JPH088172A

JPH088172A - 走査型露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JPH088172A
Application number: JP6158126A
Authority: JP
Inventors: Seiji Miyazaki; 聖二宮崎; Kei Nara; 圭奈良; Masami Seki; 昌美関; Masamitsu Yanagihara; 政光柳原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-06-16
Filing date: 1994-06-16
Publication date: 1996-01-12
Anticipated expiration: 2019-09-15
Also published as: KR100330069B1; JP3564735B2; KR960001804A; US5602620A

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、走査型露光装置及び露光方法におい
て、マスク上の複数の領域の像を感光基板上に同時に投
影するとき、マスクや感光基板上のパターンの直交度誤
差を矯正して投影し得るようにする。【構成】マスクや感光基板上のパターンに、走査方向に
向かうに従つて走査方向と直交する第１の方向に所定の
角度でずれる直交度誤差が存在するとき、マスクと感光
基板とを面内で相対的に回転して、それぞれのパターン
の座標系の一方の座標軸を第１の方向に合わせた後、第
１光学系を介して投影される像の位置と第２光学系を介
して投影される像の位置とを第１の方向に相対的に直交
度誤差分だけ変位し、かつマスク又は感光基板の走査方
向の位置に応じてマスクと感光基板との相対位置を第１
の方向に直交度誤差分だけ連続的に変位する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は走査型露光装置及び露光
方法に関し、例えば液晶表示装置を製造するための感光
基板に大面積のパターンを露光するものに適用し得る。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の大面積のパターンを露光
する露光装置には、マスクの小さな転写像を単一の投影
光学系を介して感光基板に繰り返し投影するステツプア
ンドリピート方式のものや、円弧スリツト状照明光束で
得たマスクと等倍の転写像を単一の投影光学系を介して
感光基板に投影するミラープロジエクシヨン方式等の走
査型のものがある。

【０００３】一方、単一の投影光学系に代えて、複数の
投影光学系を配するものが考えられる。すなわちこの露
光装置では、複数の照明光学系から射出した光束がマス
ク上の複数の小領域をそれぞれ照明する。これらの複数
の小領域の転写像は複数の投影光学系のそれぞれを介し
て感光基板に同時に投影される。

【０００４】また図６に示すように、複数の小領域の転
写像Ｐ１〜Ｐ５は、転写像Ｐ１、Ｐ３及びＰ５でなる第
１転写像列と、転写像Ｐ２及びＰ４でなる第２転写像列
とに分けて投影される。第１転写像列の方向はマスク及
び感光基板の走査方向（以下Ｘ方向という）にほぼ直交
しかつ感光基板の面内となるＹ方向に平行であり、転写
像Ｐ１、Ｐ３及びＰ５はそれぞれの中心間が間隔２Ｌｙ
となるように配されている。また第２転写像列の方向は
第１転写像列と平行であり、転写像Ｐ２及びＰ４は中心
間が間隔２Ｌｙとなるように配されている。そして、こ
れら転写像Ｐ１〜Ｐ５は、Ｘ方向の走査により、Ｙ方向
に一部重複して（接合しても可）転写されることにな
る。これによりマスク及び感光基板が同期して走査され
ると、大面積のパターンが感光基板上に投影されること
になる。

【０００５】ところで図７に示すように、マスク１上に
形成された原画パターン２のＸ方向に沿つた辺がＸ方向
に向かうに従つて角度α分だけＹ方向にずれる直交度誤
差αを有する場合を考える。この場合、図８に示すよう
に、マスクと感光基板とがＸ方向に同期して移動するに
従つて、マスクをＹ方向に連続的に変位すると、走査の
最初から最後まで原画パターン２が第１及び第２の転写
像列によつて感光基板上に投影され、直交度誤差αを取
り除いた正常な転写像が感光基板に投影されると考えら
れる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが第１の転写像
列と第２の転写像列とは、光軸が相互に所定の列間距離
Ｄを有するように２列に分けられた複数の投影光学系よ
り投影されている。これにより第１の転写像列の中心と
第２の転写像列の中心との間には、投影光学系と同一の
列間距離Ｄが存在する。このためマスクと感光基板とが
Ｘ方向に同期して移動するに従つて、マスクをＹ方向に
連続的に変位すると、感光基板上に投影された転写像Ｐ
１〜Ｐ５の合成パターンは、原画パターン２を正しく再
現できないことになる。

【０００７】すなわち列間距離Ｄが存在するため、走査
中のＹ方向の移動により、例えば転写像Ｐ１とＰ２との
中心間隔（中心の軌跡の間隔）Ｌｙが（Ｌｙ±Ｄ tan
α）となり、実際に感光基板に露光された転写像Ｐ１〜
Ｐ５の合成パターンには、原画パターン２に比して、直
交度誤差αに影響されてＹ方向に過剰な接合状態で露光
された部分（例えばＰ２とＰ３）と不足な接合状態で露
光された部分（例えばＰ１とＰ２）とが発生する。つま
りそれぞれの転写像Ｐ１〜Ｐ５の感光基板上での位置が
ずれることになり、露光領域の継ぎ目部分で感光基板に
対する露光量の過剰、もしくは露光不足が生じ、デバイ
スのパターンの線幅が所定の値から変化、もしくは断線
するという問題があつた。

