JPH091770A - グラビア彫刻システム - Google Patents
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Abstract
実際に彫刻されるセルの面積が直線的に比例するような
グラビア彫刻システムを提供することである。 【構成】 画像データで指定される階調(すなわち、印
刷すべき画像の濃度)に応じてレベルが変化する濃度信
号は、加算部105において、正弦波状のキャリー信号
と重畳され、彫刻信号として彫刻ヘッド21に印加され
る。彫刻ヘッド21に含まれるスタイラスは、印加され
る彫刻信号に従って往復振動することにより、主走査方
向に回転するグラビアシリンダに対してセルを彫刻す
る。副走査モータ107は、グラビアシリンダに対して
1列分のセルの彫刻が終了する毎に、彫刻ヘッド21を
主走査方向と直交する副走査方向に送る。データ作成装
置201は、入力した元の画像データの階調の変化に対
してセルの面積が直線的に比例するように、元の画像デ
ータの階調を補正した後、濃度信号発生部101に与え
る。
Description
に関し、より特定的には、グラビアシリンダの表面に複
数のセルを彫刻することにより、グラビア印刷のための
凹版を製造するグラビア彫刻システムに関する。
キが施された円筒状のグラビアシリンダを回転させなが
ら、このグラビアシリンダの表面にセルと呼ばれる微小
な凹部を形成し、グラビア印刷のための凹版を作製する
システムである。そして、セルの深さと幅(面積)とに
よって当該セルに充填されるインキの量が制御され、印
刷濃度が表現されるようになっている。グラビアシリン
ダの表面にセルを形成するためには、彫刻ヘッドが用い
られる。彫刻ヘッドには、先端にダイヤモンドの針(バ
イト)を有するスタイラスが設けられており、このスタ
イラスを数KHzの周波数で振動させて彫刻を行ってい
る。
テムにおいて、彫刻ヘッドに印加される彫刻信号の波形
を示したものであり、スタイラスの変位波形に相当して
いる。この信号波形は、図17(a)に示すような高周
波のキャリー信号波形に、図17(b)に示すような濃
度信号波形を重畳(すなわち、キャリー信号を濃度信号
で変調)して得られるものである。このような彫刻信号
を彫刻ヘッドに印加することにより、濃度信号に対応す
る深さおよび幅のセルをグラビアシリンダの表面に彫刻
することができる。なお、図17(c)における一点鎖
線Rがグラビアシリンダの表面に相当しており、図に斜
線のハッチングで示す部分がセルに相当している。
より彫刻されたセルの上面形状およびその配置状態の一
例を示す図である。図18に示すように、従来のセル
は、規則的に配置されている。そして、各セルの形状
は、図19に示すように、菱形に近似している。
号のレベルは、画像データ上で指定される階調、つまり
印刷濃度に応じて変化する。そして、濃度信号のレベル
は、セルの横幅(副走査方向の幅)になって現れる。従
って、画像データ上で指定される階調は、セルの横幅に
対応しており、しかもセル面積はセルの横幅のほぼ2乗
に比例しているので、画像データ上の階調に対してセル
面積は、図20に示すように、非線形より具体的には2
次関数的に変化する。このように、従来のグラビア彫刻
システムでは、画像データ上の階調に対してセル面積が
直線的に比例していないので、そのままでは印刷物の濃
度を正確に制御できなかった。そのため、従来は、試し
彫りを行って実際の印刷物の濃度変化を観察し、その観
察結果に基づいて画像データの補正を行うようにしてい
たので、調整に時間がかかるという問題点があった。
ータで指定される階調に対して、実際に彫刻されるセル
の面積が直線的に比例するようなグラビア彫刻システム
を提供することである。
グラビアシリンダの表面に複数のセルを彫刻することに
より、グラビア印刷のための凹版を製造するグラビア彫
刻システムであって、グラビアシリンダを主走査方向に
回転させる回転手段と、一定周波数および一定振幅を有
する正弦波状のキャリー信号を発生するキャリー信号発
生手段と、与えられる画像データの階調に応じてレベル
