーブ形状が加工された金属プレートなど
を用意し、この金属プレートの加工表面を配向膜34の
表面に押圧し、あるいはさらに加熱することにより金属
プレート表面のマイクログルーブ形状を配向膜34表面
に転写する。例えば、膜厚1000〜1500Åの配向
膜34の表面には、溝の深さ100〜500Åの範囲内
の異なる溝深さ、及び0.1〜5μmの範囲内の異なる
溝ピッチを持ったマイクログルーブ領域が転写して形成
される。なお、配向膜材料としては、形状転写が可能な
程度の柔軟性を持つ材料、例えばポリイミド、PVA、
ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレンなどが用いら
れる。
This micro-groove region can be formed by the following method. One of them is a method using shape transfer. In this method, first, a metal plate or the like having a desired microgroove shape processed on the surface is prepared, and the processed surface of the metal plate is pressed against the surface of the alignment film 34, or is further heated to micro-process the surface of the metal plate. The groove shape is transferred to the surface of the alignment film 34. For example, on the surface of the alignment film 34 having a film thickness of 1000 to 1500 Å, micro-grooves having different groove depths in the range of groove depth 100 to 500 Å and different groove pitches in the range of 0.1 to 5 μm. The area is transferred and formed. In addition, as the alignment film material, a material having flexibility such that shape transfer is possible, for example, polyimide, PVA,
Polyamide, polyester, polyethylene and the like are used.

【0155】また、他の方法として、レーザを用いて配
向膜表面を直接加工してマイクログルーブ形状を形成す
ることができる。次に、変形例について説明する。図2
5は、変形例の液晶表示装置の要部を示す断面図であ
る。この変形例では、絶縁膜80が導電膜20と配向膜
35の間に形成されており、この絶縁膜80の表面にマ
イクログルーブ領域が形成されている。これは以下のよ
うに形成される。
As another method, the surface of the alignment film can be directly processed by using a laser to form a micro-groove shape. Next, a modified example will be described. FIG.
5 is a cross-sectional view showing a main part of a liquid crystal display device of a modified example. In this modification, an insulating film 80 is formed between the conductive film 20 and the alignment film 35, and a microgroove region is formed on the surface of the insulating film 80. It is formed as follows.

【0156】まず、導電膜20の表面上に例えばスパッ
タ法を用いてSiO2 膜80を膜厚1000〜2000
Åで形成する。そして、SiO2 膜80の表面に、上記
と同様に形状転写法を用いて、異なった溝形状を有する
種々のマイクログルーブ領域を形成する。その後、絶縁
膜80の表面上に配向膜35を形成すると、配向膜35
は絶縁膜80表面のマイクログルーブ形状にならって、
その表面にマイクログルーブ形状が形成される。この場
合、配向膜35は、絶縁膜80表面のマイクログルーブ
形状がその表面に反映される程度の膜厚、例えば100
〜1000Å程度にスピンコートあるいは印刷により形
成される。
First, a SiO 2 film 80 having a film thickness of 1000 to 2000 is formed on the surface of the conductive film 20 by using, for example, a sputtering method.
Form with Å. Then, various microgroove regions having different groove shapes are formed on the surface of the SiO 2 film 80 by using the shape transfer method as described above. After that, when the alignment film 35 is formed on the surface of the insulating film 80, the alignment film 35 is formed.
Is a micro-groove shape on the surface of the insulating film 80,
A micro-groove shape is formed on the surface. In this case, the alignment film 35 has a thickness such that the microgroove shape on the surface of the insulating film 80 is reflected on the surface, for example, 100.
It is formed by spin coating or printing to about 1000 Å.

