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JPH087330A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JPH087330A
JPH087330A JP6143042A JP14304294A JPH087330A JP H087330 A JPH087330 A JP H087330A JP 6143042 A JP6143042 A JP 6143042A JP 14304294 A JP14304294 A JP 14304294A JP H087330 A JPH087330 A JP H087330A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
recording
optical recording
dielectric layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6143042A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Horiguchi
透 堀口
Kenji Nakatani
健司 中谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP6143042A priority Critical patent/JPH087330A/en
Priority to TW084105307A priority patent/TW303454B/zh
Priority to DE69500790T priority patent/DE69500790T2/en
Priority to EP95303554A priority patent/EP0684601B1/en
Priority to US08/451,156 priority patent/US5577021A/en
Priority to KR1019950013467A priority patent/KR100251979B1/en
Publication of JPH087330A publication Critical patent/JPH087330A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an optical recording medium showing a characteristic suit able for edge recording, by letting a dielectric layer adjacent to one side of an optical recording layer contain C, Al and Si, and forming the dielectric layer of an amorphous nitride coupled with H. CONSTITUTION:A first dielectric layer 2 is formed on a substrate 1 having a guide on a surface thereof, on which a recording layer 3, a second dielectric layer 4, a metallic reflecting layer 5 and an organic protecting layer 6 are sequentially layered. An AlSiN film is formed to be 110nm thick as the first dielectric layer 2. The recording layer 3 is formed to be 25nm thick by DC sputtering. Thereafter, the second dielectric layer 4 is obtained by forming a film off AlSiCN:H of 40nm thickness on a C chip on an AlSi target, and the metallic reflecting layer 5 is formed to be 60nm thick by using AlAuTi alloy as a target. In this manner, when the AlSiCN:H film which is a dielectric body of a low thermal conductivity is used, a dependency of a recording sensitivity on a rotating speed of a disc is decreased, and therefore bits fit for cast laser lights are easily formed. Accordingly, an optical recording medium having a characteristic suitable for edge recording is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー等の光により
情報の記録、再生、消去等を行なう光記録媒体に関す
る。詳しくは、記録レーザパワーに対する感度の良い、
低出力さらには短波長のレーザーの使用を可能とする、
熱伝導率の低い誘電体膜を用いた、光記録媒体に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium for recording, reproducing and erasing information by using light from a laser or the like. Specifically, it has good sensitivity to the recording laser power,
Enables the use of low power and even short wavelength lasers,
The present invention relates to an optical recording medium using a dielectric film having a low thermal conductivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体は、高密度大容量の情報記録
媒体として種々の研究開発が行われている。特に情報の
書き換えが可能な光磁気記録型あるいは相変化型の光記
録媒体は、応用分野が広く、種々の材料、システムが発
表されており、注目されている。
2. Description of the Related Art Various researches and developments have been made on optical recording media as information recording media of high density and large capacity. In particular, a magneto-optical recording type or phase change type optical recording medium capable of rewriting information has a wide range of application fields, and various materials and systems have been announced and have been attracting attention.

【0003】その基本構成は、透明基板/第1誘電体層
/記録層/第2誘電体層/金属反射層の4層構成であ
る。そのための記録層としては、光磁気記録媒体では膜
面に対し垂直な方向に磁化容易軸を有する希土類−遷移
金属非晶質合金磁性膜が用いられている。あるいは相変
化型の光記録媒体では、InSbTeなどが用いられている。
The basic structure is a four-layer structure of transparent substrate / first dielectric layer / recording layer / second dielectric layer / metal reflective layer. As a recording layer therefor, in a magneto-optical recording medium, a rare earth-transition metal amorphous alloy magnetic film having an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface is used. Alternatively, InSbTe or the like is used in the phase change type optical recording medium.

【0004】ここで光記録媒体に用いる誘電体は、カー
効果のエンハンス、熱効率の向上、特に光磁気記録媒体
おいては磁性層の保護等の役目を担っている。そしてそ
のための材料としてはSiN、AlN、BN等の窒化物、Si
2 、Al2 3 、Ta2 5 等の酸化物、ZnS等の硫化
物、あるいはこれらの混合物などが挙げられる。しかし
ながら、酸化物や硫化物には記録層の酸化、低屈折率等
の点から、これらの中では主として窒化物が用いられ
る。
Here, the dielectric used for the optical recording medium plays a role of enhancing the Kerr effect, improving the thermal efficiency, and particularly protecting the magnetic layer in the magneto-optical recording medium. And as a material for that, SiN, AlN, nitride such as BN, Si
Examples thereof include oxides such as O 2 , Al 2 O 3 and Ta 2 O 5 , sulfides such as ZnS, and mixtures thereof. However, among oxides and sulfides, nitrides are mainly used among them in view of oxidation of the recording layer and low refractive index.