が変化する濃度信号を発生する濃度信号発生手段と、キ
ャリー信号に濃度信号を重畳することにより、彫刻信号
を発生する彫刻信号発生手段と、彫刻信号に応じて往復
振動することにより、主走査方向に回転するグラビアシ
リンダに対して、セルを彫刻するスタイラスと、スタイ
ラスを主走査方向と直交する副走査方向に送るスタイラ
ス送り手段と、元の画像データの階調の変化に対してセ
ルの面積が直線的に比例するように、当該元の画像デー
タの階調を補正した後、濃度信号発生手段に与える階調
補正手段とを備えている。
おいて、階調補正手段は、元の画像データをそのまま濃
度信号発生手段に与えた場合に彫刻されるセルの面積
を、各階調別に演算する第1の演算手段と、元の画像デ
ータの階調の変化に対して直線的に比例する場合のセル
の面積を、各階調別に演算する第2の演算手段と、第1
および第2の演算手段の演算結果に基づいて、元の画像
データの各階調値に対する補正値を演算する第3の演算
手段とを含んでいる。
の画像データの階調の変化に対してセルの面積が直線的
に比例するように、元の画像データの階調を補正した
後、濃度信号発生手段に与えるようにしている。これに
よって、元の画像データの階調の変化に対して実際に彫
刻されるセルの面積が直線的に比例するため、試し彫り
を行うことなく、印刷濃度を正確に制御することが可能
となる。
は、元の画像データをそのまま濃度信号発生手段に与え
た場合に彫刻されるセルの面積を各階調別に演算し、元
の画像データの階調の変化に対して直線的に比例する場
合のセルの面積を各階調別に演算し、これら演算結果に
基づいて、元の画像データの各階調値に対する補正値を
演算するようにしている。
施例に係るグラビア彫刻システムに用いられるグラビア
彫刻機の正面図および平面図である。図1および図2に
おいて、このグラビア彫刻機100は、ベッド1と、ベ
ッド1の上面に固定された主軸台2と、主軸台2と対向
して配置された芯押し台3と、テーブル4とを備えてい
る。芯押し台3は、ベッド1の上面に配置された1対の
ガイドレール6に沿って装置の左右方向に移動自在であ
る。そして、ベッド側部に設けられたモータおよびベル
ト等からなる駆動機構9によって、芯押し台3は主軸台
2に対して接近または離反可能である。なお、芯押し台
3のセンタ12は、シリンダ13によって出没自在であ
る。テーブル4は、ベッド1の上面に配置された1対の
ガイドレール7に沿って左右方向に移動自在である。そ
して、1対のガイドレール7間に配置されたボールネジ
15およびこれを駆動するための駆動モータ16によっ
て、テーブル4はガイドレール7に沿って移動可能であ
る。主軸台2の主軸10は、駆動モータおよびベルト等
からなる駆動機構11によって回転させられるようにな
っている。このような構成において、グラビアシリンダ
14は、図1の二点鎖線で示すように、主軸10とセン
タ12との間に支持される。
の前後方向(図1の紙面と垂直な方向)に移動自在に設
けられている。そして、テーブル4の上面には、ガイド
レール20が設けられ、ボールネジ22および駆動モー
タ23からなる駆動機構によって彫刻ヘッド21が移動
させられるようになっている。
スタイラスおよびその駆動機構を示す斜視図である。図
3において、スタイラス30は、捩りシャフト31の先
端に固定されており、その一端にはダイヤモンドバイト
32が装着されている。捩りシャフト31の他端部は固
定部33に固定されている。また、捩りシャフト31の
中間部には、平面視菱形のロータ34が固着されてい
る。ロータ34の周囲には、ロータ34を挟み込むよう
に積層磁性体(ステータ)35が配置されており、この
ステータ35の側部にはステータ35に磁力を与えるた
めの永久磁石36が配置されている。また、ロータ34
の周囲でロータ34とステータ35との間には、コイル
37が配置されている。このような構成では、コイル3
7に彫刻信号を印加することにより、スタイラス30は
図の矢印Bの方向に彫刻信号の周波数に応じて振動す
る。
観図であり、特に、図4(a)はその正面図であり、図
4(b)はその左側面図であり、図4(c)はその底面
