JPH0881456A - １，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 下記式〔Ｉ〕 〔式中、Ｒは反応に不活性な基または原子を表わし、ｎ
は１〜４の整数を表わす。但し、ｎが２以上のとき、Ｒ
は同一でも相異なっていてもよい。〕で示されるフタリ
ド誘導体に三塩化リンおよび塩素を作用させる下記式
〔II〕 〔式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わす。〕で示
される１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒド
ロイソベンゾフラン誘導体の製造法。 【効果】 上記の方法により１，１，３，３−テトラク
ロロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン誘導体を工業
的にも有利に製造することが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、農薬等の製造中間体等
として有用な１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−
ジヒドロイソベンゾフラン誘導体の製造法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、特開平 5-301860 号公報に式 化３

【化３】 で示されるある種のベンズイミダゾール化合物が優れた
殺菌活性を有すること、および、その製造中間体として
５−クロロ−１，１，３，３−テトラフルオロ−６−ニ
トロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフランが有用である
こと等が記載されており、該製造中間体化合物の有利な
製造法が望まれていた。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況下、該製造中間体化合物等に導くことのできる下
記一般式 化５で示される１，１，３，３−テトラクロ
ロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン誘導体の製造法
について種々検討した結果、下記一般式 化４で示され
るフタリド誘導体に三塩化リンおよび塩素を作用させる
ことにより、下記一般式 化５で示される１，１，３，
３−テトラクロロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン
誘導体を工業的にも有利に製造することができることを
見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、一般式
化４

【化４】 〔式中、Ｒは反応に不活性な基または原子を表わし、ｎ
は１〜４の整数を表わす。但し、ｎが２以上のとき、Ｒ
は同一でも相異なっていてもよい。〕で示されるフタリ
ド誘導体に三塩化リンおよび塩素を作用させることを特
徴とする、一般式 化５

【化５】 〔式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わす。〕で示
される１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒド
ロイソベンゾフラン誘導体の製造法を提供するものであ
る。

【０００４】一般式 化４において、Ｒとしては、例え
ば、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等）、ニトロ基、シアノ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ ア
ルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）等が
あげられるが、必ずしもこれらに限定されるものではな
い。本発明に用いる原料化合物である一般式 化４で示
されるフタリド誘導体としては、例えばフタリド、４−
クロロフタリド、５−クロロフタリド、４，５−ジクロ
ロフタリド、３，４，５，６−テトラクロロフタリド、
４−フルオロフタリド、４，５−ジブロモフタリド、４
−クロロ−５−ニトロフタリド、３−ニトロフタリド、
４−ニトロフタリド、５−ニトロフタリド、６−ニトロ
フタリド、４−シアノフタリド、４−メチルフタリド、
４，５−ジメトキシフタリド等があげられる。

【０００５】本発明において、塩素は、塩素ガスまたは
液化塩素、あるいはこの両者を併用して用い、塩素ガス
は反応液中に直接吹き込む方法、反応液の気相部へ通じ
る方法、反応液の気相部へ加圧する方法、またはこれら
の併用により作用させることができ、液化塩素は反応液
への滴下により作用させることができる。用いられる試
剤の量比は、一般式 化４のフタリド誘導体１モルに対
し、三塩化リンは通常２〜１００モルの割合望ましくは
３〜１０モルの割合であり、塩素は通常２〜１０モルの
割合望ましくは３〜６モルの割合である。反応は、通常
0.2〜２４時間かけて、通常０〜２００℃の範囲内の温
度で行われ、望ましくは２０〜１００℃の範囲内の温度
で行われる。

【０００６】反応は有機溶媒中で行ってもよく、必要に
応じて用いられる有機溶媒としては、例えばクロロホル
ム、四塩化炭素、１，２−ジクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等のハロゲン化炭化水
素溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素溶媒、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の
ハロゲン系芳香族炭化水素溶媒、オキシ塩化リン等及び
それらの混合物があげられる。反応終了後の反応液は、
そのまままたは三塩化リンや溶媒等を留去した後、冷水
または氷水へ徐々に加え、有機溶媒で抽出し、必要に応
じて有機層を水洗あるいは炭酸水素ナトリウム水溶液等
による洗浄を行い、濃縮等の通常の方法により生成物を
得る方法、あるいは水に加えた際に析出した結晶を濾過
等の操作により、目的とする一般式 化５で示される
１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒドロイソ
ベンゾフラン誘導体を単離することができる。必要であ
れば、蒸留、再結晶あるいはクロマトグラフィー等の操
作によりさらに精製することもできる。