【０００８】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、マスク上の複数の領域の像を走査露光により感光基
板上に継ぎ合わせて投影するとき、マスクや感光基板上
のパターンの直交度誤差を矯正して投影し得る走査型露
光装置及び露光方法を提案しようとするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、一実施例を表す図１に対応付けて
説明すると、請求項１に記載の走査型露光装置（３）で
は、パターン（２）が形成されたマスク（１）上の複数
の領域（Ｍ１〜Ｍ５）をそれぞれ照明する複数の照明光
学系（４Ａ〜４Ｅ）と、第１の方向（Ｙ）に沿つて一列
に光軸を配置した複数の投影光学系（６Ａ、６Ｃ、６
Ｅ）を有する第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）と、第１
光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）と平行に、且つ所定間隔Ｄ
をおいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系（６
Ｂ、６Ｄ）を有する第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）とを有
し、複数の領域（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ５）の一
部（Ｐ１、Ｐ３、Ｐ５）を第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６
Ｅ）を介して、また複数の領域（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ
１〜Ｐ５）の他の一部（Ｐ２、Ｐ４）を第２光学系（６
Ｂ、６Ｄ）を介して同時に感光基板（８）上に投影する
と共に、第１の方向（Ｙ）とほぼ直交し、且つ感光基板
（８）の面内の方向（Ｘ）にマスク（１）と感光基板
（８）とを同期して走査する走査型露光装置（３）にお
いて、マスク（１）と感光基板（８）とを、マスク
（１）若しくは感光基板（８）の面内で相対的に回転す
る回転手段（５及び１０〜１２）と、マスク（１）若し
くは感光基板（８）の走査方向（Ｘ）の位置に応じてマ
スク（１）と感光基板（８）との相対位置を第１の方向
（Ｙ）に変位する位置変位手段（１１、１２）と、第１
光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を介して投影される像（Ｐ
１、Ｐ３、Ｐ５）の位置と第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）を
介して投影される像（Ｐ２、Ｐ４）の位置とを第１の方
向（Ｙ）に相対的に変位する結像位置変更手段（９Ａ〜
９Ｅ）とを設けるようにする。

【００１０】請求項２に記載の走査型露光装置（３）で
は、結像位置変更手段（９Ａ〜９Ｅ）は、マスク（１）
上に形成されたパターン（２）の配列に関する第１の座
標系の、走査の方向（Ｘ）と走査の方向（Ｘ）に直交す
る方向（Ｙ）とで決定される第２の座標系に対する角度
の偏差（α）に基づいて相対的に変位する。

【００１１】請求項３に記載の走査型露光装置（３）で
は、感光基板（８）は、予めマスク（１）のパターン
（２）の第１の像を形成してあり、結像位置変更手段
（９Ａ〜９Ｅ）は、第１の像に重ね合わせてマスク
（１）のパターン（２）の第２の像を露光する場合、第
１の像の配列に関する第１の座標系の、走査の方向
（Ｘ）と走査の方向（Ｘ）に直交する方向（Ｙ）とで決
定される第２の座標系に対する角度の偏差（α）に基づ
いて相対的に変位する。

【００１２】請求項４に記載の走査型露光装置（３）で
は、感光基板（８）は、予めマスク（１）のパターン
（２）の第１の像を形成してあり、結像位置変更手段
（９Ａ〜９Ｅ）は、第１の像に重ね合わせてマスク
（１）のパターン（２）の第２の像を露光する場合、マ
スク（１）のパターン（２）の配列に関する第１の座標
系の、第１の像の配列に関する第２の座標系に対する角
度の偏差（α）に基づいて相対的に変位する。

【００１３】請求項５に記載の走査型露光装置（３）で
は、パターンが形成されたマスク（１）上の複数の領域
（Ｍ１〜Ｍ５）をそれぞれ照明する複数の照明光学系
（４Ａ〜４Ｅ）と、第１の方向（Ｙ）に沿つて一列に光
軸を配置した複数の投影光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を
有する第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）と、第１光学系
（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）と平行に、且つ所定間隔（Ｄ）を
おいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系（６Ｂ、
６Ｄ）を有する第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）とを有し、複
数の領域（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ５）の一部（Ｐ
１、Ｐ３、Ｐ５）を第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を
介して、また複数の領域（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ
５）の他の一部（Ｐ２、Ｐ４）を第２光学系（６Ｂ、６
Ｄ）を介して感光基板（８）上に投影すると共に、第１
の方向（Ｙ）とほぼ直交し、且つ感光基板（８）の面内
の方向（Ｘ）にマスク（１）と感光基板（８）とを同期
して走査する走査型露光装置（３）において、第１光学
系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）及び第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）
を介して投影される像（Ｐ１〜Ｐ５）の配列方向を、第
１の方向（Ｙ）に対して所定角度（β）だけ変更し、第
１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を介して投影される像
（Ｐ１、Ｐ３、Ｐ５）それぞれの間隔２Ｌｙ及び第２光
学系（６Ｂ、６Ｄ）を介して投影される像（Ｐ２、Ｐ
４）それぞれの間隔２Ｌｙを変更すると共に、それぞれ
の像（Ｐ１〜Ｐ５）の光軸に関する回転方向の位置を変
更する結像位置変更手段（９Ａ〜９Ｅ）を設けるように
する。

【００１４】請求項６に記載の走査型露光装置（３）で
は、感光基板（８）は、予めマスク（１）のパターンの
第１の像を形成してあり、結像位置変更手段（９Ａ〜９
Ｅ）は、第１の像に重ね合わせてマスク（１）のパター
ンの第２の像を露光する場合、第１の像の配列に関する
第１の座標系の、走査の方向（Ｘ）と走査の方向（Ｘ）
に直交する方向（Ｙ）とで決定される第２の座標系に対
する角度の偏差（β）に基づいて配列方向の変更、像の
間隔２Ｌｙの変更、及び回転方向の位置の変更を行う。

【００１５】請求項７に記載の走査型露光装置（３）で
は、感光基板（８）は、予めマスク（１）のパターンの
第１の像を形成してあり、結像位置変更手段（９Ａ〜９
Ｅ）は、第１の像に重ね合わせてマスク（１）のパター
ンの第２の像を露光する場合、マスク（１）のパターン
の配列に関する第１の座標系の、第１の像の配列に関す
る第２の座標系に対する角度の偏差（β）に基づいて配
列方向の変更、像の間隔２Ｌｙの変更、及び回転方向の
位置の変更を行う。