図である。図4に示すごとく、ダイヤモンドバイト32
は、三角錐の形状をしており、この三角錐の頂点32a
でグラビアシリンダ14の表面を彫る。
ラビア彫刻機は、図5に示す主走査方向(グラビアシリ
ンダ14の周方向)に沿ってセルを彫り、1列分彫り終
わると、彫刻ヘッド21が副走査方向(グラビアシリン
ダ14の回転軸と平行な方向)に所定ピッチ送られ、次
の列のセルを彫っていく。これを繰り返すことにより、
グラビアシリンダ14の表面に、複数のセルで構成され
た凹版が形成される。
刻機100を用いたグラビア彫刻システムの電気的な構
成を示すブロック図である。図6において、グラビア彫
刻機100には、パーソナルコンピュータ等により構成
されるデータ作成装置201が接続されている。このデ
ータ作成装置201には、スキャナ等の読取装置202
と、その他の画像システム203と、ハードディスク装
置等の外部記憶装置204と、キーボード,マウス等の
操作部205とが接続されている。データ作成装置20
1は、読取装置202によって所定の原稿から読み取ら
れたデータや、その他の画像システム203から得られ
たデータに基づいて、グラビア製版用の画像データを作
成する。例えば、データ作成装置201は、その他の画
像システムからオフセット用画像データを得て、オフセ
ット/グラビア変換して画像データを作成する。オペレ
ータは、操作部205を操作することにより、データ作
成装置201に、種々のデータないし指示(例えば、線
数、セルパターン(エロンゲート,コンプレスト等)等
の彫刻条件)を入力する。操作部205からの入力デー
タないし指示に基づいて、データ作成装置201は、上
記画像データと共に、キャリー指令データ,副走査指令
信号および主走査指令信号を発生する。これらデータお
よび信号は、グラビア彫刻機100に与えられる。
101と、キャリー信号発生部102と、副走査モータ
103と、主走査モータ104と、加算部105と、彫
刻ヘッド21と、副走査モータ107と、主走査モータ
108とを備えている。濃度信号発生部101は、デー
タ作成装置201から与えられる画像データに基づい
て、濃度信号を発生する。キャリー信号発生部102
は、データ作成装置201から与えられるキャリー指令
データに基づいて、振幅やオフセット量を決定し、キャ
リー信号を発生する。濃度信号発生部101からの濃度
信号およびキャリー信号発生部102からのキャリー信
号は、加算部105で加算された後、彫刻信号として彫
刻ヘッド21に印加される。副走査モータ107は、彫
刻ヘッド21を副走査方向に移動させるためのモータで
ある。主走査モータ108は、グラビアシリンダ14を
回転させるためのモータである。副走査モータ制御部1
03は、線数等の彫刻条件に応じて、彫刻ヘッド21の
副走査方向の送り量を変えるため、データ作成装置20
1からの副走査指令信号に基づいて、副走査モータ10
7を制御する。主走査モータ制御部104は、セルパタ
ーンや線数の違いに応じて、グラビアシリンダ14の回
転速度を変えるため、データ作成装置201からの主走
査指令信号に基づいて、主走査モータ108を制御す
る。
8ビットで表現可能な値0〜256の内、値29〜22
8を用いて階調を表現している。ここで、値29は最小
濃度階調に対応し、値228は最大濃度階調に対応して
いる。従って、最小濃度階調から最大濃度階調の間は、
199段階の階調値で表現される。
刻する際、主走査方向で隣接するセル間に、相互に連通
する部分すなわちチャネルC(図8(a)参照)を形成
するようにしている。このようなチャネルCを形成する
ことにより、主走査方向へのインキの流れが良くなり、
各セルへのインキの充填効率が向上する。当該チャネル
Cを形成するためには、図9に示すように、最大濃度セ
ルに対応する彫刻信号の頂点部分Kのレベルがグラビア
シリンダの表面に相当する基準レベルRよりも低く設定
される。これによって、セルの幅が広がり、主走査方向
に隣接するセル間にチャネルが出現する。
システムの動作を示すフローチャートである。この図1
0の動作は、主として図6のデータ作成装置201によ
って実行される。以下、この図10を参照して、上記実