【０００７】本発明に用いる原料化合物である一般式
化４で示されるフタリド誘導体は、例えば下記反応式
化６

【化６】 〔式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わす。〕で示
される方法により得ることが出来る。

【０００８】

【実施例】以下、本発明を実施例等によりさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるも
のではない。尚、場合により、得られた生成物の純度を
ガスクロマトグラフィーを用いた面積百分率法または内
部標準法（ＧＣ−ＩＳ法）により求めた。得られた生成
物の収率は、単離した生成物の重量または／およびガス
クロマトグラフィーを用いた面積百分率法またはＧＣ−
ＩＳ法により求めた。ＧＣ−ＩＳ法では、単離した純粋
な目的物と内部標準物質との検出強度の比を求め、次に
反応終了後、処理して得られた生成物に一定量の内部標
準物質を加え、ガスクロマトグラフィーの検出強度比に
より純度を算出した。使用したガスクロマトグラフィー
カラムはメガボアーのキャピラリーカラムＤＢ−１７
（Ｊ＆Ｗサイエンティフィック株式会社製）0.53mm×３
０ｍを用い、キャリアーはヘリウム５ml／min である。

【０００９】実施例１ フタリド５ｇを三塩化リン１００ｇに加え、常温で３０
分間攪拌後、６０℃まで昇温させた。この液中に塩素ガ
ス 7.9ｇを約３０分かけて吹き込んだ。この際、反応熱
により反応液の温度は７０℃前後まで上昇した。塩素ガ
ス吹き込み終了後は、反応液の温度を８０〜８３℃に保
ちながら２時間攪拌を続けた。次に反応液中の三塩化リ
ン７０ｇを蒸留により留去し、蒸留釜残を、冷却後、氷
水１００ｇに徐々に注加した。これをクロロホルム５０
ｇで２回抽出し、クロロホルム層を合わせて、１％炭酸
水素ナトリウム水溶液１００ｇおよび水１００ｇで順次
洗浄した。クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下に留去し、淡黄色油状の１，１，
３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフ
ラン8.66ｇ〔収率７０％（後記純度より補正済みの
値）〕を得た。ガスクロマトグラフィーの分析結果より
純度は７８％であった。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：7.3 〜7.9(4H,m) mass（FD）：ｍ／ｅ、親ピーク ２２１〔−Ｃｌ⁺ 〕

【００１０】実施例２ ４，５−ジクロロフタリド１４ｇを１，２−ジクロロエ
タン１５０ｇ中に加え、これに三塩化リン28.4ｇを加え
た後、５０℃まで昇温させた。この液中に塩素ガス15.2
ｇを約１時間かけて吹き込んだ。反応熱により反応液の
温度は７０℃前後まで上昇した。塩素ガス吹き込み終了
後は、反応液の温度を７５〜８０℃に保ちながらさらに
１時間攪拌した。反応液を冷却後、氷水２００ｇに徐々
に注加し、分液した。この油層と、水層を１，２−ジク
ロロエタン１００ｇで抽出した。油層を合わせて、１％
炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｇおよび水１５０ｇで
順次洗浄した。油層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
１，２−ジクロロエタンを減圧下に留去し、白色結晶の
１，１，３，３，５，６−ヘキサクロロ−１，３−ジヒ
ドロイソベンゾフラン 20.78ｇ〔収率８５％（後記純度
より補正済みの値）〕を得た。ガスクロマトグラフィー
の分析結果より純度は９２％であった。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：7.8(2H,s) mass（FD）：ｍ／ｅ、親ピーク ３２４

