JPH085571A - 検査装置 - Google Patents
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- JPH085571A JPH085571A JP6162848A JP16284894A JPH085571A JP H085571 A JPH085571 A JP H085571A JP 6162848 A JP6162848 A JP 6162848A JP 16284894 A JP16284894 A JP 16284894A JP H085571 A JPH085571 A JP H085571A
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Abstract
置することができる検査装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 光を試料Sに照射する照射光学系3と、試料
Sを透過した光または試料Sで反射した光を集束させる
光学素子13,14を含み、光学素子13,14の後像
空間焦平面またはその近傍に設置した開口絞り16を有
する観測光学系2と、開口絞り16を通過した光によっ
て構成される像を観測する観測手段4とを備える検査装
置1において、観測光学系2は、開口絞り16の後方
に、開口絞り16を通過した光を平行光に変換するテレ
セントリック光学系17を備え、観測手段4は、テレセ
ントリック光学系17により空中に形成された空中像を
観測するように構成した。
Description
2次元または3次元的に観測するための検査装置に関す
るもので、例えば、鏡面ウェーハ等の試料の表面(以
下、「試料表面」という)の状態の検出や、試料表面に
形成されたID(Identification)番号(識別番号)な
どの指標の検出を行うのに適した検査装置に関するもの
である。
ねり、ディンプル、突起、洗浄不良またはバフダメージ
などを検出したり、ID番号の検出をしたりする検査装
置として、出願人は、(1)光を試料に照射する照射光
学系と、(2)試料を透過した光または試料で反射した
光を集束する光学素子を含み、その光学素子の後像空間
焦平面またはその近傍に設置した開口絞りを有するシュ
リーレン光学系と、(3)開口絞りを通過した光を観測
する観測部とを備えるものを既に提案している(特願平
4−187450)。
レン光学系は、試料表面の凹凸または試料の内部状態に
よる、屈折率変化、反射率変化および透過率変化などを
明暗の差として表す代表的な光学部の1つである。そし
て、従来の検査装置のシュリーレン光学系は、例えば、
試料表面からの反射光をコリメートレンズによって集束
し、その後像空間焦平面に設置されたナイフエッジ(開
口絞り)によって、試料表面で散乱された光の一部を遮
断すると共に、コリメートレンズによって、その後方の
空中に形成された試料表面等の空中像を、肉眼やカメラ
等(観測部)によって観測するように構成されている。
凹凸があるとその部分で光が散乱されるが、この散乱光
のうちナイフエッジに当たった部分は遮断され、観測部
に到達しない。その結果、ナイフエッジの後方では、そ
のナイフエッジで遮られた散乱光に対応する部分は暗く
なり、それ以外の部分は相対的に明るくなる。この明暗
パターンは試料表面の状態に対応しているので、その明
暗パターンから試料表面の状態が観測できることにな
る。
検査装置にあっては、ナイフエッジのすぐ後ろの、空中
像が形成された位置に観測部を一律的に設置しているた
め、必ずしも観測者にとって観測し易いとはいえない。
また、互いに異なった倍率の観測部を複数設けたいとき
には、空中像が形成される位置に複数の観測部が密集す
ることになり、その配置自由度が極めて低くなってい
る。
で、第1に、観測者が観測し易い任意の位置に観測部を
設置することができる、第2に、互いに異なった倍率の
複数の観測部を任意の位置に自由にそれぞれ設置するこ
とができる検査装置を提供することを目的としている。
は、光を試料に照射する照射光学系と、試料を透過した
光または試料で反射した光を集束させる光学素子を含
み、光学素子の後像空間焦平面またはその近傍に設置し
た開口絞りを有する観測光学系と、開口絞りを通過した
光によって構成される像を観測する観測手段とを備える
検査装置において、観測光学系は、開口絞りの後方に、
開口絞りを通過した光を平行光に変換するテレセントリ
ック光学系を備え、観測手段は、テレセントリック光学
系により空中に形成された空中像を観測するように構成
されていることを特徴とする。
の検査装置において、観測手段は、平行光を分岐させる