施例の動作を説明する。
された各種パラメータの中から、補正に必要なパラメー
タを選択し入力する(ステップS1)。このとき入力さ
れるパラメータは、最大セル幅WMAX と、最小セル幅W
MIN と、最大チャネル幅CMA X と、副走査方向へのセル
ピッチP1 と、主走査方向へのセルピッチP2 とであ
る。ここで、最大セル幅WMAX は、最大濃度階調228
に対応するセルつまり最大濃度セルの副走査方向への幅
である(図7参照)。また、最小セル幅WMIN は、最低
濃度階調29に対応するセルつまり最小濃度セルの副走
査方向への幅である(図7参照)。また、最大チャネル
幅CMAX は、最大濃度セルを彫刻する際に生じるチャネ
ルCの副走査方向への幅(チャネルCの最大の幅;図8
参照)を表している。
ップS1で入力した各種パラメータに基づき、後述する
面積補正に必要な所定値を演算する(ステップS2)。
以下、この所定値について詳細に説明する。
値である。図8(a)は、最大濃度セルの上面形状を示
している。この場合、セル形状は、最大セル幅WMAX
と、最大チャネル幅CMAX とを有している。一方、図8
(b)は、チャネルCが現れるときの最小セルの上面形
状を示している。この場合のセル幅は、W MAX −CMAX
となる。ここで、一般的にセル幅W(WMAX ≧W≧W
MIN )は、階調γ(228≧γ≧29)に比例している
ので、セル幅Wは次式(1)で求められる。なお、次式
(1)において、(WMAX −WMIN )/199は、単位
階調当たりのセル幅の増分を示している。
ルの幅WMAX −CMAX は、上式(1)にγC (チャネル
Cが現れるときの最小セルの階調)を代入することによ
り、次式(2)で求められる。
と、次式(3)となる。
る。そこで、予め値f/eを求めておくことにより、後
の補正演算を簡素化するようにしている。ここで、f
は、チャネルCが現れない場合(γ<γC の場合)のセ
ル幅Wの1/2であり、次式(4)で求められる。
照)の全振幅αの1/2であり、次式(5)で求められ
る。
(5)から、次式(6)によって求められる。
合)のセルの面積について説明する。今、セル幅W(=
2f)を有するセルの面積を考えると、当該セル面積A
は、図11の斜線部の4倍の面積となる。図11におい
て、セルの外形曲線φの方程式は、次式(7)で表され
る。
式(7)でy=0と置いたときのxの値として求めら
れ、次式(8)で表される。
られる。
γ≧γC の場合)のセルの面積について説明する。この
場合、セルの面積Aは、図12に示すように、セル本来
の面積(斜線領域の面積)A3 とチャネル部の面積(ド
ットが付された矩形領域の面積)A4 との合計になる。
ここで、面積A3 は、上式(9)にf=2eを代入する
ことで求められ、 A3 =2eP2 となる。一方、チャネル部は、一辺の長さがP2 で他辺
の長さがCの矩形形状を有しており、その面積A4 は、 A4 =P2 C となる。従って、全体のセル面積Aは、次式(10)で
求められる。
ル幅W(=2f)のセル面積Aが求まる。なお、階調γ
によってセル幅Wが決まるので、セル面積Aは、階調γ
によって決定できる。
算 最大セル面積をAMAX 、最小セル面積をAMIN とする
と、単位階調当たりの面積の増分ΔAは、次式(11)
で求められる。
積AMAX は、前述の式(10)に、W=WMAX を代入す
ることにより、次式(12)で求められる。
(9)に、f=fMIN を代入することにより、次式(1
3)で求められる。
は、次式(14)で求められる。
ルCが現れるときの最小セルの階調γC と、f/eと、
セル面積Aの演算式と、単位階調当たりの面積の増分Δ
Aととが求められる。
データの階調とセルの面積とを直線的な関係にするため
のデータ変換テーブルを作成する(ステップS3)。こ
のデータ変換テーブル作成動作について、まず具体的数
値を挙げながら説明する。なお、以下に示す各数値は、
一例であり、本発明はこれらの数値に限定されないこと
を予め指摘しておく。
取装置202または他の画像システム203から取り込
んだ画像データ)上で指定される階調は、29〜228