【００１１】実施例３ ５−クロロ−４−ニトロフタリド２５ｇをオキシ塩化リ
ン２５０ｇに加え、これに三塩化リン80.3ｇを加えた
後、７０℃まで昇温させた。この液中に塩素ガス41.5ｇ
を約１時間かけて吹き込んだ。反応熱により反応液の温
度は９０℃前後まで上昇した。塩素ガス吹き込み終了後
は、反応液の温度を９５〜１００℃に保ちながらさらに
２時間攪拌した。次に反応液中のオキシ塩化リン約２０
０ｇを蒸留により留去し、蒸留釜残を冷却後、クロロホ
ルム２００ｇで希釈し、これを氷水２００ｇに徐々に注
加した。分液したクロロホルム層と、水層をクロロホル
ム１００ｇで抽出したクロロホルム層を合わせて、１％
炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｇおよび水２００ｇで
順次洗浄し、クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。クロロホルム層を減圧下に留去し、橙白色結
晶の５−クロロ−１，１，３，３−テトラクロロ−６−
ニトロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン32.9ｇ〔収
率７３％（後記純度より補正済みの値）〕を得た。ガス
クロマトグラフィーの分析結果より純度は８８％であっ
た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：8.1(1H,s) 、7.9(1
H,s) mass（FD）：ｍ／ｅ、親ピーク ３３５

【００１２】次に、本発明において原料化合物として用
いられる一般式 化４で示されるフタリド誘導体の製造
例を示す。 参考例１ ４，５−ジクロロフタル酸９０ｇ、無水酢酸５８ｇおよ
びトルエン８１０ｇを約２時間加熱還流後、減圧下で濃
縮することにより、４，５−ジクロロフタル酸無水物8
2.8ｇ（収率９９％）を白色固体として得た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：8.11(2H,s) ４，５−ジクロロフタル酸無水物82.8ｇおよびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド４１４ｇを仕込み、そこへ水素化
ホウ素ナトリウム28.8ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド３３１ｇに溶解した溶液を内温２５〜５０℃の範囲内
でゆっくり滴下した。その後、６５℃で約２時間攪拌し
た。その後、室温まで冷却し、１０％塩酸水を３３１ｇ
滴下した後、１００℃で１時間攪拌した。冷却後、析出
した固体を濾別乾燥して、４，５−ジクロロフタリド6
2.8ｇ（収率８１％）を得た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：5.29(2H,s)、7.63
(1H,s)、8.00(1H,s)

【００１３】参考例２ ４−クロロフタル酸無水物２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド８０ｇに溶解し、これに常温で水素化ホウ素
ナトリウム 8.3ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０
ｇの溶液を滴下した。その後、反応液を６５℃で１時間
攪拌し、次に２０℃まで冷却後、１０％塩酸１２５ｇを
注加した。この混合液を１００℃に昇温し、加熱還流
下、１時間攪拌を続けた後、冷却によって析出した結晶
を濾過、水洗し、さらに減圧下乾燥させて白色結晶の５
−クロロフタリド 8.3ｇ（収率４５％）を得た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：8.1 〜7.4(3H,m)
、5.3(2H,s) 次に、濃硫酸６４mlに５−クロロフタリド 7.0ｇを添加
し、０℃に冷却した状態で攪拌下、濃硝酸７mlを３０分
かけて滴下した。その後、反応液を２５℃まで昇温し、
１時間攪拌を続けた後、氷水５００mlに注加した。これ
を酢酸エチル１５０mlで２回抽出し、油層を合わせて、
飽和食塩水１００mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。酢酸エチルを減圧下に留去し、淡黄色結晶
の５−クロロ−４−ニトロフタリド63.4ｇ（収率６５
％）を得た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：8.4(1H,s) 、7.8(1
H,dd)、5.4(2H,s)

【００１４】次に、本発明の方法で製造される一般式
化５で示される１，１，３，３−テトラクロロ−１，３
−ジヒドロイソベンゾフラン誘導体から５−クロロ−
１，１，３，３−テトラフルオロ−６−ニトロ−１，３
−ジヒドロイソベンゾフランへの変換例を示す。 参考例３ ５−クロロ−１，１，３，３−テトラクロロ−６−ニト
ロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン１０ｇを１，４
−ジオキサン１００ｇに加え、これによく乾燥させた三
フッ化アンチモン（ＳｂＦ₃ ）18.6ｇを添加した後、加
温し、１，４−ジオキサンを留去させながら１５０℃ま
で昇温させた。その後、５０℃まで冷却し、クロロホル
ム２００ｇで希釈した反応液をセライトを助剤として濾
過した。濾残をさらにクロロホルム１００ｇで洗浄し、
濾液及び洗液を水２００ｇで洗浄した。分液後の有機層
をさらに 0.5％水酸化カルシウム水溶液で洗浄後有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を減圧下
に留去し、茶褐色結晶の５−クロロ−１，１，３，３−
テトラフルオロ−６−ニトロ−１，３−ジヒドロイソベ
ンゾフラン 6.9ｇ（収率８６％）を得た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：8.4(1H,s) 、8.1(1
H,s) mass（FD）：ｍ／ｅ、親ピーク ２７１