【0157】さらに、他の変形例について図26を用い
て説明する。図26に示す変形例は、透光性基板10の
表面にマイクログルーブ形状を形成したものである。透
光性基板10の表面上に溝形状を形成する方法として、
エッチング法を用いることができる。例えば、透光性基
板11の表面に形成すべき溝形状パターンを有するレジ
ストを形成し、希フッ酸(HF:H2 O=1:50)に
よるウェットエッチングを施すと、レジストパターンに
応じた溝が透光性基板10表面に形成される。溝の深さ
は、エッチング時間を調整することにより制御され、そ
の深さは例えば100〜1000Å程度に設定される。
また、ウェットエッチングの代わりに、四フッ化炭素及
び酸素雰囲気におけるプラズマドライエッチングを用い
ても同様に溝を形成することができる。
Further, another modification will be described with reference to FIG. In the modification shown in FIG. 26, a translucent substrate 10 is formed with microgroove shapes on its surface. As a method of forming a groove shape on the surface of the transparent substrate 10,
An etching method can be used. For example, when a resist having a groove-shaped pattern to be formed on the surface of the transparent substrate 11 is formed and wet etching is performed with diluted hydrofluoric acid (HF: H 2 O = 1: 50), the groove corresponding to the resist pattern is formed. Are formed on the surface of the transparent substrate 10. The depth of the groove is controlled by adjusting the etching time, and the depth is set to, for example, about 100 to 1000Å.
Further, instead of wet etching, plasma dry etching in an atmosphere of carbon tetrafluoride and oxygen can be used to form the groove in the same manner.

【0158】このようなエッチング法により形成された
溝を有する基板表面上に導電膜20、必要な場合には絶
縁膜、さらに配向膜36を順次形成すると、各膜の表面
は、透光性基板11の表面の溝形状を反映して、その表
面に溝形状が形成される。
When the conductive film 20, the insulating film if necessary, and the alignment film 36 are sequentially formed on the surface of the substrate having the grooves formed by such an etching method, the surface of each film is a transparent substrate. Reflecting the groove shape on the surface of 11, the groove shape is formed on the surface.

【0159】なお、この表面の凹凸形状は、液晶40を
介して対向配置される一方の配向膜、絶縁膜あるいは透
光性基板の表面の所定の下地層に形成するのみならず、
対向する両方の配向膜、絶縁膜あるいは透光性基板の表
面に形成してもよい。また、溝形状の異なるマイクログ
ルーブ領域は、第1〜第4の局面において説明した図7
及び図8並びに図10〜15に示すような設定すること
ができる。さらに、1つの画素領域内に限定されること
なく、例えば図9に示すような領域設定を行うことも可
能である。
The surface irregularity is not only formed on one of the alignment films, the insulating film, or the predetermined underlayer on the surface of the light-transmitting substrate, which face each other with the liquid crystal 40 interposed therebetween.
It may be formed on both surfaces of the facing alignment film, insulating film or translucent substrate. Further, the microgroove regions having different groove shapes are shown in FIG. 7 described in the first to fourth aspects.
8 and FIGS. 10 to 15 can be set. Further, the area setting as shown in FIG. 9 is possible without being limited to one pixel area.

【0160】さらに、配向膜、絶縁膜あるいは透光性基
板の表面に形成するマイクログルーブ形状は、均一な溝
形状を表示領域の全面に形成してもよい。この場合にお
いても、マイクログルーブ形状にならう配向膜の溝形状
の表面に沿って液晶の初期配向状態のプレチルト角が異
なり、これに応じて優先視野角が種々設定されることに
よって視野角を増大させることができる。
Further, as the microgroove shape formed on the surface of the alignment film, the insulating film or the transparent substrate, a uniform groove shape may be formed on the entire surface of the display region. Even in this case, the pretilt angle of the initial alignment state of the liquid crystal varies along the groove-shaped surface of the alignment film that follows the microgroove shape, and the priority viewing angle is set accordingly to increase the viewing angle. Can be made.

【0161】[0161]

【発明の効果】本発明の第1の局面においては、ポリイ
ミド配向膜のイミド化率を変化させることにより、異な
るプレチルト角で液晶を配向させている。このため、異
なる優先視野角を有する複数の領域を表示領域に形成す
ることができ、視野角を広くし、視角特性を向上させる
ことができる。
According to the first aspect of the present invention, the liquid crystal is aligned at different pretilt angles by changing the imidization ratio of the polyimide alignment film. Therefore, a plurality of regions having different preferential viewing angles can be formed in the display region, the viewing angle can be widened, and the viewing angle characteristics can be improved.