の199段階に変化する。この元の画像データ上の階調
を補正することなく、そのまま濃度信号発生部101に
与えた場合、セルの面積は、841(=292 )〜51
984(=2282 )の範囲で変化する。もし、セルの
面積が、単位階調当たり (51984−841)/199=257 ずつ増減すれば、図14に示すように、元の画像データ
の階調に対してセル面積が理想的に変化、すなわち直線
的に比例することになる。例えば、元の画像データの階
調が100であれば、理想的なセル面積は、 841+257(100−29)=19088 となる。この理想的な面積19088に対する元の画像
データの階調は、図15に示すように、138となる。
ステップS3では、このような階調変換を行うためのテ
ーブルを作成する。
01は、まず前述のステップS2で求めた式(9)およ
び(10)を用いて、元の画像データの各階調γ=29
〜228に対するセル面積A(29)〜A(228)を
演算し、図16(a)に示すような第1リストを作成す
る。次に、データ作成装置201は、次式(15)を用
いて、元の画像データの各階調γ=29〜228に対す
る理想的なセル面積A’(29)〜A’(228)を演
算し、図16(b)に示すような第2リストを作成す
る。 A’=ΔA(γ−29)+AMIN …(15) 次に、データ作成装置201は、第2リスト上の理想的
な各セル面積に対応する補正後の階調値を第1リスト上
から検索し、図16(c)に示すような階調データの変
換テーブルを作成する。
202または他の画像システム203から画像データを
入力し、上記ステップS3で作成したデータ変換テーブ
ル(図16(c)参照)を用いて、その階調値を変換す
る(ステップS4)。これによって、データ作成装置2
01から濃度信号発生部101には、階調の補正された
画像データが出力される。従って、セルの面積は、元の
画像データ上の階調に対して直線的に比例することにな
る。
201から与えられる画像データに基づいて、図9
(b)に示すような濃度信号を発生する。この濃度信号
は、加算部105において、キャリー信号発生部102
からのキャリー信号(図9(a)参照)と加算され、彫
刻信号(図9(c)参照)として彫刻ヘッド21に印加
される。当該彫刻ヘッド21は、与えられる彫刻信号に
応じて、スタイラス30を図3のB方向に往復回動運動
させる。このとき、主走査モータ108は、グラビアシ
リンダ14を主走査方向に回転させる。これによって、
主走査方向に沿って1列分のセルが彫刻される。副走査
モータ107は、1列分のセルの彫刻が終了する毎に彫
刻ヘッド21を所定ピッチP1 だけ副走査方向に移動さ
せる。このような動作を繰り返すことにより、グラビア
シリンダ14には、複数列のセルが彫刻される。
補正しなかった場合の各階調に対するセル面積を演算に
よって求めるようにしているが、予め試し彫りによって
セル面積を実測しておき、この実測値をシステムに登録
して用いるようにしても良い。
ーブルを作成しておき、実際の画像データが入力された
ときに、このデータ変換テーブルを検索することによっ
て、補正後の階調を求めるようにしているが、データ作
成装置201が高速なCPUを搭載している場合は、こ
のようなデータ変換テーブルを用いることなく、画像デ
ータの入力時に、演算のみによって補正後の階調を求め
るようにしても良い。
分のセルの彫刻が終了する毎に、スタイラス30を副走
査方向に所定のピッチ送るようにしているが、スタイラ
ス30を常時一定の速度で副走査方向に送って、グラビ
アシリンダ14にスパイラル状にセルを彫刻するように
しても良い。
データの階調を補正した後、濃度信号発生手段に与える
ようにしているので、元の画像データの階調の変化に対
してセルの面積を直線的に比例させることができる。そ
の結果、従来のように試し彫りを行うことなく、印刷濃
度を正確に制御することができる。
ータをそのまま濃度信号発生手段に与えた場合に彫刻さ
れるセルの面積と元の画像データの階調の変化に対して
直線的に比例する場合に彫刻されるセルの面積との演算
結果に基づいて、元画像データの階調を補正しているの