少なくとも1つの分岐光学部と、分岐光学部により分岐
された各平行光に基づく空中像をそれぞれ観測するため
の複数の観測部とを備えていることを特徴とする。
の検査装置において、分岐光学部は、プリズムで構成さ
れていることを特徴とする。
の検査装置において、照射光学系は、レーザー光を出射
するレーザー光源と、レーザー光以外の光を出射する一
般光源とを備え、分岐光学部は、レーザー光と一般光と
を分離する選択フィルタを備え、複数の観測部のうちの
少なくとも1つは、レーザー光により形成された空中像
をモアレまたは干渉縞により観測するように構成されて
いることを特徴とする。
の検査装置において、照射光学系は、レーザー光を出射
するレーザー光源と、レーザー光以外の光を出射する一
般光源とを備え、分岐光学部は、レーザー光と一般光と
を分離する選択フィルタを備え、複数の観測部のうちの
少なくとも1つは、レーザー光の強度分布を測定するた
めの一次元CCDを備えていることを特徴とする。
5のいずれかに記載の検査装置において、観測手段は、
空中像を回転させるための像回転手段を備え、像回転手
段により回転された空中像を観測するように構成されて
いることを特徴とする。
は6に記載の検査装置において、観測手段は、平行光を
集束させる他のテレセントリック光学系を備えているこ
とを特徴とする。
5のいずれかに記載の検査装置において、観測部は、平
行光を集束させる他のテレセントリック光学系を備えて
いることを特徴とする。
8のいずれかに記載の検査装置において、観測手段は、
空中像を撮像する撮像素子と、撮像素子からの画像信号
に基づいて画像処理を行う画像処理部を備えていること
を特徴とする。
載の検査装置において、画像信号における白レベル電圧
または黒レベル電圧を所定値にするための光量制御信号
を生成する光量制御信号生成部と、光量制御信号に基づ
いて照射光学系の光量を変化させる光量制御部とをさら
に備えていることを特徴とする。
すると、その透過光または反射光は、光学素子により集
束されると共に、光学素子の後像空間焦平面またはその
近傍に配設された開口絞りを通過して観測手段に入射す
る結果、観測者は、観測手段により、試料の像を観測す
ることができる。この場合、開口絞りの後方に備えたテ
レセントリック光学系が、開口絞りを通過した光を平行
光に変換すると共に、テレセントリック光学系の焦点距
離に応じた所定の位置に空中像を形成する。そして、観
測者は、観測手段のフォーカスを、空中像に合わせれ
ば、試料を観測することができる。したがって、観測部
は、空中像が形成された位置に設置する必要はなく、空
中像にフォーカスを合わせられる位置であれば、空中像
の位置とは別の任意の位置に設置することができる。こ
のため、観測者は、見易い位置で、試料の像を観測する
ことができる。
が平行光を分岐し、分岐された平行光に基づく空中像
を、複数の観測部で倍率を変えるなどして、それぞれ観
測することができる。この場合、複数の観測部の各々
は、空中像にフォーカスを合わせることができれば、空
中像が形成された位置とは別の任意の位置に設置するこ
とができる。このため、観測部が複数であっても、観測
者が見易い位置に、それらを設置することができる。
は、プリズムで構成されているので、ハーフミラーなど
と比較して、平行光を分岐する際の光の損失が少なく、
観測部を複数設けても、感度の低下を極力少なくするこ
とができる。
て、レーザー光と、レーザー光以外の一般光を、試料に
照射し、その透過光または反射光に基づいて、試料の観
測をすることができる。この場合、レーザー光は、選択
フィルタで一般光とは分離され、分離されたレーザー光
に基づく空中像を、観測部によりモアレまたは干渉縞に
より観測することができる。このため、試料の三次元的
状態を観測することができる。
タにより分離されたレーザー光に基づく空中像を、一次
元CCDにより観測することができる。この場合、レー
ザー光は、単一波長で、しかも短波長のため、その透過
光や反射光に基づいて、試料上の微細な凹凸情報等を得
ることができるので、凹凸のピークツーバレーなどを正
確に計測することができる。
料表面の一部を観測するようなときは、回転手段により
空中像を回転させれば、試料を移動させることなく、試
料の任意の箇所を観測することができる。また、試料表
面に形成されたID番号などを観測するときは、試料を
任意の向きにすることができるので、そのID番号を見
易い向きにすることができる。
ば、観測部が平行光を集束させる他のテレセントリック
光学系を備えているので、フォーカスがある程度合わな
くても、倍率を変化させることなく、空中像を観測する