【0005】さらに誘電体としては、カー効果エンハン
スメントを高めるためにも屈折率n≧1.6 であることが
必要であり、さらにn≧1.8 であることが好ましい。そ
してAl、Siを主たる構成元素とする窒化物系誘電体(以
下AlSiNと称する)は、屈折率においてn≧2.0 を得る
ことができ、カー効果エンハンスメントに優れる。ま
た、AlSiNは耐食性にも優れ、AlとSiの組成比を適当に
調整することによりAlN単体またはSiN単体でのひび割
れ等の強度特性の弱点を相補し、所望する機械的強度特
性を得られるため、光記録媒体用の誘電体として特に有
効な物質である。
Further, the dielectric material must have a refractive index n ≧ 1.6 in order to enhance the Kerr effect enhancement, and further preferably n ≧ 1.8. A nitride-based dielectric material containing Al and Si as main constituent elements (hereinafter referred to as AlSiN) can have a refractive index of n ≧ 2.0 and is excellent in Kerr effect enhancement. AlSiN also has excellent corrosion resistance, and by adjusting the composition ratio of Al and Si appropriately, the weakness of strength characteristics such as cracks in AlN simple substance or SiN simple substance is complemented, and desired mechanical strength characteristic can be obtained. It is a substance that is particularly effective as a dielectric for an optical recording medium.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしこれらの誘電体
層においては、記録レーザパワーに対する感度(以後こ
れを記録感度と呼ぶ)の媒体の線速度に対する依存性が
大きい。そのためディスク形状をした光記録媒体では、
内周部の記録感度と外周部の記録感度に大きな差が生じ
てしまう。
However, in these dielectric layers, the sensitivity to recording laser power (hereinafter referred to as recording sensitivity) greatly depends on the linear velocity of the medium. Therefore, in a disk-shaped optical recording medium,
There is a large difference between the recording sensitivity of the inner peripheral portion and the recording sensitivity of the outer peripheral portion.

【0007】また、使用レーザ光の短波長化にともなう
記録マークの縮小化、マーク間および隣接トラック間の
熱干渉、さらには記録マークの両端に情報を持たせるマ
ーク長記録に対する対応を鑑みた場合、これらの誘電体
では十分な特性が得られない。
Further, in consideration of the reduction of recording marks due to the shortening of the wavelength of laser light used, thermal interference between marks and adjacent tracks, and also the correspondence to mark length recording in which information is provided at both ends of the recording marks. However, sufficient characteristics cannot be obtained with these dielectrics.

【0008】そこで上記特性を満足させる方法として
は、誘電体膜の熱伝導率を小さくし、照射レーザーの熱
効率を高めるという方法がある。低熱伝導率の誘電体膜
は、膜中での熱拡散を抑えるので、照射レーザーの供給
する熱エネルギーをより効率的に記録層の温度上昇に消
費することを可能とする。
Therefore, as a method of satisfying the above characteristics, there is a method of reducing the thermal conductivity of the dielectric film and increasing the thermal efficiency of the irradiation laser. Since the dielectric film having a low thermal conductivity suppresses thermal diffusion in the film, it is possible to more efficiently consume the heat energy supplied by the irradiation laser to raise the temperature of the recording layer.

【0009】一般にディスクの回転速度が速くなれば、
同一時間に同一面積へ照射される熱エネルギーの相対量
は低下する。しかし熱効率の高い媒体では、記録層を必
要温度まで上昇させるに要するレーザー照射時間の差が
短縮される。その結果、記録感度のディスク回転速度へ
の依存は低減する。
Generally, if the rotation speed of the disk becomes faster,
The relative amount of thermal energy applied to the same area at the same time decreases. However, in a medium having high thermal efficiency, the difference in laser irradiation time required to raise the recording layer to the required temperature is shortened. As a result, the dependence of the recording sensitivity on the disc rotation speed is reduced.

【0010】すなわち、低熱伝導率の誘電体膜を用いた
光磁気記録媒体は、記録に要するレーザーパワーを低減
して記録感度を良好にし、かつ、記録感度のディスク回
転速度への依存を低減する。また熱拡散が小さい媒体
は、照射レーザーに適合したビットを形成しやすく、エ
ッジ記録に適した特性を示す。
That is, the magneto-optical recording medium using the dielectric film having a low thermal conductivity reduces the laser power required for recording to improve the recording sensitivity, and reduces the dependency of the recording sensitivity on the disc rotation speed. . Further, a medium having a small thermal diffusion easily forms a bit suitable for an irradiation laser and exhibits characteristics suitable for edge recording.

【0011】ところで、従来より光磁気記録媒体用の誘
電体として広く用いられているAlN系、SiN系等の窒化
物は、耐食性、カー効果エンハンスメントには優れるも
のの熱伝導率を低くするのに困難があった。
AlN-based and SiN-based nitrides, which have been widely used as dielectrics for magneto-optical recording media, are excellent in corrosion resistance and Kerr effect enhancement, but it is difficult to reduce thermal conductivity. was there.