【0162】本発明の第2の局面、第3の局面及び第4
の局面に従えば、レーザを照射することにより、ポリイ
ミド配向膜のイミド化率を変化させ、これによって異な
るプレチルト角で液晶を配向させている。従って、簡易
な方法で、かつ微細な領域においてプレチルト角を異な
らせることができる。
Second, Third and Fourth Aspects of the Present Invention
According to this aspect, the imidization ratio of the polyimide alignment film is changed by irradiating the laser, and thereby the liquid crystal is aligned at different pretilt angles. Therefore, the pretilt angle can be varied in a fine region by a simple method.

【0163】本発明の第5の局面及び第6の局面に従え
ば、感光性高分子配向膜に重合度の異なる複数の領域を
形成し、これによって異なるプレチルト角で液晶を配向
させている。従って、上記と同様に、視角特性を向上さ
せることができる。
According to the fifth and sixth aspects of the present invention, a plurality of regions having different degrees of polymerization are formed in the photosensitive polymer alignment film, and thereby liquid crystals are aligned at different pretilt angles. Therefore, similarly to the above, the viewing angle characteristics can be improved.

【0164】本発明の第7の局面に従えば、配向膜の表
面に凹凸形状を形成することにより、異なるプレチルト
角で液晶を配向させている。従って、上記と同様に、視
角特性を向上することができる。
According to the seventh aspect of the present invention, the unevenness is formed on the surface of the alignment film to align the liquid crystal with different pretilt angles. Therefore, similar to the above, the viewing angle characteristics can be improved.

【0165】本発明の第8の局面に従えば、配向膜の表
面に溝形状及び溝の形成方向のうちの少なくとも一方が
異なる溝からなる複数の溝領域を形成し、これによって
異なるプレチルト角で液晶を配向させている。従って、
上記と同様に、視角特性を向上させることができる。
According to the eighth aspect of the present invention, a plurality of groove regions are formed on the surface of the alignment film, the groove regions having different groove shapes and / or groove forming directions, and thereby different pretilt angles are formed. The liquid crystal is aligned. Therefore,
Similar to the above, the viewing angle characteristics can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置の構造の一例を示す断面
図。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a structure of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明の第1の局面に従う実施形態の液晶表示
装置の要部を示す断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a main part of the liquid crystal display device of the embodiment according to the first aspect of the present invention.

【図3】図2に示す液晶表示装置の製造工程を示すフロ
ー図。
FIG. 3 is a flowchart showing manufacturing steps of the liquid crystal display device shown in FIG.

【図4】配向膜のベーキング温度と、イミド化率及びプ
レチルト角との関係を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a baking temperature of an alignment film, an imidization ratio and a pretilt angle.

【図5】配向膜のベーキング温度と、イミド化率及びプ
レチルト角との関係を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between a baking temperature of an alignment film, an imidization ratio and a pretilt angle.

【図6】使用温度と、しきい値電圧V10及びしきい値電
圧V90との関係を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between operating temperature and threshold voltages V 10 and V 90 .

【図7】イミド化率の異なる領域の配置の一例を示す平
面図。
FIG. 7 is a plan view showing an example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図8】イミド化率の異なる領域の配置の他の例を示す
平面図。
FIG. 8 is a plan view showing another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図9】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の例
を示す平面図。
FIG. 9 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図10】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の
例を示す平面図。
FIG. 10 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図11】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の
例を示す平面図。
FIG. 11 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図12】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の
例を示す平面図。
FIG. 12 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図13】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の
例を示す平面図。
FIG. 13 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図14】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の
例を示す平面図。
FIG. 14 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図15】イミド化率の異なる領域の配置のさらに他の
例を示す平面図。
FIG. 15 is a plan view showing still another example of arrangement of regions having different imidization ratios.