ことができる。
が、観測部の撮像素子からの画像信号に基づいて、画像
処理を行うので、例えば、試料の凹凸のピークツーバレ
ー値を求めたり、より鮮明な画像で観測したりすること
ができる。
信号生成部が光量制御部に光量制御信号を出力すれば、
光量制御部は、画像信号の白レベル電圧または黒レベル
電圧を所定値にするように、照射光学系の光量を変化さ
せるので、画像信号レベルが飽和しないようにして、試
料を見易い状態で観測することができる。
て説明する。
れている。この検査装置1は、光学部2、照射部(照射
光学系)3、観測部(観測手段、観測部)4、画像処理
部5、ホストコンピュータ6、モニタ7および搬送装置
8を備えている。
すれば、照射部3から出射された照射光は、光学部2内
に置かれた試料Sの試料表面Saにその法線方向から照
射される。試料表面Saで反射した反射光は、照射方向
とは逆方向に進んで、光学部2により集束されると共
に、光学部2内の後述するナイフエッジ16を通過し
て、観測部4内のCCDにより画像信号に変換される。
この場合、試料表面Saで散乱された反射光は、ナイフ
エッジ16により遮断され、CCDに入射しないので、
試料表面Saで散乱された箇所は、暗パターンの画像信
号に、照射光が正反射した箇所は、明パターンの画像信
号に変換される。そして、この画像信号は、画像処理部
5で画像処理され、ホストコンピュータ6を介してモニ
タ7に映し出される。
る。
に光を照射し、試料表面Saでの反射光により、試料表
面Saの凹凸やID番号を観測するものであり、第1ハ
ーフミラー11、反射ミラー12、レンズユニット(光
学素子)13、コリメートレンズ(光学素子)14、チ
ルトステージ15、ナイフエッジ(開口絞り)16、第
1テレセントリック光学部(テレセントリック光学部)
17および光量フィードバック部18から構成されてい
る。
に対して45°傾けられており、照射部3からの照射光
を反射させてチルトステージ15側へ導くと共に、チル
トステージ15側からの反射光を透過させて観測部4側
へ導く。
射された照射光をチルトステージ15側へ反射させると
共に、試料Sで反射された反射光を観測部4側へ反射さ
せる。
り構成されており、コリメートレンズ14の焦点距離を
短くする機能を有している。この結果、チルトステージ
15から反射ミラー12までの距離や、光学部2から観
測部4までの距離をそれぞれ短くすることができるの
で、検査装置1を小型化することができる。
照射光を平行光に変換すると共に、試料Sでの反射光
を、平行光から集束光に変換する。
台であり、搬送装置8によって搬送されてきた試料Sを
載置するためのものである。また、このチルトステージ
15は、照射光が試料表面Saに垂直に入射するよう
に、試料Sの傾きを微調整可能に構成されている。
軸直交形の開口絞りであって、コリメートレンズ14の
後像空間焦平面に設置され、試料Sの試料表面Sa上に
形成された凹凸などで反射した不要な散乱光を除去す
る。なお、ナイフエッジ16、レンズユニット13およ
びコリメートレンズ14は、シュリーレン光学系(観測
光学系)を構成する。
のレンズにより構成されており、ナイフエッジ16を通
過した反射光を集束光から平行光に変換して、その光軸
上の後方に空中像を形成する。
光量を制御するためのものであり、遮光板19およびフ
ォトデテクタ20から構成されている。遮光板19に
は、照射部3からの照射光を通過させるためのピンホー
ル19aが設けられている。フォトディテクタ20は、
ピンホール19aを通過した照射光の光量を検出し、検
出した光量データを光量フィードバック回路26に出力
する。
部3は、試料Sに光を照射するもので、光源21、ライ
トガイドファイバ22、波長選択フィルタ23、ピンホ
ール24、DI/O(ディジタルI/O)25および光
量フィードバック回路26から構成されている。
備えている。ハロゲンランプの光量は、フォトディテク
タ20が検出した光量のレベルが一定になるように、光
量フィードバック回路26によってフィードバック制御
されることにより、その光量が一定になるように制御さ
れている。なお、光源21のランプは、ハロゲンランプ
に限定されず、被検査対象物の性質に応じて、キセノン
ランプ、メタルハライドランプを初めとする各種の放電
管が使用される。
光伝導ロッド22aが備えられている。この光伝導ロッ
ド22aは、ライトガイドファイバ22中を伝送してき
た光を拡散させると共に、ライトガイドファイバ22の
バンドル端面のつぶつぶを像を消す役割を果たす。な
お、このライトガイドファイバ22は、シングルの光フ
ァイバーで構成してもよい。
照射する照射光の波長を選択する。この、波長選択フィ