【0012】本発明はかかる課題を解決して、記録感度
のディスク回転速度への依存を低減し、照射レーザーに
適合したビットを形成しやすく、エッジ記録に適した特
性を示す光記録媒体を得ることを目的とする。
The present invention solves the above problems and obtains an optical recording medium that reduces the dependence of recording sensitivity on the disk rotation speed, easily forms a bit suitable for an irradiation laser, and exhibits characteristics suitable for edge recording. The purpose is to

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の光記録媒体は、
光記録層の少なくとも一方に隣接する誘電体層が、Cと
AlおよびSiを含有しさらにHとの結合を有する非晶質窒
化物からなることを特徴としている。
The optical recording medium of the present invention comprises:
The dielectric layer adjacent to at least one of the optical recording layers is C
It is characterized by being made of an amorphous nitride containing Al and Si and having a bond with H.

【0014】すなわち光記録媒体として必要な特性を維
持しながら、AlおよびSiを含有した非晶質窒化物である
ところの、AlSiNの熱伝導率を低下させることは前述の
課題の解決手段となる。そして本発明にかかる誘電体
は、低熱伝導率誘電体として研究されているAlSiCN誘
電体と比較しても熱伝導率は低く、記録レーザの利用効
率もさらに改善されている。CおよびHとの結合を有す
るAlSiNをAlSiCN:Hで表わし、以下本発明である膜
中にCおよびHとの結合を形成する方法およびその特性
について詳しく説明する。
That is, reducing the thermal conductivity of AlSiN, which is an amorphous nitride containing Al and Si, while maintaining the characteristics required for an optical recording medium is a means for solving the above problems. . The dielectric according to the present invention has a lower thermal conductivity than the AlSiCN dielectric, which has been studied as a low thermal conductivity dielectric, and the utilization efficiency of the recording laser is further improved. AlSiN having a bond with C and H is represented by AlSiCN: H, and a method of forming a bond with C and H in the film of the present invention and its characteristics will be described in detail below.

【0015】AlSiCN:H膜は、公知のスパッタリング
法において、AlSi合金ターゲットまたはSiターゲット上
に、Alチップを載せた複合ターゲットを用いて、炭化水
素ガス、不活性ガス、窒素ガスの混合雰囲気中で成膜す
ることで得られる。または、これらの雰囲気中でSiとAl
ターゲットを同時スパッタしてもよい。あるいは、AlSi
C合金ターゲットを用いて水素ガスと不活性ガスの混合
雰囲気中でスパッタしてもよい。
The AlSiCN: H film is formed by a known sputtering method in a mixed atmosphere of a hydrocarbon gas, an inert gas and a nitrogen gas by using an AlSi alloy target or a composite target in which an Al chip is placed on a Si target. It can be obtained by forming a film. Or Si and Al in these atmospheres
The target may be co-sputtered. Alternatively, AlSi
Sputtering may be performed using a C alloy target in a mixed atmosphere of hydrogen gas and an inert gas.

【0016】その際に、誘電体膜の屈折率の調整あるい
は光記録媒体の線速依存性の低減、記録感度向上のた
め、それらの希望値に合わせてスパッタ時のガス組成、
流量、圧力、投入パワーを選択することができる。
At this time, in order to adjust the refractive index of the dielectric film, reduce the linear velocity dependence of the optical recording medium, and improve the recording sensitivity, the gas composition at the time of sputtering should be adjusted to the desired values.
The flow rate, pressure and input power can be selected.

【0017】なお後述する本発明の実施例においては、
炭化水素ガスとしてCH4 ガスを用いているが、他の炭
化水素でも同様の効果が期待できる。そして、それぞれ
のガス流量をAr:24〜54ccm、N2 :3 〜9 ccm、
CH4 :10〜30ccmとし、全圧を1.1 〜1.6Pa 、投入
パワーを300 〜600 Wの条件で製膜を行なうと、この条
件下で得られるAlSiCN:H膜が非晶質であることは、
X線測定により確認している。
In the embodiments of the present invention described later,
Although CH 4 gas is used as the hydrocarbon gas, the same effect can be expected with other hydrocarbons. The flow rate of each gas is Ar: 24 to 54 ccm, N 2 : 3 to 9 ccm,
When CH 4 : 10 to 30 ccm, total pressure 1.1 to 1.6 Pa, and input power of 300 to 600 W, the AlSiCN: H film obtained under these conditions is amorphous. ,
Confirmed by X-ray measurement.

【0018】上述の方法でAlSiCN:H系誘電体を形成
すると、その屈折率は1.6 〜2.5 にすることができる。
しかしながら耐久性に関連する膜密度や光学的特性を考
慮すると、屈折率は1.8 〜2.5 であることが好ましい。
また、透過率測定からAlSiCN:Hの吸収係数は0.04以
下であり、光磁気記録媒体としてはさらに0.02以下であ
ることが好ましい。
When the AlSiCN: H-based dielectric is formed by the above method, its refractive index can be 1.6 to 2.5.
However, in consideration of the film density and optical characteristics related to durability, the refractive index is preferably 1.8 to 2.5.
Further, it is preferable that the absorption coefficient of AlSiCN: H is 0.04 or less from the transmittance measurement, and further 0.02 or less for the magneto-optical recording medium.