【図16】本発明に従う実施形態における視野角と輝度
との関係を示す図。
FIG. 16 is a diagram showing a relationship between a viewing angle and brightness in the embodiment according to the present invention.

【図17】本発明の実施形態における液晶の配向角と、
偏光レーザ光による液晶の反射輝度ピーク強度の相対値
との関係を示す図。
FIG. 17 is an alignment angle of liquid crystal according to an embodiment of the present invention,
The figure which shows the relationship with the relative value of the reflection brightness peak intensity of the liquid crystal by polarized laser light.

【図18】本発明の第5の局面に従う実施形態の液晶表
示装置の要部を示す断面図。
FIG. 18 is a sectional view showing a main part of a liquid crystal display device of an embodiment according to a fifth aspect of the present invention.

【図19】本発明の第6の局面に従う実施形態における
製造工程を示すフロー図。
FIG. 19 is a flowchart showing a manufacturing process in the embodiment according to the sixth aspect of the present invention.

【図20】図18に示す実施形態を製造する工程を示す
断面図。
FIG. 20 is a sectional view showing a process for manufacturing the embodiment shown in FIG.

【図21】本発明の第7の局面に従う実施形態の液晶表
示装置の要部を示す断面図。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing the main parts of the liquid crystal display device of the embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図22】本発明の第7の局面に従う他の実施形態の液
晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 22 is a sectional view showing a main portion of a liquid crystal display device of another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図23】本発明の第7の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 23 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図24】本発明の第8の局面に従う実施形態の液晶表
示装置の要部を示す断面図。
FIG. 24 is a sectional view showing a main part of a liquid crystal display device of an embodiment according to an eighth aspect of the present invention.

【図25】本発明の第8の局面に従う他の実施形態の液
晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 25 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of another embodiment according to the eighth aspect of the present invention.

【図26】本発明の第8の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 26 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the eighth aspect of the present invention.

【図27】本発明の第7の局面に従う実施形態の液晶表
示パネルを示す斜視図。
FIG. 27 is a perspective view showing a liquid crystal display panel of an embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図28】本発明の第7の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 28 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図29】本発明の第7の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 29 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図30】本発明の第7の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 30 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図31】本発明の第7の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 31 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【図32】本発明の第7の局面に従うさらに他の実施形
態の液晶表示装置の要部を示す断面図。
FIG. 32 is a cross-sectional view showing the main parts of a liquid crystal display device of still another embodiment according to the seventh aspect of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…透光性基板 20…導電膜 30〜37…配向膜 40…液晶 80…絶縁膜 90…カラーフィルタ 10 ... Translucent substrate 20 ... Conductive film 30-37 ... Alignment film 40 ... Liquid crystal 80 ... Insulating film 90 ... Color filter