【００１６】請求項８に記載の露光方法では、パターン
（２）が形成されたマスク（１）上の複数の領域Ｍ１〜
Ｍ５をそれぞれ照明する複数の照明光学系（４Ａ〜４
Ｅ）と、第１の方向（Ｙ）に沿つて一列に光軸を配置し
た複数の投影光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を有する第１
光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）と、第１光学系（６Ａ、６
Ｃ、６Ｅ）と平行に、且つ所定間隔（Ｄ）をおいて一列
に光軸を配置した複数の投影光学系（６Ｂ、６Ｄ）を有
する第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）とを有し、複数の領域
（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ５）の一部（Ｐ１、Ｐ
３、Ｐ５）を第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を介し
て、また複数の領域（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ５）
の他の一部（Ｐ２、Ｐ４）を第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）
を介して感光基板（８）上に投影すると共に、第１の方
向（Ｙ）とほぼ直交し、且つ感光基板（８）の面内の方
向（Ｘ）にマスク（１）と感光基板（８）とを同期して
走査する露光方法において、マスク（１）と感光基板
（８）とを、マスク（１）若しくは感光基板（８）の面
内で相対的に回転する回転処理と、マスク（１）若しく
は感光基板（８）の走査方向（Ｘ）の位置に応じてマス
ク（１）と感光基板（８）との相対位置を第１の方向
（Ｙ）に変位する位置変位処理と、第１光学系（６Ａ、
６Ｃ、６Ｅ）を介して投影される像（Ｐ１、Ｐ３、Ｐ
５）の位置と第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）を介して投影さ
れる像（Ｐ２、Ｐ４）の位置とを第１の方向（Ｙ）に相
対的に変位する結像位置変更処理とを含む。

【００１７】請求項９に記載の露光方法では、結像位置
変更処理は、マスク（１）上に形成されたパターン
（２）の配列に関する第１の座標系の、走査の方向
（Ｘ）と走査の方向（Ｘ）に直交する方向（Ｙ）とで決
定される第２の座標系に対する角度の偏差（α）に基づ
いて相対的に変位する。

【００１８】請求項１０に記載の露光方法では、感光基
板（８）は、予めマスク（１）のパターン（２）の第１
の像を形成してあり、結像位置変更処理は、第１の像に
重ね合わせてマスク（１）のパターン（２）の第２の像
を露光する場合、第１の像の配列に関する第１の座標系
の、走査の方向（Ｘ）と走査の方向（Ｘ）に直交する方
向（Ｙ）とで決定される第２の座標系に対する角度の偏
差（α）に基づいて相対的に変位する。

【００１９】請求項１１に記載の露光方法では、感光基
板（８）は、予めマスク（１）のパターン（２）の第１
の像を形成してあり、結像位置変更処理は、第１の像に
重ね合わせてマスク（１）のパターン（２）の第２の像
を露光する場合、マスク（１）のパターン（２）の配列
に関する第１の座標系の、第１の像の配列に関する第２
の座標系に対する角度の偏差（α）に基づいて相対的に
変位する。

【００２０】請求項１２に記載の露光方法では、パター
ンが形成されたマスク（１）上の複数の領域（Ｍ１〜Ｍ
５）をそれぞれ照明する複数の照明光学系（４Ａ〜４
Ｅ）と、第１の方向（Ｙ）に沿つて一列に光軸を配置し
た複数の投影光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を有する第１
光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）と、第１光学系（６Ａ、６
Ｃ、６Ｅ）と平行に、且つ所定間隔（Ｄ）をおいて一列
に光軸を配置した複数の投影光学系（６Ｂ、６Ｄ）を有
する第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）とを有し、複数の領域
（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ５）の一部（Ｐ１、Ｐ
３、Ｐ５）を第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を介し
て、また複数の領域（Ｍ１〜Ｍ５）の像（Ｐ１〜Ｐ５）
の他の一部（Ｐ２、Ｐ４）を第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）
を介して感光基板（８）上に投影すると共に、第１の方
向（Ｙ）とほぼ直交し、且つ感光基板（８）の面内の方
向（Ｘ）にマスク（１）と感光基板（８）とを同期して
走査する露光方法において、第１光学系（６Ａ、６Ｃ、
６Ｅ）及び第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）を介して投影され
る像の配列方向を、第１の方向（Ｙ）に対して所定角度
（β）だけ変更し、第１光学系（６Ａ、６Ｃ、６Ｅ）を
介して投影される像（Ｐ１、Ｐ３、Ｐ５）それぞれの間
隔２Ｌｙ及び第２光学系（６Ｂ、６Ｄ）を介して投影さ
れる像（Ｐ２、Ｐ４）それぞれの間隔２Ｌｙを変更する
と共に、それぞれの像（Ｐ１〜Ｐ５）の光軸に関する回
転方向の位置を変更する結像位置変更処理を含むように
する。

【００２１】請求項１３に記載の露光方法では、感光基
板（８）は、予めマスク（１）のパターンの第１の像を
形成してあり、結像位置変更処理は、第１の像に重ね合
わせてマスク（１）のパターンの第２の像を露光する場
合、第１の像の配列に関する第１の座標系の、走査の方
向（Ｘ）と走査の方向（Ｘ）に直交する方向（Ｙ）とで
決定される第２の座標系に対する角度の偏差（β）に基
づいて配列方向の変更、像の間隔の変更、及び回転方向
の位置の変更を行う。

【００２２】請求項１４に記載の露光方法では、感光基
板（８）は、予めマスク（１）のパターンの第１の像を
形成してあり、前期結像位置変更処理は、第１の像に重
ね合わせてマスク（１）のパターンの第２の像を露光す
る場合、マスク（１）のパターンの配列に関する第１の
座標系の、第１の像の配列に関する第２の座標系に対す
る角度の偏差（β）に基づいて配列方向の変更、像の間
隔の変更、及び回転方向の位置の変更を行う。

【００２３】

【作用】請求項１に記載の走査型露光装置（３）では、
マスク（１）や感光基板（８）上のパターン（２）に、
走査方向（Ｘ）に向かうに従つて走査方向（Ｘ）に直交
する方向（Ｙ）に所定の角度（α）でずれる直交度誤差
（α）が存在するとき、これに応じて補正したマスク
（１）のパターン（２）を感光基板（８）上に露光する
ことができる。

【００２４】請求項２に記載の走査型露光装置（３）で
は、マスク（１）上のパターン（２）に、走査方向
（Ｘ）に向かうに従つて走査方向（Ｘ）に直交する方向
（Ｙ）に所定の角度（α）でずれる直交度誤差（α）が
存在するとき、これを補正したマスク（１）のパターン
（２）を感光基板（８）上に正しく露光することができ
る。