【0019】さらに以下に述べる条件を満たすことがよ
り好ましい。(a)N−H結合の過剰な増加による膜の
強度低下を避け、かたやSi−H結合を促進するため、窒
素含有量の低減が求められる。(b)窒素と金属の結合
により透明性を維持し、吸収係数を0.02以下に抑え、窒
化物としての膜の緻密さを保持することが可能である窒
素含有量が求められる。
It is more preferable to satisfy the following conditions. (A) A reduction in the nitrogen content is required in order to avoid a decrease in film strength due to an excessive increase in N—H bonds and to promote Si—H bonds. (B) A nitrogen content is required that is capable of maintaining transparency due to the bonding of nitrogen and metal, suppressing the absorption coefficient to 0.02 or less, and maintaining the denseness of the film as a nitride.

【0020】そこで(a)と(b)を満足するために、
AlSiCN中での窒素の比率は、原子百分率比で15%以上
かつ55%以下であることが好ましい。すなわち誘電体層
を原子百分率比で(Cx Aly Siz 100-x-y-z 100-a
・Ha と表わしたときに、15≦(100 −x−y−z)≦
55であることが好ましい。
Therefore, in order to satisfy (a) and (b),
The ratio of nitrogen in AlSiCN is preferably 15% or more and 55% or less in terms of atomic percentage ratio. That dielectric layer in atomic percentage ratio (C x Al y Si z N 100-xyz) 100-a
When expressed as H a , 15 ≦ (100−x−y−z) ≦
It is preferably 55.

【0021】また、膜中に取り込む水素量が多くなりす
ぎると緻密性が低下し、保護機能が十分でなくなるう
え、水素による過剰の結合終端は膜の強度を低下する。
そのため、水素の比率は上述の組成式において0 <a≦
40であることが好ましい。
Further, if the amount of hydrogen taken into the film is too large, the compactness is lowered, the protective function is not sufficient, and excessive bond termination by hydrogen reduces the strength of the film.
Therefore, the ratio of hydrogen is 0 <a ≤ in the above composition formula.
Preferably it is 40.

【0022】そして本発明の効果をより得るためには、
上述の組成式における炭素、アルミニウム、シリコンの
比率が、 0<x≦40、18≦1.8 y≦zであることがより
好ましい。
In order to obtain the effect of the present invention more,
More preferably, the ratio of carbon, aluminum, and silicon in the above composition formula is 0 <x ≦ 40, 18 ≦ 1.8 y ≦ z.

【0023】ところで、こうした誘電体を用いた光磁気
型の光記録媒体を作製する際には、以下に挙げる材料が
各層に好ましい。まず基板材料に用いる有機物樹脂とし
ては、ポリカーボネイト樹脂、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、2−メチルペンテン樹脂、ポリオレフィン樹脂、
あるいはそれらの共重合体等を用いることができる。中
でも機械強度、耐候性、耐熱性、透湿性、ならびに低価
格である点でポリカーボネイト樹脂が好ましい。そして
このポリカーボネイト樹脂を用いて基板材料全体を形成
することが、生産性からは好ましい。
When manufacturing a magneto-optical recording medium using such a dielectric, the following materials are preferable for each layer. First, as the organic resin used for the substrate material, polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, 2-methylpentene resin, polyolefin resin,
Alternatively, a copolymer thereof or the like can be used. Among them, the polycarbonate resin is preferable in terms of mechanical strength, weather resistance, heat resistance, moisture permeability, and low price. From the viewpoint of productivity, it is preferable to form the entire substrate material using this polycarbonate resin.

【0024】光磁気型の記録層の材料としては、光磁気
効果により記録、再生、消去できるものであればよい。
より詳しくは膜面に垂直な方向に磁化容易方向を有し、
任意の反転磁区を作ることにより光磁気効果により情報
の記録、再生、消去が可能な磁性薄膜であればよい。
The material for the magneto-optical recording layer may be any material capable of recording, reproducing and erasing by the magneto-optical effect.
More specifically, it has an easy magnetization direction perpendicular to the film surface,
Any magnetic thin film capable of recording, reproducing, and erasing information by the magneto-optical effect by forming an arbitrary reversed magnetic domain may be used.