フロントページの続き (72)発明者 井上 和弘 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Kazuhiro Inoue 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶と、 前記液晶を配向させるためのポリイミド配向膜とを備
え、 前記ポリイミド配向膜がイミド化率の異なる複数の領域
を有し、これによって各領域に対応する前記液晶部分が
イミド化率に応じた異なるプレチルト角で配向している
液晶表示装置。
1. A liquid crystal and a polyimide alignment film for aligning the liquid crystal, wherein the polyimide alignment film has a plurality of regions having different imidization ratios, whereby the liquid crystal portion corresponding to each region is formed. A liquid crystal display device that is aligned at different pretilt angles according to the imidization ratio.
【請求項2】 前記ポリイミド配向膜のイミド化率の異
なる複数の領域が各画素内に形成されている請求項1に
記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of regions having different imidization ratios of the polyimide alignment film are formed in each pixel.
【請求項3】 液晶を配向させるためのポリイミド配向
膜を有する液晶表示装置の製造方法であって、 前記ポリイミド配向膜を形成する工程と、 前記ポリイミド配向膜をプリベークする工程と、 前記ポリイミド配向膜にレーザを照射し、照射領域のイ
ミド化率を変化させる工程とを備える液晶表示装置の製
造方法。
3. A method of manufacturing a liquid crystal display device having a polyimide alignment film for aligning liquid crystal, comprising the steps of forming the polyimide alignment film, prebaking the polyimide alignment film, and the polyimide alignment film. A step of irradiating the substrate with a laser to change the imidization ratio of the irradiation region.
【請求項4】 前記ポリイミド配向膜が、ポリアミック
酸からなることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示
装置の製造方法。
4. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the polyimide alignment film is made of polyamic acid.
【請求項5】 前記ポリイミド配向膜が、可溶性ポリイ
ミドからなることを特徴とする請求項3に記載の液晶表
示装置の製造方法。
5. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the polyimide alignment film is made of soluble polyimide.
【請求項6】 前記プリベーク工程の加熱処理の温度が
50〜150℃である請求項3に記載の液晶表示装置の
製造方法。
6. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the temperature of the heat treatment in the prebaking step is 50 to 150 ° C.
【請求項7】 前記プリベーク工程が、レーザ照射によ
りなされる請求項6に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the pre-baking step is performed by laser irradiation.
【請求項8】 前記照射するレーザが、波長400nm
以上のレーザである請求項7に記載の液晶表示装置の製
造方法。
8. The laser for irradiating has a wavelength of 400 nm.
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 7, which is the laser described above.
【請求項9】 前記レーザを照射する工程が、照射領域
のイミド化率を増加させる工程である請求項3に記載の
液晶表示装置の製造方法。
9. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the step of irradiating with the laser is a step of increasing an imidization ratio of an irradiation region.
【請求項10】 前記イミド化率を増加させるために照
射するレーザが、波長400nm以上のレーザである請
求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。
10. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein the laser irradiated to increase the imidization ratio is a laser having a wavelength of 400 nm or more.
【請求項11】 前記レーザを照射する工程が、照射領
域のイミド化率を減少させる工程である請求項3に記載
の液晶表示装置の製造方法。
11. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the step of irradiating with the laser is a step of reducing an imidization ratio of an irradiation region.
【請求項12】 前記イミド化率を減少させるために照
射するレーザが、波長300〜400nmのレーザであ
る請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。
12. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 11, wherein the laser irradiated to reduce the imidization ratio is a laser having a wavelength of 300 to 400 nm.
【請求項13】 液晶と、 前記液晶を配向させるための感光性高分子配向膜とを備
え、 前記感光性高分子配向膜が重合度の異なる複数の領域を
有し、これによって各領域に対応する前記液晶部分が重
合度に応じた異なるプレチルト角で配向している液晶表
示装置。
13. A liquid crystal and a photosensitive polymer alignment film for orienting the liquid crystal, wherein the photosensitive polymer alignment film has a plurality of regions having different degrees of polymerization, thereby corresponding to each region. A liquid crystal display device in which the liquid crystal portion is aligned with different pretilt angles according to the degree of polymerization.
【請求項14】 液晶を配向させるための感光性高分子
配向膜を有する液晶表示装置の製造方法であって、 前記感光性高分子配向膜を形成する工程と、 前記感光性高分子配向膜に紫外線を照射し、照射領域の
重合度を変化させる工程とを備える液晶表示装置の製造
方法。
14. A method of manufacturing a liquid crystal display device having a photosensitive polymer alignment film for aligning liquid crystal, comprising: forming the photosensitive polymer alignment film; A method of manufacturing a liquid crystal display device, which comprises a step of irradiating ultraviolet rays to change a degree of polymerization of an irradiation region.
【請求項15】 液晶を配向させるための感光性高分子
配向膜を有する液晶表示装置の製造方法であって、 前記感光性高分子配向膜を形成する工程と、 前記感光性高分子配向膜に紫外線を照射し、照射領域の
重合度を変化させる工程と、 前記感光性高分子配向膜を現像処理する工程とを備える
液晶表示装置の製造方法。
15. A method of manufacturing a liquid crystal display device having a photosensitive polymer alignment film for aligning liquid crystal, comprising: forming the photosensitive polymer alignment film; A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of irradiating an ultraviolet ray to change a degree of polymerization of an irradiation region;
【請求項16】 液晶と、 前記液晶を配向させるための配向膜と、 前記配向膜内に分散される微粒子とを備え、 前記微粒子の形状に沿って前記配向膜の表面に凹凸形状
が形成されており、これによって前記液晶が凹凸形状に
応じた異なるプレチルト角で配向している液晶表示装
置。
16. A liquid crystal, an alignment film for aligning the liquid crystal, and fine particles dispersed in the alignment film, wherein an uneven shape is formed on the surface of the alignment film along the shape of the fine particles. Accordingly, the liquid crystal display device in which the liquid crystal is oriented at different pretilt angles according to the uneven shape.
JP30438195A 1994-11-29 1995-11-22 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same Expired - Fee Related JP2999955B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30438195A JP2999955B2 (en) 1994-11-29 1995-11-22 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29450894 1994-11-29
JP7-286009 1995-11-02
JP28600995 1995-11-02
JP6-294508 1995-11-02
JP30438195A JP2999955B2 (en) 1994-11-29 1995-11-22 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09185058A true JPH09185058A (en) 1997-07-15
JP2999955B2 JP2999955B2 (en) 2000-01-17