【００２５】請求項３に記載の走査型露光装置（３）で
は、感光基板（８）に予め露光されたパターン（２）
に、走査方向（Ｘ）に向かうに従つて走査方向（Ｘ）に
直交する方向（Ｙ）に所定の角度（α）でずれる直交度
誤差（α）が存在するとき、これに応じて補正したマス
ク（１）のパターン（２）を感光基板（８）上のパター
ン（２）に重ね合わせて露光することができる。

【００２６】請求項４に記載の走査型露光装置（３）で
は、マスク（１）上のパターン（２）と感光基板（８）
に予め露光されたパターンとの間に、走査方向（Ｘ）に
向かうに従つて走査方向（Ｘ）に直交する方向（Ｙ）に
所定の角度（α）でずれる直交度誤差（α）が相対的に
存在するとき、これに応じて補正したマスク（１）のパ
ターン（２）を感光基板（８）上のパターンに重ね合わ
せて露光することができる。

【００２７】請求項５に記載の走査型露光装置（３）で
は、マスク（１）や感光基板（８）上のパターンに、走
査方向（Ｘ）に所定の角度（β）でずれる直交度誤差
（β）が存在するとき、これに応じて補正したマスク
（１）のパターンを感光基板（８）上に露光することが
できる。

【００２８】請求項６に記載の走査型露光装置（３）で
は、感光基板（８）上に予め露光されたパターン（１
４）に、走査方向（Ｘ）に所定の角度（β）でずれる直
交度誤差（β）が存在するとき、これに応じて補正した
マスク（１）のパターンを感光基板（８）上のパターン
（１４）に重ね合わせて露光することができる。

【００２９】請求項７に記載の走査型露光装置（３）で
は、マスク（１）上のパターンと感光基板（８）上に予
め露光されたパターン（１４）との間に、走査方向
（Ｘ）に所定の角度（β）でずれる直交度誤差（β）が
相対的に存在するとき、これに応じて補正したマスク
（１）のパターンを感光基板（８）上のパターン（１
４）に重ね合わせて露光することができる。

【００３０】請求項８に記載の露光方法では、マスク
（１）や感光基板（８）上のパターン（２）に、走査方
向（Ｘ）に向かうに従つて走査方向（Ｘ）に直交する方
向（Ｙ）に所定の角度（α）でずれる直交度誤差（α）
が存在するとき、これに応じて補正したマスク（１）の
パターン（２）を感光基板（８）上に露光することがで
きる。

【００３１】請求項９に記載の露光方法では、マスク
（１）上のパターン（２）に、走査方向（Ｘ）に向かう
に従つて走査方向（Ｘ）に直交する方向（Ｙ）に所定の
角度（α）でずれる直交度誤差（α）が存在するとき、
これを補正したマスク（１）のパターン（２）を感光基
板（８）上に正しく露光することができる。

【００３２】請求項１０に記載の露光方法では、感光基
板（８）に予め露光されたパターン（２）に、走査方向
（Ｘ）に向かうに従つて走査方向（Ｘ）に直交する方向
（Ｙ）に所定の角度（α）でずれる直交度誤差（α）が
存在するとき、これに応じて補正したマスク（１）のパ
ターン（２）を感光基板（８）上のパターン（２）に重
ね合わせて露光することができる。

【００３３】請求項１１に記載の露光方法では、マスク
（１）上のパターン（２）と感光基板（８）に予め露光
されたパターンとの間に、走査方向（Ｘ）に向かうに従
つて走査方向（Ｘ）に直交する方向（Ｙ）に所定の角度
（α）でずれる直交度誤差（α）が相対的に存在すると
き、これに応じて補正したマスク（１）のパターン
（２）を感光基板（８）上のパターンに重ね合わせて露
光することができる。

【００３４】請求項１２に記載の露光方法では、マスク
（１）や感光基板（８）上のパターンに、走査方向
（Ｘ）に所定の角度（β）でずれる直交度誤差（β）が
存在するとき、これに応じて補正したマスク（１）のパ
ターンを感光基板（８）上に露光することができる。

【００３５】請求項１３に記載の露光方法では、感光基
板（８）上に予め露光されたパターン（１４）に、走査
方向（Ｘ）に所定の角度（β）でずれる直交度誤差
（β）が存在するとき、これに応じて補正したマスク
（１）のパターンを感光基板（８）上のパターン（１
４）に重ね合わせて露光することができる。

【００３６】請求項１４に記載の露光方法では、マスク
（１）上のパターンと感光基板（８）上に予め露光され
たパターン（１４）との間に、走査方向（Ｘ）に所定の
角度（β）でずれる直交度誤差（β）が相対的に存在す
るとき、これに応じて補正したマスク（１）のパターン
を感光基板（８）上のパターン（１４）に重ね合わせて
露光することができる。

【００３７】

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。

【００３８】図１において、３は全体として液晶表示装
置を製造する感光基板に大面積のパターンを露光する走
査型露光装置を示す。複数の照明光学系４Ａ〜４Ｅより
それぞれ射出された複数の光束Ｌ１Ａ〜Ｌ１Ｅは、マス
クステージ５上に固定されたマスク１の複数の異なる小
領域Ｍ１〜Ｍ５をそれぞれ照明する。

【００３９】マスク１を透過した複数の光束Ｌ１Ａ〜Ｌ
１Ｅは、複数の投影光学系６Ａ〜６Ｅのそれぞれを介し
て、キヤリツジ７上に載置された感光基板８を照射す
る。これにより原画パターン２のうち小領域Ｍ１〜Ｍ５
にそれぞれ対応した転写像Ｐ１〜Ｐ５が感光基板８上に
投影される。

【００４０】各投影光学系６Ａ〜６Ｅには、転写像Ｐ１
〜Ｐ５をＸ方向及びＹ方向に移動させたり光軸に対して
回転方向に移動させる機構と、転写像Ｐ１〜Ｐ５の倍率
を調整する機構とでなる像シフト・回転・倍率調整機構
（以下調整機構という）９Ａ〜９Ｅがそれぞれ配されて
いる。