【0025】例えば、TbFe、TbFeCo、GdTbFe、NdDyFeC
o、NdDyTbFeCo、NdFe、PrFe、CeFe等の希土類元素と遷
移金属元素との非晶質合金薄膜、交換結合を利用したそ
れらの二層膜、Co/Pt、Co/Pd等の人工格子多層膜、Co
Pt系合金等を用いることができる。さらに、こうした構
成の記録層中には、その垂直磁気異方性が失われないか
ぎり、他の元素が最大10原子%まで添加されても問題は
ない。例えばTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、T
c、Re、Ru、Os、Ir、Si、Ge、Bi、Pd、Au、Ag、Cu、Pt
等の、希土類、Fe、Co以外の元素が1 種類もしくはそれ
以上含まれていても良い。特に記録層自身の酸化による
腐食を防止するためには、Ti、Zr、Hf、Ta、Cr、Reを添
加することが好ましい。
For example, TbFe, TbFeCo, GdTbFe, NdDyFeC
o, NdDyTbFeCo, NdFe, PrFe, CeFe and other rare earth elements and transition metal elements, amorphous alloy thin films, their two-layer films using exchange coupling, artificial lattice multilayer films such as Co / Pt, Co / Pd, Co
A Pt-based alloy or the like can be used. Further, in the recording layer having such a constitution, as long as the perpendicular magnetic anisotropy is not lost, there is no problem even if other elements are added up to 10 atomic%. For example, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, T
c, Re, Ru, Os, Ir, Si, Ge, Bi, Pd, Au, Ag, Cu, Pt
One or more elements other than rare earths, Fe, and Co may be contained. In particular, in order to prevent corrosion of the recording layer itself due to oxidation, it is preferable to add Ti, Zr, Hf, Ta, Cr and Re.

【0026】また金属反射層としては、C/Nの評価に
用いるドライブヘッドのレーザ光に対し、記録層よりも
反射率の高い材料であることがC/N向上のために好ま
しい。具体的には、使用レーザ光波長における光学定数
である屈折率nと消衰係数kが、n≦3.5 、かつk≧3.
5 であるような材料を選択することが好ましい。さらに
好ましくはn≦2.5 かつ4.5 ≦k≦8.5 であり、この条
件で作製した媒体では、金属反射層の反射率向上により
カー効果エンハンスメントが向上し、C/Nのより一層
の向上が実現できる。
Further, the metal reflective layer is preferably made of a material having a higher reflectance than the recording layer with respect to the laser light of the drive head used for the evaluation of C / N for improving the C / N. Specifically, the refractive index n and the extinction coefficient k, which are the optical constants at the laser light wavelength used, are n ≦ 3.5 and k ≧ 3.
It is preferable to choose a material such as 5. More preferably, n ≦ 2.5 and 4.5 ≦ k ≦ 8.5. In the medium manufactured under these conditions, the Kerr effect enhancement is improved by the improvement of the reflectance of the metal reflection layer, and the C / N can be further improved.

【0027】このような条件を満足する材料として、Al
もしくはAgにAuを添加した合金、すなわちAlAu合金もし
くはAgAu合金が挙げられる。反射率の低下をAlもしくは
Ag単独膜に比べ2 %以内に抑えC/N低下を防ぐために
は、Au含有量は0.5 〜15原子%、さらには0.5 〜10原子
%であることが好ましい。
As a material satisfying such conditions, Al
Alternatively, an alloy in which Au is added to Ag, that is, an AlAu alloy or an AgAu alloy can be used. The decrease in reflectance is caused by Al or
The Au content is preferably 0.5 to 15 atom%, and more preferably 0.5 to 10 atom% in order to suppress the C / N reduction within 2% of that of the Ag single film.

【0028】ところでAu含有量を少なくすることは、タ
ーゲットや媒体のコストを低減する意味からも重要であ
る。そしてAu含有量を最小限にとどめるという点から
は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Tc、Re、R
u、Os、Ir等の1種類以上の特定元素を補助的に添加す
ることが好ましい。
By the way, reducing the Au content is important also from the viewpoint of reducing the cost of the target and the medium. And from the viewpoint of minimizing the Au content, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Tc, Re, R
It is preferable to supplementarily add one or more specific elements such as u, Os and Ir.

【0029】こうした特定元素の添加量は、5.0 原子%
以内にとどめるべきであり、これより多いと金属反射膜
の反射率が低下し、C/Nも低下してしまう。5.0 原子
%以内では、光磁気記録再生装置で使用される半導体レ
ーザの波長である830 nmでの反射率の低下は、2 %以
内の低下幅にとどまる。一方0.3 原子%より少ないと、
Auを節約したことによる熱伝導率の上昇分を補うことは
できない。従って、特定元素の添加により、Auの添加量
は0.5 〜10原子%の範囲であれば、反射膜の反射率はAl
もしくはAg単独膜に比べ、2 %以内の低下に抑えること
ができ、Auのコスト低下も低減できる。
The addition amount of such a specific element is 5.0 atomic%.
It should be kept within the above range, and if it is more than this range, the reflectance of the metal reflection film is lowered and the C / N is also lowered. Within 5.0 atomic%, the decrease in reflectance at the wavelength of 830 nm, which is the wavelength of the semiconductor laser used in the magneto-optical recording / reproducing apparatus, is within 2%. On the other hand, if less than 0.3 atom%,
It is not possible to compensate for the increase in thermal conductivity due to the saving of Au. Therefore, if the added amount of Au is in the range of 0.5 to 10 atomic% by adding the specific element, the reflectance of the reflective film is Al.
Alternatively, it can be suppressed within 2% compared to the Ag single film, and the cost reduction of Au can also be reduced.