【００１５】参考例４ １，１，３，３，５，６−ヘキサクロロ−１，３−ジヒ
ドロイソベンゾフラン56.3ｇおよび１，４−ジオキサン
５６３ｇを仕込み、これに三フッ化アンチモン（ＳｂＦ
₃ ）１１０ｇを添加し、１５０℃まで昇温し、１，４−
ジオキサンを除いた。１５０℃で約３０分攪拌後、冷却
したクロロホルム２００ｇで希釈して、セライト濾過し
た。得られた濾液を減圧下に濃縮後、そのまま減圧下で
得られた生成物を昇華させて、１，１，３，３−テトラ
フルオロ−５，６−ジクロロ−１，３−ジヒドロイソベ
ンゾフラン３１ｇ（収率７１％）を白色固体として得
た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：7.79(2H,s) ５０ml三ツ口フラスコに、１，１，３，３−テトラフル
オロ−５，６−ジクロロ−１，３−ジヒドロイソベンゾ
フラン 2.0ｇ、亜硝酸カリウム2.62ｇ、塩化第一銅（Ｃ
ｕＣｌ）0.16ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２
０ｇを仕込み、窒素気流下１２５℃で約６時間激しく攪
拌した。その後、反応液をトルエン２０ｇおよび１０％
ＮａＯＨ水溶液３０ｇに注加し、分液した。水層をトル
エン２０ｇで２回洗浄後、水層を塩酸でｐＨ２〜４に
し、トルエン４０ｇで抽出した。抽出液を濃縮し、目的
とする１，１，３，３−テトラフルオロ−５−ヒドロキ
シ−６−ニトロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン
1.5ｇ（収率７７％）を得た。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：1.61(1H,brs)、7.4
9(1H,s)、8.49(1H,s) mass（FD）：ｍ／ｅ、親ピーク ２５３ １，１，３，３−テトラフルオロ−５−ヒドロキシ−６
−ニトロ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン３．７２
ｇを塩化チオニル２２．５ｇに加え、これにＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド２．８９ｇを攪拌下、３０℃以下に
冷却しながら加えた。その後、８５〜８７℃で３時間攪
拌し、次に、過剰の塩化チオニルを蒸留留去した後、冷
却した。これにトルエン１００ｇおよび水１００ｇを加
え、抽出、分液し、トルエン層を７％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液１００ｇおよび水１００ｇで順次洗浄した。ト
ルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、トルエンを
減圧下留去し、茶褐色結晶の５−クロロ−１，１，３，
３−テトラフルオロ−６−ニトロ−１，３−ジヒドロイ
ソベンゾフラン４．０３ｇ〔収率９１％（後記純度より
補正済みの値）〕を得た。ガスクロマトグラフィーの分
析結果より純度は９０％であった。¹ H-NMR(CDCl₃ ／TMS) δ値(ppm) ：8.1(1H,s) 、7.9(1
H,s) mass（FD）：ｍ／ｅ、親ピーク ２７１

【００１６】

【発明の効果】本発明により、一般式 化５で示される
１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒドロイソ
ベンゾフラン誘導体を工業的にも有利に製造することが
出来る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒは反応に不活性な基または原子を表わし、ｎ
   は１〜４の整数を表わす。但し、ｎが２以上のとき、Ｒ
   は同一でも相異なっていてもよい。〕で示されるフタリ
   ド誘導体に三塩化リンおよび塩素を作用させることを特
   徴とする、一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表わす。〕で示
   される１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジヒド
   ロイソベンゾフラン誘導体の製造法。
2. 【請求項２】式 化１のＲ_n が４，５−ジクロロ基また
   は５−クロロ−４−ニトロ基である（式 化２のＲ_n が
   ５，６−ジクロロ基または５−クロロ−６−ニトロ基で
   ある）請求項１記載の製造法。