【００４１】感光基板８上の複数の転写像Ｐ１〜Ｐ５
は、図６に示すように、それぞれ台形状に整形されてい
る。それぞれの台形状の上辺は、転写像Ｐ１、Ｐ３及び
Ｐ５でなる第１転写像列と、転写像Ｐ２及びＰ４でなる
第２転写像列とが対向する側に向けられている。また隣
合う転写像Ｐ１〜Ｐ５（例えばＰ１及びＰ２、Ｐ２及び
Ｐ３）は、中心がＸ方向及びＹ方向にそれぞれ列間距離
Ｄ及び像間距離Ｌｙだけ互いに隔てられ、三角形状の端
部がＹ方向に重複するようになされている。

【００４２】複数の投影光学系６Ａ〜６Ｅの光軸も、複
数の転写像Ｐ１〜Ｐ５の中心の配置に対応して、Ｘ方向
及びＹ方向にそれぞれ列間距離Ｄ及び像間距離Ｌｙだけ
互いに隔てられている。複数の照明光学系４Ａ〜４Ｅ
は、マスク１上の複数の小領域Ｍ１〜Ｍ５の中心が複数
の転写像Ｐ１〜Ｐ５と同様の配置となるように配されて
いる。

【００４３】マスクステージ５は、断面コ字形状に形成
されたキヤリツジ７の対向する２辺の部材のうち光束Ｌ
１Ａ〜Ｌ１Ｅを通す４角穴が穿設されている側の部材上
に載置されている。またマスクステージ５は、３つの駆
動モータ１０〜１２によりＸ方向、Ｙ方向と、投影光学
系６Ａ〜６Ｅの光軸方向（Ｚ方向）を軸とする回転方向
とに駆動される。

【００４４】図２に示すように、キヤリツジ７とマスク
ステージ５とにはそれぞれ測長干渉計Ｇ１、Ｇ２が配さ
れており、これの出力に基づいてＸ方向の位置が別個に
制御される。また感光基板８を載置する基板ステージ１
３とマスクステージ５とのＸ方向の一方の端付近には１
対の測長干渉計Ｇ４が配されている。さらにＸ方向の他
方の端付近にも１対の測長干渉計Ｇ５が配されている。
これにより感光基板８に対するマスク１のＹ方向の位置
と回転量は、２対の測長干渉計Ｇ４及びＧ５でなる差動
干渉計が送出する出力Ｇ₄及びＧ₅より出力（Ｇ₄＋Ｇ
₅）／２、（Ｇ₄−Ｇ₅）／２を得て、これに基づいて
それぞれ求められる。

【００４５】以上の構成において、スペクトラム７に示
すようなマスク１の直交度誤差αが予め判明しており、
この直交度誤差αを矯正して感光基板８上に正しく転写
する場合、図３に示すように制御装置（図示せず）は、
調整機構９Ｂ及び９Ｄを使用して、予め転写像Ｐ２、Ｐ
４をＹ方向にシフト量Δｙだけシフトさせる。このシフ
ト量Δｙは、列間距離Ｄを用いてΔｙ＝Ｄ・ tanαで求
められる。更に制御装置は、図７に示すように、マスク
１のパターン２の４つの辺のうち走査開始側及び終了側
の２つの辺がＹ方向と平行になるように、駆動モータ１
０〜１２を使用してマスクステージ５を回転させて、マ
スク１を設置する。

【００４６】続いて制御装置は、キヤリツジ７上に保持
したマスク１と感光基板８のＸ方向の相対的な位置関係
を保つたまま、Ｘ方向に一定速度で走査して露光する。
これと同時に制御装置は、駆動モータ１０〜１２を使用
し、図８に示すマスク１の移動量に従つて、走査露光中
にマスク１を感光基板８に対して連続的にＹ方向にシフ
トさせる。

【００４７】このように制御装置がマスク１の軌跡を制
御することによつて、図３中の破線で示すように、転写
像Ｐ１及びＰ２、Ｐ２及びＰ３、Ｐ３及びＰ４、Ｐ４及
びＰ５の中心の間隔は常に等しくなる。これにより転写
像Ｐ１〜Ｐ５は精度良く接合される。また図７に示すパ
ターン２の直交度誤差αが矯正されて、原画パターン２
を感光基板８上に正しく転写することができる。

【００４８】以上の構成によれば、マスク１と感光基板
８とを面内で相対的に回転し、かつマスク１及び感光基
板８のＸ方向の位置に応じてマスク１と感光基板８との
相対位置をＹ方向に変位するマスクステージ５及び駆動
モータ１０〜１２と、投影光学系６Ａ、６Ｃ及び６Ｅを
介して投影される転写像Ｐ１、Ｐ３及びＰ５の位置と投
影光学系６Ｂ及び６Ｄを介して投影される転写像Ｐ２及
びＰ４の位置とをＹ方向に相対的に変位する調整機構９
Ａ〜９Ｅとを配したことにより、予め判明しているマス
ク１の原画パターン２の直交度誤差αは矯正されて原画
パターン２を感光基板８上に正しく転写することができ
る。

【００４９】なお上述の実施例においては、マスク１の
原画パターン２が有する直交度誤差αを矯正して感光基
板８上に正しく転写する場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、図７に示したマスク１の直交度誤差α
が補正されず原画パターン２がそのまま感光基板８上に
既に露光されており、かつこの原画パターン２に重ね合
わせて、例えば、直交度誤差のない第２のパターンを感
光基板８上に転写する場合にも適用できる。

【００５０】この場合、制御装置はまず図１に示す２本
のアライメントセンサ１５Ａ及び１５Ｂを用いて、マス
ク１内のアライメント用のマークＭＡ１及びＭＡ２と感
光基板８内のアライメント用のマークＰＡ１及びＰＡ２
との位置関係を計測する。

【００５１】このようにして得たマスク１と感光基板８
との相対的な位置関係に基づいて、制御装置はＸ方向及
びＹ方向のシフト量Δｘ及びΔｙと回転誤差とを求め
る。続いてシフト量Δｘ及びΔｙと回転誤差とにより、
制御装置はマスクステージ５を駆動モータ１０〜１２を
使用して所定の位置に位置決めし、走査して露光する。

【００５２】また上述の実施例においては、マスク１の
原画パターン２が有する直交度誤差αを矯正して感光基
板８上に正しく転写する場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、マスクの原画パターンと感光基板８に
既に露光されているパターンとの間に相対的に図７に示
すような直交度誤差αが存在する場合にも適用できる。
この場合も上述と同様の手順で、既に露光されているパ
ターンに重ね合わせて新しいパターンを感光基板８上に
転写することができる。

【００５３】さらに上述の実施例においては、マスク１
上に形成された原画パターン２がＸ方向に向かうに従つ
て角度α分だけＹ方向にずれる直交度誤差αを有する場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、図４に示
すように、既に露光されている感光基板８のパターンの
Ｙ方向に沿つた辺が、角度β分だけＸ方向にずれる直交
度誤差βが存在し、このパターンに重ね合わせて新しい
パターンを感光基板８上に転写する場合にも適用でき
る。

【００５４】制御装置は、上述のアライメントセンサ１
５Ａ及び１５Ｂを用いて、３組以上のアライメント用マ
ークＭＡ１、ＰＡ１、ＭＡ２、ＰＡ２、ＭＡ３、ＰＡ３
を計測することによつて直交度誤差βを得る。

【００５５】続いて制御装置は、各投影光学系６Ａ〜６
Ｅを介して感光基板８上に結像する転写像Ｐ１〜Ｐ５の
相互の位置を、調整機構９Ａ〜９Ｅを用いて設定する。
すなわち図５の破線で示すように、制御装置は、通常の
転写像Ｐ１〜Ｐ５の中心のＹ方向の位置を、第１及び第
２転写像列の中心のＹ方向の位置をそれぞれ０として、
それぞれ＋２Ｌｙ、＋Ｌｙ、０、−Ｌｙ、−２Ｌｙに設
定している。

【００５６】これに対して、制御装置は、図５の実線で
示すように、調整後の転写像Ｐ１〜Ｐ５の中心のＹ方向
の位置を、それぞれ＋２Ｌｙ・ cosβ、＋Ｌｙ・ cos
β、０、−Ｌｙ・ cosβ、−２Ｌｙ・ cosβに設定す
る。また制御装置は、転写像Ｐ１〜Ｐ５の中心のＸ方向
の位置を、第１及び第２転写像列の中心のＸ方向の位置
をそれぞれ０として、＋２Ｌｙ・ sinβ、＋Ｌｙ・ sin
β、０、−Ｌｙ・ sinβ、−２Ｌｙ・sin βに設定す
る。

【００５７】続いて制御装置は、それぞれの投影光学系
６Ａ〜６Ｅの調整機構９Ａ〜９Ｅを用いて転写像Ｐ１〜
Ｐ５の位置がβだけ回転するように設定する。制御装置
は、この状態でマスク１をキヤリツジ７の走査方向（Ｘ
方向）に対して直交度誤差を与えない位置で保持したま
ま走査して露光する。これにより原画パターン２は直交
度誤差βを与えられて、感光基板８上に転写される。

【００５８】因みに、この方法においては「− cosβ」
という倍率誤差が発生する。これが問題となるときは、
調整機構９Ａ〜９Ｅを用いてこの誤差を相殺すると共
に、各転写像Ｐ１〜Ｐ５の中心の間隔が等しく像間距離
Ｌｙとなるように設定すれば良い。

【００５９】さらに上述の実施例においては、感光基板
８に既に露光されているパターンが図４に示す直交度誤
差βを有し、このパターンに重ね合わせて新しい原画パ
ターンを転写する場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、原画パターンと感光基板８に既に露光されて
いるパターンとの間に相対的に直交度誤差βが存在し、
このパターンに重ね合わせて新しい原画パターンを転写
する場合にも適用できる。

【００６０】上述のようにして、走査型露光装置３内に
組み込んだ検出系（アライメントセンサ）を用いて計測
することによつて、マスク１の原画パターンの直交度誤
差αを全て自動的に補正できる。また感光基板８上に形
成されたパターン１４上に投影された転写像Ｐ１〜Ｐ５
の位置を計測して補正量を求めるか、予め補正量を装置
に対して与えておくことにより、感光基板８の直交度誤
差αやβも補正することができる。さらに複数の感光基
板８のそれぞれに固有の直交度誤差αやβを補正するこ
ともできる。これにより複数の装置間での重ね合わせ精
度も向上させることができる。

【００６１】また直交度誤差αを持たないマスク上の原
画パターンを用いて露光した感光基板８上の転写像Ｐ１
〜Ｐ５の配置を測定し、得られた直交度誤差を装置固有
の誤差として管理し、走査露光動作の際に上述の方法で
補正することによつて、調整作業時間の短縮や上述の複
数の装置間での重ね合わせ精度を向上させることができ
る。

【００６２】またアライメント用のマークＭＡ１、ＭＡ
２、ＰＡ１及びＰＡ２等を少なくとも３組以上配置し、
この計測結果を用いて最小２乗法等で演算することによ
り、直交度、スケーリング（倍率）の誤差成分について
も得て補正することができる。

【００６３】さらに上述の実施例においては、１枚の感
光基板８を処理する場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、複数枚の感光基板８を連続して同一に処理
する場合には、上述の手順で感光基板８毎に原画パター
ン２の直交度誤差αやパターン１４の直交度誤差βを算
出することに代えて、最初の数枚の感光基板８を用いて
計測した結果に基づいて、直交度誤差αやβを求めて以
降の感光基板８を処理しても良い。これにより、作業時
間の短縮を図ることができる。

【００６４】

【発明の効果】上述のように、請求項１に記載の走査型
露光装置では、マスクや感光基板上のパターンに、走査
方向に向かうに従つて走査方向に直交する方向に所定の
角度でずれる直交度誤差が存在するとき、これに応じて
補正したマスクのパターンを感光基板上に露光すること
ができる。

【００６５】請求項２に記載の走査型露光装置では、マ
スク上のパターンに、走査方向に向かうに従つて走査方
向に直交する方向に所定の角度でずれる直交度誤差が存
在するとき、これを補正したマスクのパターンを感光基
板上に正しく露光することができる。

【００６６】請求項３に記載の走査型露光装置では、感
光基板に予め露光されたパターンに、走査方向に向かう
に従つて走査方向に直交する方向に所定の角度でずれる
直交度誤差が存在するとき、これに応じて補正したマス
クのパターンを感光基板上のパターンに重ね合わせて露
光することができる。

【００６７】請求項４に記載の走査型露光装置では、マ
スク上のパターンと感光基板に予め露光されたパターン
との間に、走査方向に向かうに従つて走査方向に直交す
る方向に所定の角度でずれる直交度誤差が相対的に存在
するとき、これに応じて補正したマスクのパターンを感
光基板上のパターンに重ね合わせて露光することができ
る。

【００６８】請求項５に記載の走査型露光装置では、マ
スクや感光基板上のパターンに、走査方向に所定の角度
でずれる直交度誤差が存在するとき、これに応じて補正
したマスクのパターンを感光基板上に露光することがで
きる。

【００６９】請求項６に記載の走査型露光装置では、感
光基板上に予め露光されたパターンに、走査方向に所定
の角度でずれる直交度誤差が存在するとき、これに応じ
て補正したマスクのパターンを感光基板上のパターンに
重ね合わせて露光することができる。

【００７０】請求項７に記載の走査型露光装置では、マ
スク上のパターンと感光基板上に予め露光されたパター
ンとの間に、走査方向に所定の角度でずれる直交度誤差
が相対的に存在するとき、これに応じて補正したマスク
のパターンを感光基板上のパターンに重ね合わせて露光
することができる。

【００７１】請求項８に記載の露光方法では、マスクや
感光基板上のパターンに、走査方向に向かうに従つて走
査方向に直交する方向に所定の角度でずれる直交度誤差
が存在するとき、これに応じて補正したマスクのパター
ンを感光基板上に露光することができる。

【００７２】請求項９に記載の露光方法では、マスク上
のパターンに、走査方向に向かうに従つて走査方向に直
交する方向に所定の角度でずれる直交度誤差が存在する
とき、これを補正したマスクのパターンを感光基板上に
正しく露光することができる。

【００７３】請求項１０に記載の露光方法では、感光基
板に予め露光されたパターンに、走査方向に向かうに従
つて走査方向に直交する方向に所定の角度でずれる直交
度誤差が存在するとき、これに応じて補正したマスクの
パターンを感光基板上のパターンに重ね合わせて露光す
ることができる。

【００７４】請求項１１に記載の露光方法では、マスク
上のパターンと感光基板に予め露光されたパターンとの
間に、走査方向に向かうに従つて走査方向に直交する方
向に所定の角度でずれる直交度誤差が相対的に存在する
とき、これに応じて補正したマスクのパターンを感光基
板上のパターンに重ね合わせて露光することができる。

【００７５】請求項１２に記載の露光方法では、マスク
や感光基板上のパターンに、走査方向に所定の角度でず
れる直交度誤差が存在するとき、これに応じて補正した
マスクのパターンを感光基板上に露光することができ
る。

【００７６】請求項１３に記載の露光方法では、感光基
板上に予め露光されたパターンに、走査方向に所定の角
度でずれる直交度誤差が存在するとき、これに応じて補
正したマスクのパターンを感光基板上のパターンに重ね
合わせて露光することができる。

【００７７】請求項１４に記載の方法では、マスク上の
パターンと感光基板上に予め露光されたパターンとの間
に、走査方向に所定の角度でずれる直交度誤差が相対的
に存在するとき、これに応じて補正したマスクのパター
ンを感光基板上のパターンに重ね合わせて露光すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による走査型露光装置及び露光方法の一
実施例による走査型露光装置の構成を示す斜視図であ
る。

【図２】キヤリツジ、マスク及び感光基板の干渉計の配
置を示す斜視図である。

【図３】実施例による転写像の位置を示す略線図であ
る。

【図４】他の実施例による感光基板上に直交度誤差βで
形成されたパターンを示す略線図である。

【図５】他の実施例による転写像の位置を示す略線図で
ある。

【図６】転写像の位置を示す略線図である。

【図７】マスク上に直交度誤差αで形成されたパターン
を示す略線図である。

【図８】走査方向に対するマスクの移動量を示す直線図
である。

【符号の説明】

１……マスク、２、１４……パターン、３……走査型露
光装置、４Ａ〜４Ｅ……照明光学系、５……マスクステ
ージ、６Ａ〜６Ｅ……投影光学系、７……キヤリツジ、
８……感光基板、９Ａ〜９Ｅ……調整機構、１０〜１２
……駆動モータ、１３……基板ステージ、１５Ａ、１５
Ｂ……アライメントセンサ、Ｐ１〜Ｐ５……転写像、Ｍ
１〜Ｍ５……領域。