【0030】なお、特に金属反射膜自身の耐久性を高め
るという点で、上記特定元素郡の中ではTi、Zr、Hf、T
a、Cr、Reが好ましい。これらの金属反射層の膜厚範囲
は10〜500 nmであるが、反射率の低下によるC/N低
下を抑え、かつレーザパワーが10mWで記録可能とする
ためには、好ましくは30〜200 nm、特に好ましくは40
〜100 nmである。
Among the above-mentioned specific element groups, Ti, Zr, Hf, and T are included in order to enhance the durability of the metal reflective film itself.
Preferred are a, Cr and Re. The film thickness range of these metal reflective layers is 10 to 500 nm, but in order to suppress the C / N reduction due to the reduction of reflectance and to enable recording with a laser power of 10 mW, preferably 30 to 200 nm. , Particularly preferably 40
~ 100 nm.

【0031】有機保護層としては、光および/または熱
硬化型樹脂、あるいは熱可塑性樹脂等が適用でき、コー
ティング法等により形成できる。なお、これら記録層の
基板と反対側に設ける裏面保護層は、少なくとも記録層
の側面まで被覆するように設けるのが好ましい。
As the organic protective layer, light and / or thermosetting resin, thermoplastic resin or the like can be applied and can be formed by a coating method or the like. The back surface protective layer provided on the opposite side of the recording layer from the substrate is preferably provided so as to cover at least the side surface of the recording layer.

【0032】上記の透明誘電体層、記録層、金属反射層
の無機薄膜の製造法としては、公知の真空蒸着法、スパ
ッタリング法等のPVD法、あるいはCVD法等、種々
の薄膜形成法が適用できる。しかし、光磁気記録媒体と
しては、高温高湿の耐環境試験で生じる剥離を生じさせ
ないために、特に高分子基板との密着性が大きい条件で
作製することが好ましい。このためにはスパッタリング
法が好ましい。
As a method for manufacturing the above-mentioned transparent dielectric layer, recording layer, and inorganic thin film of the metal reflection layer, various thin film forming methods such as a known vacuum deposition method, PVD method such as sputtering method, or CVD method are applied. it can. However, the magneto-optical recording medium is preferably manufactured under the condition that the adhesiveness to the polymer substrate is particularly large in order not to cause the peeling that occurs in the high temperature and high humidity environment resistance test. For this purpose, the sputtering method is preferable.

【0033】なお本発明の誘電体膜は、記録層として膜
面に対し垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性膜を用い
た、光磁気型の光記録媒体に好ましく用いられるが、そ
の熱的特性から相変化型の光記録媒体にも適用可能であ
る。
The dielectric film of the present invention is preferably used for a magneto-optical recording medium in which a magnetic film having an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface is used as a recording layer. Due to its characteristics, it can be applied to a phase change type optical recording medium.

【0034】[0034]

【実施例、比較例】本発明の一実施例によるに光磁気型
の光記録媒体の構成を図1に示す。図中の1はガイドを
表面に形成した基板、2は第1誘電体層、3は記録層、
4は第2誘電体層、5は金属反射層、6は有機保護層で
ある。特に第2誘電体層は金属反射膜への熱拡散を抑え
る役目を担っている。よって、第2誘電体膜層をAlSiC
N:H膜とした媒体を本発明の実施例に、AlSiN、AlSi
CN膜とした媒体を比較例として以下のようにして作製
し、特性比較を行った。
Examples and Comparative Examples FIG. 1 shows the construction of a magneto-optical recording medium according to an example of the present invention. In the figure, 1 is a substrate on which a guide is formed, 2 is a first dielectric layer, 3 is a recording layer,
Reference numeral 4 is a second dielectric layer, 5 is a metal reflective layer, and 6 is an organic protective layer. In particular, the second dielectric layer has a role of suppressing heat diffusion to the metal reflection film. Therefore, the second dielectric film layer is made of AlSiC.
In the embodiment of the present invention, a medium having an N: H film is used, and AlSiN, AlSi
A medium having a CN film was manufactured as a comparative example as follows, and the characteristics were compared.

【0035】まず、直径130 mm、厚さ1.2 mmの円盤
で1.6 μmピッチのスパイラル状のグルーブを有するポ
リカーボネイト樹脂(PC)の基板1を、3ターゲット
の高周波マグネトロンスパッタ装置(アネルバ製SPF
−430H型)の真空槽内に固定し、53μPaになるまで
排気する。なお、膜形成において基板1は15rpm で回転
させた。
First, a substrate 1 of polycarbonate resin (PC) having a spiral groove of a diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm and a pitch of 1.6 μm and a spiral groove was mounted on a 3-target high frequency magnetron sputtering device (SPF manufactured by Anerva).
(-430H type), and evacuate to 53 μPa. The substrate 1 was rotated at 15 rpm during film formation.

【0036】そして第1誘電体層2としてAlSiN膜を形
成した。すなわち、ターゲットとしては直径100 mm、
厚さ5 mmの円盤状のAlSi(30:70)の燒結体を用い、
真空槽内にAr/N2 混合ガス(N2 30vol %)を導入
し、圧力0.6Pa になるようにガス流量を調節した。放電
電力400 W、放電周波数13.56 MHzで高周波スパッタリ
ングを行ない、第1誘電体層2としてAlSiN膜を110 n
m堆積した。
Then, an AlSiN film was formed as the first dielectric layer 2. That is, the target has a diameter of 100 mm,
Using a disc-shaped AlSi (30:70) sintered body with a thickness of 5 mm,
Ar / N 2 mixed gas (N 2 30 vol%) was introduced into the vacuum chamber, and the gas flow rate was adjusted so that the pressure became 0.6 Pa. High-frequency sputtering was performed at a discharge power of 400 W and a discharge frequency of 13.56 MHz, and an AlSiN film of 110 n was formed as the first dielectric layer 2.
m deposited.

【0037】次に記録層3を形成した。ターゲットを光
磁気型の記録膜であるTbFeCo合金の円盤に変えスパッタ
リングガスを純Ar(純度99.999%)とし、ガス圧0.2Pa
、放電電力200 Wで希土類・遷移金属合金であるTbFeC
o膜からなる記録層3をDCスパッタリングによって25
nm堆積した。
Next, the recording layer 3 was formed. The target was changed to a disk of TbFeCo alloy that is a magneto-optical recording film, the sputtering gas was pure Ar (purity 99.999%), and the gas pressure was 0.2 Pa.
, TbFeC, a rare earth / transition metal alloy with a discharge power of 200 W
o The recording layer 3 made of a film is formed by DC sputtering 25
nm deposited.

【0038】続いて、記録層上に第2誘電体層4を形成
した。そのためにまず、ターゲットを前述のAlSiの燒結
体ターゲットに戻した。そしてAlSiCN:Hを製膜する
ときには、Arガス、Ar/N2 混合ガス(N2 30vol
%)、およびCH4 ガスを、各試料で流量比を変えなが
ら導入し、ガス圧0.6Pa 、放電電力400 Wで高周波スパ
ッタリングを行なった。また比較例であるAlSiN、AlSi
CNを製膜するときには、スパッタリングガスもAr/N
2 混合ガス(N2 30vol %)に戻し、第1誘電体層2と
同様の放電条件で行なった。但し、AlSiCN製膜時には
AlSiターゲット上にCチップをのせて製膜した。こうし
て膜厚40nmの第2誘電体層4を形成した。
Subsequently, the second dielectric layer 4 was formed on the recording layer. Therefore, first, the target was returned to the above-mentioned AlSi sintered target. When forming a film of AlSiCN: H, Ar gas, Ar / N 2 mixed gas (N 2 30vol
%) And CH 4 gas while changing the flow rate ratio of each sample, and high frequency sputtering was performed at a gas pressure of 0.6 Pa and a discharge power of 400 W. Comparative examples AlSiN, AlSi
When forming a CN film, the sputtering gas is also Ar / N
The mixed gas was returned to 2 mixed gas (N 2 30 vol%), and the same discharge condition as that of the first dielectric layer 2 was used. However, during AlSiCN film formation
A C chip was placed on the AlSi target to form a film. Thus, the second dielectric layer 4 having a film thickness of 40 nm was formed.

【0039】さらに、金属反射層5としてターゲットを
AlAuTiの合金ターゲットに変え、スパッタリングガスも
純Ar(純度99.999%)に戻し、圧力0.2Pa 、放電電力10
0 WでAl合金膜を60nm堆積した。
Further, a target is used as the metal reflection layer 5.
Switch to AlAuTi alloy target, return the sputtering gas to pure Ar (purity 99.999%), pressure 0.2Pa, discharge power 10
An Al alloy film of 60 nm was deposited at 0 W.

【0040】こうして得られた試料をスパッタリング装
置から取り出し、スピンコーターに取付けた。そしてデ
ィスクを3000rpm で回転させながら、紫外線硬化性のフ
ェノールノボラックエポキシアクリレート樹脂を塗布し
た後、紫外線照射装置を通過させて樹脂を硬化させ、約
20μmの有機保護層6を設けた。この際には、約20μm
と厚い膜厚で設定するため、ブチルアルコールで希釈を
行ない、粘性率500 cP前後の状態で塗布した。
The sample thus obtained was taken out of the sputtering apparatus and attached to a spin coater. Then, while rotating the disk at 3000 rpm, apply UV curable phenol novolac epoxy acrylate resin, then pass through the UV irradiation device to cure the resin,
A 20 μm organic protective layer 6 was provided. In this case, about 20 μm
In order to set a thick film thickness, it was diluted with butyl alcohol and applied with a viscosity of about 500 cP.

【0041】こうして得られた図1に示す構成の光磁気
型の光記録媒体について、C/N値10dBを得るために必
要な書き込みレーザーパワー(以下、Pthと称する)と
ディスク回転速度が3600rpm の時と1800rpm の時のPth
の差(以下、ΔPthと称する)を比較した。なお、光磁
気ディスクの記録再生にはパルステック工業製のDDU
−1000を用い、以下の条件で測定を行った。
With respect to the thus obtained magneto-optical recording medium having the structure shown in FIG. 1, the writing laser power (hereinafter referred to as Pth) and the disk rotation speed required to obtain a C / N value of 10 dB were 3600 rpm. Time and Pth at 1800 rpm
The difference (hereinafter referred to as ΔPth) is compared. For recording / reproducing of magneto-optical disk, DDU manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.
Using -1000, the measurement was performed under the following conditions.

【0042】記録条件:ディスク回転速度=1800rpm 、
3600rpm 、記録トラック位置=半径30mm、記録周波数
=3.7 MHz、7.4 MHz(それぞれ1800rpm 、3600rpm に
対応)、記録時の印加磁界=250Oe 、記録レーザーパワ
ー=2 〜9 mW。再生条件:ディスク回転速度=1800rp
m 、3600rpm 、再生レーザーパワー=1.5 mW。
Recording conditions: disk rotation speed = 1800 rpm,
3600 rpm, recording track position = radius 30 mm, recording frequency = 3.7 MHz, 7.4 MHz (corresponding to 1800 rpm and 3600 rpm, respectively), applied magnetic field during recording = 250 Oe, recording laser power = 2 to 9 mW. Playback condition: Disc rotation speed = 1800rp
m, 3600 rpm, reproducing laser power = 1.5 mW.

【0043】このようにして得られた各媒体試料につい
て、第2誘電体層スパッタ時の各ガス流量(但しArガス
で校正済)、その誘電体の屈折率、AES測定より求め
たC、Al、Siの組成比(但しC/(C+Al+Si)、Al/
(C+Al+Si)および Si /(C+Al+Si)としての比
率)、および3600rpm でのPthとΔPthの測定結果を、
表1に示す。
For each medium sample thus obtained, each gas flow rate at the time of sputtering the second dielectric layer (provided that the gas was calibrated with Ar gas), the refractive index of the dielectric, and C and Al determined by AES measurement , Si composition ratio (however, C / (C + Al + Si), Al /
(C + Al + Si) and Si / (C + Al + Si) ratio), and the measurement results of Pth and ΔPth at 3600 rpm,
It shows in Table 1.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明は以上詳述したごとく、低熱伝導
率誘電体であるAlSiCN:H膜を用いることにより記録
感度のディスク回転速度への依存を低減することによ
り、照射レーザーに適合したビットを形成しやすく、エ
ッジ記録に適した特性を示す光記録媒体を得ることがで
きる。
As described in detail above, the present invention reduces the dependence of the recording sensitivity on the disk rotation speed by using an AlSiCN: H film, which is a low thermal conductivity dielectric, so that a bit suitable for an irradiation laser can be obtained. It is possible to obtain an optical recording medium that is easy to form and has characteristics suitable for edge recording.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例および比較例の媒体積層構成FIG. 1 is a medium laminated structure of Examples and Comparative Examples.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガイドを表面に形成した基板 2 第1誘電体層 3 記録層 4 第2誘電体層 5 金属反射層 6 有機保護層 1 substrate with guide formed on the surface 2 first dielectric layer 3 recording layer 4 second dielectric layer 5 metal reflective layer 6 organic protective layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光記録層の少なくとも一方に隣接する誘
電体層が、CとAlおよびSiを含有しさらにHとの結合を
有する非晶質窒化物からなることを特徴とする光記録媒
体。
1. An optical recording medium, wherein a dielectric layer adjacent to at least one of the optical recording layers is made of an amorphous nitride containing C, Al and Si and having a bond with H.
【請求項2】 誘電体層を原子百分率比で表わしたとき
(Cx Aly Siz 10 0-x-y-z 100-a ・Ha と表わさ
れ、その組成が 0<x≦40、18≦1.8 y≦z、15≦(10
0 −x−y−z)≦55、かつ0 <a≦40のであることを
特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。
2. A represented when expressed dielectric layer in atomic percentage ratio (C x Al y Si z N 10 0-xyz) 100-a · H a, the composition is 0 <x ≦ 40,18 ≤ 1.8 y ≤ z, 15 ≤ (10
The optical recording medium according to claim 1, wherein 0−x−y−z) ≦ 55 and 0 <a ≦ 40.
【請求項3】 記録層としては、膜面に対し垂直な方向
に磁化容易軸を有する磁性膜を用いることを特徴とする
請求項1〜2のいずれかに記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein a magnetic film having an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface is used as the recording layer.
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