ルタ24は、各種干渉フィルタを備えるターレット状の
ものであり、試料表面Saを照射する照射光の波長を適
宜変更することを可能にすると共に、検査装置1の光学
系部分の感度調節に用いられ、試料表面Saの凹凸のピ
ークツーバレー値が小さい場合には波長の短い領域が選
択される。
がり角を有する照射光に変換する。ピンホール24の開
口からの照射光の拡がり角は、試料Sを照射する面積に
合わす必要があるが、これは、光伝導ロッド22aとピ
ンホール24との間隔を調整することにより行われる。
あって、光量フィードバック回路26および画像処理部
5から出力されるパラレルデータである光量制御信号
を、光源21に出力することにより、光源21の光量を
制御する。
ードバック部18から出力されたアナログの光量信号
を、ディジタルの光量データに変換すると共に、そのデ
ィジタルの光量データと、基準となる基準光量データと
が等しくなるように、DI/O25を介して光源21の
光量を制御する。これにより、光源21の光量は、一定
になるように、フィードバック制御される。
部4は、第2〜第5ハーフミラー31〜34、第2〜第
6テレセントリック光学部35〜39、CCD35a〜
39aおよびアパーチャ40〜44を備えている。
射した光の約半分を反射させると共に、残りの約半分の
光を通過させることにより、第1テレセントリック光学
部17から出射された反射光をそれぞれ分岐させる。
39は、試料表面Saで反射した光を観測するもので、
5枚のレンズと、空中像にフォーカスを合わせるための
フォーカス機構(図示せず)とを内部にそれぞれ備えて
いる。このうち、第2〜第5テレセントリック光学部3
5〜38は、高倍率用観測部として機能し、試料表面S
aの一部を拡大して観測可能に構成されている。具体的
には、第2〜第5テレセントリック光学部35〜38
は、各アパーチャ40〜43を通過した光のみを、51
2×512画素の各CCD35a〜38aにより撮像す
る。つまり、CCD35a〜38aは、CCD39aと
同一に構成されていても、各CCD35a〜38aで撮
像される試料表面Saの面積が少ないため、実質的に高
倍率で観測することが可能になる。一方、第6テレセン
トリック光学部39は、低倍率用観測部として機能し、
第4ハーフミラー34を透過した光のすべてをCCD3
9aで撮像することにより、試料表面Sa全体の観測が
可能に構成されている。なお、CCD35a〜39aの
すべての画像信号は、画像処理部5に出力される。
像I1〜I5が形成される位置にそれぞれ設置されてお
り、試料表面Saで散乱された散乱光やノイズなどの不
要な光を遮断すると共に、第2〜第6テレセントリック
光学部35〜39で像を観測する範囲を設定する。
画像処理部5は、観測部4のCCD35a〜39aから
出力される画像信号を増幅した後、ディジタル画像信号
に変換し、そのディジタル画像信号をホストコンピュー
タ6に出力する。また、画像処理部5は、画像信号の白
レベル電圧(画像信号のうち輝度が最大の電圧)が所定
の電圧範囲内に入るように、つまり、白レベル電圧が飽
和しないように、DI/O25に光量制御信号を出力し
て、その光源21の光量を制御する。具体的には、画像
処理部5が、8ビットのパラレルデータである光量制御
信号を、照射部3内のDI/O25に出力し、光源21
の印加電圧を制御することにより、光源21の光量を制
御する。この結果、画像信号レベルが飽和しないように
して、試料Sを見易い状態で観測することができる。
出力したディジタル画像信号に基づいて、凹凸状態の観
測やID番号の検出を行う。具体的には、凹凸の大きさ
や数を検出して試料Sの良否の判別や、試料表面Saに
形成されたID番号を検出し、ID番号に基づいて、半
導体ウェーハの生産工程のチェックや、種々の統計処理
などを行う。また、ホストコンピュータ6は、凹凸やI
D番号を検出すると、次の試料Sをチルトステージ15
に搬送するために搬送ベルトで構成される搬送装置8を
制御する。なお、画像処理部5が搬送装置8を直接制御
してもよい。
について説明する。
バ22内を伝送され、波長選択フィルタ23により波長
選択された後、ピンホール24を通過する。これによ
り、ピンホール24を通過した光は、発散光に変換さ
れ、ハーフミラー11および反射ミラー12により反射
され、レンズユニット13を通過して、コリメートレン
ズ14により平行光に変換された後、試料表面Saに照
射される。試料表面Saに照射された光は、試料表面S
aで反射し、コリメートレンズ14側に進行する。この
場合、試料表面Saに凹凸があると、その凹凸に照射さ
れた照射光は、凹凸により散乱され、かつ反射される。