で、元画像データの階調を容易かつ正確に補正できる。
いるグラビア彫刻機の正面図である。
いるグラビア彫刻機の平面図である。
およびその駆動機構を示す斜視図である。
る。
走査方向を説明するための図である。
グラビア彫刻システムの電気的な構成を示すブロック図
である。
いる画像データの階調表現を説明するための図である。
間に生じるチャネルとセル幅との関係を示す図である。
各種信号の波形図である。
すフローチャートである。
め方を説明するための図である。
方を説明するための図である。
が非直線的に変化する状態を示す図である。
が直線的に変化する状態を示す図である。
係から、補正後の画像データの階調を求める方法を示し
た図である。
ルを作成する手順を示す図である。
種信号の波形図である。
セルの上面形状およびその配置状態を示す図である。
セルの上面形状を、疑似的に他の幾何学図形に等価させ
て示す図である。
線的な関係であることを示す図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 グラビアシリンダの表面に複数のセルを
彫刻することにより、グラビア印刷のための凹版を製造
するグラビア彫刻システムであって、 前記グラビアシリンダを主走査方向に回転させる回転手
段と、 一定周波数および一定振幅を有する正弦波状のキャリー
信号を発生するキャリー信号発生手段と、 与えられる画像データの階調に応じてレベルが変化する
濃度信号を発生する濃度信号発生手段と、 前記キャリー信号に前記濃度信号を重畳することによ
り、彫刻信号を発生する彫刻信号発生手段と、 前記彫刻信号に応じて往復振動することにより、主走査
方向に回転するグラビアシリンダに対して、セルを彫刻
するスタイラスと、 前記スタイラスを主走査方向と直交する副走査方向に送
るスタイラス送り手段と、 元の画像データの階調の変化に対してセルの面積が直線
的に比例するように、当該元の画像データの階調を補正
した後、前記濃度信号発生手段に与える階調補正手段と
を備える、グラビア彫刻システム。 - 【請求項2】 前記階調補正手段は、 前記元の画像データをそのまま前記濃度信号発生手段に
与えた場合に彫刻されるセルの面積を、各階調別に演算
する第1の演算手段と、 前記元の画像データの階調の変化に対して直線的に比例
する場合のセルの面積を、各階調別に演算する第2の演
算手段と、 前記第1および第2の演算手段の演算結果に基づいて、
前記元の画像データの各階調値に対する補正値を演算す
る第3の演算手段とを含む、請求項1に記載のグラビア
彫刻システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15654995A JP3537544B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | グラビア彫刻システム |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP15654995A JP3537544B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | グラビア彫刻システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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-
1995
- 1995-06-22 JP JP15654995A patent/JP3537544B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US7648914B2 (en) | 2004-10-07 | 2010-01-19 | Applied Materials, Inc. | Method for etching having a controlled distribution of process results |
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