フロントページの続き (72)発明者柳原政光東京都千代田区丸の内３丁目２番３号株式会社ニコン内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パターンが形成されたマスク上の複数の領
域をそれぞれ照明する複数の照明光学系と、第１の方向
に沿つて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有す
る第１光学系と、前記第１光学系と平行に、且つ所定間
隔をおいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有
する第２光学系とを有し、前記複数の領域の像の一部を
前記第１光学系を介して、また前記複数の領域の像の他
の一部を前記第２光学系を介して同時に感光基板上に投
影すると共に、前記第１の方向とほぼ直交し、且つ前記
感光基板の面内の方向に前記マスクと前記感光基板とを
同期して走査する走査型露光装置において、前記マスクと前記感光基板とを、前記マスク若しくは前
記感光基板の面内で相対的に回転する回転手段と、前記マスク若しくは前記感光基板の前記走査方向の位置
に応じて前記マスクと前記感光基板との相対位置を前記
第１の方向に変位する位置変位手段と、前記第１光学系を介して投影される像の位置と前記第２
光学系を介して投影される像の位置とを前記第１の方向
に相対的に変位する結像位置変更手段とを具えることを
特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】前記結像位置変更手段は、前記マスク上に
形成された前記パターンの配列に関する第１の座標系
の、前記走査の方向と該走査の方向に直交する方向とで
決定される第２の座標系に対する角度の偏差に基づいて
前記相対的に変位することを特徴とする請求項１に記載
の走査型露光装置。
【請求項３】前記感光基板は、予め前記マスクのパター
ンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更手段は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
第１の像の配列に関する第１の座標系の、前記走査の方
向と該走査の方向に直交する方向とで決定される第２の
座標系に対する角度の偏差に基づいて前記相対的に変位
することを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装
置。
【請求項４】前記感光基板は、予め前記マスクのパター
ンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更手段は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
マスクのパターンの配列に関する第１の座標系の、前記
第１の像の配列に関する第２の座標系に対する角度の偏
差に基づいて前記相対的に変位することを特徴とする請
求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項５】パターンが形成されたマスク上の複数の領
域をそれぞれ照明する複数の照明光学系と、第１の方向
に沿つて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有す
る第１光学系と、前記第１光学系と平行に、且つ所定間
隔をおいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有
する第２光学系とを有し、前記複数の領域の像の一部を
前記第１光学系を介して、また前記複数の領域の像の他
の一部を前記第２光学系を介して感光基板上に投影する
と共に、前記第１の方向とほぼ直交し、且つ前記感光基
板の面内の方向に前記マスクと前記感光基板とを同期し
て走査する走査型露光装置において、前記第１光学系及び前記第２光学系を介して投影される
像の配列方向を、前記第１の方向に対して所定角度だけ
変更し、前記第１光学系を介して投影される像それぞれ
の間隔及び第２光学系を介して投影される像それぞれの
間隔を変更すると共に、前記それぞれの像の前記光軸に
関する回転方向の位置を変更する結像位置変更手段を具
えることを特徴とする走査型露光装置。
【請求項６】前記感光基板は、予め前記マスクのパター
ンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更手段は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
第１の像の配列に関する第１の座標系の、前記走査の方
向と該走査の方向に直交する方向とで決定される第２の
座標系に対する角度の偏差に基づいて前記配列方向の変
更、前記像の間隔の変更、及び前記回転方向の位置の変
更を行うことを特徴とする請求項５に記載の走査型露光
装置。
【請求項７】前記感光基板は、予め前記マスクのパター
ンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更手段は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
マスクのパターンの配列に関する第１の座標系の、前記
第１の像の配列に関する第２の座標系に対する角度の偏
差に基づいて前記配列方向の変更、前記像の間隔の変
更、及び前記回転方向の位置の変更を行うことを特徴と
する請求項５に記載の走査型露光装置。
【請求項８】パターンが形成されたマスク上の複数の領
域をそれぞれ照明する複数の照明光学系と、第１の方向
に沿つて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有す
る第１光学系と、前記第１光学系と平行に、且つ所定間
隔をおいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有
する第２光学系とを有し、前記複数の領域の像の一部を
前記第１光学系を介して、また前記複数の領域の像の他
の一部を前記第２光学系を介して感光基板上に投影する
と共に、前記第１の方向とほぼ直交し、且つ前記感光基
板の面内の方向に前記マスクと前記感光基板とを同期し
て走査する露光方法において、前記マスクと前記感光基板とを、前記マスク若しくは前
記感光基板の面内で相対的に回転する回転処理と、前記マスク若しくは前記感光基板の前記走査方向の位置
に応じて前記マスクと前記感光基板との相対位置を前記
第１の方向に変位する位置変位処理と、前記第１光学系を介して投影される像の位置と前記第２
光学系を介して投影される像の位置とを前記第１の方向
に相対的に変位する結像位置変更処理とを具えることを
特徴とする露光方法。
【請求項９】前記結像位置変更処理は、前記マスク上に
形成された前記パターンの配列に関する第１の座標系
の、前記走査の方向と該走査の方向に直交する方向とで
決定される第２の座標系に対する角度の偏差に基づいて
前記相対的に変位することを特徴とする請求項８に記載
の露光方法。
【請求項１０】前記感光基板は、予め前記マスクのパタ
ーンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更処理は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
第１の像の配列に関する第１の座標系の、前記走査の方
向と該走査の方向に直交する方向とで決定される第２の
座標系に対する角度の偏差に基づいて前記相対的に変位
することを特徴とする請求項８に記載の露光方法。
【請求項１１】前記感光基板は、予め前記マスクのパタ
ーンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更処理は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
マスクのパターンの配列に関する第１の座標系の、前記
第１の像の配列に関する第２の座標系に対する角度の偏
差に基づいて前記相対的に変位することを特徴とする請
求項８に記載の露光方法。
【請求項１２】パターンが形成されたマスク上の複数の
領域をそれぞれ照明する複数の照明光学系と、第１の方
向に沿つて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を有
する第１光学系と、前記第１光学系と平行に、且つ所定
間隔をおいて一列に光軸を配置した複数の投影光学系を
有する第２光学系とを有し、前記複数の領域の像の一部
を前記第１光学系を介して、また前記複数の領域の像の
他の一部を前記第２光学系を介して感光基板上に投影す
ると共に、前記第１の方向とほぼ直交し、且つ前記感光
基板の面内の方向に前記マスクと前記感光基板とを同期
して走査する露光方法において、前記第１光学系及び前記第２光学系を介して投影される
像の配列方向を、前記第１の方向に対して所定角度だけ
変更し、前記第１光学系を介して投影される像それぞれ
の間隔及び第２光学系を介して投影される像それぞれの
間隔を変更すると共に、前記それぞれの像の前記光軸に
関する回転方向の位置を変更する結像位置変更処理を具
えることを特徴とする露光方法。
【請求項１３】前記感光基板は、予め前記マスクのパタ
ーンの第１の像を形成してあり、前記結像位置変更処理は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
第１の像の配列に関する第１の座標系の、前記走査の方
向と該走査の方向に直交する方向とで決定される第２の
座標系に対する角度の偏差に基づいて前記配列方向の変
更、前記像の間隔の変更、及び前記回転方向の位置の変
更を行うことを特徴とする請求項１２に記載の露光方
法。
【請求項１４】前記感光基板は、予め前記マスクのパタ
ーンの第１の像を形成してあり、前期結像位置変更処理は、前記第１の像に重ね合わせて
前記マスクのパターンの第２の像を露光する場合、前記
マスクのパターンの配列に関する第１の座標系の、前記
第１の像の配列に関する第２の座標系に対する角度の偏
差に基づいて前記配列方向の変更、前記像の間隔の変
更、及び前記回転方向の位置の変更を行うことを特徴と
する請求項１２に記載の露光方法。