により集束され、反射ミラー12で反射された後、ハー
フミラー11を透過して、ナイフエッジ16まで進行す
る。この場合、試料表面Saの凹凸により散乱された光
は、ナイフエッジ16により遮断される。一方、ナイフ
エッジ16を通過した光は、第1テレセントリック光学
部17により平行光に変換され、第2ハーフミラー31
により反射されたり透過されたりすることにより、2分
岐され、分岐された両平行光に基づいた空中像が、所定
の位置にそれぞれ形成される。なお、ここでいう空中像
は、第1テレセントリック光学部17の光軸上の後方の
空中の所定位置に、例えば、スクリーンを置くと、その
スクリーン上に形成されるフォーカスが合った像を言
い、その形成される空中の位置は、第1テレセントリッ
ク光学部17のレンズの特性により定まる。第2〜第6
テレセントリック光学部35〜39のフォーカスをこの
空中像に合わせることにより、空中像は、各CCD35
a〜39aにより撮像される。この場合、試料表面Sa
に凹凸があると、凹凸で散乱された光がナイフエッジ1
6により遮断されているので、各CCD35a〜39a
は、凹凸の像を黒パターンに、凹凸のない試料表面Sa
の像を明パターンに撮像する。
について説明する。CCD39aは、試料表面Saの全
体を一時に撮像する。一方、CCD35a〜38aは、
アパーチャ40〜43により撮像範囲を狭められてお
り、かつ、その狭められた撮像範囲を各CCD35a〜
38aの画素全体によって撮像することにより、試料表
面Saの一部をそれぞれ拡大して観測している。そし
て、各CCD35a〜38aの各撮像範囲が合成される
ことにより、同図の符号A(斜線部分の範囲)に示す試
料表面Saの一部である被観測部が撮像されている。よ
り具体的には、同図に示す符号B〜Eは、CCD35a
〜38aのそれぞれの撮像範囲を示している。この各撮
像範囲B〜Eと被観測部Aとの重複範囲の各々が、各C
CD35a〜38aによりそれぞれ撮像され、画像処理
部5がその撮像信号を合成することにより、被観測部A
が拡大して撮像されている。
なった倍率の複数のテレセントリック光学部35〜39
およびCCD35a〜39aを、任意の位置に自由にそ
れぞれ設置することができる。また、各CCD35a〜
38aが、各々の画素全体で試料表面Saの一部を撮像
するので、試料表面Saの拡大像を観測することができ
る。加えて、画像処理部5が、3つの画像信号を並列的
に信号処理することにより、1つの試料Sの画像信号を
処理するための処理時間を短縮することができる。
て説明する。
4を変更したもので、他の構成については、第1実施例
と同様な構成を備えている。同図に示すように、第2実
施例の観測部61は、ハーフミラー62、ダブプリズム
63、第1アパーチャ64、高倍率用テレセントリック
光学部65、第1CCD66、第2アパーチャ67、低
倍率用テレセントリック光学部68および第2CCD6
9を備えている。
いる第1テレセントリック光学部17からの入射光を、
透過および反射させることにより、2分岐する。
が台形に形成された、いわゆる像回転プリズムである。
このダブプリズム63は、入射した平行光を透過させる
ことによって出力側に現れる像を、自身を回転させた回
転角の2倍の角度で回転させることができるようになっ
ている。なお、ダブプリズム63を回転させるための駆
動部63aが設けられており、この駆動部63aは、画
像処理部5により、その回転が制御されている。
67は、第1テレセントリック光学部17によって空中
像が形成される位置にそれぞれ配置されている。また、
第1アパーチャ64は、ダブプリズム63の出力側に現
れた光の一部が通過するように、その幅が制限されてい
る。この結果、第1CCD66は、空中像の拡大像を撮
像できるようになっている。第2アパーチャ67は、空
中像の全体が第2CCD69によって撮像されるよう
に、その幅を制限可能に構成されている。
は、それぞれ、第1実施例におけるテレセントリック光
学部35〜39と同一に構成されている。
る。なお、観測部61を除き他の構成要素は同一のた
め、観測部61の動作についてのみ説明する。
変換された平行光のうちハーフミラー62を通過した光
は、ダブプリズム63に入射する。この場合、空中像の
一部が、第1CCD66によって撮像されるので、同一
画素数のCCDを使用した場合に比較して、単位画素当
たりに撮像される空中像の大きさが小さくなり、実質的
に、高感度で拡大像を撮像することができる。また、ダ
ブプリズム63を1/2回転させると、空中像を1回転
させることができるので、試料表面Saの観測したい部
分を、迅速に撮像することができる。
CDを使用して高感度に撮像する方法として、X−Y方
向に移動可能な試料ステージに試料Sを載置し、試料ス
テージをXおよびY方向にそれぞれ移動することにより
試料表面Saの各部の拡大像を観測する方法があるが、
試料表面Sa全体を観測するために、試料ステージを、
XおよびY方向へそれぞれ何度も移動させなければなら
ず、極めて煩雑である。しかし、本実施例では、ダブプ
リズム63を回転させることにより、試料表面Saの各
部を、第1CCD66で連続して撮像することができる
ので、試料表面Sa全体の拡大像を撮像する時間を、極
めて短時間にすることができる。なお、この場合にも、
低倍率用テレセントリック光学部69で、試料表面Sa
を同時に観測することができるのは勿論である。
て説明する。
4を変更したもので、他の構成については、第1実施例
と同様な構成を備えている。同図に示すように、第3実
施例の観測部71は、3つのプリズム72〜74と、1
/3インチCCDであるCCD75と、1/2インチC
CDであるCCD76と、2/3インチCCDであるC
CD77とから構成されている。なお、プリズム72と
第1テレセントリック光学部17との間には、図示しな
いテレセントリック光学部(特に限定されず、集光レン
ズであればよい)が配設されており、第1テレセントリ
ック光学部17により変換された平行光を集光してプリ
ズム72に出力する。
リック光学部17からの方向)から入射した光の一部を
透過させると共に、残りの光を反射させ、かつ、端面7
2aで反射させた光を、端面72bで反射させるように
構成されている。また、プリズム73は、プリズム72
を透過した光の一部を透過させると共に、残りの光を端
面73aで反射させ、かつ、端面73aで反射させた光
を、端面73bで反射させるように構成されている。さ
らに、プリズム74は、プリズム73を透過した光のす
べてが、そのまま直進して透過するように構成されてい
る。したがって、F方向から平行光が入射すると、平行
光は、3分岐され、分岐した光は、それぞれCCD75
〜77に入射される。なお、各CCD75〜77は、第
1テレセントリック光学部17により空中像が形成され
る位置に設置され、フォーカスの合った空中像を撮像す
る。
リック光学部17から入射した平行光は、プリズム72
〜74によって、3分岐されるので、第1および第2実
施例とは異なり、光を分岐するためのハーフミラーを必
要としない。したがって、ハーフミラーによる分岐の際
の光の損失(約20%)がなくなる結果、観測部を複数
設けても、感度の低下を極力少なくすることができる。
また、CCD75〜77のそれぞれのサイズが互いに異
なっているので、異なった倍率で試料Sを同時に観測す
ることができる。この場合、CCD75〜77の中心部
を入射光の光軸と一致させておくことにより、被観測部
の中心部分を異なった倍率で観測することもできるし、
入射光の光軸と垂直方向にCCD75〜77をシフトさ
せるシフト機構を設けてCCD75〜77をシフトさせ
ることにより、被観測部の異なる範囲を異なる倍率で観
測することもできる。また、使用部品点数が少なくなる
ため、部品配置が容易になると共にコストの低減を図る
こともできる。
て説明する。
例の検査装置1と異なるのは、光源21に加えてHe−
Ne(ヘリウム−ネオン)レーザーの光源101を有す
ると共に、観測部104の構成が異なっている点にあ
る。その他の構成要素で、第1実施例における構成要素
と同一のものは、同一の符号を使用し、その説明を省略
する。
ザー光の両者を試料Sに照射する。照射された光は、試
料表面Saで反射し、反射した光は、観測部104で、
ハロゲン光とレーザー光とに分離される。そして、ハロ
ゲン光に基づく空中像を撮像した画像信号により、生画
像がモニタ7に映し出される。一方、レーザー光に基づ
く空中像を撮像した画像信号は、画像処理部5により信
号処理され、信号処理した後のビデオ信号に基づいて、
ホストコンピュータ6が、試料表面Saに形成された小
さな凹凸や、うねり等の大きさなどを計測する。
する。
の光源101は、第1実施例における照射部3とは別に
設置されており、He−Neレーザー111、音響光学
素子112、ビームエキスパンダー113、対物レンズ
114、ピンホール115およびハーフミラー116を
備えている。
nmの単一波長のレーザー光を出力するもので、試料S
の凹凸のピークツーバレーなどを計測するための計測用
光源として使用される。
等による外乱を防止する。
レンズにより構成され、He−Neレーザー111の放
射ビーム口径を対物レンズ114の口径に合わせて大き
くする。
ー113から出力された平行光を集光する。
像空間焦平面に設置され、その開口を通過した光を所定
の拡がり角を有する照射光に変換する。
測部104は、第1〜第3ハーフミラー121〜12
3、反射ミラー124、第1〜第5アパーチャ125〜
129、第1〜第3テレセントリック光学部131〜1
33、一次元CCD134、三次元計測用光学ユニット
135、および第1〜第3CCD136〜138を備え
ている。
クロイックフィルターであり、第1テレセントリック光
学部17からの平行光に含まれるハロゲン光のみを反射
させると共に、光源104のレーザー光のみを透過させ
る。第2ハーフミラー122は、レーザー光を、反射お
よび透過させることにより2分岐する。第3ハーフミラ
ー123は、第1ハーフミラー121で反射されたハロ
ゲン光を、反射および透過させることにより2分岐す
る。反射ミラー124は、ハーフミラー123で反射し
たハロゲン光を、第3テレセントリック光学部133側
にさらに反射させる。
試料表面Saで散乱された散乱光やノイズなどの不要な
光を遮断する。
CCD素子が一列に配列されたもので、同図において上
下にスキャンし、試料表面Saでの反射光の一次元デー
タとしての明暗情報を画像処理部5に出力する。
ば、内部に2つの格子を有し、両格子を通過する光によ
り、いわゆるモアレ縞を形成するものである。このモア
レ縞を形成する光は、第1テレセントリック光学部13
1に入力され、第1CCD136によって撮像される。
この第1CCD136の画像信号は、試料表面Saのう
ねり等をマクロ的に観測するのに適しており、画像処理
部5に入力されて信号処理された後、ホストコンピュー
タ6を介してモニタ7にビデオ信号が入力されることに
より、試料表面Saのうねり等の明暗パターンが映像と
して映し出される。なお、モアレ縞の代わりに干渉縞に
より明暗パターンを映し出すように構成してもよい。
料表面Saの一部を拡大して観測するためのものであ
る。この第2テレセントリック光学部132、第4アパ
ーチャ128および第2CCD137は、位置関係をず
らさないで、空中像IB(後述する)に対してX−Y方
向に移動することができるように構成されており、この
結果、観測者は、第2CCD137の画像信号に基づい
て、空中像IAの任意の一部分を観測することができ
る。なお、これらを移動させるためのX−Y方向への移
動手段(図示せず)が設けられている。
料表面Sa全体の生画像を観測するためのものである。
する。
射されたハロゲン光が、ハーフミラー116を透過し、
He−Neレーザー111から出射されたレーザー光
が、ハーフミラー116で反射することにより、両光
が、一体となって試料Sを照射する。試料表面Saで反
射した光は、逆方向に向かって進行し、第1テレセント
リック光学部17に入射して平行光に変換される。そし
て、この平行光に基づく空中像が所定の位置に形成され
る。この場合、第1ハーフミラー121によりハロゲン
光とレーザー光が分離され、ハロゲン光に基づく空中像
IAと、レーザー光に基づく空中像IBとが、第1ハー
フミラー121の前方および後方にそれぞれ形成され
る。
生画像を観測するのに適している。一方、空中像IB
は、単一波長のレーザー光に基づいて形成されるので、
各種の波長が含まれるハロゲン光に基づいて形成された
空中像IAよりも、余分な光がない。このため、試料表
面Saに形成された小さな凹凸やうねり等の被観測部
が、くっきりとモニタ7に映し出されると共に、ホスト
コンピュータ6は、その大きさなどの測定を正確に行う
ことができる。
したが、本発明は、かかる実施例に限定されるものでは
なく、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能で
あることはいうまでもない。
を、第1実施例のテレセントリック光学部35〜38や
第4実施例の一次元CCD134などの前方に配置する
ようにしてもよいし、上記実施例の各構成要素を任意に
組み合わせてもよい。
フィルタ23を用いる場合について説明したが、波長選
択フィルタ23と共に、あるいは波長選択フィルタ23
の代わりに、NDフィルタを設置してもよい。NDフィ
ルタは入射光の分光特性を変化させずに減光する目的で
使用されるものである。この場合の減光は、例えば試料
表面Saのうねりなどの検出において必要となる。うね
りなどなだらかな表面の形状変化の場合には、光の正反
射成分が極めて多くなることから試料表面Saの輝度が
高過ぎて、減光しないと反射像全体が明るくなり過ぎ観
測しにくくなるからである。なおこの場合、ハロゲンラ
ンプを輝度の小さいものに代えてもよいが、NDフィル
タを用いる方が作業が簡単である。
ーフミラーを用いているが、これに代えて、ウェッジタ
イプの平板ビームスプリッタを用いることができる。こ
の場合、平板ビームスプリッタの2平面間に所定の微小
角αを設ける。これにより、平板ビームスプリッタの透
過面での反射によって生じるゴースト光を、その反射面
で反射される必要な反射光の光路から外し、ゴースト光
が観測部4内で検出されることを防止できる。
Dで観測するものとしたが、スクリーンやカメラあるい
は肉眼で観測するようにしてもよい。さらに、CCDの
かわりに、フォトマルなどの光電管を初めとしてすべて
の撮像素子を用いることができる。
力した画像信号に含まれる映像信号(原映像信号)を微
分し、得られた微分信号と原映像信号とを加算して新た
な映像信号とするなどの微分処理によって、微弱なコン
トラスト差を強調して映像表示することができる。さら
に、加算された新たな映像信号の輝度を任意に設定可能
な輝度調整回路を設けることもできる。この輝度調整に
より、例えば凹凸等の輪郭部分の内側の状態や輪郭部分
自体を観測する場合、映像を見易い輝度で観測すること
ができることとなる。
トリック光学系により形成された空中像を観測するよう
に構成されているので、観測手段を、空中像が形成され
ている位置とは別の任意の位置に設置することができ
る。このため、観測者は見易い位置で試料を観測するこ
とができる。
Claims (10)
- 【請求項1】 光を試料に照射する照射光学系と、 前記試料を透過した光または前記試料で反射した光を集
束させる光学素子を含み、当該光学素子の後像空間焦平
面またはその近傍に設置した開口絞りを有する観測光学
系と、 前記開口絞りを通過した光によって構成される像を観測
する観測手段と、 を備える検査装置において、 前記観測光学系は、前記開口絞りの後方に、当該開口絞
りを通過した光を平行光に変換するテレセントリック光
学系を備え、 前記観測手段は、前記テレセントリック光学系により空
中に形成された空中像を観測するように構成されている
ことを特徴とする検査装置。 - 【請求項2】 前記観測手段は、前記平行光を分岐させ
る少なくとも1つの分岐光学部と、当該分岐光学部によ
り分岐された各平行光に基づく前記空中像をそれぞれ観
測するための複数の観測部とを備えていることを特徴と
する請求項1記載の検査装置。 - 【請求項3】 前記分岐光学部は、プリズムで構成され
ていることを特徴とする請求項2記載の検査装置。 - 【請求項4】 前記照射光学系は、レーザー光を出射す
るレーザー光源と、レーザー光以外の光を出射する一般
光源とを備え、 前記分岐光学部は、前記レーザー光と前記一般光とを分
離する選択フィルタを備え、 前記複数の観測部のうちの少なくとも1つは、前記レー
ザー光により形成された前記空中像をモアレまたは干渉
縞により観測するように構成されていることを特徴とす
る請求項2記載の検査装置。 - 【請求項5】 前記照射光学系は、レーザー光を出射す
るレーザー光源と、レーザー光以外の光を出射する一般
光源とを備え、 前記分岐光学部は、前記レーザー光と前記一般光とを分
離する選択フィルタを備え、 前記複数の観測部のうちの少なくとも1つは、前記レー
ザー光の強度分布を測定するための一次元CCDを備え
ていることを特徴とする請求項2記載の検査装置。 - 【請求項6】 前記観測手段は、前記空中像を回転させ
るための像回転手段を備え、当該像回転手段により回転
された前記空中像を観測するように構成されていること
を特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の検査装
置。 - 【請求項7】 前記観測手段は、前記平行光を集束させ
る他のテレセントリック光学系を備えていることを特徴
とする請求項1または6に記載の検査装置。 - 【請求項8】 前記観測部は、前記平行光を集束させる
他のテレセントリック光学系を備えていることを特徴と
する請求項2から5のいずれかに記載の検査装置。 - 【請求項9】 前記観測手段は、前記空中像を撮像する
撮像素子と、当該撮像素子からの画像信号に基づいて画
像処理を行う画像処理部とを備えていることを特徴とす
る請求項1から8のいずれかに記載の検査装置。 - 【請求項10】 前記画像信号における白レベル電圧ま
たは黒レベル電圧を所定値にするための光量制御信号を
生成する光量制御信号生成部と、当該光量制御信号に基
づいて前記照射光学系の光量を変化させる光量制御部と
をさらに備えていることを特徴とする請求項9記載の検
査装置。
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