Family

ID=27337213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30438195A Expired - Fee Related JP2999955B2 (en) 1994-11-29 1995-11-22 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2999955B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002040438A (en) * 2000-07-28 2002-02-06 Toshiba Corp Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2020029501A (en) * 2018-08-22 2020-02-27 国立大学法人静岡大学 Method for producing polyimide microstructure
JP2022534350A (en) * 2020-04-29 2022-07-29 エスケイシー・カンパニー・リミテッド Polyamide-based composite film and display device containing the same

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101829454B1 (en) 2010-07-30 2018-02-20 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crystal display panel equipped with unit-pixels having multi-domain and optical mask for manufacturing the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002040438A (en) * 2000-07-28 2002-02-06 Toshiba Corp Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2020029501A (en) * 2018-08-22 2020-02-27 国立大学法人静岡大学 Method for producing polyimide microstructure
JP2022534350A (en) * 2020-04-29 2022-07-29 エスケイシー・カンパニー・リミテッド Polyamide-based composite film and display device containing the same
US12024605B2 (en) 2020-04-29 2024-07-02 Sk Microworks Solutions Co., Ltd. Polyamide-based composite film and display device comprising same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2999955B2 (en) 2000-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100239597B1 (en) Liquid crystal display and method of preparing the same
JP3481843B2 (en) Liquid crystal display
TWI497177B (en) Liquid crystal display and method of manufacturing liquid crystal display
JP3049065B2 (en) Liquid crystal display
CN1083110C (en) Liquid crystal devce alignment
US6525792B1 (en) Diffusing reflector and manufacture of the same and reflection type display apparatus
WO2001009675A1 (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP3068376B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
JPWO2008018213A1 (en) Liquid crystal display
TWI286244B (en) Liquid crystal display device
KR100845410B1 (en) Multi Domain Alignment Film Formation Method
JP2002229029A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP2999955B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP3781134B2 (en) Color filter and manufacturing method thereof
JP2000122065A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP4713439B2 (en) Multi-domain liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JPH07168187A (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP4103207B2 (en) Liquid crystal display
JPH10148827A (en) Electro-optical device and method of manufacturing the same
JP2004302291A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
KR100268005B1 (en) Reflector of reflective-type liquid crystal display device and method for manufacturing the same
KR100506072B1 (en) Fabrication method of Liquid Crystal Display
JP2965829B2 (en) Liquid crystal display
JP3063764B2 (en) Manufacturing method of electro-optical device
KR20040083181A (en) A method of forming an multi-domain alignment layer

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees